KR20040095171A - 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따르면, 리소그래피 투영장치는 리소그래피 장치의 제1부분과 제2부분 사이에 지지를 제공하고 두 부분 모두가 지지방향에 대해 수직한 방향으로 서로에 대해 변위되도록 하는 수동 자기 베어링을 포함한다. 수동 자기 베어링은 제1 및 제2자석조립체를 포함하며, 각각의 자석조립체는 1이상의 영구자석을 포함한다.

Description

리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스{Lithographic Apparatus, Device Manufacturing Method, and Device Manufactured Thereby}

본 발명은,

- 방사선의 투영빔을 공급하는 방사선시스템;

- 필요한 패턴에 따라 상기 투영빔을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;

- 기판을 유지하는 기판테이블;

- 상기 기판의 타겟부상에 상기 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템; 및

- 장치의 제1부분이 제2부분에 대하여 이동가능하도록 제1방향으로 상기 장치의 상기 제2부분에 대하여 상기 장치의 상기 제1부분을 지지하는 베어링을 포함하는 리소그래피 투영장치에 관한 것이다.

여기서 사용되는 "패터닝수단"이라는 용어는 기판의 타겟부에 생성되어야 할 패턴에 대응하는 패터닝된 단면을 입사하는 방사선빔에 부여하도록 사용될 수 있는 디바이스를 의미하는 것으로 폭넓게 해석되어야 하며, 본 명세서에서는 "광 밸브(light valve)"라는 용어로도 사용될 수 있다. 일반적으로, 상기 패턴은 집적회로 또는 기타 디바이스와 같이 타겟부에 생성될 디바이스내의 특정기능층에 해당할 것이다(이하 참조). 그러한 패터닝 수단의 예로는 다음과 같은 것들이 포함된다.

- 마스크. 마스크의 개념은 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상시프트(alternating phase-shift)형 및 감쇠 위상시프트형 마스크와 다양한 하이브리드 마스크형식도 포함된다. 방사선빔내에 이러한 마스크가 놓이면, 마스크상의 패턴에 따라 마스크에 입사되는 방사선의 선택적인 투과(투과마스크의 경우) 또는 반사(반사마스크의 경우)가 이루어진다. 극자외선 광이 사용되는 경우, 당업자에게 잘 알려져 있다는 이유로 반사마스크만이 사용될 수 있다. 마스크의 경우, 상기 지지구조체는 일반적으로 마스크테이블이 될 것이며, 이것은 입사되는 투영빔 내의 소정위치에 마스크가 잡혀 있을 수 있게 하며, 필요한 경우에는 마스크가 상기 빔에 대하여 이동될 수 있다.

- 프로그램가능한 거울 어레이. 이러한 장치의 예로는, 점탄성제어 층(viscoelastic control layer)과 반사면을 구비한 매트릭스-어드레서블 표면이 있다. 이러한 장치의 기본원리는, (예를 들어) 반사면의 어드레스된영역(addressed area)에서는 입사광을 회절광으로 반사하는 한편, 어드레스되지 않은 영역에서는 입사광을 비회절광으로 반사하는 것이다. 적절한 필터를 사용하면, 반사된 빔 중에서 상기 비회절광을 필터링하여 회절광만 남게 할 수 있다. 이러한 방식으로 빔은 매트릭스-어드레서블 표면의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 프로그램가능한 거울 어레이의 대안적인 실시예는 적절히 국부화된 전기장을 가하거나 압전작동수단(piezoelectric actuation mean)을 채용하여 축을 중심으로 각각의 거울이 개별적으로 기울어질 수 있는 작은 거울들의 매트릭스 배치를 채용하는 것이다. 마찬가지로, 상기 거울은 매트릭스-어드레서블이며, 어드레스된 거울은 입사되는 방사선빔을 어드레스되지 않은 거울과는 다른 방향으로 반사한다. 이러한 방식으로, 상기 반사된 빔은 상기 매트릭스-어드레서블 거울의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 이때 요구되는 매트릭스 어스레싱은 적절한 전자수단을 사용하여 수행될 수 있다. 상기에 서술된 두 가지 상황 모두에서, 패터닝수단은 1이상의 프로그래밍가능한 거울 어레이를 포함할 수 있다. 이러한 거울 어레이에 관한 더 많은 정보는, 예를 들어 미국특허 US 5,296,891호, US 5,523,193호 및 PCT 특허출원 WO 98/38597호, WO 98/33096호로부터 얻을 수 있으며, 본 명세서에서 인용참조되고 있다. 프로그래밍가능한 거울 어레이의 경우, 상기 지지구조체는 예를 들어, 필요에 따라 고정되거나 움직일 수 있는 프레임 또는 테이블로써 구현될 수 있다.

- 프로그래밍가능한 LCD 어레이. 이러한 구조의 일례는 본 명세서에서 참조자료로 채용되고 있는 미국특허 US 5,229,872호에 개시되어 있다. 상기와 마찬가지로, 이 경우의 상기 지지구조체는 예를 들어, 필요에 따라 고정되거나 움직일 수있는 프레임 또는 테이블로써 구현될 수 있다.

설명을 간단히 하기 위하여, 본 명세서의 나머지 부분 중 어느 곳에서는 그 자체가 마스크 및 마스크테이블을 포함하는 예시적인 용어로서 지칭될 수도 있다. 하지만, 그러한 예시에서 논의된 일반적인 원리는 상술한 바와 같은 패터닝수단의 광의의 개념으로 이해되어야 한다.

