KR20040045606A - Water Circulation System For Semiconductor Device Manufacturing Apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템에 관한 것으로 보다 상세하게 설명하면, 항온수의 수위 제어가 가능한 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a constant temperature water circulation system in a semiconductor device manufacturing facility, and more particularly, to a constant temperature water circulation system in a semiconductor device manufacturing facility capable of controlling the level of constant temperature water.
케미컬을 사용하는 여러 반도체 제조 설비에서 케미컬의 온도는 항온수에 의해 제어된다. 도 1은 종래 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템(101)의 개략적인 블록도이다. 항온조(102)에서는 항온수를 일정 온도로 유지한다. 온도가 높을 경우에는 공정 냉각수 공급 튜브(106)으로 공급되는 공정 냉각수(PCW: Process Chilly Water)를 이용하여 항온수의 온도를 낮추고, 공정 냉각수는 다시공정 냉각수 배출 튜브(107)을 통해 배출된다. 항온수의 온도가 낮을 경우에는 항온조 내부의 히터(Heater, 도시안됨)로 온도를 높인다.In many semiconductor manufacturing facilities that use chemicals, the temperature of the chemicals is controlled by constant temperature water. 1 is a schematic block diagram of a constant temperature water circulation system 101 in a conventional semiconductor device manufacturing facility. The thermostat 102 maintains the constant temperature water at a constant temperature. When the temperature is high, the temperature of the constant temperature water is lowered by using process chilled water (PCW) supplied to the process coolant supply tube 106, and the process coolant is discharged again through the process coolant discharge tube 107. If the temperature of the constant temperature water is low, increase the temperature with a heater (not shown) inside the thermostat.
이렇게 항온조(102)에 의해 일정온도로 유지된 항온수는 항온수 챔버 공급 튜브(104)를 이용하여 반도체 소자 제조장치의 챔버(103)에 공급되고, 항온수 챔버 배출 튜브(105)를 이용하여 다시 항온조(102)로 복귀한다.The constant temperature water maintained at a constant temperature by the thermostat 102 is supplied to the chamber 103 of the semiconductor device manufacturing apparatus using the constant temperature chamber supply tube 104, and the constant temperature chamber discharge tube 105 is used. It returns to the thermostat 102 again.
그런데 종래에는 이러한 항온조(102)의 유량을 제어하는 기능이 갖추어지지 않아 관리자가 항온조의 유량을 직접 파악하여 유량이 부족한 경우 항온조(102)의 덮개를 열어 항온수를 주입하였다. 안정적인 온도제어를 위해서는 항온조의 유량 레벨을 저수위 이상으로 관리하고 있으나, 자연 건조에 의해 유량이 점점줄어드는데, 유량이 적은 상태로 항온수의 순환이 이루어지면 온도의 상하 변화가 심하고 펌프의 공회전이 심해져 펌프의 수명이 단축되는 문제가 있었다.However, in the related art, the function of controlling the flow rate of the thermostat 102 is not provided, and the manager directly grasps the flow rate of the thermostat to open the cover of the thermostat 102 to inject constant temperature water when the flow rate is insufficient. For stable temperature control, the flow level of the thermostat is managed above the low level.However, the flow rate decreases due to natural drying.However, when the constant temperature water is circulated with a low flow rate, the temperature fluctuates severely and the pump idle becomes severe. There was a problem that the life of the pump is shortened.
따라서 본 발명은 작업자에 의해 관리되던 항온수의 유량조절을 자동화하여 유량을 자동으로 제어할 수 있도록함으로써, 유량부족에 따른 온도의 변화 폭을 감소시키고, 펌프의 수명을 증대시키고자 함에 그 목적이 있다.Therefore, the present invention is to automatically control the flow rate of the constant temperature water managed by the operator to automatically control the flow rate, thereby reducing the change in temperature due to the flow rate shortage, and to increase the service life of the pump have.
