KR20040038494A - Electrodeposition resist coating apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus for coating electrodeposition resist is provided to greatly improve productivity by uniformly forming a photoresist layer on a flexible conductive material or all kinds of electronic components, and to reduce the fabricating cost and an installation space by making the apparatus compact. CONSTITUTION: An uncoiler part(10) supplies a conductive material(M) for applying a photoresist layer and has a conductive material supplying reel(12) and an interleaf collecting reel(14) that rotate to remove the interleaf from the conductive material. An electrode part(20) has a plurality of electrode contact reels(22,24) for applying current to the conductive material supplied from the conductive material supplying reel. An electrodeposition part(30) applies an electrodeposition solution(L) to the conductive material passing through the electrode contact reels. A collection cleaning part(40) and a cleaning part(50) clean the conductive material coated with the electrodeposition solution. A dry unit(60) dries the cleaned conductive material. A drive reel(72) is provided with the power of a motor and rotates to perform a process on the conductive material, installed in a driver part(70). A coiler part(80) has a conductive material collecting reel(82) and an interleaf supplying reel(84), collecting the conductive material coated with the photoresist layer while rotating to attach an interleaf so that the conductive materials don't directly contact each other.

Description

전착 레지스트 코팅장치 {ELECTRODEPOSITION RESIST COATING APPARATUS}Electrodeposition Resist Coating Device {ELECTRODEPOSITION RESIST COATING APPARATUS}

본 발명은 전착 레지스트 코팅장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 릴 투릴(Reel To Reel) 방식의 전착 레지스트 코팅장치를 사용하여 릴 투 릴 방식으로 제작되는 리드 프레임, 반도체 패키지 이외에 플렉시블 인쇄 회로기판, 내층 인쇄 회로기판 등과 같은 플렉시블한 도전성 재료 또는 모든 전자 부품에 포토 레지스트막을 균일하게 코팅시킬 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to an electrodeposition resist coating apparatus, and more particularly, a flexible printed circuit board, an inner layer, in addition to a lead frame and a semiconductor package, which are manufactured in a reel to reel manner using an electrodeposition resist coating apparatus of a reel to reel type. The photoresist film can be uniformly coated on a flexible conductive material such as a printed circuit board or all electronic components.

일반적으로, 전착 도장법은 고형분농도 약 10% 정도의 수지를 물에 분산시킨 도료 용액으로 도전체인 피착물을 양극 또는 음극으로 침적시킨 후, 직류 전류를 통과시켜 전기적으로 코팅하는 방법으로 설비 및 공정은 전기 도금설비와 유사하며, 전기가 통하지 않는 부분은 코팅이 되지 않기 때문에 PCB 등의 쓰루홀 및 3차원 입체 형상 등에도 간단하게 코팅이 가능하고, 또한 형성된 피막은 절연체로서 전기가 통하지 않기 때문에 얇고 균일한 코팅이 가능하기 때문에 자동차나 가전 제품의 하지 도장으로 주로 사용되고 있다.In general, the electrodeposition coating method is a coating solution in which a resin having a solid content of about 10% is dispersed in water, and deposits the adherend as a conductor with an anode or a cathode, and then passes the direct current to electrically coat the equipment and process. It is similar to the electroplating equipment, and the non-electric part is not coated, so it can be easily coated in through-holes and 3D shapes such as PCB, and the formed film is thin and uniform because it does not conduct electricity as an insulator. It is mainly used as a base coating for automobiles or home appliances because it can be coated.

상기한 자동차나 가전 제품의 하지 도장으로 많이 사용되는 전착 레지스트(Electrodeposition Resist; ED)는 코팅용 레진을 에멀젼화시켜 수용성 타입으로 제조하여 용액내에 전기를 인가함에 따라 피착물에 코팅을 하는 방식으로, 피착물에 인가되는 전극에 따라 아니온(Anion) 타입 및 카티온(Cation) 타입이 있으며, 아니온 타입은 양극(Anode)에 피착물이 연결되어 코팅되는 타입의 전착 레지스트를 지칭한다.Electrodeposition Resist (ED), which is widely used as a base coating for automobiles or home appliances, is prepared by emulsifying the resin for coating to produce a water-soluble type and coating the adhered material by applying electricity in a solution. There are anion type and cation type according to the electrode applied to the adherend, and the anion type refers to an electrodeposition resist of a type in which an adherend is coated by being coated on an anode.