예를 들어, 리소그래피 투영장치는 집적회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다. 이러한 경우, 상기 패터닝수단은 IC의 개별층에 해당하는 회로패턴을 생성할 수 있으며, 상기 패턴은 한 층의 방사선감응재(레지스트)로 코팅된 기판(실리콘웨이퍼)상의 타겟부(예를 들면, 1이상의 다이로 구성되는)에 묘화될 수 있다. 일반적으로, 한장의 웨이퍼에는 인접하여 있는 여러 개의 타겟부로 구성된 전체적인 네트워크를 포함하며, 이들 타겟부는 투영시스템을 통하여 한번에 하나씩 연속적으로 조사된다. 현재 통용되는 장치에서, 마스크테이블상의 마스크에 의한 패터닝을 채택하는 데에는, 두 가지 서로 다른 형식의 기계로 구분될 수 있다. 한 가지 형태의 리소그래피 투영장치에서는 타겟부상에 전체 마스크패턴을 한번에 노광함으로써 각 타겟부가 조사되는데, 이러한 장치를 통상 웨이퍼 스테퍼(wafer stepper)라고 한다. 통상, 스텝-앤드-스캔 장치(step-and-scan apparatus)라고 불리워지는 대체장치에서는 투영빔하에서 소정의 기준방향("스캐닝" 방향)으로 마스크 패턴을 점진적으로 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향 또는 반평행한 방향으로 기판을 동기화시켜 스캐닝함으로써 각 타겟부가 조사된다. 일반적으로 투영시스템은 배율인자 Ｍ(일반적으로 <1)을 가지므로 기판테이블이 스캐닝되는 속도 V는 마스크테이블이 스캐닝되는 속도의 인자 Ｍ배가 된다. 여기에 서술된 리소그래피장치와 관련된 보다 많은 정보는 예를 들어, US 6,046,792호로부터 얻을 수 있으며, 본 명세서에서도 인용참조되고 있다.

리소그래피 투영장치를 사용하는 제조공정에서, (예를 들어, 마스크의) 패턴은 방사선감응재(레지스트)의 층이 최소한의 부분에라도 도포된 기판상에 묘화된다. 이 묘화단계(imaging step)에 앞서, 기판은 전처리(priming), 레지스트도포 및 소프트 베이크와 같은 여러가지 과정을 거칠 수 있다. 노광 후에는, 노광후 베이크(PEB), 현상, 하드 베이크 및 묘화된 피처(imaged feature)의 측정/검사와 같은 또 다른 과정을 거치게 된다. 이러한 일련의 과정은, 예를 들어 IC(집적 회로) 디바이스의 개별층을 패터닝하는 기초로서 사용된다. 그런 다음 이렇게 패터닝된 층은 에칭, 이온주입(도핑), 금속화, 산화, 화학-기계적 폴리싱 등과 같은, 모두가 개별층을 마무르도록 하는 여러 공정을 거친다. 여러 개의 층이 요구된다면, 새로운 층마다 전체공정 또는 그것의 변형된 공정이 반복되어져야만 할 것이다. 그 결과로, 기판(웨이퍼)상에는 디바이스의 어레이가 존재하게 될 것이다. 이들 디바이스는 다이싱 또는 소잉 등의 기술에 의하여 서로 분리되고, 이들 각각의 디바이스는 캐리어에 장착되고 핀 등에 접속될 수 있다. 이와 같은 공정에 관한 추가 정보는, 예를 들어, 본 명세서에서 참조자료로 채용되고 있는 "Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing" (3판, Peter van Zant 저, McGraw Hill출판사, 1997년, ISBN 0-07-067250-4)으로부터 얻을 수 있다.

설명을 간단히 하기 위하여, 상기 투영시스템은 이후에 "렌즈"라고 언급될것이다. 하지만 이 용어는 예를 들어, 굴절광학, 반사광학 및 카타디옵트릭 (catadioptric) 시스템을 포함한 다양한 형태의 투영시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 또한, 상기 방사선시스템은 방사선 투영빔의 지향, 성형 또는 제어하기 위한 임의의 설계방식에 따라 동작하는 구성요소를 포함할 수 있고, 이후의 설명에서는 이러한 구성요소들을 집합적으로 또는 개별적으로 "렌즈"라고 언급할 것이다. 더 나아가, 상기 리소그래피장치는 2이상의 기판테이블(및/또는 2 이상의 마스크테이블)을 구비하는 형태가 될 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 장치에서는 추가 테이블이 병행으로 사용될 수 있으며, 1이상의 테이블이 노광에서 사용되고 있는 동안 1이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다. 예를 들어 US 5,969,441호 및 WO 98/40791호에는 듀얼스테이지 리소그래피장치가 개시되어 있으며, 본 명세서에서도 인용 참조되고 있다.

리소그래피 장치내에는, 장치의 부분들 사이에 상기 장치의 부분들이 서로에 대해 이동하면서 지지를 제공하는 베어링이 흔히 필요하다. 이 가동 지지를 실현하기 위해 잘 알려진 해결책은 에어 베어링이다. 상기 에어 베어링은 적절한 베어링 힘을 발생시켜 사전정의된 거리만큼 상기 부분들을 유지시킨다. 강자성 코어(ferromagnetic core)를 구비한 선형 모터가 서로에 대하여 두 부분 모두를 구동하는데 사용되는 경우, 모터의 스테이터(stator)와 트랜스레이터(translator) 사이의 표준 힘(normal force)은 에어 베어링에 대해 예비-부하 힘(pre-load force)으로서 사용될 수 있다. 에어 베어링 사용의 대안은, 선형 모터로 또는 로렌츠형 액츄에이터를 수단으로 하여 요구되는 지지를 생성하도록 하는 것이다. 에어 베어링 지지의 단점은, 진공상태하에서 이러한 시스템을 제공하기 힘들다는 것이고, 선형 모터 또는 액츄에이터 지지의 단점은, 요구되는 베어링 힘의 생성이 선형 모터 또는 액츄에이터의 현재 지지하는 구성요소에 일정한 추가적인 열 소산을 생기게 한다는 것이다.

본 발명의 목적은, 진공에서 사용하기 적합할 수 있고 베어링 힘을 제공하기 위해 선형 모터 또는 액츄에이터를 사용하는 베어링보다 실질적으로 열을 덜 소산하는 베어링을 제공하는 것이다.

