KR20040039588A - 이온빔조사에 의한 대전방지용 진공성형용기 제조방법 - Google Patents

이온빔조사에 의한 대전방지용 진공성형용기 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 이온빔조사에 의한 대전방지용 진공성형용기 제조방법에 관한것인데, 그 목적은 정전기방지를 필요로 하는 전자 부품, 반도체 등 고부가가치 물건의 운송 및 보관에 종래의 진공성형용기를 쉽게 사용할 수 있도록 하기 위해 대전방지 기능이 첨가된 진공성형용기를 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 구성은 폴리프로필렌 수지 조성물 시트를 진공 성형하여 만든 진공성형용기(1)를 진공챔버(2) 안의 자동화된 이동형 지지구조(3)에 올려놓은 후 이온원(4)으로부터 발생된 이온빔(5)을 이동중인 진공성형용기(1) 표면에 조사 시켜 진공성형용기(1) 표면의 전기저항을 1011Ω/sq 이하로 감소시켜 정전기 발생을 방지시키는 방법을 특징으로 한다.

Description

이온빔조사에 의한 대전방지용 진공성형용기 제조방법{Manufacturing process for anti-static vacuum forming instrument by irradiation of ion beam}
본 발명은 이온빔조사에 의한 대전방지용 진공성형용기 제조방법에 관한 것으로, 자세하게는 폴리프로필렌 수지 조성물을 진공 성형하여 만든 용기에 이온빔을 조사하여 대전방지성질을 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 대전방지용 진공성형용기 제조방법에 관한 것이다.
종래의 진공성형용기는 다양성, 편리성, 견고성, 경제성을 갖고 있음에도 불구하고, 대전방지 기능이 없어 단순하게 일반 물품을 담아 운반 및 보관하는데 사용하였다. 따라서 정전방지를 필요로 하는 전자 부품, 반도체 등 고부가가치 물건의 운반 및 보관은 다른 운송수단을 이용하였다.
종래의 대전방지 용기는 대전방지제 첨가법과 전도성고분자재료를 사용하는 두가지 방법에 의해 제조되었다.
대전방지제 첨가법은 분자내 친수기와 친유기를 동시에 가지고 있는 대전방지제를 용기 표면에 흡착하여 친수성 부분을 용기표면에 배열시킴으로써 공기 중의 수분을 흡수하게 하여 이 수분과 대전방지제 자신의 전도성에 의해 용기에 발생한 정전기를 방전시키는 것이다. 이 경우, 상대 습도 40% 이하에서 대전방지 성능이 저하되고, 대전방지제의 불균일성 때문에 물세척이나 닦아내기에 의해 부분적으로 대전방지효과가 장기간 지속되지 않으며, 대전방지제 내부에 포함된 독성물질에 대한 주의가 필요한 것이 단점이다.
전도성 고분자재료를 이용한 용기의 경우, 공액 이중결합을 갖는 Polyaniline, Polypyrrole, Polythiophene 등 전기전도특성을 갖는 고분자재료를 사용한다. 전도성 고분자는 산화안정성이 나쁘고 기계적 물성이 낮아 고분자 사슬에 존재하는 분자간의 인력으로 인한 불용성 때문에 가공성이 취약한 단점이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 정전기방지를 필요로 하는 전자 부품, 반도체 등 고부가가치 물건의 운송 및 보관에 종래의 진공성형용기를 쉽게 사용할 수 있도록 하기 위해 대전방지 기능이 첨가된 진공성형용기를 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
상기와 같은 본 발명의 목적은 폴리프로필렌 수지 조성물을 진공 성형하여 만든 용기에 이온빔을 조사하여 대전방지용 진공성형용기를 제조하는 방법을 제조함으로써 제조된다.
도 1은 일반적인 진공성형용기 제조 공정도이고,
도 2는 본 발명의 대전방지용 진공성형용기 제조 공정도이며,
도 3은 본 발명의 개략적인 이온빔 조사장치 구성에 대한 실시 예도이다.
도 4는 본 발명의 폴리프로필렌 수지 조성물을 진공 성형하여 만든 용기에 이온빔을 조사한 실시 예에 대한 그래프이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
