KR20040055413A - 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법 - Google Patents

광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법 Download PDF

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KR20040055413A
KR20040055413A KR1020020082077A KR20020082077A KR20040055413A KR 20040055413 A KR20040055413 A KR 20040055413A KR 1020020082077 A KR1020020082077 A KR 1020020082077A KR 20020082077 A KR20020082077 A KR 20020082077A KR 20040055413 A KR20040055413 A KR 20040055413A
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Abstract

본 발명은 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법에 관한 것으로서, 유리 기판을 준비하는 단계, 상기 유리 기판 위에 포토레지스트 층을 도포하는 단계, 상기 유리 기판이 위치하는 분위기(atmosphere)의 굴절률보다 큰 굴절률을 가진 제 1 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 광을 조사하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 에칭하는 단계 및 상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계를 포함하는 글라스 마스터(glass master) 제조방법 등을 제공한다.
본 발명에 의하면, DVD 제작용 351㎚ 파장 레이저빔을 이용하여 차세대 고밀도 광디스크인 BD를 제작할 수 있다

Description

광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법 {Method Of Manufacturing Glass Master And Stamper For Manufacturing Optical Disk}
본 발명은 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법에 관한 것이다.
근래 정보기록의 분야에 있어서, 광디스크를 이용한 기록방식에 관한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 광디스크를 사용한 기록과 재생은 비접촉으로 수행되고, 기록밀도 또한 자기기록방식에 비해 훨씬 높다. 이러한 장점으로 인하여, 광디스크를 이용한 기록방식은 산업용에서 개인용까지 폭넓게 사용되고 있다.
상기의 기록 방식에서 사용되는 광디스크의 제조 방법을 도 1, 도 2a 내지 도 2i 및 도 3을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.
도 1은 광디스크의 평면도이고, 도 2a 내지 도 2i는 종래의 기술에 의해 광디스크를 제조하는 방법을 도 1의 I-I 단면을 따라서 도시하는 도면이고, 도 3은 종래의 기술에 의해 광디스크를 제조하는 방법을 도시하는 순서도이다.
먼저, 광디스크 제작용 글라스 마스터 제조방법부터 살펴보면 다음과 같다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 먼저 잘 연마된 유리 기판(200) 전면에 포토레지스트 층(203)을 균일한 두께로 도포한다.
그 다음, 도 2b에 도시된 바와 같이, LBR(Laser Beam Recorder)를 이용하여 상기 포토레지스트 층(203)에 레이저빔을 조사하여 포토레지스트 층(203)의 일부를 선택적으로 노광시킨다.
그 다음, 상기 노광된 포토레지스트 층을 알칼리 현상액으로 현상처리하면, 도 2c에 도시된 바와 같이 상기 유리기판(200) 상에 선택적으로 포토레지스트 패턴이 형성된다. 이로써, 글라스 마스터가 완성된다. 여기서, 포토레지스트 패턴이 없는 부분, 즉 유리기판의 노출된 부분을 피트(pit)라고 하고, 그 피트의 중심과 바로 이웃한 피트의 중심 사이의 거리를 피치 트랙(pitch track)이라 한다.
이하, 상기 글라스 마스터로부터 광디스크 제작용 스탬퍼를 제조하는 방법을 살펴보면 다음과 같다.
도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 글라스 마스터 전면에 금속 박막(205)을 형성한다.
그 다음, 도 2e에 도시된 바와 같이, 상기 금속 박막 전면에 전기도금법으로써 도금하여 금속판(207)을 성장시킨다.
그 다음, 상기 글라스 마스터에서 금속판(207)을 분리하면, 도 2f에 도시된 바와 같이 금속판의 스탬퍼(stamper)(207)가 완성된다.
이하, 상기 광디스크 제작용 스탬퍼로부터 광디스크를 제조하는 방법을 살펴보면 다음과 같다.
상기 스탬퍼(207)를 사용하여 사출성형을 하면 도 2g에 도시된 바와 같이 수지로 된 디스크(210)를 제작할 수 있다.