도 1은 리소그래피 투영장치를 개략적으로 도시하는 도면;

도 2a는 리소그래피 장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링(passive magnetic bearing)의 제1실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 2b는 도 2a의 제1실시예의 측면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 2c는 도 2a에 도시된 바와 같은 수동 자기 베어링에 대해 계산된 자기장 라인들을 개략적으로 도시하는 도면;

도 3a는 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제2실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 3b는 도 3a에 따른 제2실시예의 저면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 3c는 도 3a에 도시된 바와 같은 수동 자기 베어링에 대해 계산된 자기장 라인들을 개략적으로 도시하는 도면;

도 4a는 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제3실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 4b는 도 4a에 따른 제3실시예의 저면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 4c는 도 4a에 도시된 바와 같은 수동 자기 베어링에 대해 계산된 자기장 라인들을 개략적으로 도시하는 도면;

도 5a는 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제4실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 5b는 도 5a에 따른 제4실시예의 저면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 5c는 도 5a에 도시된 바와 같은 수동 자기 베어링에 대해 계산된 자기장 라인들을 개략적으로 도시하는 도면;

도 5d는 본 발명에 따른 제4실시예에 대물 테이블을 연결시킬 수 있는 방식을 개략적으로 도시하는 도면;

도 6a는 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제5실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 6b는 도 6a에 도시된 바와 같은 수동 자기 베어링에 대해 계산된 자기장 라인들을 개략적으로 도시하는 도면;

도 7은 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제6실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 8은 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제7실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 9a는 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제8실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 9b는 도 9a에 따른 수동 자기 베어링의 제8실시예의 평면도를 개략적으로도시하는 도면;

도 9c는 수동 자기 베어링의 제8실시예의 두 개의 부분 사이에 제공된 액츄에이터 배치를 개략적으로 도시하는 도면;

도 9d는 대물 테이블과 수동 자기 베어링 사이에 제공된 짧은 행정 액츄에이터 시스템(short stroke actuator system)를 개략적으로 도시하는 도면;

도 10은 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제9실시예의 정면도를 개략적으로 도시하는 도면;

도 11은 리소그래피 투영장치에서 사용되는 본 발명에 따른 수동 자기 베어링의 제10실시예의 정면도 및 평면도를 개략적으로 도시하는 도면이다.

본 발명에 따라서, 상기 목적 및 다른 목적들은, 서두문에 서술된 바 있는 리소그래피 장치에서 달성되며,

- 상기 베어링은 수동 자기 베어링(passive magnetic bearing)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

통전 코일에 의하지 않고 수동 자기 베어링에 의하여 실질적으로 제공되는 베어링 힘은, 선형 모터 또는 액츄에이터형 베어링에 비해 보다 효율적인 지지를 제공하여, 장치의 전력 공급을 감소시키고 장치 내부의 열소산을 적게 한다. 후자는 리소그래피 장치의 열적 안정성이 중요하기 때문에 실질적인 이점이다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예에서, 상기 리소그래피 장치의 제1부분은, 상기 제1부분이 제1방향과 실질적으로 수직한 제2방향으로 제2부분에 대하여 이동가능하도록 상기 제1방향으로 상기 제2부분에 의하여 지지된다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제3항에 정의되어 있다. 이 실시예를 위해, 상기 지지방향으로 낮은 강성(stiffness)을 가지는 지지체는 자석 조립체의 특정 구성에 의하여 제공된다. 낮은 강성을 갖는 베어링은, 보다 높은 강성을 갖는 베어링에 비해, 베어링의 일부로부터 다른 부분으로의 진동의 전달이 감소되는 장점을 가진다. 당업자라면, '영구자석'은 서로에 대해 인접하게 배치된 동일한 자기 극성을 가지는 개개의 영구자석의 어레이와 동등한 것으로 간주된다는 것을 명확히 알 수 있을 것이다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제4항에 정의되어 있다. 이 자석들의 구성은 제2방향으로 비교적 큰 행정(comparatively large stroke)을 제공하며, 상기 방향을 따라 제1 및 제2부분은 베어링 힘의 어떠한 실질적인 변화없이도 서로에 대해 변위될 수 있다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제5항에 정의되어 있다. 또한, 이 특정한 배치는 보다 낮은 강성을 제공하는 이점을 가진다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제6항에 정의되어 있다. 이 자석들의 구성은, 베어링이 제1 및 제2방향 또한 제1 및 제2방향 둘 모두에 수직한 제3방향을 따라 낮은 강성을 가진다. 3방향으로의 낮은 강성은 자석 베어링의 제어(즉, 상기 제1방향 및 제3방향으로 제1부분과 제2부분간의 상대 위치를 유지함)가, 예를 들어 로렌츠형 액츄에이터 또는 선형 모터에 의하여 최소의 노력으로 수행될 수 있다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제7항에 정의되어 있다. 또한, 이 특정한 배치는 3방향 모두로 낮은 강성을 제공하는 이점을 가진다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제8항에 정의되어 있다. 이 실시예에 의하여, 증가된 베어링 힘은 증가된 수의 자석들로 인하여 획득될 수 있으며, 또한 요구되는 베어링 힘이 보다 고르게 분포될 수 있다. 상기 제3방향으로 자석 조립체를 연장시키면, 상기 제2방향을 중심으로 한 경사에 대해 보다 안정하게 베어링된다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제9항에 정의되어 있다. 이 배치는, 베어링 힘이 이 베어링 힘에 대해 상이한 자석들의 기여치(contributions)의 합으로서 생성되기 때문에, 상기 제3방향을 중심으로 한 경사에 대해 보다 안정하게 베어링된다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제10항에 정의되어 있다. 1이상의 상기 자석 조립체들의 적어도 2이상의 영구자석의 상대 위치를 적용할 수 있게 하는 것은, 베어링의 유연한 사용을 허용하기 위해(즉, 상이한 부하들을 대해) 행해질 뿐만 아니라, 자석 조립체의 기계적 또는 자기적 공차를 보상하는데 사용될 수 있다. 상대위치가 조정가능한 자석들은 크기가 같거나 다를 수 있다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제11항에 정의되어 있다. 상이한 자석 조립체의 배치는, 제1 및 제2자석 조립체가 선형 변위를 허용하는 대신에 서로에 대해 회전할 수 있도록 되어 있다.

본 발명에 따른 리소그래피 장치의 일 실시예는 청구항 제12항에 정의되어 있다. 1이상의 상기 자석조립체의 적어도 2개의 영구자석들의 상대 위치를 조정가능하게 할 수 있게 하는 것은, 베어링의 유연한 사용을 허용하기 위해(즉, 상이한 부하들을 대해) 행해질 뿐만 아니라, 자석 조립체의 기계적 또는 자기적 공차를 보상하는데 사용될 수 있다. 상대위치가 조정가능한 자석들은 크기가 같거나 다를 수 있다.