(1) : 진공성형용기 (2) : 진공챔버
(3) : 이동형 지지구조 (4) : 이온원
(5) : 이온빔
상기한 바와 같은 목적을 달성하고 종래의 결점을 제거하기 위한 과제를 수행하는 본 발명의 실시예인 구성과 그 작용을 첨부도면에 연계시켜 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 대전방지용 진공성형용기 제조 공정도인데, 공정은 폴리프로필렌수지물을 투입하는 단계와, 이를 가열하는 단계와, 가열되어 용융된 수지를 진공성형하는 단계와, 성형물을 냉각하는 단계와, 냉각 후 트리밍하는 단계와, 마지막으로 이온조사하는 단계로 이루어진다.
도 3은 본 발명의 개략적인 이온빔 조사장치 구성에 대한 실시예도를 도시하고 있는데, 그 공정 및 구성을 살펴보면, 폴리프로필렌 수지 조성물로 제조된 진공성형용기(1)를 진공챔버(2)내의 지지구조(3)에 부착시킨 후, 지지구조물을 천천히 이동시킨다.
상기 이동형 지지구조물 상단부에 이온원(4)을 한 개 이상 설치한다.
상기 지지구조(3) 형상은 보관 및 운송 제품의 용도 및 모양에 따라 결정되는데 주로 진공성형용기 표면에 이온빔 조사를 균일하고 쉽게 할 수 있도록 다양한 형태로 제작할 수 있다.
다양한 형태를 갖는 진공성형용기 표면에 이온빔을 보다 균일하게 조사하기 위해 이동과 회전이 자유로운 자동화된 범용 다축 지지구조를 사용한다.
설치된 이온원으로부터 인출된 이온빔(5)을 용기에 조사한다.
이온조사 시 고려해야할 사항은 이온빔의 에너지와 전류, 조사 방향, 지지구조의 이동속도이다. 즉, 이들 값은 적용하고자 하는 진공성형용기의 크기 및 모양에 따라 실험적으로 결정된다. 진공챔버 내의 진공도는 10-5Torr 이하를 유지한다.
진공성형용기 표면에 조사된 이온빔은 용기 표면의 전기저항을 감소시켜 결과적으로 용기표면에 도전성을 갖게 하여 전자부품과의 접촉 시 발생하는 정전기를 방지한다.
본 발명의 이온빔 조사에 의해 만들어진 진공성형용기는 표면저항이 1011Ω/sq 이하로서 정전분산에 의해 정전기가 발생하지 않고, 또한 이온빔 조사 전의 진공성형용기와 동일한 성능 및 외관과 대전방지 기능을 갖는다.
본 발명은 기존의 폴리프로필렌 수지 조성물을 진공 성형하여 만든 용기에 쉽게 적용할 수 있음에 따라 용기의 가용성을 높일 수 있고, 보관 및 운송 제품 특성에 적합한 대전방지용 용기를 다양하게 제작할 수 있어 용기의 선택성과 효용성이 증가한다.
대전방지 첨가제를 사용하지 않음으로써 인체에 무해하고, 환경 친화적인 대전방지용기를 제조할 수 있다.
대전방지기능을 갖는 진공성형용기를 제조할 수 있게 됨으로써, 정전기방지를 필요로 하는 전자 부품, 반도체 등 고부가가치 물품을 편리하고 안전하게 운반할 수 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시 예이다.
(실시예)
도 4에서와 같이 챔버내의 진공도 1×10-5torr에서 이온빔 세기 40keV,50keV, 이온 조사량 3×1016ions/cm2이상으로 질소 이온빔을 폴리프로필렌 수지 조성물 시트로 제조된 진공성형용기 표면에 조사, 표면 저항 값이 1011Ω/sq 이하로 됨으로서 정전기 방지효과 실증
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
상기와 같은 본 발명은 기존의 폴리프로필렌 수지 조성물을 진공 성형하여 만든 용기에 쉽게 적용할 수 있음에 따라 용기의 가용성을 높일 수 있고, 보관 및 운송 제품 특성에 적합한 대전방지용 용기를 다양하게 제작할 수 있어 용기의 선택성과 효용성이 증가한다는 장점과, 대전방지 첨가제를 사용하지 않음으로써 인체에 무해하고, 환경 친화적인 대전방지용기를 제조할 수 있다는 장점이 있어, 이러한 대전방지기능을 갖는 진공성형용기를 정전기방지를 필요로 하는 전자 부품, 반도체 등 고부가가치 물품을 편리하고 안전하게 운반할 수 있다는 등의 유용성이 있는 산업상 이용이 기대되는 발명인 것이다.

