KR20040087386A - Methode for manufacturing semitransparent glass - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for preparing a semitransparent glass is provided, to allow the shape of the unevenness to be controlled for controlling the reflectivity, surface touch and strength of a plated glass. CONSTITUTION: The method comprises the steps of spraying water to a plated glass to allow the total surface of the plated glass to be wet for preventing the chemical marks from remaining in etching; vertically dipping the wet plated glass into a precipitation bath containing a corrosion solution composition to grow the unevenness on the surface of the plated glass (first etching); washing the plated glass with water to remove the sludge on the surface of the plated glass; dipping the wet plated glass into a precipitation bath containing a corrosion solution composition to re-grow the unevenness on the surface of the plated glass with allowing the grown uneven particles to be even (second etching); and washing the plated glass with water to remove the sludge on the surface of the plated glass. Preferably the corrosion solution composition comprises 10-60 wt% of NH4HF2, 0-25 wt% of H3PO4, 0-25 wt% of H2BO3, 30-60 wt% of a surfactant (glycerin and water) and 0-15 wt% of an enhancer; or 20-40 wt% of HF, 15-30 wt% of NH3, 2-10 wt% of H3PO4, 2-10 wt% of methanol and 30-60 wt% of distilled water.

Description

반투명 유리의 제조방법{Methode for manufacturing semitransparent glass}Method for manufacturing semitransparent glass

본 발명은 판유리의 표면에 미세한 요철을 형성하여 유리를 저반사 반투명 처리하는 방법에 관한 것으로서, 좀더 상세하게는 샌딩(sanding) 후 처리하는 에칭(etching) 방법을 복합적으로 실시하여 유리표면을 저반사 반투명으로 처리하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a low irregularities on the surface of the plate glass to a low reflection semi-transparent treatment, more specifically, to a low reflection of the glass surface by performing a combination of the etching (sanding) processing method To translucent processing.

반투명 처리된 유리는 긁힘에 대한 저항성이 높고 자국이 생기지 않는 장점이 있으며 투광성 및 빛을 비추는 방향에 따라 다양한 변화가 연출되고 질감이 매우 향상되는 장점도 있어 고급가구, 건축용 내장재 등 다양한 용도로 사용되고 있다.Semi-transparent glass has the advantage of high scratch resistance and no scratches, and various changes are produced depending on the direction of light transmission and light, and the texture is very improved. .

현재, 주로 사용되고 있는 유리표면의 반투명 처리방법은 샌딩 방법과 에칭방법이 주종을 이루고 있으며 기타 조각이나 세공연마기를 사용하는 물리적 방법이 있다.Currently, the semi-transparent treatment method of the glass surface mainly used is mainly a sanding method and an etching method, and there are other physical methods using other engraving or pore polishing machines.

샌딩방법의 경우 판유리의 표면에 모래를 강한 압력으로 쏘아 유리표면에 미세한 요철을 생기게 하는 물리적인 방법으로서, 이 방법은 사용모래의 입도에 따라 요철의 깊이가 결정됨으로 다양한 깊이 선택으로 예술성이 뛰어난 고가의 제품을 생산할 수 있다.The sanding method is a physical method that produces fine irregularities on the surface of the glass by blasting sand on the surface of the plate glass at a high pressure. This method determines the depth of the irregularities according to the granularity of the sand used. Can produce products.

에칭 방법은 불화수소(HF) 등의 부식용액에 판유리를 침지시켜 식각에 의해요철을 형성하게 하는 화학적 방법이다. 이 방법은 생산비가 낮아 소형의 제품을 대량 생산할 수 있으나 제품을 담그거나 꺼낼 때 특별한 설비가 필요하며 특히 용액흐름에 의하여 얼룩이 생기고 불균일한 부식현상이 발생하기 쉬워 평평한 판유리 제품에의 적용이 곤란하다.The etching method is a chemical method in which plate glass is immersed in a corrosion solution such as hydrogen fluoride (HF) to form unevenness by etching. This method can produce a large quantity of small products because of low production cost, but special equipment is needed when immersing or taking out the product. Especially, it is difficult to apply to flat glass products because stains are caused by solution flow and uneven corrosion is easily generated.

또, 에칭 방법의 경우 부식액에 의하여 판유리를 한 장씩 수평으로 침지시키고 꺼내기 때문에 다량 생산이 어렵고 부식처리를 하지 않는 판유리의 뒷면에는 미리 보호막을 형성하여야 하는 불편함이 있다.In addition, in the case of the etching method, since the plate glass is immersed and removed one by one horizontally by the corrosion solution, it is inconvenient to form a protective film on the back side of the plate glass which is difficult to produce a large amount and is not subjected to corrosion treatment.