그 다음, 도 2h 및 도 2i에 도시된 바와 같이, 상기 디스크(210) 전면에 반사막(213) 및 보호층(215)을 차례로 형성하면, 광디스크가 완성된다. 상기 광디스크는 상기 글라스 마스터와 동일한 피트 및 도트 피치를 가지게 된다.
한편, 광디스크의 기록밀도에 대해서 살펴보면 다음과 같다.
광디스크의 피트 또는 도트 피치의 크기는 상기 포토레지스트 층에 가하는 레이저빔의 스폿(spot)의 크기와 비례하는데, 레이저빔의 스폿의 크기는 무한정 작아질 수 있는 것이 아니라 레이저빔의 파장에 따른 회절한계로 인해 제한된다. 이러한 레이저빔의 스폿의 크기는 다음의 수학식 1로 표현된다.
D ∝ λ/ NA
여기서, D는 스폿의 직경이고 λ는 레이저빔의 파장이고 NA(Numerical Aperture)는 렌즈의 개구수이다.
수학식 1을 살펴볼 때, 레이저빔의 파장이 짧아지면, 레이저빔의 스폿의 크기는 작아지고, 그 결과 광디스크의 피트 또는 도트 피치의 크기는 작아져서, 광디스크 내의 기록밀도는 증가한다는 것을 알 수 있다. 즉, 광디스크 내의 기록밀도를 높이기 위해서는 포토레지스트 층에 조사하는 레이저빔의 파장이 짧아야 한다.
일반적으로, DVD(Digital Versatile Disc)(4.7 GB/single side)용 글라스 마스터를 제작하기 위해서는 파장이 351㎚인 레이저빔을 이용하는 LBR을 사용한다.그런데, 상기 351㎚ 파장 레이저빔으로 구현 가능한 최소 크기의 스폿은 BD(Blu-ray Disc)(25 GB/ single side)용 글라스 마스터가 요구하는 크기의 피트 또는 도트 피치를 제작하기에는 크다. 따라서, BD용 글라스 마스터를 제작하기 위해서는 351㎚ 파장보다 훨씬 짧은 파장의 레이저빔을 이용하는 LBR을 별도로 필요로 한다.
이에 대해, 본 발명의 목적은 레이저빔의 파장의 크기를 줄이지 않고서 종래의 기술에 의해 구현할 수 있는 피트 또는 도트 피치의 크기보다 더 작은 크기의 피트 또는 도트 피치를 가진 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬프를 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 더욱 구체적으로 말하자면, 본 발명의 목적은 DVD 제작용 351㎚ 파장 레이저빔을 이용하여 차세대 고밀도 광디스크인 BD를 제작하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 광디스크의 평면도이다.
도 2a 내지 도 2i는 종래의 기술에 의해 광디스크를 제조하는 방법을 도 1의 I-I 단면을 따라서 도시하는 도면이다.
도 3은 종래의 기술에 의해 광디스크를 제조하는 방법을 도시하는 순서도이다.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 1 실시예에 의해 광디스크 제작용 스탬퍼를 제조하는 방법을 도 1의 I-I 단면을 따라서 도시하는 도면이다.
도 5는 레이저빔이 45㎚ 두께의 Ag-SiO2의 박막에 조사될 때 레이저빔의 주파수에 따른 투과도를 나타내는 그래프이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 제 2 실시예에 의해 광디스크 제작용 글라스 마스터의 제조방법을 도 1의 I-I 단면을 따라서 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 의해 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼의 제조방법을 도시하는 순서도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
200 : 유리기판 203 : 포토레지스트 층
205 : 금속 박막 207 : 금속판
210 : 수지 213 : 반사막
215 : 보호층 400 : 제 1 매개물질
600 : 제 2 매개물질 610 : 근접광 조사 프로브
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유리 기판을 준비하는 단계, 상기 유리 기판 위에 포토레지스트 층을 도포하는 단계, 상기 유리 기판이 위치하는 분위기(atmosphere)의 굴절률보다 큰 굴절률을 가진 제 1 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 광을 조사하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 에칭하는 단계 및 상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계를 포함하는 글라스 마스터(glass master) 제조방법을 제공한다.