본 명세서에서는 IC의 제조에 있어서 리소그래피장치의 사용례에 대하여 언급하였으나, 상기 장치는 많은 여타의 응용례를 가짐을 이해하여야 한다. 상기 리소그래피장치는 집적 광학시스템, 자기영역메모리용 유도 및 검출패턴, 액정디스플레이(LCD), 박막자기헤드의 제조에도 채택될 수 있다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용례와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "레티클", "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 용어가 각각 "마스크", "기판" 및 "타겟부" 등과 같은 좀 더 일반적인 용어로 대체될 수 있음을 이해할 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "방사선" 및 "빔"이란 용어는 (예를 들어, 파장이 365, 248, 193, 157 또는 126㎚ 인) 자외(UV)방사선 및 (예를 들어 파장이 5 내지 20㎚ 범위인) 극자외(EUV)방사선을 포함한 모든 형태의 전자기방사선 뿐만 아니라 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔을 포괄하여 사용된다.

이하, 대응하는 기준부호가 대응하는 부분을 나타내는 첨부된 도면을 참조하여, 예시의 방식으로만 본 발명의 실시예를 서술한다.

도 1은 본 발명의 특정한 실시예에 따른 리소그래피 투영장치(1)를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는,

- 방사선(예를 들어, UV 또는 EUV 방사선)의 투영빔(PB)을 공급하는 방사선시스템(Ex, IL)(특별히 이 경우에 방사선시스템은 방사선소스(LA)도 포함한다);

- 마스크(MA)(예를 들어, 레티클)를 잡아주는 마스크 홀더가 마련된, 아이템 PL에 대하여 마스크를 정확히 위치시키는 제1위치설정수단(PM)에 연결된 제1대물테이블(마스크테이블)(MT);

- 기판(W)(예를 들어, 레지스트 코팅된 실리콘 웨이퍼)을 잡아주는 기판 홀더가 마련된, 아이템 PL에 대하여 기판을 정확히 위치시키는 제2위치설정수단(PW)에 연결된 제2대물테이블(기판테이블)(WT); 및

- 기판(W)의 타겟부(C)(1이상의 다이를 포함)에 마스크(MA)의 조사된 부분을 묘화하는 투영시스템("렌즈")(PL)(예를 들면, 굴절 또는 카타디옵트릭 시스템, 거울 그룹 또는 필드 편향기들의 어레이)을 포함하여 이루어진다.

도시된 바와 같이, 상기 장치는 (투과마스크를 구비한) 투과형이다. 하지만, 일반적으로는, 예를 들어 (반사마스크를 구비한) 반사형일 수도 있다. 대안적으로, 상기 장치는 위에서 언급한 바와 같은 형태의 프로그램 가능한 거울 배열과 같은 그 밖의 다른 종류의 패터닝수단을 채용할 수도 있다.

방사선소스(LA)(예를 들어, 엑시머레이저, 저장링 또는 싱크로트론내의 전자 빔의 경로 주위에 제공되는 언듈레이터 또는 위글러, 레이저-생성 플라즈마소스, 방전소스 또는 전자 또는 이온 빔소스)는 방사선의 빔을 생성한다. 상기 빔은 곧바로 조명시스템(일루미네이터)(IL)에 들어 가거나, 예를 들어 빔 익스펜더(Ex)와 같은 컨디셔닝수단을 거친 다음에 조명시스템으로 들어간다. 상기 일루미네이터(IL)는 빔내의 세기분포의 외측반경 및/또는 내측반경범위(통상 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)를 조정하는 수단(AM)을 포함하여 이루어진다. 또한 그것은 일반적으로 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같은 그 밖의 다른 다양한 구성요소들을 포함한다. 이러한 방식으로, 마스크(MA)에 입사하는 빔(PB)은 그 단면에 소정의 균일성과 세기분포를 갖게 된다.

도 1과 관련하여, 상기 방사선소스(LA)는 리소그패피 투영장치의 하우징내에 놓이지만(예를 들어, 방사선소스(LA)가 흔히 수은램프인 경우에서처럼), 그것이 리소그래피 투영장치로부터 멀리 떨어져 있어서 그것이 만들어 낸 방사선빔이 (가령, 적절한 지향거울에 의해) 장치내부로 들어오게 할 수도 있다. 후자의 시나리오는 흔히 방사선소스(LA)가 엑시머레이저인 경우이다. 본 발명과 청구범위는 이들 두 시나리오 모두를 포괄하고 있다.

이후, 상기 빔(PB)은 마스크테이블(MT)상에 잡혀있는 마스크(MA)를 통과한다. 마스크(MA)를 지난 빔(PB)은 렌즈(PL)를 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)위에 빔(PB)의 초점을 맞춘다. 제2위치설정수단(PW)(및 예를 들어 간섭계측정수단(IF))에 의하여, 기판테이블(WT)은, 예를 들어 빔(PB)의 경로내에 상이한 타겟부(C)를 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제1위치설정수단(PM)은 예를 들어, 마스크 라이브러리로부터 마스크(MA)를 기계적으로 회수한 후에, 또는 스캔하는 동안, 빔(PB)의 경로에 대하여 마스크(MA)를 정확히 위치시키도록 사용될 수 있다. 일반적으로 대물테이블(MT, WT)의 이동은, 도 1에 명확히 도시되지는 않았지만, 긴 행정모듈(long stroke module)(개략위치설정) 및 짧은 행정모듈(미세위치설정)의 도움을 받아 실현될 것이다. 하지만, (스텝-앤드-스캔장치와는 대조적으로) 웨이퍼스테퍼의 경우에는 마스크테이블(MT)이 단지 짧은 행정모듈에만 연결될 수도 있고 고정될 수도 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬마크(M1, M2) 및 기판 정렬마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수 있다.

상술한 장치는 다음의 두가지 상이한 모드로 사용될 수 있다.

1. 스텝모드에서는, 마스크테이블(MT)은 기본적으로 정지상태로 유지되며, 전체 마스크이미지는 한번에(즉, 단일 "섬광"으로) 타겟부(C)에 투영된다. 이후 기판테이블(WT)이 x 및/또는 y 방향으로 시프트되어 다른 타겟부(C)가 빔(PB)에 의하여 조사될 수 있다.