또한, 상기 전착 레지스트와 코팅 공정은 동일하나, 코팅층 자체가 빛에 대한 반응성을 가지는 전착 레지스트를 전착 포토 레지스트(Electrodeposition Photoresist) 라고 칭하는 데, 빛에 대한 반응성에 따라 네가 및 포지로 분류되고,네가의 경우는 빛에 노출된 부분이 굳어지는 타입이며, 포지의 경우는 빛에 노출된 부분이 현상 공정에서 제거되는 타입을 지칭한다.In addition, the electrodeposition resist and the coating process is the same, but the electrodeposition resist that the coating layer itself has a responsiveness to light is called electrodeposition photoresist, classified as negative and forge according to the reactivity to light, In the case of a part exposed to light, the type is hardened, and in the case of a forge, the part exposed to light is referred to as a type that is removed in the developing process.

지금까지의 전자 재료분야의 응용분야는 리지드 인쇄회로기판(Rigid PCB)에 국한되어 매엽식 배치 방식의 도금 라인과 비슷한 장비를 사용하여 공정과 공정 간의 액의 혼입, 장비의 거대화 및 고가화, 장비의 거대화에 따른 전착 레지스트 탱크의 거대화 등의 문제가 발생하여 전착 포토레지스트의 고해상도, 밀착력 등의 장점에도 불구하고 널리 사용되지 않고 있다.Until now, applications in the field of electronic materials have been limited to rigid printed circuit boards (Rigid PCB), using equipment similar to sheet-fed plating lines, process-to-process mixing, large and expensive equipment, and equipment Problems such as the enlargement of the electrodeposition resist tank due to the enormous size have occurred and despite the advantages of high resolution, adhesion, etc. of the electrodeposition photoresist is not widely used.

또한, 플렉시블 인쇄회로기판 및 기재가 얇은 제품들은 기존의 전착 장비를 사용할 경우는 전착조에서 피착물을 고정시키기 위한 지그가 필요하며, 피착물의 사이즈가 작고 플렉서블할 경우는 인력이 많이 필요해 생산성이 떨어지고, 실제로 이러한 문제로 관련 업체에서는 포토레지스트로 일반적으로 드라이 필름이나 액상레지스트를 주로 사용해 왔다.In addition, products with flexible printed circuit boards and thin substrates require jigs to fix the adherends in the electrodeposition tank when the existing electrodeposition equipment is used, and when the size of the adherends is small and flexible, manpower is required to reduce productivity. Indeed, due to this problem, related companies have generally used dry films or liquid resists as photoresists.

그러나, 상기한 드라이 필름의 경우는 피착물의 사이즈가 변함에 따라 다양한 폭의 드라이 필름을 보유하고 있어야 하며, 드라이 필름의 코팅막의 두께가 주로 50㎛, 35㎛, 18㎛ 등으로 규정되어 있고, 좀더 얇은 제품의 경우는 고가이며, 라미네이팅시 사행 현상이 심해 관리가 어려운 문제점이 있으며, 상기한 액상레지시트는 양면을 동시에 코팅하는 것이 어렵고, 코팅액의 점도, 코팅 롤러의 간격 및 재질 등과 같이 균일한 막두께를 얻기 위해서 관리해야 할 변수가 많으며, 비아홀(Via hole), 쓰루홀(Through hole) 등의 공정에는 균일한 코팅이 어려워 사용할 수 없고, 작업 환경적으로는 유기용제를 사용하기 때문에 크린룸 내에서의 작업성이 떨어진다.However, in the case of the dry film described above, the dry film of various widths should be retained as the size of the adherend changes, and the thickness of the coating film of the dry film is mainly defined as 50 μm, 35 μm, 18 μm, and the like. In the case of thin products, it is expensive and there is a problem that it is difficult to manage due to the meandering phenomenon during lamination, and the liquid resist sheet is difficult to coat both sides at the same time, uniform film such as the viscosity of the coating liquid, the thickness of the coating roller and the material There are many variables that need to be managed to obtain the thickness, and uniform coating is difficult to use in the process of via hole, through hole, etc., and organic solvent is used in the working environment. Of workability is low.