한편, 종래에 샌딩방법으로 판유리의 표면에 거칠고 균일한 요철을 형성한 후, 에칭방법으로 판유리의 표면에 형성된 요철의 날카로운 부분을 평활하게 식각함과 동시에 부드러운 곡면으로 성장시켜 미세하고 균일한 요철을 형성하여 불투명성을 높이기도 하였다. 그러나 이러한 복합적 처리방법의 경우에도 에칭액이 흐른 얼룩 무늬가 남게 되고 여전히 요철의 모양이 거칠게 나오게 되는 바 요철의 깊이와 크기 및 요철 모양을 원하는 바대로 제어할 수 방법이 없었기 때문에 용도와 취향에 따라 다양한 판유리를 제공할 수 없는 문제점이 있었다.Meanwhile, after forming rough and uniform irregularities on the surface of the plate glass by the sanding method in the related art, the sharp part of the irregularities formed on the surface of the plate glass is etched smoothly and grown to a smooth curved surface to produce fine and uniform irregularities. It also formed opacity. However, even in the case of such a complex treatment method, the staining flow of the etching solution remains, and the roughness of the roughness still remains, and there is no way to control the depth, size, and roughness of the roughness as desired. There was a problem that could not provide a pane.

상술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명은 샌딩처리를 한 후 에칭처리를 2단계 이상 실시하여 유리표면에 요철의 깊이와 크기를 제어하여 다양하게 형성할 수 있도록 하고, 판유리를 2장씩 포개어 부식액에 수직방향으로 침지시켜 판유리의 뒷면에는 에칭 보호막을 형성하지 않으면서 생산성을 향상시킬 수있도록 하며, 초음파 진동에 의하여 부식액의 농도를 전체적으로 균일하게 분포시켜 얼룩과 불균일한 부식현상을 방지할 수 있는 유리표면의 반투명 처리방법을 제공하는데 목적이 있다.The present invention devised to solve the above-mentioned problems is to carry out two or more steps of the etching process after the sanding process to control the depth and size of the irregularities on the glass surface to form a variety of, two plate glass By immersing the corrosive liquid in a vertical direction, it is possible to improve productivity without forming an etching protection film on the back side of the plate glass, and to uniformly distribute the concentration of the corrosion liquid by ultrasonic vibration to prevent stains and uneven corrosion. It is an object of the present invention to provide a method of translucent treatment of glass surfaces.

도 1 은 본 발명의 반투명 유리의 제조방법을 보인 공정 순서도이고,1 is a process flow chart showing a method of manufacturing a translucent glass of the present invention,

도 2 는 본 발명에 의한 판유리를 두장 겹쳐 수직 투입하기 위한 홀더 구성을 개략적으로 보인 사시도이고,2 is a perspective view schematically showing a holder configuration for vertically stacking two sheets of glass according to the present invention;

도 3 은 본 발명의 2단계 에칭공정에서 공정조건에 따른 제1 실시예에 의한 판유리의 요철모양을 보인 단면도이고,3 is a cross-sectional view showing the irregularities of the plate glass according to the first embodiment according to the process conditions in the two-step etching process of the present invention,

도 4 는 본 발명의 2단계 에칭공정에서 공정조건에 따른 제2 실시예에 의한 판유리의 요철모양을 보인 단면도이고,4 is a cross-sectional view showing the irregularities of the plate glass according to the second embodiment according to the process conditions in the two-step etching process of the present invention,

도 5 는 본 발명에 의해 완성된 반투명 유리의 전자 현미경 사진이며,5 is an electron micrograph of a semitransparent glass completed by the present invention,

도 6 은 종래의 에칭방법에 의해 생산된 반투명 유리의 전자 현미경 사진이다.6 is an electron micrograph of a semitransparent glass produced by a conventional etching method.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면,According to the present invention for achieving the above object,

샌드블라스트법에 의한 표면 샌딩공정을 마친 판유리를 에칭 처리하여 반투명 판유리를 제조하는 방법에 있어서,In the method of manufacturing a translucent plate glass by etching the plate glass after the surface sanding process by sandblasting method,

에칭처리시에 약품자국이 남지 않게 하기 위한 전처리 공정으로서 물을 분사하여 판유리 표면이 전체적으로 수분에 적셔지도록 하는 수분도포 공정과;A pre-treatment step for preventing chemical traces from remaining during the etching process, comprising: a water spraying step of spraying water so that the surface of the plate glass is soaked with water as a whole;

상기 분사세척 공정을 마친 판유리를 부식액 조성물이 담긴 침전조에 수직 침지시켜 판유리 표면의 요철을 성장시키는 제1 에칭 공정과;A first etching process of vertically immersing the plate glass after the spray cleaning process in a sedimentation tank containing a corrosion solution composition to grow irregularities on the surface of the plate glass;