2. 스캔모드에서는, 소정타겟부(C)가 단일 "섬광"으로 노광되지 않는 것을 제외하고는 기본적으로 동일한 시나리오가 적용된다. 그 대신에, 마스크테이블(MT)이 v의 속도로 소정 방향(소위 "스캔방향", 예를 들어 y 방향)으로 이동가능해서, 투영빔(PB)이 마스크 이미지의 모든 부분을 스캐닝하도록 되고, 이와 함께 기판테이블(WT)은 속도 V=Mv로, 동일한 방향 또는 그 반대방향으로 동시에 이동하는 데, 이 때 M은 렌즈(PL)의 배율(통상 M=1/4 또는 1/5)이다. 이러한 방식으로, 분해능을 떨어뜨리지 않고도 비교적 넓은 타겟부(C)가 노광될 수 있다.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 베어링의 일 실시예에 따른 영구자석의 구성을 도시하며, 도 2a는 정면도를 도시하고 도 2b는 측면도를 도시한다. 이 구성에서, 제1자기조립체(2)는 리소그래피 장치의 제1부분(2.30)상에 배치된 자석(2.1)을 포함하고, 제2자석조립체(4)는 리소그래피 장치의 제2부분(4.30)상에 배치된 자석(4.1)을 포함한다. 상기 제1 및 제2부분은, 일반적으로 화살표(6)로 표시된 바와 같이, 서로에 대하여 이동할 수 있다. 이는, 예를 들어 상기 제1부분과 제2부분 사이에 위치된 전자기 모터에 의하여 행해질 수 있다.

자석(2.1, 4.1) 내부의 화살표는 자석의 자기 극성을 나타낸다. 이 자석의 특정 배치는 Z-방향으로 지향된 상기 제1부분과 제2부분 사이에 자기 척력(repelling magnetic force)을 생성한다. 측면도로부터 알 수 있는 바와 같이, 자석조립체 둘 모두는 Y 방향으로 서로에 대해 변위된다. 제1자석조립체가 Y-방향으로 제2자석조립체보다 실질적으로 길기 때문에, 두 자석조립체 사이에 가해진 자기력은 제2자석조립체의 Y-위치와 실질적으로 무관하다. 즉 Y-방향으로의 낮은 강성에 직면하게 된다. 하지만, X-방향 및 Z-방향으로의 강성은 상기 특정한 자석의 구성에서 다소 높다. 그러므로, 제1 및 제2부분이 X-방향 또는 Z-방향으로 서로에 대해 변위되는 경우, 상당한 힘 변동에 직면하게 된다. 제2부분(4.30)에 대하여 적절한 위치로 (예를 들어, Z-방향, X-방향 또는 두 방향 모두로) 제1부분(2.30)을 유지시키기 위해서는, (로렌츠 액츄에이터와 같은) 1이상의 액츄에이터가 상기 부분(2.30, 4.30) 사이에 위치될 수 있음을 유의하여야 한다. 또한, 이러한 액츄에이터는 이동부(예를 들어, 부분(2.30))가 X, Y 또는 Z-축선을 중심으로 경사지는 것을 방지하도록 제공될 수 있다.

도 2c는 상기 영구자석의 특정한 구성에 대해 계산된 자기장 라인들을 도시한다. 도 2c에서 알 수 있듯이, 자기장 라인들의 각각은 자석조립체들 중 하나내에 유지되며, 자기장 라인들 중 어떤 것도 제1조립체의 자석들 중 하나를 제2자석조립체의 자석들 중 하나에 연결시키지 않는다.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 영구자석의 또 다른 구성을 도시하며, 도 3a는 정면도, 도 3b는 저면도를 도시한다. 이 구성에서, 제1자기조립체(2)는 리소그래피 장치의 제1부분상에 배치된 2개의 자석(2.2, 2.3)을 포함하고, 제2자석조립체는 리소그래피 장치의 제2부분상에 배치된 1개의 자석(4.2)을 포함한다. 일반적으로, 제1 및 제2부분은, 화살표(6)로 표시된 바와 같이 서로에 대하여 이동할 수 있다. 이 배치에서, 도 2에 도시된 구성에 비해, Z-방향으로 보다 낮은 강성이 얻어진다. 상기 낮은 강성은, 두 자석조립체 사이에 척력이 발생되는 방식으로 두 조립체 모두를 배치시킴으로써 얻어지며, 도 2c에 도시된 상황과는 다르게, 두 조립체의 자기장 라인의 실질적인 부분은 제1조립체(2)의 두 개의 자석(2.2, 2.3)을 제2조립체(4)의 자석(4.2)에 연결시킨다. 이 상황은 도 3a에 도시된 구성에 대해 계산된 자기장 라인을 나타내는 도 3c에 도시된다. 이는, 지지 방향으로의 낮은 강성이 다음과 같은 기준에 의하여 얻어질 수 있다는 것을 나타내는 광대한 시뮬레이션(extensive simulation)에 의하여 지지된다.

- 자석조립체는 지지방향으로 서로로부터 밀어내도록 배치된다.

- 자기장 라인의 실질적인 부분은 제1조립체로부터의 자석을 제2조립체로부터의 자석에 연결시킨다.

