KR20040062443A - 전력 분배를 제어할 수 있는 유도 결합된 플라스마 소스 - Google Patents
전력 분배를 제어할 수 있는 유도 결합된 플라스마 소스 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (61)
- 플라스마 처리 장치로서,챔버;상기 챔버 주위에 배치된 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 노드는 상기 전원과 상기 직렬 콘덴서 사이에 있는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 노드는 상기 제2 코일과 상기 직렬 콘덴서 사이에 있는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 분로 콘덴서는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 모두 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 분로 콘덴서 및 각각의 코일은 접지 접속에 접속 가능한 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
- 제 9 항에 있어서, 상기 매치망은 하나 또는 그 이상의 가변 콘덴서를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 9 항에 있어서, 상기 매치망은 직렬 콘덴서를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 매치망은 상기 전원과 접지 접속 사이에 접속된 분로 콘덴서를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 상에 배치된 제3 코일; 및제1 전력 분배망과 상기 제3 코일 사이에 접속된 제2 직렬 콘덴서; 및 상기 제3 코일과 상기 제1 전력 분배망 사이의 노드에 접속된 제2 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제1 전력 분배망과 상기 제3 코일 사이에 접속되는 제2 전력 분배망을 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 14 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 센서는 적어도 하나의 전류 센서를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 15 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 각각의 코일과 접지 접속 사이에 접속된 접지 콘덴서를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 전원으로부터 2개 이상의 코일에 전력을 분배하는 장치로서,상기 전원과 제1 코일 사이의 접속;상기 전원과 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속되며, 접지 접속에 접속 가능한 분로 콘덴서를 포함하는 전력 분배 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 노드는 상기 전원과 상기 직렬 콘덴서 사이에 있는 전력 분배 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 노드는 상기 제2 코일과 상기 직렬 콘덴서 사이에 있는 전력 분배 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 분로 콘덴서는 가변 콘덴서인 전력 분배 장치.
- 제 21 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서는 가변 콘덴서인 전력 분배 장치.
- 제 18 항에 있어서, 하나 이상의 코일에 흐르는 전류를 측정하도록 배치된 하나 이상의 센서; 및상기 하나 이상의 센서로부터 측정된 전류 데이터를 수신하고, 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 전력 분배 장치.
- 제 18 항에 있어서, 각각의 코일과 접지 접속 사이에 접속된 하나 이상의 접지 콘덴서를 더 포함하는 전력 분배 장치.
- 플라스마 처리 장치로서,챔버;상기 챔버 상에 배치된 제1 코일 및 제2 코일;전원; 및적어도 하나의 반응 요소를 포함하며, 상기 전원과 상기 제1 및 제2 코일 사이에 접속된 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 25 항에 있어서, 상기 전력 분배망은,상기 전원과 상기 제1 코일 사이의 접속;상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 반응 요소; 및상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 반응 요소를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 26 항에 있어서, 상기 분로 반응 요소는 가변 콘덴서를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 26 항에 있어서, 상기 직렬 반응 요소는 가변 콘덴서를 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 하나의 전원으로부터 다수의 코일에 전력을 분배하는 방법으로서,상기 전원과 접지 접속 사이에 제1 코일을 접속하는 단계;직렬 콘덴서 및 분로 콘덴서를 포함하는 전력 분배망을 상기 전원에 접속하는 단계; 및상기 전력 분배망과 접지 접속 사이에 제2 코일을 접속하는 단계를 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 29 항에 있어서, 다음의 전력 분배망을 이전의 전력 분배망에 접속하는 단계; 및다음의 전력 분배망과 접지 접속 사이에 다음의 코일을 접속하는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 분로 콘덴서는 가변 콘덴서를 포함하며, 상기 방법은 상기 분로 콘덴서의 정전용량을 제어하는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 31 항에 있어서, 하나 이상의 코일에 흐르는 전류를 측정하는 단계; 및하나 이상의 코일에 원하는 전류가 흐르도록 상기 분로 콘덴서의 정전용량을제어하는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 31 항에 있어서, 하나 이상의 코일에 흐르는 전류를 측정하는 단계; 및처리중에 하나 이상의 코일에 흐르는 전류를 변화시키도록 상기 분로 콘덴서의 정전용량을 제어하는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 제1 코일 및 제1 전력 분배망을 매치망을 통해 상기 전원에 접속하는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서는 상기 제2 코일과 직렬로 접속되고 상기 분로 콘덴서는 다음 코일과 병렬로 접속되는 전력 분배 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 모두 가변 콘덴서이며, 상기 방법은,상기 코일들 사이에 원하는 전류비를 유지하도록 직렬 정전용량 및 분로 정전용량을 모두 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 36 항에 있어서, 상기 코일들 사이에 원하는 전류비를 유지하고 상기 전원과의 접속에 원하는 임피던스를 유지하도록 직렬 및 분로 정전용량을 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 36 항에 있어서, 상기 코일들 사이에 원하는 전류비를 유지하고 상기 코일들에 흐르는 전류 사이에 원하는 위상 관계를 유지하도록 직렬 및 분로 정전용량을 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 36 항에 있어서, 상기 코일들 사이에 원하는 전류비를 유지하고 상기 코일들에 흐르는 전류 사이에 원하는 위상 관계를 유지하도록 직렬 및 분로 정전용량을 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 36 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전류비를 변화시키는 한편, 상기 코일들에 흐르는 전류 사이에 원하는 위상 관계를 유지하도록 직렬 및 분로 정전용량을 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 제 36 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전류비를 변화시키는 한편, 상기 코일들에 흐르는 전류 사이에 원하는 위상 관계를 10도 이내로 유지하도록 직렬 및 분로 정전용량을 변화시키는 단계를 더 포함하는 전력 분배 방법.