도 1은 종래 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템의 개략적인 블록도이고,1 is a schematic block diagram of a constant temperature water circulation system in a conventional semiconductor device manufacturing facility,
도 2는 본 발명에 의한 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템의 개략적인 블록도이고,2 is a schematic block diagram of a constant temperature water circulation system in a semiconductor device manufacturing facility according to the present invention,
도 3은 도 1의 항온조에서의 수위감지 센서의 예를 도시한 개략적 단면도이고,3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a water level sensor in the thermostat of FIG. 1,
도 4는 본 발명에 의한 항온수 순환 시스템의 제어 순서도이다.4 is a control flowchart of a constant temperature water circulation system according to the present invention.
※ 도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명 ※※ Brief description of the main parts of the drawing ※
101, 201: 항온수 순환 시스템 102: 항온조101, 201: constant temperature water circulation system 102: thermostat
103: 챔버 104: 항온수 챔버 공급 튜브103: chamber 104: constant temperature chamber supply tube
105: 항온수 챔버 배출 튜브 106: 공정 냉각수 공급 튜브105: constant temperature chamber discharge tube 106: process cooling water supply tube
107: 공정 냉각수 배출 튜브 108: 초순수 저장 탱크107: process cooling water discharge tube 108: ultrapure water storage tank
109: 제어부 110: 수위 지시계109: control unit 110: water level indicator
111: 부표 112: 부표 지지대111: buoy 112: buoy support
202: 항온수 공급 솔레노이드 밸브202: constant temperature water supply solenoid valve
203: 항온수 공급 튜브 204: 오버 플로우 방지 튜브203: constant temperature water supply tube 204: overflow prevention tube
205: 항온수 배출 튜브 206: 항온수 드레인 솔레노이드 밸브205: constant temperature discharge tube 206: constant temperature drain solenoid valve
207: 폐수라인 301: 항온수207: wastewater line 301: constant temperature water
이러한 목적을 달성하기 위하여 반도체 소자 제조설비의 케미컬을 일정온도로 유지시키기 위한 본 발명에 의한 항온수 순환 시스템은, 반도체 소자 제조설비와 항온수 챔버 공급 튜브 및 항온수 챔버 배출 튜브로 연결되고, 공정 냉각수를 이용한 냉각과 히터를 이용한 가열로써 초순수를 일정온도로 유지하는 항온조와; 이러한 항온조와 초순수 공급 솔레노이드 밸브가 장착된 초순수 공급 튜브로 연결된 초순수 저장탱크; 및 항온조 내부의 항온수 수위를 조절하는 제어부를 포함하고, 항온조는 폐수라인과 항온수 배출 솔레노이드 밸브가 구비된 항온수 배출 튜브로 연결되고, 내부에 수위 감지 센서를 구비하여 수위감지 센서에서 고수위를 감지한 경우, 제어부는 항온수 배출 솔레노이드 밸브를 개방하고, 수위 감지 센서에서 저수위를 감지한 경우 초순수 공급 솔레노이드 밸브를 개방하고, 수위 감지 센서에서 적정수위를 감지한 경우 상기 초순수 공급 솔레노이드 밸브와 상기 항온수 배출 솔레노이드 밸브를 모두 밀폐시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the constant temperature water circulation system according to the present invention for maintaining the chemical of the semiconductor device manufacturing equipment at a constant temperature is connected to the semiconductor device manufacturing equipment, the constant temperature chamber supply tube and the constant temperature water chamber discharge tube, and the process A thermostat for maintaining ultrapure water at a constant temperature by cooling with cooling water and heating with a heater; An ultrapure water storage tank connected to the thermostat and the ultrapure water supply tube equipped with the ultrapure water supply solenoid valve; And a control unit for controlling the temperature level of the constant temperature water inside the thermostat, wherein the thermostat is connected to a constant temperature discharge tube equipped with a wastewater line and a constant temperature discharge solenoid valve, and has a water level sensor therein to provide a high level in the water level detection sensor. When detecting, the control unit opens the constant temperature water discharge solenoid valve, when the water level detection sensor detects the low water level, the ultrapure water supply solenoid valve is opened, and when the proper level is detected by the water level detection sensor, the ultrapure water supply solenoid valve and the constant temperature It is characterized by sealing all the water discharge solenoid valve.