즉, 전착 포토레지스트는 고해상도 및 밀착력, 용이한 작업성 등의 장점에도 불구하고, 종래의 매엽식 배치 방식의 도금장비를 이용할 경우는 공정과 공정간의 이동시 표면에 용액이 묻은 상태에서 다음 공정으로 이동하기 때문에 용액 관리에 어려움이 따르는 데, 특히 전착 레지스트의 경우 물이 혼입하여 들어올 경우 농도 변화 및 용액 안정성에 문제가 발생하며, 정전압(Constant Voltage)으로 관리가 불가능하여 보통 정전류(Constant Current)로 관리하나, 정전류 관리의 경우는 투입하는 재료의 표면적을 계산하여 전류치를 계산하여야 하고, 전극 면적이 일정하지 않은 경우에는 두께의 편차가 발생하며, 두께가 일정하지 않을 경우 현상 공정에서 잔사가 발생할 가능성이 크고, 에칭시에도 문제가 발생하므로 인해 생산성이 저하되었다.In other words, despite the advantages of high resolution, adhesion, and easy workability, the electrodeposition photoresist moves to the next process in the state where the solution is on the surface during the movement between the processes when the conventional single batch plating equipment is used. Therefore, it is difficult to manage the solution, especially in the case of electrodeposited resist, water enters the solution, causing problems in concentration change and solution stability, and it is not managed by constant voltage, so it is usually managed by constant current. However, in the case of the constant current management, the current value should be calculated by calculating the surface area of the injected material.If the electrode area is not constant, the variation of thickness occurs, and if the thickness is not constant, there is a possibility of residue in the developing process. It is large, and a problem arises also in etching, and productivity fell.

또한, 콘베이어로 이동하면서 작업을 진행하는 트롤리(Trolley) 방식이므로 인해 장비의 비용이 고가이고, 부피가 커서 설치 면적을 많이 차지하기 때문에 도입하기에 어려움이 있어서 널리 사용되고 있지 않으며, 특히 릴 투 릴 방식으로 제작되는 리드 프레임이나 반도체 패키지 등과 같은 플렉시블한 도전성 재료 또는 모든 전자 부품에 대한 전문적인 릴 투 릴 방식의 코팅 장치가 없으므로 인해 전착 포토레지스트를 이용할 수 없어서 릴 투 릴 방식으로 전착 포토레지스트를 진행할 수 있는 장비의 출현이 요망되었다.In addition, because the trolley (Trolley) method of moving to the conveyor proceeds because of the high cost of the equipment, because it is bulky and occupies a large area of installation, it is difficult to introduce it is not widely used, especially the reel to reel method Because there is no professional reel-to-reel coating device for all the electronic components or flexible conductive materials such as lead frames or semiconductor packages, which are manufactured by using the electrode, the electrodeposition photoresist can not be used because the electrodeposition photoresist is not available. The emergence of equipment was desired.

따라서, 본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서,릴 투 릴 방식의 전착 포토 레지스트 코팅장치를 사용하여 릴 투 릴 방식으로 제작되는 리드 프레임, 반도체 패키지 이외에 플렉시블 인쇄 회로기판, 내층 인쇄 회로기판 등과 같은 플렉시블한 도전성 재료 또는 모든 전자 부품에 포토 레지스트막을 균일하게 코팅시킬 수 있도록 하여 작업 능률의 향상에 의한 생산성을 대폭 증대시킬 수 있을 뿐만 아니라, 장치의 크기를 콤팩트화하여 장치의 제작 단가 절감 및 설치 공간을 축소할 수 있는 전착 레지스트 코팅장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, a lead frame, a semiconductor package, a flexible printed circuit board, inner layer printing in addition to the reel-to-reel method using a reel-to-reel electrodeposition photoresist coating apparatus It is possible to coat the photoresist film uniformly on flexible conductive materials such as circuit boards or all electronic components, which not only increases productivity by improving work efficiency, but also makes the device compact in unit size. It is an object of the present invention to provide an electrodeposition resist coating apparatus capable of saving and reducing installation space.

본 발명의 다른 목적은 공정과 공정 사이에 전착 용액의 혼입이 적어 용액 관리가 용이하고, 일정한 막두께를 얻을 수 있으며, 단면 또는 양면을 조절하여 코팅할 수 있는 전착 레지스트 코팅장치를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide an electrodeposition resist coating apparatus that can easily manage a solution, obtain a constant film thickness, and control coating on one or both sides due to less mixing of electrodeposition solution between processes. .