또한 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유리 기판을 준비하는 단계, 상기 유리 기판 상부 전면에 포토레지스트 층을 도포하는 단계, 상기 유리 기판이 위치하는 분위기(atmosphere)의 굴절률보다 큰 굴절률을 가진 제 1 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 광을 조사하는 단계, 상기 제 1 매개물질을 에칭하는 단계, 상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계, 상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속판을 형성하는 단계 및 상기 금속판을 상기 유리 기판으로부터 분리하여 상기 금속판을 스탬퍼로서 획득하는 단계를 포함하는 스탬퍼(stamper) 제조방법을 제공한다.
또한 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유리 기판을 준비하는 단계, 상기 유리 기판 위에 포토레지스트 층을 도포하는 단계, 근접광(near-field light)의 회절을 방지하는 제 2 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계, 상기 제 2 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 근접광을 조사하는 단계, 상기 제 2 매개물질을 에칭하는 단계 및 상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계를 포함하는 글라스 마스터(glass master) 제조방법을 제공한다.
또한 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유리 기판을 준비하는 단계, 상기 유리 기판 상부 전면에 포토레지스트 층을 도포하는 단계, 근접광(near-field light)의 회절을 방지하는 제 2 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계, 상기 제 2 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 근접광을 조사하는 단계, 상기 제 2 매개물질을 에칭하는 단계, 상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계, 상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속판을 형성하는 단계 및 상기 금속판을 상기 유리 기판으로부터 분리하여 상기 금속판을 스탬퍼로서 획득하는 단계를 포함하는 스탬퍼(stamper) 제조방법을 제공한다.
이하, 도 4a 내지 도 4g, 도 5 및 도 7을 참조하여, 상기의 목적을 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예(이하 "제 1 실시예"라 한다)를 설명하면 다음과 같다.
본 실시예에서 종래기술과 동일한 구성은 동일 명칭 및 동일 부호를 병기한다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 먼저 잘 연마된 유리 기판(200) 위에 포토레지스트 층(203)을 균일한 두께로 도포한다.
그 다음, 도 4b에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트 층(203) 전면에 걸쳐 제 1 매개물질(400)을 스퍼터링(sputtering) 공법을 이용하여 도포한다. 상기 제 1 매개물질은 Ag 또는 Ag-SiO2등의 물질로 이루어지는 것이 바람직한데, 상기 제 1 매개물질의 역할은 후술된다. 상기 제 1 매개물질은 10 내지 100㎚의 두께로 도포되는 것이 바람직하다.
그 다음, 도 4c에 도시된 바와 같이, LBR(Laser Beam Recorder)를 이용하여 상기 제 1 매개물질(400)을 통하여 상기 포토레지스트 층(203)에 351㎚파장의 레이저빔을 조사하여 포토레지스트 층(203)의 일부를 선택적으로 노광시킨다.
그 다음, 상기 제 1 매개물질(400)을 예컨대 Fe(NO3)3와 같은 Ag 식각액(etchant)을 이용하여 식각한 다음, 상기 노광된 포토레지스트 층을 알칼리 현상액으로 현상처리하면, 도 4d에 도시된 바와 같이 상기 유리기판(200) 상에 소정 형상의 포토레지스트 패턴이 형성된다. 이로써, 글라스 마스터가 완성된다.
이하, 상기 글라스 마스터로부터 광디스크 제작용 스탬퍼를 제조하는 방법을 살펴보면 다음과 같다.
도 4e에 도시된 바와 같이, 상기 글라스 마스터 상에 금속 박막(205)을 형성한다. 여기서, 상기 금속 박막의 재료로는 니켈이 바람직하다.
그 다음, 도 4f에 도시된 바와 같이, 상기 금속 박막 상에 전기도금법으로써 도금하여 금속판(207)을 성장시킨다. 여기서, 상기 금속판의 재료는 상기 금속 박막의 재료와 동일한 것이 바람직하다.