양호하게는, 항온조는 또한 오버 플로우 방지 튜브를 이용하여 폐수라인에 연결되어, 제어부의 신호없이도 항온수가 과다한 경우 배출될 수 있도록 한 것을 특징으로 한다.Preferably, the thermostat is also connected to the waste water line by using an overflow prevention tube, so that it can be discharged when the constant temperature is excessive without a signal from the control unit.
이하, 도면을 중심으로 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 소자 제조설비에서의 항온수 순환 시스템(201)의 개략적인 블록도이다. 본 발명에 의한 항온수 순환 시스템(201)의 항온조(102)는 초순수(D.I. Water) 저장탱크(108)와 초순수 공급 솔레노이드밸브(202)가 형성된 초순수 공급 튜브(203)로 연결된다.2 is a schematic block diagram of a constant temperature water circulation system 201 in a semiconductor device manufacturing facility according to the present invention. The thermostat 102 of the constant temperature water circulation system 201 is connected to the ultrapure water storage tank 108 and the ultrapure water supply tube 203 in which the ultrapure water supply solenoid valve 202 is formed.
초순수가 항온조(102)에서 항온으로 유지되는 경우 항온수로 지칭하기로 한다.When ultrapure water is maintained at a constant temperature in the thermostat 102 will be referred to as constant temperature water.
또한 항온조(102)는 폐수라인(207)과 항온수 배출 솔레노이브 밸브(206)이 형성된 항온수 배출 튜브(205)와 연결되어 있으며, 또한 오버 플로우 방지 튜브(204)를 이용하여 폐수라인(207)과 연결되어 있다.In addition, the thermostat 102 is connected to the constant temperature water discharge tube 205 in which the waste water line 207 and the constant temperature water discharge solenoid valve 206 are formed, and also the waste water line (204) using the overflow prevention tube 204. 207).
항온조(102) 내부의 수위감지 센서(도시안됨), 초순수 공급 솔레노이드 밸브(202) 및 항온수 배출 솔레노이드 밸브(206)는 제어부(109)와 전기적으로 연결되어 제어부(109)의 제어에 따라 각각 초순수 공급 튜브(203)와 항온수 배출 튜브(205)를 개방 또는 밀폐한다.The water level sensor (not shown), the ultrapure water supply solenoid valve 202, and the constant temperature water discharge solenoid valve 206 inside the thermostat 102 are electrically connected to the control unit 109, respectively, to control the ultrapure water according to the control of the control unit 109. The supply tube 203 and the constant temperature discharge tube 205 are opened or closed.
초순수 공급 솔레노이드 밸브(202)와 항온수 배출 솔레노이드 밸브(206)는 내부에 솔레노이드가 형성되어 있어, 전류가 흐르는 경우 자기장에 의해서 축(도시안됨)이 솔레노이드 내부로 유입되어 각각 초순수 공급 튜브(203)와 항온수 배출 튜브(205)를 개방하고, 전류가 흐르지 않는 경우 솔레노이드 밸브의 축(도시안됨)에 연결된 스프링(도시안됨)의 탄성력에 의해 원위치로 복귀하여 각각 초순수 공급 튜브(203)와 항온수 배출 튜브(205)를 밀폐한다. 이러한 솔레노이드 밸브는 널리 사용되어지고 있다.The ultrapure water supply solenoid valve 202 and the constant temperature water discharge solenoid valve 206 have a solenoid formed therein, and when a current flows, a shaft (not shown) is introduced into the solenoid by a magnetic field, respectively, and the ultrapure water supply tube 203 is provided. And the constant temperature water discharge tube 205, and when no current flows, returns to its original position by the elastic force of the spring (not shown) connected to the shaft (not shown) of the solenoid valve, respectively, the ultrapure water supply tube 203 and the constant temperature water. The discharge tube 205 is sealed. Such solenoid valves are widely used.