도 1은 본 발명의 전착 레지스트 코팅장치를 나타낸 전체 구성도Figure 1 is an overall configuration showing an electrodeposition resist coating apparatus of the present invention

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10; 언코일러부 12; 도전성 재료 공급릴10; Uncoiler section 12; Conductive Material Supply Reel

14; 간지 회수릴 16,86; 텐션 조절릴14; Interleaf reel 16,86; Tension adjustment reel

20; 전극부 22,24; 전극 접촉릴20; Electrode portions 22 and 24; Electrode contact reel

30; 전착부 40; 회수 수세부30; Electrodeposition 40; Collection

50; 수세부 60; 건조부50; Flush head 60; Drying part

70; 구동부 72; 구동릴70; A driving unit 72; Driving reel

80; 코일러부 82; 도전성 재료 회수릴80; Coiler portion 82; Conductive Material Recovery Reel

84; 간지 공급릴 M; 도전성 재료84; Interleaver feed reel M; Conductive material

L; 전착 용액L; Electrodeposition solution

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 포토 레지스트막을 도포하기 위한 도전성 재료를 공급함과 동시에 이 도전성 재료로부터 간지를 떼어내기 위해 회전하는 도전성 재료 공급릴과 간지 회수릴이 설치되는 언코일러부와, 상기 도전성 재료 공급릴로부터 공급되는 도전성 재료에 전류를 인가하기 위한 복수개의 전극 접촉릴이 설치되는 전극부와, 상기 전극 접촉릴을 통과한 도전성 재료에 전착 용액을 입히기 위한 전착부와, 상기 전착 용액이 묻은 도전성 재료를 수세하기 위한 회수 수세부 및 수세부와, 상기 수세된 도전성 재료를 건조시키기 위한 건조부와, 상기 도전성 재료의 공정을 진행시키기 위해 모터의 동력을 전달받아 회전하는 구동릴이 설치되는 구동부와, 상기 공정이 완료되어 포토 레지스트막이 도포된 도전성 재료를 회수함과 동시에 이 도포가 완료된 도전성 재료가 상호 직접 접촉하여 손상되는 것을 방지하도록 간지를 부치기 위해 회전하는 도전성 재료 회수릴과 간지 공급릴이 설치되는 코일러부로 구성되어 릴 투 릴 방식에 의해 코팅 공정을 진행하도록 된 것을 특징으로 하는 전착 레지스트 코팅장치가 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention provides an uncoiler portion which is provided with a conductive material supply reel and a separator paper recovery reel, which are rotated to supply a conductive material for coating a photoresist film and to separate the sheet from the conductive material. An electrode portion provided with a plurality of electrode contact reels for applying a current to the conductive material supplied from the conductive material supply reel, an electrodeposition portion for applying an electrodeposition solution to the conductive material passing through the electrode contact reel, and the electrodeposition solution A recovery washing part and a washing part for washing the stained conductive material, a drying part for drying the washed conductive material, and a driving reel which is rotated by the power of the motor to advance the process of the conductive material is installed. The drive unit and the process are completed to recover the conductive material to which the photoresist film is applied. The conductive material recovery reel and the coiler part are installed in a coil reel to install the repellent material so as to prevent the damage of the conductive materials which have been completely applied by the direct contact with each other. An electrodeposition resist coating apparatus is provided.

또한, 상기 언코일러부와 코일러부 각각의 내부에는 공정을 진행하는 도전성 재료의 장력을 조절하기 위한 텐션 조절릴이 상한 및 하한 센서의 감지에 의해 승강가능하게 설치된 것을 그 특징으로 하는 한다.In addition, the inside of each of the uncoiler and the coiler is characterized in that the tension adjustment reel for adjusting the tension of the conductive material in the process is installed to be elevated by sensing the upper and lower limit sensors.

그리고, 상기 회수 수세부 및 수세부는 상기 전착부와 건조부의 사이에 일체 또는 별도로 설치된 것을 그 특징으로 한다.In addition, the recovery water washing portion and the water washing portion is characterized in that installed integrally or separately between the electrodeposition portion and the drying portion.

이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention for achieving the above object will be described in detail.

도 1은 본 발명의 전착 포토레지스트 코팅장치를 나타낸 전체 구성도이다.1 is an overall configuration diagram showing an electrodeposition photoresist coating apparatus of the present invention.