상기 제1 에칭공정을 마친 판유리 표면의 슬러지를 제거하기 위해 물 세정하는 슬러지 제거 공정과;A sludge removing step of washing with water to remove sludge from the surface of the plate glass after the first etching process;

상기 슬러지 세척 공정을 마친 판유리를 부식액 조성물이 담긴 침전조에 침지시켜 제1 에칭공정에서 성장된 요철의 입자를 고르게 표면 처리하면서 요철을 재성장시키는 제2 에칭 공정과;A second etching step of immersing the finished glass in the sludge cleaning process in a precipitation tank containing a corrosion solution composition to regrow the unevenness while evenly treating the uneven particles grown in the first etching process;

상기 제2 에칭공정을 마친 판유리 표면의 슬러지를 제거하기 위해 물 세정하는 슬러지 제거 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법이 제공된다.Provided is a method of manufacturing a semi-transparent glass, characterized in that the sludge removal process of water cleaning to remove the sludge on the surface of the plate glass after the second etching process.

상술한 본 발명에 있어서, 상기 제1 에칭공정과 제2 에칭 공정의 침전조에는 바닥면에 초음파진동자가 구비되어 침전조 내 부식액 조성물의 흐름과 농도분포를 고르게 한 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.In the present invention described above, the precipitation tank of the first etching process and the second etching process is provided with an ultrasonic vibrator on the bottom surface to uniformly distribute the flow and concentration distribution of the corrosion solution composition in the precipitation tank.

상술한 본 발명에 있어서, 상기 제1 에칭공정과 제2 에칭공정에서 사용하는 부식액 조성물은 불화암모늄(NH4HF2) 10-60중량%, 인산(H3PO4) 0-25중량%, 붕산(H2BO3) 0-25 중량%, 계면활성제(H2O+글리세린) 30-60 중량%, 증진제 0-15 중량%로 된 것을 특징으로 한다.In the present invention described above, the corrosion liquid composition used in the first etching process and the second etching process is 10-60% by weight of ammonium fluoride (NH4HF2), 0-25% by weight of phosphoric acid (H3PO4), boric acid (H2BO3) 0- 25 wt%, surfactant (H2O + glycerine) 30-60 wt%, enhancer 0-15 wt%.

상술한 본 발명에 있어서, 상기 판유리는 패킹을 사이에 두고 두장을 겹쳐 합지한 상태에서 유리받침대에 수직으로 올린 후 유리받침대를 컨베이어 방식으로 이동시키면서 상기 각 공정에 겹친 두장의 판유리를 수직 투입하는 방식으로 이루어짐을 특징으로 한다.In the present invention described above, the plate glass is placed vertically on the glass support in the state of overlapping the two sheets overlapping the packing between the two glass plates vertically added to each process while moving the glass support in a conveyor method. Characterized in that made.

상술한 본 발명에 대하여 첨부된 실시예의 도면을 참조하여 더욱 구체적으로 설명하기로 한다.With reference to the accompanying drawings of the present invention described above will be described in more detail.

도 1 은 본 발명의 반투명 유리의 제조방법을 보인 공정 순서도이고,1 is a process flow chart showing a method of manufacturing a translucent glass of the present invention,

도 2 는 본 발명에 의한 판유리를 두장 합지하여 수직 투입하기 위한 유리받침대 구조를 개략적으로 보인 사시도이고,2 is a perspective view schematically showing a glass support structure for vertically injecting two sheets of glass according to the present invention;

도 3 은 본 발명의 2단계 에칭공정에서 공정조건에 따른 제1 실시예에 의한 판유리의 요철모양을 보인 단면도이고,3 is a cross-sectional view showing the irregularities of the plate glass according to the first embodiment according to the process conditions in the two-step etching process of the present invention,

도 4 는 본 발명의 2단계 에칭공정에서 공정조건에 따른 제2 실시예에 의한판유리의 요철모양을 보인 단면도이고,4 is a cross-sectional view showing the irregularities of the plate glass according to the second embodiment according to the process conditions in the two-step etching process of the present invention,

도 5 는 본 발명에 의해 완성된 반투명 유리의 전자 현미경 사진이며,5 is an electron micrograph of a semitransparent glass completed by the present invention,

도 6 은 종래의 에칭방법에 의해 생산된 반투명 유리의 전자 현미경 사진이다.6 is an electron micrograph of a semitransparent glass produced by a conventional etching method.