도 3은 도 1의 항온조에서의 수위 감지 센서의 예를 도시한 개략적 단면도이다. 본 도면에서는 항온수의 온도를 일정하게 하기 위해 공정냉각수(PCW) 및히터(도시안됨)는 도시하지 아니하고, 수위 감지 기능만을 도시하기로 한다. 항온수(301)에는 구형의 부표(111)가 떠있다. 부표(111)는 부표 지지대(112)에 연결되어 있으며 수위 지시계(110)에 의해 수위가 표시된다. 수위 지시계(110)는 고수위버튼(310), 적정수위 버튼(320), 저수위 버튼(330)이 구비되어 부표지지대(112)가 위의 버튼들(310.320,330)과 접촉하면 이 신호는 제어부(109)에 전달된다. 제어부에 이상이 발생하여 초순수가 계속공급되는 경우라도 항온수(301)는 오버 플로우 방지 튜브(204)를 통해서 도 1의 폐수라인(207)로 배출된다.3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the water level sensor in the thermostat of FIG. In this figure, the process coolant (PCW) and the heater (not shown) are not shown in order to keep the temperature of the constant temperature water constant. A spherical buoy 111 is suspended in the constant temperature water 301. The buoy 111 is connected to the buoy support 112 and the water level is indicated by the water level indicator 110. The water level indicator 110 is provided with a high water level button 310, an appropriate water level button 320, and a low water level button 330 so that the buoy support 112 contacts the above buttons 310.320 and 330. 109). Constant temperature water 301 is discharged to the wastewater line 207 of FIG. 1 through the overflow prevention tube 204 even when abnormality occurs in the control unit and ultrapure water is continuously supplied.
도 3에서 도시한 수위감지 센서는 널리 사용되고 있는 것을 채택한 것이며, 본 발명에 적용되는 수위 감지 센서는 다른 종류의 수위 감지 센서를 적용할 수 있음은 당연한 사실이다.The water level sensor shown in FIG. 3 adopts a widely used one, and it is a matter of course that the water level sensor applied to the present invention can be applied to another type of water level sensor.
도 4는 본 발명에 의한 항온수 순환 시스템의 제어 순서도이다.4 is a control flowchart of a constant temperature water circulation system according to the present invention.
항온수 순환 시스템이 동작하면 항온수 제어가 시작된다(S401). 도 3의 수위감지 센서가 항온수의 수위를 측정하여 제어부(109)에 신호를 보내면 제어부는 항온수가 고수위인지를 판단하여(S402), 고수위인 경우에는 도 1의 항온수 배출 솔레노이드 밸브(206)를 개방하면(S403), 도 1의 항온조 내부의 항온수는 항온수 배출 튜브(205)를 통해서 폐수 라인(207)로 배출된다. 이후 항온수가 적정 수위에 이르렀는지 판단하여(S404), 적정수위에 도달되지 아니한경우 계속적으로 항온수 배출 솔레노이드 밸브(206)를 개방하고, 적정수위에 도달한 경우는 항온수 배출 솔레노이드 밸브(206)를 밀폐한다(S405).When the constant temperature water circulation system operates, constant temperature water control is started (S401). When the water level sensor of FIG. 3 measures the level of the constant temperature water and sends a signal to the controller 109, the controller determines whether the constant temperature water is a high water level (S402), and in the case of the high water level, the constant temperature water discharge solenoid valve 206 of FIG. 1. When opening (S403), the constant temperature water inside the thermostat of FIG. 1 is discharged to the wastewater line 207 through the constant temperature water discharge tube 205. Thereafter, it is determined whether the constant temperature water has reached an appropriate water level (S404), and when the proper water level is not reached, the constant temperature water discharge solenoid valve 206 is continuously opened, and when the proper water level is reached, the constant temperature water discharge solenoid valve 206 is reached. It is sealed (S405).