Claims (3)

  1. 폴리프로필렌 수지 조성물 시트를 진공 성형하여 만든 진공성형용기(1)를 진공챔버(2) 안의 자동화된 이동형 지지구조(3)에 올려놓은 후 이온원(4)으로부터 발생된 이온빔(5)을 이동중인 진공성형용기(1) 표면에 조사 시켜 진공성형용기(1) 표면의 전기저항을 1011Ω/sq 이하로 감소시켜 정전기 발생을 방지시키는 방법을 특징으로 하는 이온빔 조사에 의한 정전기방지 기능을 갖는 진공성형용기의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 자동화된 이동형 지지구조(3)에 올려놓은 다양한 형태를 갖는 진공성형용기 표면에 이온빔을 균일하게 조사하기 위해 지지구조를 이동과 회전이 자유로운 자동화된 범용 다축 지지구조를 사용하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사에 의한 정전기방지 기능을 갖는 진공성형용기의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서
    상기 이동형 지지구조물 상단부에 설치된 이온원(4)을 한 개 이상 설치하여 다중으로 이온빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사에 의한 정전기방지 기능을 갖는 진공성형용기의 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220025580A (ko) * 2020-08-24 2022-03-03 세메스 주식회사 기판 처리 장치, 이온 주입 처리 장치 및 이온 주입 처리 방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101368573B1 (ko) 2012-01-11 2014-02-28 한국기계연구원 선형 이온빔 발생장치를 이용한 융복합 표면처리장치
KR101622320B1 (ko) * 2014-06-16 2016-05-18 한국기초과학지원연구원 이온 빔 공급 장치 및 이를 포함하는 고진공 정전기 제거 시스템

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR940000915B1 (ko) * 1986-01-31 1994-02-04 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 표면 처리방법
JPS62284731A (ja) * 1986-06-04 1987-12-10 Fujitsu Ltd 樹脂機械加工装置
US5034167A (en) * 1990-09-17 1991-07-23 General Motors Corporation Apparatus and method for eliminating static charge from polystyrene beads for pattern molding
JPH06231897A (ja) * 1993-02-05 1994-08-19 Seiko Epson Corp 静電気の除去方法およびその装置
JPH0765986A (ja) * 1993-08-25 1995-03-10 Osaka Chuo Diecast Kk プラスチック成形装置における静電気除去方法
JP2001293728A (ja) * 2000-04-11 2001-10-23 Vessel Industrial Co Ltd 樹脂成形品の静電気除去方法及びその装置
KR100451297B1 (ko) * 2002-07-24 2004-10-06 주식회사 에이아이티신소재 이온 주입에 의한 정전기방지 기능을 갖는 빗 및 그제조방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220025580A (ko) * 2020-08-24 2022-03-03 세메스 주식회사 기판 처리 장치, 이온 주입 처리 장치 및 이온 주입 처리 방법
KR20230074691A (ko) * 2020-08-24 2023-05-31 세메스 주식회사 기판 처리 장치, 이온 주입 처리 장치 및 이온 주입 처리 방법
US11961695B2 (en) 2020-08-24 2024-04-16 Semes Co., Ltd. Substrate treating apparatus, ion implantation apparatus, and ion implantation method

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