본 발명의 반투명 유리의 제조방법은 샌드블라스트법에 의한 표면 샌딩공정을 마친 판유리를 에칭 처리하여 반투명 판유리를 제조하는 방법으로서, 본원의 발명자에 의해 선출원된 대한민국 특허출원 제 2002-70445호의 부식액 조성물을 에칭 약품으로 사용하는 복합 공정이다. 선출원에 의하면, 상기 부식액 조성물은 불화암모늄(NH4HF2) 10-60중량%, 인산(H3PO4) 0-25중량%, 붕산(H2BO3) 0-25 중량%, 계면활성제(H2O+글리세린) 30-60 중량%, 증진제 0-15 중량%로 된 것이며, 그 작용효과는 선출원에 기재된 바와 동일하므로 그에 대한 설명은 생략한다.Method for producing a semi-transparent glass of the present invention is a method for producing a semi-transparent plate glass by etching the plate glass after the surface sanding process by the sandblasting method, using the corrosion solution composition of Korean Patent Application No. 2002-70445 filed by the inventor of the present application It is a complex process used as an etching chemical. According to the previous application, the corrosive composition is 10-60% by weight of ammonium fluoride (NH4HF2), 0-25% by weight of phosphoric acid (H3PO4), 0-25% by weight of boric acid (H2BO3), and 30-60% by weight of surfactant (H2O + glycerine) , 0-15% by weight of the enhancer, the effect is the same as described in the prior application, so the description thereof is omitted.

상기 부식액 조성물의 성분 중 단가가 높고 저독성인 불화암모늄 대신에 불산 및 암모니아로 대체하여 단가를 낮추고 에칭효율을 높인 부식액 조성물을 사용할 수 있다. 이러한 부식액 조성물은 불산(HF) 20-40중량%, 암모니아(NH3) 15-30중량%, 인산(H3PO4) 2-10중량%, 메틸알콜(CH3OH) 2-10중량%, 증류수(H2O) 30-60중량%로 된 것이며, 그 작용효과는 불화암모늄의 원재료인 강독성인 불산과 암모니아를 사용함으로서 부식액 조성물의 원가를 낮출 수 있고 강독성에 의한 에칭율을 높일 수 있다.Among the components of the corrosive composition, a corrosive composition having a lower cost and higher etching efficiency may be used by replacing hydrofluoric acid and ammonia instead of high toxic ammonium fluoride. This corrosive composition is 20-40% by weight of hydrofluoric acid (HF), 15-30% by weight of ammonia (NH3), 2-10% by weight of phosphoric acid (H3PO4), 2-10% by weight of methyl alcohol (CH3OH), distilled water (H2O) 30 -60% by weight, the effect is that by using the strong toxicity of hydrofluoric acid and ammonia, the raw material of ammonium fluoride can lower the cost of the corrosive composition and increase the etching rate due to strong toxicity.

이하, 본 발명의 판유리 제조방법을 순서대로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the plate glass manufacturing method of this invention is demonstrated in order.

먼저, 통상적인 샌드블라스트법에 의해 금강사 연마제를 고압 노즐 분사기를이용하여 판유리의 일측 표면에 분사시켜 60-150목(目;Mesh) 정도의 요철을 형성한 판유리를 공급받아 도 1 에 도시된 바와 같은 본 발명의 공정에 투입한다. 이때, 도 2 에 도시된 바와같이 샌딩된 두장의 판유리(12)의 뒷면에 고무패킹(22)을 개재한 상태로 외곽을 둘러싸는 합지구(24)를 사용하여 합지시키고 이를 유리받침대(26)에 수직으로 올려놓은 상태에서 컨베이어(28) 이동에 의해 자동적으로 전 공정이 행하여지도록 한다.First, by using a sandblasting method using a high-pressure nozzle injector using a sandblasting method is sprayed on one surface of the plate glass is supplied with a plate glass having a roughness of about 60-150 neck (mesh) as shown in Figure 1 The same process of the present invention. At this time, as shown in Figure 2 by laminating a rubber sheet 22 on the back of the two sheets of the glass plate 12 sandwiched around the lamination using a paper joint 24 to surround the glass support 26 The whole process is automatically performed by moving the conveyor 28 in a state where it is placed vertically.

첫단계 공정으로서, 에칭 처리시에 약품자국이 남지 않게 하기 위한 전처리 공정으로서 물을 분사하여 판유리 표면이 전체적으로 수분에 적셔지도록 하는 수분도포 공정(S1)을 행한다.As a first step step, as a pretreatment step for preventing chemical traces from remaining in the etching process, water is sprayed so that the surface of the plate glass is soaked with water as a whole.