항온수가 고수위가 아닌경우에는, 항온수가 저수위인지를 판단하여(S407), 저수위인 경우에는 도 1의 초순수 공급 솔레노이드 밸브(202)를 개방하여 초순수 저장 탱크(108)의 초순수가 초순수 공급 튜브(203)를 통해 항온조(102)에 공급된다. 이후 항온수가 적정 수위에 이르렀는지 판단하여(S409), 적정수위에 도달되지 아니한경우 계속적으로 초순수 공급 솔레노이드 밸브(202)를 개방하고, 적정수위에 도달한 경우는 초순수 공급 솔레노이드 밸브(202)를 밀폐한다(S410).If the constant temperature water is not a high water level, it is determined whether the constant temperature water is a low water level (S407), and in the case of a low water level, the ultrapure water supply solenoid valve 202 of FIG. 1 is opened, and the ultrapure water of the ultrapure water storage tank 108 is an ultrapure water supply tube 203 Is supplied to the thermostat 102. Thereafter, it is determined whether the constant temperature water has reached the proper level (S409), and if the proper level is not reached, the ultrapure water supply solenoid valve 202 is continuously opened, and when the proper water level is reached, the ultrapure water supply solenoid valve 202 is sealed. (S410).
이렇게 하여 항온조 내부의 수위를 관리자가 확인하여 보충함이 없이 항온조 내부의 항온수는 일정량으로 유지된다.In this way, the water level inside the thermostat is maintained at a constant amount without the administrator checking and replenishing the water level.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 발명의 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 예시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것이 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변화예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.On the other hand, embodiments of the invention disclosed in the specification and drawings are merely illustrative of specific examples for the purpose of understanding and are not intended to limit the scope of the invention. It is apparent to those skilled in the art that other variations based on the technical idea of the present invention can be carried out in addition to the embodiments disclosed herein.
본 발명은 작업자에 의해 관리되던 항온수의 유량조절을 자동화하여 유량을 자동으로 제어할 수 있도록함으로써, 유량부족에 따른 온도의 변화 폭을 감소시키고, 펌프의 수명을 증대시키는 효과가 있다.The present invention has the effect of reducing the range of change in temperature caused by the lack of flow rate, and increase the life of the pump by automatically controlling the flow rate by automating the flow rate control of the constant temperature water managed by the operator.
Claims (2)
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100847590B1 (en) * | 2006-06-19 | 2008-07-21 | 조현찬 | Appratus for supplying chemical for semiconductor equipments, monitoring chemical supply and supplying chemical with monitoring capabilities |
| CN107202718A (en) * | 2017-04-28 | 2017-09-26 | 国网天津市电力公司 | One kind is applied to SO3The heating and thermal insulation water bath device of field sampling |
| KR102368013B1 (en) | 2021-10-04 | 2022-03-02 | 씨씨에스 주식회사 | Temperature control system for process cooling water and thermostat apparatus including the same |
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2002
- 2002-11-25 KR KR1020020073432A patent/KR20040045606A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100847590B1 (en) * | 2006-06-19 | 2008-07-21 | 조현찬 | Appratus for supplying chemical for semiconductor equipments, monitoring chemical supply and supplying chemical with monitoring capabilities |
| CN107202718A (en) * | 2017-04-28 | 2017-09-26 | 国网天津市电力公司 | One kind is applied to SO3The heating and thermal insulation water bath device of field sampling |
| KR102368013B1 (en) | 2021-10-04 | 2022-03-02 | 씨씨에스 주식회사 | Temperature control system for process cooling water and thermostat apparatus including the same |
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