그 다음, 상기 글라스 마스터에서 금속판(207)을 분리하면, 도 4g에 도시된 바와 같이 금속판의 스탬퍼(stamper)(207)가 완성된다.
이하, 상기 제 1 실시예에 의한 본 발명의 원리를 설명하면 다음과 같다.
상기 제 1 실시예의 공정은 일반적으로 공기의 분위기에서 실시된다. 이 경우에, 상기 포토레지스트 층(203) 전면에 도포되는 상기 제 1 매질물질(400)은 그 굴절율이 공기의 굴절율보다 높으면서 특히 351㎚ 파장의 레이저빔이 잘 투과되는 물질, 예컨대 Ag 또는 Ag-SiO2를 포함하도록 한다. 참고적으로, 레이저빔이 45㎚ 두께의 Ag-SiO2의 박막에 조사될 때, 레이저빔의 주파수에 따른 투과도를 나타내는 그래프가 도 5에 도시되어 있다.
이와 같이, 레이저빔이 공기를 지나서 공기보다 더 큰 굴절율을 가진 제 1 매개물질을 통과하게 되면, 제 1 매개물질 내의 레이저빔의 파장은 하기의 수학식 2에 나타난 스넬의 법칙에 의해서 작아지게 된다.
n1/ n2= λ2/ λ1
여기서, n은 굴절율을 나타내고 λ는 파장을 나타내고 아래 첨자는 물질의 종류를 나타낸다.
따라서, 제 1 매개물질 내에서 레이저빔의 파장이 작아지는 만큼 상기 포토레지스트 층(203)에 가해지는 레이저빔의 스폿은 작아지므로, 기존의 LBR로써 더욱 피트 또는 트랙 피치가 작은 글라스 마스터 또는 스탬퍼를 구현할 수 있다.
이하, 본 발명의 또다른 바람직한 실시예(이하 "제 2 실시예"라 한다)를 도 6a 내지 도 6d 및 도 7을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 실시예에서도 종래기술과 동일한 구성은 동일 명칭 및 동일 부호를 병기한다.
도 6a에 도시된 바와 같이, 먼저 잘 연마된 유리 기판(200) 위에 포토레지스트 층(203)을 균일한 두께로 도포한다.
그 다음, 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트 층(203) 전면에 걸쳐 AgOx등의 제 2 매개물질(600)을 10 내지 100㎚의 두께로 스퍼터링(sputtering)공법을 이용하여 도포한다.
그 다음, 도 6c에 도시된 바와 같이, 개구(aperture)의 직경이 50 ~ 100㎚인 근접광 조사 프로브(near-field light emitting probe)(610) 내에 351㎚ 파장의 레이저빔을 조사하면, 상기 프로브(610)의 개구에는 근접광(near-field light)이 형성되는데, 상기 근접광을 상기 제 2 매개물질(600)을 통하여 상기 포토레지스트 층(203)에 조사하여 선택적으로 포토레지스트 층(203)의 일부를 노광시킨다. 이 때, 제 2 매개물질(600)은 상기 프로브의 개구에서 나오는 근접광이 회절하여 퍼지는 현상을 막아서 상기 포토레지스트 층(203)에 상기 근접광 조사 프로브(610)의 개구의 직경과 동일한 직경을 가진 스폿이 형성되도록 한다. 즉, 조사되는 레이저빔의 파장의 회절한계에 의해 제한되는 크기 이하의 스폿이 상기 포토레지스트 층(203) 위에 형성된다.
그 다음, 상기 제 2 매개물질(600)을 식각한 다음, 상기 노광된 포토레지스트 층을 알칼리 현상액으로 현상처리하면, 도 4d에 도시된 바와 같이 상기 유리기판(200) 상에 소정 형상의 포토레지스트 패턴이 형성된다. 이로써, 글라스 마스터가 완성된다.
이하 상기 글라스 마스터로부터 스탬퍼를 제작하는 방법은 제 1 실시예의 글라스 마스터로부터 스탬퍼를 제작하는 방법과 동일하다.