- 플라스마 처리 장치로서,돔형의 덮개를 가진 챔버;제1 코일은 외부 측면 코일이고 제2 코일은 내부 상부 코일로서, 상기 챔버의 돔형 덮개 주위에 배치되는 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 중 적어도 하나는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 43 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서; 및상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하며, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
- 플라스마 처리 장치로서,원통형 측면부와 평평한 상부로 이루어진 덮개를 가진 챔버;제1 코일은 상기 덮개의 측면부 주위에 배치된 측면 코일이고 제2 코일은 상기 덮개의 평탄부 위에 배치된 상부 코일로서, 상기 챔버의 덮개 주위에 배치되는 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 46 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 중 적어도 하나는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 47 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서; 및상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 46 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하며, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
- 플라스마 처리 장치로서,평평한 덮개를 가진 챔버;제1 코일은 평면형 다회전 외부 코일이고 제2 코일은 평면형 다회전 내부 코일로서, 상기 챔버의 평평한 덮개 주위에 배치되는 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 50 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 중 적어도 하나는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 51 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서; 및상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 50 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하며, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
- 플라스마 처리 장치로서,평평한 덮개를 가진 챔버;제1 코일은 나선형 다회전 외부 코일이고 제2 코일은 나선형 다회전 내부 코일로서, 상기 챔버의 평평한 덮개 주위에 배치되는 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 54 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 중 적어도 하나는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 55 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서; 및상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마처리 장치.
- 제 54 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하며, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
- 플라스마 처리 장치로서,평평한 덮개를 가진 챔버;제1 코일은 1회전 외부 코일이고 제2 코일은 1회전 내부 코일로서, 상기 챔버의 평평한 덮개 주위에 배치되는 제1 코일 및 제2 코일;상기 제1 코일에 접속된 전원; 및상기 전원과 상기 제2 코일 사이에 접속된 직렬 콘덴서; 및 상기 제2 코일과 상기 전원 사이의 노드에 접속된 분로 콘덴서를 포함하며, 상기 제2 코일과 상기 전원 사이에 접속되는 전력 분배망을 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 58 항에 있어서, 상기 직렬 콘덴서 및 상기 분로 콘덴서 중 적어도 하나는 가변 콘덴서인 플라스마 처리 장치.
- 제 59 항에 있어서, 상기 코일들 사이의 전력 분배를 측정하도록 배치된 적어도 하나의 센서; 및상기 적어도 하나의 센서로부터 측정된 전류 데이터에 응하여 상기 전력 분배망의 하나 이상의 콘덴서를 조절하도록 접속된 제어기를 더 포함하는 플라스마 처리 장치.
- 제 58 항에 있어서, 상기 전원과 상기 제1 코일 사이에 접속된 매치망을 더 포함하며, 상기 매치망은 상기 전원과 상기 전력 분배망 사이에도 접속되는 플라스마 처리 장치.