자기장 라인의 적어도 20%는, 낮은 강성에 직면하게 되는 비교적 작은 작동 영역을 얻도록 제1조립체로부터의 자석을 제2조립체로부터의 자석에 연결시켜야 한다. 실제 실시예들에 대해서, 자기장 라인의 적어도 50%는, 낮은 강성에 직면하게 되는 증가된 작동 영역을 얻도록 제1조립체로부터의 자석을 제2조립체로부터의 자석에 연결시키는 것이 권장된다. 제1조립체의 자석을 제2조립체의 자석에 연결시키는 자기장 라인들의 증가된 퍼센트로 인해, 베어링의 강성의 감소가 증가된다. 또한, 이 실시예에서, 제1부분은 두 부분 사이에 (로렌츠 액츄에이터와 같은) 1이상의 액츄에이터를 적용함으로써, 제2부분에 대해 적절한 위치에 유지될 수 있다. 또한, 대안으로서, 1이상의 추가 자유도로, 즉 Y-방향으로 생성된 힘과는 별도로 두 부분 사이에 힘을 생성하도록 제1부분을 제2부분에 대해 Y-방향으로 변위시키는 전자기 모터가 구비될 수 있다. 일 예시로서, 전자기 모터는 6 자유도 모두로 서로에 대해 두 부분을 변위시킬 수 있는 평면 모터일 수 있다. 이러한 배치에서, 평면 모터는 Y-방향으로 서로에 대해 두 부분을 구동시키면서 나머지 5 자유도로 서로에 대해 사전정의된 위치로 두 부분을 유지시킬 수 있다. 평면 모터와 수동 자기 베어링을 조합하면, 이동부의 무게가 영구자석 베어링에 의하여 보상되기 때문에 평면 모터의 효율성이 개선된다.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 영구자석의 또 다른 구성을 도시하며, 도 4a는 정면도, 도 4b는 저면도를 도시한다. 이 구성에서, 제1자기조립체(2)는 리소그래피 장치의 제1부분상에 배치된 2개의 자석(2.4, 2.5)를 포함하고, 제2자석조립체는 리소그래피 장치의 제2부분상에 배치된 1개의 자석(4.3)을 포함한다. 일반적으로, 제1 및 제2부분은 화살표(6)로 표시된 바와 같이 서로에 대해 이동할 수 있다. 이 배치에서, Z-방향으로 획득된 강성은 도 2에 도시된 구성에 비하여 더욱 더 감소된다. 두 자석 조립체 사이에 발생된 베어링 힘은 Z-방향으로의 척력이다. 이 척력은 상이한 극성의 극들 사이(2.4b와 4.3a 사이 및 2.5a와 4.3b 사이)의 인력 및 동일한 극성의 극들 사이(2.4a와 4.3a 사이 및 2.5b와 4.3b 사이)의 척력을 고려함으로써 이해될 수 있다. 이 상황에서, 리소그래피 장치의 제1 및 제2부분이 Z-방향으로 서로에 대하여 변위되는 경우, 상기 인력 또는 척력 중 하나가 증가되는 동안 다른 하나는 감소하여 결과적으로 생성된 힘이 비교적 작게 변동하게 한다. 도 4c는 도 4a에 도시된 자석 구성에 대해 계산된 자기장 라인들을 도시한다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 이 자석들의 구성의 자기장 라인의 실질적인 부분은 제1조립체로부터의 자석을 제2조립체로부터의 자석에 연결시킨다.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 영구자석의 또 다른 구성을 도시한다. 도 5a는 상기 구성의 정면도, 도 5b는 평면도이다. 이 구성에서, 제1자기조립체는 리소그래피 장치의 제1부분상에 배치된 2개의 자석(2.6, 2.7)을 포함하고, 제2자석조립체는 리소그래피 장치의 제2부분에 배치된 2개의 자석(4.4, 4.5)을 포함한다. 도 5c는 도 5a의 자석조립체의 일부에 대해 계산된 자기장 라인을 도시한다(자석(2.6, 4.4)의 자기장이 계산된다). 도 5c에 도시된 자기장 라인들이 제1조립체의 자석(2.6)을 제2조립체의 자석(4.4)에 연결시키기 때문에, 또한 이 구성에서, 두 조립체 모두의 낮은 강성이 얻어진다. 도 5d는 대물테이블(5)(예를 들어, 마스크테이블)이 베어링 배치의 자석조립체(4)에 어떻게 연결될 수 있는지를 개략적으로 도시한다. 일 예시로서, 이러한 연결은 리프 스프링(6)을 수단으로 하여 달성될 수 있다. 또한, 대물테이블(5)은 자석조립체(4)에 직접 연결될 수 있다. 대물테이블의 위치설정 정확성을 증가시키기 위해서, 대물테이블(5)과 베어링 조립체 사이에 액츄에이터 시스템이 제공될 수 있다. 이러한 액츄에이터는, 일 예시로서,로렌츠 액츄에이터 또는 리럭턴스 액츄에이터 또는 압전 액츄에이터와 같은 전자기 액츄에이터를 포함할 수 있다. 또한, 대물테이블을 베어링 조립체에 연결시키거나 대물테이블을 위치시키는 유사한 배치들은 도 2 내지 도 4 및 도 6 내지 도 10에 도시된 베어링 배치들로 행해질 수 있다.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 영구자석의 또 다른 구성의 정면도를 도시한다. 이 구성에서, 제1자기조립체는 리소그래피 장치의 제1부분상에 배치된 2개의 자석(2.8, 2.9)을 포함하고, 제2자석조립체는 리소그래피 디바이스의 제2부분상에 배치된 2개의 자석(4.6, 4.7)을 포함한다. 이 특정한 구성에서, 모든 자석은 서로에 대해 평행하거나 반평행한 그들의 자화성(magnetization)을 가진다. 또한, 이 구성에서, 낮은 강성이 얻어진다. 계산된 자기장 라인들을 도시하는 도 6b에서 알 수 있듯이, 또한 이 경우에는, 자기장 라인들의 실질적인 부분은 제1조립체로부터의 자석의 표면을 제2조립체로부터의 자석에 연결시킨다.

도 7은 도 3에 따른 2개의 자석 구성이 조합되는 본 발명의 또 다른 실시예를 도시한다.

도 8은 이전의 실시예들에 도시된 자석 구성들을 조합함으로써 구성될 수 있는 본 발명의 또 다른 실시예를 도시한다. 당업자라면, 도시된 바와 같은 자석조립체들은 필요에 따라 X-방향으로 더욱 연장될 수 있음을 알 수 있을 것이다. 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같은 자석 조립체는 Y-축선 중심의 경사에 대해 더욱 안정된 구성을 제공한다. 또한, 복수의 구성들의 조합은, 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 증가된 베어링 힘을 획득하고 더욱 더 고르게 분포된 베어링 힘을 제공하기 위해서 Y-방향으로 행해질 수 있다. 도 9a 및 도 9b는 도 4에 따른 2개의 구성을 하나의 조립체로 조합시킨다. 이 경우, 요구되는 베어링은 자석(4.13, 4.14, 4.15, 4.16)에 작용하는 Z-방향으로의 힘의 합으로서 제공된다. 이 조립체는 X-축선을 중심으로 한 제2자석조립체의 경사에 대해 보다 안정된 구성을 제공한다. 도 9c에서, 베어링 배치는 액츄에이터 배치와 조합된다. 상기 액츄에이터 배치는 요소(4.17, 4.18)에 의하여 개략적으로 나타내어진다. 일 예시로서, 요소(4.17)는 코일 조립체(4.18)와 상호작동하는 자석 어레이를 포함할 수 있다. 액츄에이터 구성에 의하여, 자석조립체(4)는 1이상의 자유도로 자석조립체(2)에 대해 변위될 수 있다. 일반적으로, 액츄에이터 조립체는, 서로에 대해 비교적 긴 거리에 걸쳐 두 조립체(2, 4)를 변위시키는 선형 모터 또는 평면 모터를 포함할 수 있으며, 서로에 대해 나머지 자유도로 비교적 짧은 거리에 걸쳐 두 조립체를 위치시키는 로렌츠 액츄에이터 또는 리럭턴스 액츄에이터와 같은 전자기 액츄에이터를 더 포함할 수 있다. 유사한 액츄에이터 배치들이 도 2 내지 도 10의 베어링 배치들과 조합될 수 있다. 정확한 위치설정을 필요로 하는 마스크테이블, 일반적으로 대물테이블은 자석조립체(4)에 직접 커플링되거나 리프 스프링에 의하여 커플링될 수 있다. 베어링 조립체 및 액츄에이터 조립체의 위치설정 정확성이 충분하지 않은 경우, 대물테이블과 베어링 배치 사이에 추가 액츄에이터 배치(소위 짧은 행정 액츄에이터 시스템)가 적용될 수 있다. 이러한 배치는 도 9d에 개략적으로 도시되어 있다. 도 9d는 자기 베어링의 자석조립체(4)와 대물테이블(5) 사이에 배치된 짧은 행정 액츄에이터 시스템을 개략적으로 도시한다. 이러한 배치에서, 자석조립체(4)의 개략위치설정은 액츄에이터 시스템(4.17, 4.18)에 의하여 제공될 수 있는 한편, 짧은 행정 액츄에이터 시스템(4.19, 4.20)은 대물테이블의 정확한 위치설정을 위해 적용될 수 있다. 일 예시로서, 짧은 행정 액츄에이터 시스템은 복수의 로렌츠 액츄에이터를 포함할 수 있으며, 그 각각은 자석시스템(4.19) 및 코일 시스템(4.20)을 포함한다.