본 발명의 전착 포토레지스트 코팅장치는 포토 레지스트막을 도포하기 위한 도전성 재료(M)를 공급함과 동시에, 이 도전성 재료(M)로부터 종이 또는 PET 필름 등으로 된 간지를 떼어내기 위해 회전하는 도전성 재료 공급릴(12)과 간지 회수릴(14)이 설치되는 언코일러부(10)와, 상기 도전성 재료 공급릴(12)로부터 공급되는 도전성 재료(M)에 전류를 인가하기 위한 복수개의 전극 접촉릴(22)(24)이 설치되는 전극부(20)와, 상기 전극 접촉릴(22)(24)을 통과한 도전성 재료(M)에 전착 용액(L)을 입히기 위한 전착부(30)와, 상기 전착 용액(L)이 묻은 도전성 재료(M)를 수세하기 위한 회수 수세부(40) 및 수세부(50)와, 상기 수세된 도전성재료(M)를 건조시키기 위한 건조부(60)와, 상기 도전성 재료(M)의 공정을 진행시키기 위해 모터(도시는 생략함)의 동력을 전달받아 회전하는 구동릴(72)이 설치되는 구동부(70)와, 상기 공정이 완료되어 포토 레지스트막이 도포된 도전성 재료(M)를 회수함과 동시에, 이 도포가 완료된 도전성 재료(M)가 상호 직접 접촉하여 손상되는 것을 방지하도록 간지를 부치기 위해 회전하는 도전성 재료 회수릴(82)과 간지 공급릴(84)이 설치되는 코일러부(80)로 구성되어 릴 투 릴 방식에 의해 코팅 공정을 진행하게 된다.The electrodeposition photoresist coating apparatus of the present invention supplies a conductive material (M) for applying a photoresist film, and at the same time, rotates a conductive material supply reel which is rotated to remove the sheet of paper or PET film from the conductive material (M). (12) and the uncoiler part (10) in which the interleaver collection reel (14) is provided, and a plurality of electrode contact reels (22) for applying current to the conductive material (M) supplied from the conductive material supply reel (12). 24, the electrode portion 20 is provided, the electrodeposition portion 30 for applying the electrodeposition solution (L) to the conductive material (M) passed through the electrode contact reels 22, 24, and the electrodeposition A recovery washing part 40 and a washing part 50 for washing the conductive material M on which the solution L is buried, a drying part 60 for drying the washed conductive material M, and the conductive A sphere that rotates under the power of a motor (not shown) to advance the process of material M The drive unit 70 in which the copper reel 72 is installed and the conductive material M to which the photoresist film is applied after the process is completed are recovered, and the conductive material M to which the coating is completed is directly contacted and damaged. Conductive material recovery reel 82 and the coiler 80 is installed to install the interleaver feed reel 84 to prevent the interleave to prevent the coating process by the reel-to-reel method.

그리고, 상기 언코일러부(10)와 코일러부(80) 각각의 내부에는 공정을 진행하는 도전성 재료의 장력을 조절하기 위한 텐션 조절릴(16)(86)이 상한 및 하한 센서의 감지에 의해 승강가능하게 설치되어 구성된다.In addition, in each of the uncoiler 10 and the coiler 80, tension adjusting reels 16 and 86 for adjusting the tension of the conductive material undergoing the process are detected by the upper and lower limit sensors. It is installed and configured to be movable.

상기와 같이 구성된 본 발명은 도 1에 도시한 바와 같이, 전착 포토레지스트 코팅장치를 사용하여 릴 투 릴 방식으로 제작되는 리드 프레임, 반도체 패키지 이외에 플렉시블 인쇄 회로기판, 내층 인쇄 회로기판 등과 같은 플렉시블한 도전성 재료 또는 모든 전자 부품에 포토레지스트막을 릴 투 릴 방식에 의해 도포하고자 할 때는 먼저, 모터의 구동에 의해 상기 구동부(70)에 설치된 구동릴(72)이 회전함에 따라 상기 언코일러부(10)에 설치된 도전성 재료 공급릴(12)과 간지 회수릴(14)이 회전하면서 도전성 재료(M)는 상기 도전성 재료 공급릴(12)로부터 중계릴을 거쳐 텐션 조절릴(16)을 통해 상기 전극부(20)의 전극 접촉릴(22)(24)로 들어가면서 상기 간지 회수릴(14)에는 상기 도전성 재료(M)로부터 떼어낸 종이 또는 PET 필름 등으로 된 간지가 감겨진다.As shown in FIG. 1, the present invention configured as described above has a flexible conductive material such as a flexible printed circuit board, an inner layer printed circuit board, etc., in addition to a lead frame and a semiconductor package manufactured in a reel-to-reel manner using an electrodeposition photoresist coating apparatus. When the photoresist film is to be applied to the material or all the electronic components by a reel to reel method, first, as the driving reel 72 installed in the driving unit 70 is rotated by the driving of the motor, the uncoiler unit 10 is rotated. While the installed conductive material supply reel 12 and the interleaver recovery reel 14 rotate, the conductive material M passes through the tension control reel 16 from the conductive material supply reel 12 via the tension control reel 16 and the electrode portion 20. Into the electrode contact reels 22 and 24 of the < RTI ID = 0.0 >), a sheet of paper, PET film, or the like removed from the conductive material M is wound on the sheet of paper.