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100720989B1 (ko) * | 2005-07-15 | 2007-05-28 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 멀티 챔버 플라즈마 프로세스 시스템 |
KR100923594B1 (ko) * | 2006-11-20 | 2009-10-23 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 접지 부재 인테그리티 표시기를 갖춘 플라즈마 프로세싱챔버 및 그의 사용 방법 |
KR101471549B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2014-12-11 | 세메스 주식회사 | 플라즈마 발생 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR20170015608A (ko) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170015853A (ko) * | 2016-11-07 | 2017-02-09 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170017047A (ko) * | 2015-08-04 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170017855A (ko) * | 2016-11-07 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170017046A (ko) * | 2015-08-04 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4838612B2 (ja) * | 2006-03-28 | 2011-12-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP2007311182A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Tokyo Electron Ltd | 誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
WO2011049994A2 (en) * | 2009-10-20 | 2011-04-28 | Lam Research Corporation | Current control in plasma processing systems |
KR101151419B1 (ko) | 2010-07-30 | 2012-06-01 | 주식회사 플라즈마트 | Rf 전력 분배 장치 및 rf 전력 분배 방법 |
JP2012142317A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Ulvac Japan Ltd | エッチング装置及びエッチング方法 |
JP2012185948A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置及びその制御方法 |
US9111722B2 (en) | 2012-04-24 | 2015-08-18 | Applied Materials, Inc. | Three-coil inductively coupled plasma source with individually controlled coil currents from a single RF power generator |
US9082591B2 (en) | 2012-04-24 | 2015-07-14 | Applied Materials, Inc. | Three-coil inductively coupled plasma source with individually controlled coil currents from a single RF power generator |
US9157730B2 (en) * | 2012-10-26 | 2015-10-13 | Applied Materials, Inc. | PECVD process |
KR20140089458A (ko) * | 2013-01-04 | 2014-07-15 | 피에스케이 주식회사 | 플라즈마 챔버 및 기판 처리 장치 |
KR101522891B1 (ko) | 2014-04-29 | 2015-05-27 | 세메스 주식회사 | 플라즈마 발생 유닛 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
US9954508B2 (en) * | 2015-10-26 | 2018-04-24 | Lam Research Corporation | Multiple-output radiofrequency matching module and associated methods |
US10600618B2 (en) * | 2018-08-07 | 2020-03-24 | Semes Co., Ltd. | Plasma generation apparatus, substrate treating apparatus including the same, and control method for the plasma generation apparatus |
KR102225954B1 (ko) * | 2018-08-07 | 2021-03-11 | 세메스 주식회사 | 플라즈마 생성 장치, 그를 포함하는 기판 처리 장치 및 그 제어 방법 |
CN114724911A (zh) * | 2021-01-04 | 2022-07-08 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种等离子密度可调的离子源装置 |
KR20230072680A (ko) * | 2021-11-18 | 2023-05-25 | 피에스케이 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6077384A (en) * | 1994-08-11 | 2000-06-20 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor having an inductive antenna coupling power through a parallel plate electrode |
US5349313A (en) * | 1992-01-23 | 1994-09-20 | Applied Materials Inc. | Variable RF power splitter |
EP0598390B1 (en) * | 1992-11-17 | 1997-10-15 | Applied Materials, Inc. | Variable RF power splitter |
JPH0786238A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-03-31 | Kokusai Electric Co Ltd | プラズマ励起用電極 |
US5710486A (en) * | 1995-05-08 | 1998-01-20 | Applied Materials, Inc. | Inductively and multi-capacitively coupled plasma reactor |
US5907221A (en) * | 1995-08-16 | 1999-05-25 | Applied Materials, Inc. | Inductively coupled plasma reactor with an inductive coil antenna having independent loops |
US6054013A (en) * | 1996-02-02 | 2000-04-25 | Applied Materials, Inc. | Parallel plate electrode plasma reactor having an inductive antenna and adjustable radial distribution of plasma ion density |
US6083344A (en) * | 1997-05-29 | 2000-07-04 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone RF inductively coupled source configuration |
GB2344930B (en) * | 1998-12-17 | 2003-10-01 | Trikon Holdings Ltd | Inductive coil assembly |
US6192829B1 (en) * | 1999-05-05 | 2001-02-27 | Applied Materials, Inc. | Antenna coil assemblies for substrate processing chambers |
KR100338057B1 (ko) * | 1999-08-26 | 2002-05-24 | 황 철 주 | 유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치 |
-
2001
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Cited By (8)
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KR100720989B1 (ko) * | 2005-07-15 | 2007-05-28 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 멀티 챔버 플라즈마 프로세스 시스템 |
KR100923594B1 (ko) * | 2006-11-20 | 2009-10-23 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 접지 부재 인테그리티 표시기를 갖춘 플라즈마 프로세싱챔버 및 그의 사용 방법 |
KR101471549B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2014-12-11 | 세메스 주식회사 | 플라즈마 발생 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR20170015608A (ko) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170017047A (ko) * | 2015-08-04 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
KR20170017046A (ko) * | 2015-08-04 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
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KR20170017855A (ko) * | 2016-11-07 | 2017-02-15 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 처리 장치 |
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