도 10은 본 발명의 또 다른 실시예를 도시하며, 제1자석조립체는 4개의 자석 2.20, 2.21, 2.22, 2.23을 포함하고, 베어링 힘을 조정하기 위해서, 2.20과 2.21 사이 및 2.22와 2.23 사이의 Z-방향으로의 거리가 조정될 수 있다. 도 10에 도시된 실시예는 강성에 대해 도 4에 도시된 실시예와 동일한 특성을 가진다. 도 4에 도시된 실시예의 자석(2.4, 2.5)의 각각을 동일한 극성을 갖는 2개의 자석들로 하위분할(subdividing)하고 그것들을 서로에 대해 Z-방향으로 변위시킨 것이, 도 10에 도시된 실시예이다. 베어링 힘을 조정가능하게 하기 위해서 자석조립체 중 하나 또는 둘 모두의 자석을 하위분할하는 것은 모든 실시예에 적용될 수 있다. 일반적으로, 1이상의 자석조립체에 2이상의 자석이 제공되고 이들 자석들간의 거리를 조정하기 위해서 수단이 제공되는 경우, 베어링 힘이 조정될 수 있다. 일 예시로서, 도 3에 도시된 실시예에 의하여 생성된 힘은 서로에 대하여 X-방향으로 자석(2.2, 2.3)을 변위시킴으로써 조정될 수 있다. 다른 예시로서, 도 6에 도시된 실시예에서 자석(4.6, 4.7)은, 두 어레이간의 거리를 조정하기 위해 수단이 제공되는 경우, 베어링 힘을 조정하는데 사용될 수 있다.

도 2 내지 도 10에 도시된 모든 실시예들에서, 제1자석조립체가 제2자석조립체보다 긴 대신에 제2자석조립체가 Y-방향으로 제1자석조립체보다 실질적으로 긴경우, 유사한 성능이 획득될 수 있다.

도 11은 자석조립체가 실실적으로 원형상을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 영구자석 조립체들의 또 다른 구성을 도시한다. 도 11의 상부는 정면도, 저부는 평면도를 도시한다. 도시된 실시예에서, 제1자석조립체는 1개의 자석(2.24)을 포함하고, 제2자석조립체는 1개의 자석(4.22)을 포함한다. 원형 조립체 둘 모두는 동일한 대칭 축선을 가지도록 배치된다. 이는 베어링의 두 부분 모두가 상기 대칭 축선을 중심으로 서로에 대해 회전하도록 한다. 두 영구자석조립체 사이의 적절한 상대 위치를 유지하기 위해서, 도시된 실시예에는 1이상의 액츄에이터가 구비될 수 있다. 이러한 액츄에이터는 회전식 전자기 모터, 압전 모터, 선형 액츄에이터 등등을 포함할 수 있다. 도 2 내지 도 10에 도시된 실시예들의 각각은 실질적으로 원형인 배치에 수동 자기 베어링을 제공하기 위해서 수정될 수 있음을 더욱 유의하여야 한다.

수동 자기 베어링은 가동지지체를 필요로 하는 리소그래피 장치의 모든 구성요소에 적용될 수 있다. 몇몇 예시들은 베이스 프레임과 지지구조체 또는 기판테이블과 같은 동적 구성요소 사이 또는 밸런스 매스와 베이스 프레임 사이 또는 밸런스 매스와 베이스 프레임 사이에 수동 자기 베어링의 사용에 관한 것이다. 일 예시로서, 수동 자기 베어링은 스캐닝 방향으로 프레임에 대해 비교적 긴 거리에 걸쳐 마스크테이블을 위치시키는 위치설정 디바이스내에 적용될 수 있다. 이러한 배치에서, 위치설정 디바이스는 선형 모터일 수 있으며, 상기 선형 모터는 마스크테이블과 프레임 사이에서 작동한다. 이러한 배치에서, 수동 자기 베어링 또한 마스크테이블과 프레임 사이에 적용될 수 있다. 일반적으로, 위치설정 디바이스에는 프레임에 대해 적절한 위치에 마스크테이블을 유지시키는 액츄에이터(예를 들어, 로렌츠 액츄에이터)가 더 구비될 수 있다. 마스크테이블의 위치설정의 정확성을 증가시키기 위해서, 위치설정 디바이스에는, 예를 들어 상기 장치의 투영시스템에 대해 마스크테이블을 정확히 위치시키는 짧은 행정 액츄에이터 시스템이 더 구비될 수 있다. 또한, 렌즈 또는 거울과 같은 광학 요소를 이동가능하게 지지하기 위해 수동 자기 베어링이 적용될 수 있다.

이상 본 발명의 특정 실시예에 대하여 서술하였지만 본 발명이 서술된 바와 다르게 실시될 수도 있다. 상기 서술내용은 본 발명을 제한하지 않는다.