두 번째 공정에서는, 수분이 적셔진 판유리(12)를 상기 부식액 조성물(62)이 담긴 침전조(42)에 수직 침지시켜 판유리 표면의 요철을 성장시키는 제1 에칭 공정(S2)을 행한다. 이때, 부식액 조성물(62)의 온도는 40-50℃가 적당하며 30-60℃에서도 가능하다.In the second step, the wet glass plate 12 is vertically immersed in the settling tank 42 containing the corrosive composition 62 to perform the first etching step (S2) to grow the unevenness of the glass surface. At this time, the temperature of the corrosion liquid composition 62 is suitable 40-50 ℃ and 30-60 ℃ is possible.

이어서, 판유리(12) 표면의 슬러지를 물 세정으로 제거하는 제1 슬러지 제거 공정(S3)을 행한다. 이 공정의 시간은 2-3분 정도 소요되는 정도면 된다.Next, 1st sludge removal process S3 which removes the sludge of the surface of the plate glass 12 by water washing is performed. The process takes about 2-3 minutes.

상기 수분 도포 공정(S1)과 제1 슬러지 제거 공정(S3)은 노즐(51,53)분사에 의한 스프레이 방식으로 판유리(12)의 표면에 물을 분사하는 공정으로서, 스팀을 사용할 수도 있고, 슬러지 및 물의 환경처리 시설을 갖춘 저수조(41,43)가 필요하다.The water application step (S1) and the first sludge removal step (S3) is a step of spraying water on the surface of the plate glass 12 by the spray method by the nozzle (51, 53) spray, may use steam, sludge And reservoirs 41,43 with water treatment facilities.

상기 제1 에칭공정(S2)에서는 상기 부식액 조성물(62)에 의해 판유리(12)의녹은 입자 성분은 부식액 조성물(62)로 흡수되고 상기 제1 슬러지 제거 공정(S3)에서는 상기 제1 에칭공정(S2)에서 녹아 내린 점도가 낮은 슬러지가 물 분사에 의해 떨어져 나가게 되고, 점도가 높은 슬러지가 판유리 표면에 달라붙게 된다. 이는 제1 에칭공정(S2)에서 판유리에 남아 고화되는 슬러지의 형태는 에칭 시간 및 온도 및 부식액 조성물의 농도 등 에칭 조건에 따라 결정된다.In the first etching step (S2), the melted particle component of the plate glass 12 is absorbed into the corrosion solution composition 62 by the corrosion solution composition 62, and in the first sludge removal step (S3), the first etching process ( The low viscosity sludge melted in S2) will fall off by water spray, and the high viscosity sludge will stick to the surface of the pane. This is the shape of the sludge remaining in the plate glass solidified in the first etching step (S2) is determined according to the etching conditions, such as the etching time and temperature and the concentration of the corrosive composition.

이어서, 상기 제1 슬러지 제거 공정(S3)을 마친 판유리(12)를 부식액 조성물(64)이 담긴 침전조(44)에 침지시켜 제1 에칭공정(S2)에서 성장된 요철의 입자를 고르게 표면 처리하면서 요철을 재성장시키는 제2 에칭 공정(S4)을 행한다.Subsequently, the plate glass 12 having completed the first sludge removing step S3 is immersed in the settling tank 44 containing the corrosive composition 64 while uniformly surface-treating the uneven particles grown in the first etching step S2. A second etching step (S4) for regrowth of unevenness is performed.

상기 제2 에칭공정(S4)을 마친 판유리(12) 표면의 슬러지를 물 세정으로 제거하는 제2 슬러지 제거 공정(S5)을 행한다.The 2nd sludge removal process S5 which removes the sludge of the surface of the plate glass 12 which finished the said 2nd etching process S4 by water washing is performed.

이때의 제2 슬러지 제거 공정(S5)에서도 상기 제1 슬러지 제거 공정시와 마찬가지로 노즐(55)분사에 의해 판유리(55)의 표면에 물을 분사하는 공정으로서 스팀을 사용할 수도 있다.In the second sludge removal step S5 at this time, steam may also be used as a step of spraying water onto the surface of the plate glass 55 by spraying the nozzle 55 as in the first sludge removal step.

상기 제1 에칭공정과 제2 에칭 공정의 침전조(42.44)에는 바닥면에 초음파진동자(52,54)가 각각 구비된다. 초음파 진동자(52,54)에 의한 초음파 파동은 침전조 내 부식액 조성물의 흐름을 일정하게 하여 부식액 조성물의 농도분포를 고르게 한다.Ultrasonic vibrators 52 and 54 are provided on the bottom surface of the settling tank 42.44 of the first etching process and the second etching process, respectively. Ultrasonic waves by the ultrasonic vibrators 52 and 54 make the flow of the corrosive composition in the settling tank constant, so that the concentration distribution of the corrosive composition is even.