상술한 본 발명에 따른 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법의 효과를 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 의하면, 레이저빔의 파장의 크기를 줄이지 않고서 종래의 기술에 의해 구현할 수 있는 피트 또는 도트 피치의 크기보다 더 작은 크기의 피트 또는 도트 피치를 가진 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬프를 제조할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 광디스크 제작용 글라스 마스터 및 스탬퍼 제조방법에 의하면 DVD 제작용 351㎚ 파장의 레이저빔을 이용하여 차세대 고밀도 광디스크인 BD를 제작할 수 있다.

Claims (20)

  1. 유리 기판을 준비하는 단계;
    상기 유리 기판 위에 포토레지스트 층을 도포하는 단계;
    상기 유리 기판이 위치하는 분위기(atmosphere)의 굴절률보다 큰 굴절률을 가진 제 1 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계;
    상기 제 1 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 광을 조사하는 단계;
    상기 제 1 매개물질을 에칭하는 단계; 및
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계;
    를 포함하는 글라스 마스터(glass master) 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기는 공기이고, 상기 제 1 매개물질은 Ag 또는 Ag-SiO2를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 마스터 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 매개물질은 10 ~ 100㎚ 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는 글라스 마스터 제조방법.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 매개물질은 스퍼터링(sputtering) 방식에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 글라스 마스터 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 광은 351㎚ 파장의 레이저광인 것을 특징으로 하는 글라스 마스터 제조방법.
  6. 유리 기판을 준비하는 단계;
    상기 유리 기판 상부 전면에 포토레지스트 층을 도포하는 단계;
    상기 유리 기판이 위치하는 분위기(atmosphere)의 굴절률보다 큰 굴절률을 가진 제 1 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계;
    상기 제 1 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 광을 조사하는 단계;
    상기 제 1 매개물질을 에칭하는 단계;
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계;
    상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속판을 형성하는 단계; 및
    상기 금속판을 상기 유리 기판으로부터 분리하여 상기 금속판을 스탬퍼로서획득하는 단계;
    를 포함하는 스탬퍼(stamper) 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계 다음에, 상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속박막을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 금속박막 및 상기 금속판은 니켈로 형성되는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 분위기는 공기이고, 상기 제 1 매개물질은 Ag 또는 Ag-SiO2를 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 매개물질은 10 ~ 100㎚ 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 매개물질은 스퍼터링(sputtering) 방식에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  12. 제 6 항에 있어서,
    상기 광은 351㎚ 파장의 레이저광인 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  13. 유리 기판을 준비하는 단계;
    상기 유리 기판 위에 포토레지스트 층을 도포하는 단계;
    근접광(near-field light)의 회절을 방지하는 제 2 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계;
    상기 제 2 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 근접광을 조사하는 단계;
    상기 제 2 매개물질을 에칭하는 단계; 및
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계;
    를 포함하는 글라스 마스터(glass master) 제조방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 2 매개물질은 AgOx를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 마스터제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 2 매개물질은 10 ~ 100㎚ 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는 글라스 마스터 제조방법.
  16. 유리 기판을 준비하는 단계;
    상기 유리 기판 상부 전면에 포토레지스트 층을 도포하는 단계;
    근접광(near-field light)의 회절을 방지하는 제 2 매개물질을 상기 포토레지스트 층 전면에 도포하는 단계;
    상기 제 2 매개물질을 통하여 상기 포토레지스트 층의 일부에 선택적으로 근접광을 조사하는 단계;
    상기 제 2 매개물질을 에칭하는 단계;
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계;
    상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속판을 형성하는 단계; 및
    상기 금속판을 상기 유리 기판으로부터 분리하여 상기 금속판을 스탬퍼로서 획득하는 단계;
    를 포함하는 스탬퍼(stamper) 제조방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 노광된 포토레지스트 층을 현상하는 단계 다음에, 상기 현상된 포토레지스트 층을 포함하는 상기 유리기판 전면에 금속박막을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 금속박막 및 상기 금속판은 니켈로 형성되는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  19. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 2 매개물질은 AgOx를 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제 2 매개물질은 10 ~ 100㎚ 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는 스탬퍼 제조방법.
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