이와 동시에, 상기 전극부(20)를 통과한 도전성 재료(M)는 상기 전착부(30)에 담겨 펌프에 의해 순환되는 전착 용액(L)을 통과하여 전착 용액(L)이 도포된 도전성 재료(M)는 상기 회수 수세부(40) 및 수세부(50)에서 공정에 따른 수세 작업을 1회 또는 그 이상 진행한 후, 상기 건조부(60)에서 수세된 도전성 재료(M)를 건조시킨 다음, 순차적으로 상기 구동부(70)의 구동릴(72), 상기 코일러부(80)의 텐션 조절릴(86)을 거쳐 포토레지스트막의 도포가 완료된 도전성 재료(M)는 상기 코일러부(80)의 도전성 재료 회수릴(82)에 권취되므로써 작업을 완료할 수 있게 된다.At the same time, the conductive material M that has passed through the electrode portion 20 passes through the electrodeposition solution L contained in the electrodeposition portion 30 and circulated by the pump to which the electrodeposition solution L is applied. M) after one or more washing operations according to the process in the recovery water washing unit 40 and the water washing unit 50, and dried the conductive material (M) washed in the drying unit 60 and then The conductive material M, which is sequentially coated with the photoresist film through the driving reel 72 of the driving unit 70 and the tension adjusting reel 86 of the coiler 80, is sequentially formed on the coiler 80. The work can be completed by being wound around the conductive material recovery reel 82 of.

이때, 상기 포토레지스트막의 도포가 완료된 도전성 재료(M)가 상기 도전성 재료 회수릴(82)에 권취될 때에는 도포가 완료된 도전성 재료(M)가 상호 직접 접촉하여 손상되는 것을 방지하기 위해 상기 코일러부(80)의 간지 공급릴(84)에서 공급되는 간지가 부착된 상태로 권취된다.At this time, when the conductive material M, which has been coated with the photoresist film, is wound on the conductive material recovery reel 82, the coiler part may be prevented from being damaged by direct contact with each other. The slip sheet supplied from the slip sheet feeding reel 84 of 80 is wound up in a state of being attached.

한편, 상기한 코팅 공정은 간지를 사용하여 코팅하는 경우를 예를 들어 설명하였으나, 코팅 공정에 따라 간지를 사용하지 않고 코팅 공정을 진행할 수도 있다.On the other hand, the coating process described for the case of coating by using a slip sheet, for example, according to the coating process may be carried out without using a slip sheet coating process.

또한, 상기 언코일러부(10)와 코일러부(80) 각각의 내부에는 상한 및 하한 센서의 감지에 의해 승강가능하게 텐션 조절릴(16)(86)이 설치되어 있으므로 코팅 공정을 진행하는 동안 도전성 재료(M)의 장력을 항상 원활한 상태로 조절할 수 있게 된다.In addition, since the tension control reels 16 and 86 are installed in each of the uncoiler 10 and the coiler 80 so as to be liftable by sensing the upper and lower limit sensors, during the coating process. The tension of the conductive material M can always be adjusted in a smooth state.