이러한 본 발명의 제조 공정 중 상기 제1 에칭 공정(S2)과 제2 에칭공정(S4)의 공정 조건에 따라 제조된 반투명 판유리의 표면에 성장된 요철의 깊이 및 형태를 다르게 제어할 수 있다.The depth and shape of the unevenness grown on the surface of the semi-transparent plate glass manufactured according to the process conditions of the first etching process (S2) and the second etching process (S4) of the present invention can be controlled differently.

제1 실시예First embodiment

도 3 에 도시된 제1 실시예에서는 샌딩처리 직후의 판유리 단면을 (가), 제1 에칭 및 슬러지 제거 공정을 마친 판유리 단면을 (나), 제2 에칭 및 슬러지 제거 공정을 마친 판유리 단면을 (다)로 도시하였다.In the first embodiment shown in FIG. 3, the plate glass cross section immediately after the sanding process is (a), the plate glass cross section after the first etching and sludge removing process (b), and the plate glass cross section after the second etching and sludge removing process ( C) is shown.

이들 도면을 참조하면, 상기 제1 및 제2 에칭 공정(S2,S4)을 40~50℃ 온도에서 행하되, 제1 에칭 공정(S2)을 1분, 제2 에칭 공정(S4)을 3분 정도 행하였을 때의 과정 중에 판유리 모양은 단면상 제1 에칭공정에서 단시간동안 부식된 판유리 입자의 슬러지는 점도가 높은 상태가 되어 요철의 산으로 천천히 흘러내리는 과정에서 제1 에칭공정을 마치게 되기 때문에 슬러지가 요철의 산에 달라붙은 채로 고화되어 제1 에칭공정을 마친 요철(12b)의 깊이는 샌딩후의 요철(12a) 깊이보다 더욱 깊어지게 되며, 제2 에칭 공정에 의해서도 깊어진 요철(12b)을 슬러지가 흘러내리는 시간이 길어지게 되므로 더욱 산과 홈이 깊어진 요철(12c)로 성장하게 된다.Referring to these drawings, the first and second etching processes (S2, S4) are carried out at a temperature of 40 ~ 50 ℃, the first etching process (S2) for 1 minute, the second etching process (S4) for about 3 minutes The sludge is uneven because the shape of the plate glass in the cross-section of the first etching process in the first etching process is high in viscosity, and the sludge of the plate glass particles has a high viscosity and finishes the first etching process in the course of flowing slowly into the acid of the unevenness. The depth of the unevenness 12b that has solidified while sticking to the acid of the finished first etching process is deeper than the depth of the unevenness 12a after sanding, and the sludge flows down the unevenness 12b which is deepened by the second etching process. As the time becomes longer, the mountains and grooves grow deeper into the unevenness 12c.

제2 실시예Second embodiment

도 4 에 도시된 제2 실시예에서는 샌딩처리 직후의 판유리 단면을 (가), 제1 에칭 및 슬러지 제거 공정을 마친 판유리 단면을 (나), 제2 에칭 및 슬러지 제거 공정을 마친 판유리 단면을 (다)로 도시하였다.In the second embodiment shown in FIG. 4, the plate glass cross section immediately after the sanding process is (a), the plate glass cross section after the first etching and sludge removing process (b), and the plate glass cross section after the second etching and sludge removing process ( C) is shown.

이들 도면을 참조하면, 상기 제1 및 제2 에칭 공정(S2,S4)을 40~50℃ 온도에서 행하되, 제1 에칭 공정(S2)을 3분, 제2 에칭 공정(S4)을 1분 정도 행하였을 때의 과정 중에 판유리 모양은 단면상 제1 에칭공정에서 장시간동안 부식된 판유리입자의 슬러지는 상기 제1 실시예에 비해 점도가 낮은 상태로 흘러내려 요철(12a)의 산과 홈을 메우게 된다. 이러한 상태에서 제1 에칭공정을 마치게 되기 때문에 고화되어 요철(12b)의 깊이는 낮아지게 되며 샌딩시에 형성된 요철(12a)의 산이 낮아진 비평탄면 요철(12b)로 성장하게 되고, 이어지는 제2 에칭공정에서도 제1 에칭공정에서 요철(12b)의 산이 낮은 표면이 에칭되면 슬러지가 요철의 낮은 홈을 메우면서 흘러내리게 되어 요철(12c)의 산은 매우 낮은 상태로 성장된다.Referring to these drawings, the first and second etching processes (S2, S4) are performed at a temperature of 40 to 50 ° C., but the first etching process (S2) is performed for 3 minutes and the second etching process (S4) is performed for about 1 minute. During the process, the plate glass shape cross-sections the sludge of the plate glass particles corroded for a long time in the first etching process to flow with a lower viscosity than the first embodiment to fill the acid and grooves of the unevenness 12a. In this state, since the first etching process is completed, the depth of the unevenness 12b is solidified, and the acid of the unevenness 12a formed at the time of sanding is grown to a non-flat surface unevenness 12b having a low level, followed by a second etching process. Even in the first etching process, when the acid low surface of the unevenness 12b is etched, the sludge flows down while filling the low groove of the unevenness, so that the acid of the unevenness 12c grows in a very low state.