본 발명에 따르면, 진공에서도 사용할 수 있고, 베어링 힘을 제공하기 위해 선형 모터 또는 액츄에이터를 사용하는 기존의 베어링보다 실질적으로 열을 덜 소산하는 베어링이 제공된다.

Claims (16)

1. 리소그래피 투영장치에 있어서,

   - 방사선의 투영빔을 제공하는 방사선시스템;

   - 필요한 패턴에 따라 상기 투영빔을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;

   - 기판을 유지하는 기판테이블;

   - 상기 기판의 타겟부상에 상기 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템; 및

   - 장치의 제1부분이 장치의 제2부분에 대하여 이동가능하도록 제1방향으로 상기 장치의 상기 제2부분에 대하여 상기 장치의 상기 제1부분을 지지하는 베어링을 포함하며,

   상기 베어링은 수동 자기 베어링을 포함하는 것을 특징으로하는 리소그래피 투영장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 제1부분은, 사용시에 상기 제1부분이 제1방향과 실질적으로 수직한 제2방향으로 제2부분에 대하여 이동가능하도록 상기 제1방향으로 상기 제2부분에 의하여 지지되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 베어링은 제1 및 제2자석조립체를 포함하고, 각각의 자석조립체에는 영구자석이 제공되며, 상기 자석조립체들은, 사용시에 두 조립체 사이에 척력이 발생되는 방식으로 상호작동을 위해 배치되되, 상기 조립체들의 상기 자석들의 자기장 라인들의 실질적인 부분은, 상기 제1조립체의 자석을 다른 조립체들의 상기 제2조립체 자석들의 자석과 연결시키는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
4. 제3항에 있어서,

   상기 제1자석조립체는 상기 제2방향으로 상기 제2자석조립체보다 실질적으로 긴 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
5. 제3항에 있어서,

   상기 제1자석조립체는 제2영구자석을 포함하고, 상기 제1조립체의 상기 자석들 각각은 상기 제1방향으로 평행하거나 반평행(anti-parallel)한 그들의 자기 극성을 가지며, 상기 제1 및 제2방향에 수직한 제3방향으로 자석들 사이에 공간을 한정하고, 상기 제2자석조립체의 상기 자석은 상기 제1조립체의 상기 자석들의 상기 극성과 실질적으로 반평행한 자석의 극성을 가지며, 상기 제2자석조립체의 상기 자석은 상기 공간내에 부분적으로 또는 전체적으로 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
6. 제3항에 있어서,

   상기 제1자석조립체는 제2영구자석을 포함하고, 상기 제1자석조립체의 상기 자석들은 상기 제1방향으로 평행하거나 반평행한 그들의 자기 극성을 가지며, 상기 제1 및 제2방향에 수직한 제3방향으로 자석들 사이에 공간을 한정하고, 상기 제2자석조립체의 상기 자석은 상기 제1조립체의 상기 자석들의 상기 극성과 실질적으로 수직한 자석의 극성을 가지며, 상기 제2자석조립체의 상기 자석은 상기 공간내에 부분적으로 또는 전체적으로 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
7. 제3항에 있어서,

   상기 제1자석조립체는 또한 제2영구자석을 포함하고, 상기 제1조립체의 상기 자석들은 서로에 대해 평행한 그들의 자기 극성을 가지며, 상기 제1 및 제2방향에 수직한 제3방향으로 자석들 사이에 공간을 한정하고, 상기 제2자석조립체는 제2영구자석을 포함하며, 상기 제2조립체의 하나의 자석은 상기 제1조립체의 상기 자석들의 상기 극성에 실질적으로 평행한 자석의 극성을 가지고, 상기 제2조립체의 하나의 자석은 상기 제1조립체의 상기 자석들의 상기 극성에 실질적으로 반평행한 자석의 극성을 가지며, 상기 제2자석조립체의 상기 자석들은 상기 공간내에 부분적으로 또는 전체적으로 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
8. 제3항에 있어서,

   상기 제1자석조립체는 상기 제2방향으로 서로에 대해 평행하게 배치된 복수의 연장된 영구자석들을 포함하고, 인접한 자석들의 각각은 상기 제1 및 제2방향에실질적으로 수직한 제3방향으로 자석들 사이에 공간을 형성하며, 상기 제2자석조립체는 제2영구자석을 포함하고, 상기 제2조립체의 상기 자석들은 상기 3방향으로 서로에 해애 인접하게 배치되며, 각각의 자석은 상기 제1조립체의 2개의 인접한 자석들로 한정된 상기 공간들 중 하나에 부분적으로 또는 전체적으로 위치되고, 상기 제1조립체의 상기 자석들은 서로에 대해 실질적으로 평행하거나 반평행한 그들의 자기 극성을 가지며, 상기 제2조립체의 상기 자석들은 상기 제1조립체의 상기 자석들의 상기 자기 극성에 실질적으로 수직한 그들의 자기 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
9. 제3항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 제2자석조립체는 상기 제2방향으로 서로에 대해 인접하게 배치된 다수의 자석들을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
10. 제3항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,

    1이상의 상기 자석조립체들의 2이상의 영구자석들의 상대위치는 조정가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
11. 제1항에 있어서,

    상기 베어링은 제1 및 제2자석조립체를 포함하고, 상기 제1자석조립체는 1이상의 영구자석을 포함하며, 상기 제2자석조립체는 1이상의 영구자석을 포함하고,각각의 자석조립체는 실질적으로 원형상을 가지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
12. 제1항 또는 제11항에 있어서,

    상기 자석조립체들 중 1이상은 2이상의 영구자석을 포함하고, 상기 자석들의 상대위치는 조정가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,

    상기 제1방향에 수직한 방향으로 상기 제2부분에 대해 상기 제1부분을 변위시키도록 구성되고 배치된 선형 모터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
14. 제13항에 있어서,

    상기 선형 모터는 상기 제2부분에 부착된 자석 어레이 및 상기 제1부분에 부착된 코일 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
15. 제13항 또는 제14항에 있어서,

    상기 제1방향으로 상기 제1부분과 상기 제2부분 사이에 힘을 생성하도록 구성되고 배치된 선형 액츄에이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
16. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,

    1이상의 자유도로 상기 제2부분에 대하여 상기 제1부분을 위치시키도록 구성되고 배치된 복수의 선형 액츄에이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.