또한, 상기 전극부(20)의 내부에 설치된 복수개의 전극 접촉릴(22)(24)에는 도전성 재료(M)를 양면 코팅할 경우에는 복수개의 전극 접촉릴 전체에 전기가 인가되고, 단면 코팅할 경우에는 해당되는 재료면과 접촉하는 전극 접촉릴에 전기가 인가되는 데, 이때 코팅되는 막의 두께 및 성질은 정전압 방식에서는 전압, 라인 속도 등을 변경하여 막의 두께를 조절하고, 막의 두께는 일정한 전압하에서는 속도가 낮을수록 즉 전착 용액(L)과 접촉하는 시간이 길수록 두꺼워지며, 일정한 속도에서는 전압을 높일수록 막이 두께가 두꺼워지게 된다.In addition, when the conductive material M is coated on both sides of the plurality of electrode contact reels 22 and 24 installed inside the electrode unit 20, electricity is applied to the entire plurality of electrode contact reels, and the single side coating may be performed. In this case, electricity is applied to the electrode contact reel in contact with the corresponding material surface. In this case, the thickness and property of the coated film are controlled by changing the voltage and line speed in the constant voltage method, and the thickness of the film is controlled under a constant voltage. The lower the speed, ie, the longer the contact time with the electrodeposition solution L, the thicker. At a constant speed, the higher the voltage, the thicker the film.

그리고, 상기 회수 수세부(40) 및 수세부(50)는 상기 전착부(30)와 건조부(60)의 사이에 일체로 설치할 수도 있고, 별도로 설치하여 공정에 따라 복수회 이상 수세 작업을 진행할 수도 있으며, 상기 건조부(60)에서의 건조는 별도로 진행할 수도 있고, 그 건조 방식은 히터 방식이나, 열풍 방식 등과 같은 다양한 건조 방식을 채택할 수 있다.In addition, the collected water washing part 40 and the water washing part 50 may be integrally installed between the electrodeposition part 30 and the drying part 60, or separately installed to perform washing operation a plurality of times or more according to a process. In addition, the drying in the drying unit 60 may be carried out separately, and the drying method may adopt various drying methods such as a heater method or a hot air method.

이상에서 상술한 바와 같이, 본 발명은 릴 투 릴 방식의 전착 포토 레지스트 코팅장치를 사용하여 릴 투 릴 방식으로 제작되는 리드 프레임, 반도체 패키지 이외에 플렉시블 인쇄 회로기판, 내층 인쇄 회로기판 등과 같은 플렉시블한 도전성 재료 또는 모든 전자 부품에 포토 레지스트막을 균일하게 코팅시킬 수 있으므로써 작업 능률의 향상에 의한 생산성을 대폭 증대시킬 수 있으며, 장치의 크기를 콤팩트화하여 장치의 제작 단가 절감 및 설치 공간을 축소할 수 있음과 아울러, 공정과 공정 사이에 전착 용액의 혼입이 적어 용액 관리가 용이하고, 일정한 막두께를 얻을 수 있으며, 단면 또는 양면을 조절하여 코팅할 수 있으므로 인해 장치의 효율성 및 신뢰성을 대폭 향상시킨 매우 유용한 발명이다.As described above, the present invention provides a flexible conductive material such as a flexible printed circuit board, an inner layer printed circuit board, etc., in addition to a lead frame and a semiconductor package manufactured in a reel to reel method using a reel to reel electrodeposition photoresist coating apparatus. By uniformly coating the photoresist film on the material or all electronic parts, productivity can be greatly increased by improving work efficiency, and the size of the device can be made compact, thereby reducing the manufacturing cost of the device and reducing the installation space. In addition, due to the small amount of electrodeposition solution mixed between processes, the solution can be easily managed, a constant film thickness can be obtained, and the coating can be controlled by controlling one or both sides, thereby greatly improving the efficiency and reliability of the device. Invention.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적인 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims (3)