이러한 두가지 실시예의 방법에서 설명한 바와같이 2회의 에칭 공정의 시간을 다양하게 제어함에 따라 요철의 성장모양을 다양하게 제어할 수 있게 된다.As described in the method of the two embodiments, by controlling the time of the two etching process in various ways, it is possible to control the growth pattern of the unevenness in various ways.

필요에 따라서는 제3 에칭공정 및 제3 슬러지 제거공정을 추가할 수도 있다.If necessary, a third etching step and a third sludge removing step may be added.

이와 같은 본 발명의 방법으로 제조한 반투명 판유리는 도 5에 도시된 바와같이, 전자현미경 사진상 판유리의 반투명 처리된 표면의 요철 모양이 동글동글한 모양을 띠게 되어 빛의 반사광을 여러 각도로 고르게 분산시킬 수 있게 되며 또한 판유리 표면에 크랙이 발생하지 않게 된다.As shown in FIG. 5, the semi-transparent plate glass manufactured by the method of the present invention has a concave-convex shape of the semi-transparent surface of the plate glass on the electron micrograph to uniformly disperse the reflected light of light at various angles. It is also possible to prevent cracks on the glass surface.

반면에, 본 발명의 비교예로서 도 6에 도시된 바와같이 종래의 에칭방법으로 제조한 판유리는 전자현미경 사진상 판유리의 반투명 처리된 표면의 요철 모양이 각진 형태를 띠게 되어 빛의 반사광을 여러 각도로 분산시킬 수 없고, 요철의 홈 부분이 크랙과 같은 형태가 되어 도 5 에 도시된 본 발명에 의해 제조된 반투명 판유리에 비해 물리적 강도가 약하다.On the other hand, as a comparative example of the present invention as shown in Figure 6, the plate glass prepared by the conventional etching method has an angular shape of the semi-transparent surface of the plate glass on the electron micrograph has an angular shape to reflect the reflected light of light at various angles It cannot be dispersed, and the groove portion of the unevenness becomes a crack-like shape, and the physical strength is weak compared with the translucent plate glass produced by the present invention shown in FIG.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 수분도포 공정, 제1 에칭공정, 제1 슬러지 제거공정, 제2 에칭공정 및 제2 슬러지 제거공정으로 이어지는 복합 공정을 행하면서 시간 제어에 의해 요철의 성장 모양을 다양한 모양으로 제어할 수 있어 빛의 반사율 및 표면 감촉, 강도 등을 조절할 수 있고 또한 하나의 홀더로 판유리를 두 장씩 수직 투입하면서 공정을 진행할 수 있게 됨으로써 다량의 판유리를 양산하는데 적합한 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the growth pattern of the unevenness can be varied by time control while performing a complex process leading to a moisture coating step, a first etching step, a first sludge removal step, a second etching step, and a second sludge removal step. The shape can be controlled to adjust the reflectance of the light, the surface feel, the intensity, etc. Also, the process can be carried out while vertically injecting two sheets of glass into one holder, which is suitable for mass production of large quantities of glass.

Claims (7)