포토 레지스트막을 도포하기 위한 도전성 재료(M)를 공급함과 동시에 이 도전성 재료(M)로부터 간지를 떼어내기 위해 회전하는 도전성 재료 공급릴(12)과 간지 회수릴(14)이 설치되는 언코일러부(10)와,An uncoiler part provided with a conductive material supply reel 12 and a separator paper recovery reel 14, which are rotated to supply the conductive material M for coating the photoresist film and to remove the interlayer from the conductive material M ( 10) with, 상기 도전성 재료 공급릴(12)로부터 공급되는 도전성 재료(M)에 전류를 인가하기 위한 복수개의 전극 접촉릴(22)(24)이 설치되는 전극부(20)와,An electrode portion 20 provided with a plurality of electrode contact reels 22 and 24 for applying a current to the conductive material M supplied from the conductive material supply reel 12, 상기 전극 접촉릴(22)(24)을 통과한 도전성 재료(M)에 전착 용액(L)을 입히기 위한 전착부(30)와,An electrodeposition part 30 for coating the electrodeposition solution L on the conductive material M passing through the electrode contact reels 22 and 24; 상기 전착 용액(L)이 묻은 도전성 재료(M)를 수세하기 위한 회수 수세부(40) 및 수세부(50)와,A recovery water washing part 40 and a water washing part 50 for washing the conductive material M on which the electrodeposition solution L is buried; 상기 수세된 도전성 재료(M)를 건조시키기 위한 건조부(60)와,A drying unit 60 for drying the washed conductive material M, 상기 도전성 재료(M)의 공정을 진행시키기 위해 모터의 동력을 전달받아 회전하는 구동릴(72)이 설치되는 구동부(70)와,A driving unit 70 in which a driving reel 72 is rotated by receiving power of a motor to advance the process of the conductive material M; 상기 공정이 완료되어 포토 레지스트막이 도포된 도전성 재료(M)를 회수함과 동시에 이 도포가 완료된 도전성 재료(M)가 상호 직접 접촉하여 손상되는 것을 방지하도록 간지를 부치기 위해 회전하는 도전성 재료 회수릴(82)과 간지 공급릴(84)이 설치되는 코일러부(80)로 구성되어 릴 투 릴 방식에 의해 코팅 공정을 진행하도록 된 것을 특징으로 하는 전착 레지스트 코팅장치.The conductive material recovery reel is rotated to attach an interlayer to recover the conductive material M to which the photoresist film is applied to which the process is completed and to prevent damage of the conductive material M to which the coating is completed. The electrodeposition resist coating apparatus, characterized in that consisting of a coiler unit 80 is installed 82 and the interleaver feed reel (84) to proceed the coating process by a reel-to-reel method. 제 1항에 있어서, 상기 언코일러부(10)와 코일러부(80) 각각의 내부에는 공정을 진행하는 도전성 재료의 장력을 조절하기 위한 텐션 조절릴(16)(86)이 상한 및 하한 센서의 감지에 의해 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 전착 레지스트 코팅장치.The upper and lower limit sensors according to claim 1, wherein tension control reels (16) (86) for adjusting the tension of the conductive material undergoing the process are formed in each of the uncoiler (10) and the coiler (80). Electrodeposited resist coating apparatus, characterized in that the lifting is installed by the detection of. 제 1항에 있어서, 상기 회수 수세부(40) 및 수세부(50)는 상기 전착부(30)와 건조부(60)의 사이에 일체 또는 별도로 설치된 것을 특징으로 하는 전착 레지스트 코팅장치.The electrodeposition resist coating apparatus according to claim 1, wherein the recovery washing part (40) and the washing part (50) are integrally or separately installed between the electrodeposition part (30) and the drying part (60).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8601680B2 (en) 2008-09-25 2013-12-10 Samsung Techwin Co., Ltd. Apparatus for roll-to-roll manufacturing semiconductor parts and feeding method thereof
KR20170125997A (en) * 2015-03-30 2017-11-15 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 Flux application device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101389661B1 (en) * 2007-12-27 2014-05-30 주식회사 엠디에스 Method for printing photo solder resist on both sides of printed circuit board in reel to reel manner

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6317592A (en) * 1986-07-09 1988-01-25 三菱電機株式会社 Manufacture of printed wiring board
EP0519262A1 (en) * 1991-06-21 1992-12-23 Siemens Aktiengesellschaft Apparatus for electrophoretically painting platelike articles
JP3602225B2 (en) * 1995-10-31 2004-12-15 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
JPH11229189A (en) * 1998-02-17 1999-08-24 Dainippon Printing Co Ltd Electrodeposition treatment apparatus
JPH11233705A (en) * 1998-02-17 1999-08-27 Dainippon Printing Co Ltd Electrodeposition treatment equipment

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8601680B2 (en) 2008-09-25 2013-12-10 Samsung Techwin Co., Ltd. Apparatus for roll-to-roll manufacturing semiconductor parts and feeding method thereof
KR20170125997A (en) * 2015-03-30 2017-11-15 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 Flux application device
US10391589B2 (en) 2015-03-30 2019-08-27 Senju Metal Industry Co., Ltd. Flux applying device

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