샌드블라스트법에 의한 표면 샌딩공정을 마친 판유리를 에칭 처리하여 반투명 판유리를 제조하는 방법에 있어서,In the method of manufacturing a translucent plate glass by etching the plate glass after the surface sanding process by sandblasting method, 에칭처리시에 약품자국이 남지 않게 하기 위한 전처리 공정으로서 물을 분사하여 판유리 표면이 전체적으로 수분에 적셔지도록 하는 수분도포 공정과;A pre-treatment step for preventing chemical traces from remaining during the etching process, comprising: a water spraying step of spraying water so that the surface of the plate glass is soaked with water as a whole; 상기 수분도포 공정에 의해 수분이 적셔진 판유리를 부식액 조성물이 담긴 침전조에 수직 침지시켜 판유리 표면의 요철을 성장시키는 제1 에칭 공정과;A first etching step of vertically immersing the plate glass moistened by the moisture coating process in a precipitation tank containing a corrosion solution composition to grow irregularities on the surface of the plate glass; 상기 제1 에칭공정을 마친 판유리 표면의 슬러지를 물 세정으로 제거하는 제1 슬러지 제거 공정과;A first sludge removing step of removing sludge from the surface of the plate glass after the first etching step by water washing; 상기 슬러지 세척 공정을 마친 판유리를 부식액 조성물이 담긴 침전조에 침지시켜 제1 에칭공정에서 성장된 요철의 입자를 고르게 표면 처리하면서 요철을 재성장시키는 제2 에칭 공정과;A second etching step of immersing the finished glass in the sludge cleaning process in a precipitation tank containing a corrosion solution composition to regrow the unevenness while evenly treating the uneven particles grown in the first etching process; 상기 제2 에칭공정을 마친 판유리 표면의 슬러지를 물 세정으로 제거하는 제2 슬러지 제거 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.And a second sludge removing step of removing the sludge on the surface of the plate glass after the second etching step by washing with water. 제1 항에 있어서, 상기 제1 에칭공정과 제2 에칭 공정의 침전조에는 바닥면에 초음파진동자가 구비되어 침전조 내 부식액 조성물의 흐름과 농도분포를 고르게 한 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.The method of claim 1, wherein an ultrasonic vibrator is provided at a bottom surface of the precipitation tank of the first etching process and the second etching process to uniform the flow and concentration distribution of the corrosion solution composition in the precipitation tank. 제1 항에 있어서, 상기 제1 에칭공정과 제2 에칭공정에서 사용하는 부식액 조성물은 불화암모늄(NH4HF2) 10-60중량%, 인산(H3PO4) 0-25중량%, 붕산(H2BO3) 0-25 중량%, 계면활성제(H2O+글리세린) 30-60 중량%, 증진제 0-15 중량%로 된 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.According to claim 1, Corrosion liquid composition used in the first etching process and the second etching process is 10-60% by weight of ammonium fluoride (NH4HF2), 0-25% by weight of phosphoric acid (H3PO4), boric acid (H2BO3) 0-25 Method for producing a semi-transparent glass, characterized in that the weight percent, 30-60% by weight surfactant (H 2 O + glycerin), 0-15% by weight enhancer. 제1 항에 있어서, 상기 제1 에칭공정과 제2 에칭공정에서 사용하는 부식액 조성물은 불산(HF) 20-40중량%, 암모니아(NH3) 15-30중량%, 인산(H3PO4) 2-10중량%, 메틸알콜(CH3OH) 2-10중량%, 증류수(H2O) 30-60중량%로 된 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.According to claim 1, Corrosion liquid composition used in the first etching step and the second etching step is 20-40% by weight of hydrofluoric acid (HF), 15-30% by weight of ammonia (NH3), 2-10% by weight phosphoric acid (H3PO4) %, Methyl alcohol (CH3OH) 2-10% by weight, distilled water (H2O) 30-60% by weight of the manufacturing method of the semi-transparent glass. 제1 항에 있어서, 상기 판유리는 패킹을 사이에 두고 두장을 겹쳐 잡아주는 홀더를 사용하여 홀더를 컨베이어 방식으로 이동시키면서 상기 각 에칭공정 및 슬러지 제거 공정에 겹친 두장의 판유리를 수직 투입하는 방식으로 이루어짐을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.The method of claim 1, wherein the plate glass is made by vertically inserting two sheets of glass overlapped with each of the etching process and the sludge removal process while moving the holder in a conveyor manner by using a holder that overlaps two sheets with a packing therebetween. Method for producing a translucent glass, characterized in that. 제3 항 및 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 에칭 공정은 30-60℃에서120-240초, 제2 에칭공정은 30-60℃에서 40-80초로 행함으로써 완성된 반투명 유리의 요철 깊이를 낮게 성장시키는 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.The semi-transparent glass according to any one of claims 3 to 4, wherein the first etching process is performed at 30-60 ° C for 120-240 seconds, and the second etching process is performed at 30-60 ° C for 40-80 seconds. A method for producing a semi-transparent glass, characterized by growing the depth of concavities and convexities. 제3 및 제 4 중 중 어느 한 항에 있어서, 제1 에칭 공정은 30-60℃에서 40-80초, 제2 에칭공정은 30-60℃에서 120-240초로 행함으로써 완성된 반투명 유리의 요철 깊이를 깊고 높게 성장시키는 것을 특징으로 하는 반투명 유리의 제조방법.The unevenness of the translucent glass according to any one of claims 3 and 4, wherein the first etching process is performed at 30-60 ° C for 40-80 seconds, and the second etching process is performed at 30-60 ° C for 120-240 seconds. A method for producing a semi-transparent glass, characterized in that to grow deep and high depth.
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