KR20040031287A - Semiconductor memory device having means for protecting degradation of characteristics of row precharge time - Google Patents

Semiconductor memory device having means for protecting degradation of characteristics of row precharge time Download PDF

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KR20040031287A
KR20040031287A KR1020020060673A KR20020060673A KR20040031287A KR 20040031287 A KR20040031287 A KR 20040031287A KR 1020020060673 A KR1020020060673 A KR 1020020060673A KR 20020060673 A KR20020060673 A KR 20020060673A KR 20040031287 A KR20040031287 A KR 20040031287A
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신준호
임성민
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삼성전자주식회사
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Abstract

PURPOSE: A semiconductor memory device for preventing the deterioration of the row precharge time(tRP) characteristics is provided to prevent the deterioration of the tRP characteristics with employing the negative word line(NWL) structure. CONSTITUTION: A semiconductor memory device for preventing the deterioration of the row precharge time(tRP) characteristics includes a memory cell, a word line(WL), a sub-word line driver(13), a plurality of control circuits(13,15,17). The word line(WL) is connected to the memory cell. The sub-word line driver(13) discharges the word line(WL) in response to a first control signal and precharges the word line(WL) in response to a second control signal. The control circuits(13,15,17) generate the first control signal and the second control signal. The control circuits(13,15,17) include a first inverter, a second inverter and a third inverter. The first inverter outputs the first control signal by inverting the input signal, the second inverter inverts the input signal and the third inverter outputs the second control signal by inverting the output of the second inverter in response to the third control signal.

Description

TRP(로우 프리차지 타임) 특성저하를 막을 수 있는 수단을 구비하는 반도체 메모리장치{Semiconductor memory device having means for protecting degradation of characteristics of row precharge time}Semiconductor memory device having means for protecting degradation of characteristics of row precharge time}

본 발명은 반도체 메모리장치에 관한 것으로, 특히 네거티브워드라인(Negative Word Line, NWL) 구조를 채용하면서도 tRP(로우 프리차지 타임) 특성저하를 막을 수 있는 수단을 구비하는 반도체 메모리장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a negative word line (NWL) structure and having a means for preventing tRP (low precharge time) characteristics.

디램에서는 여러 가지 특성을 향상시키고 칩 면적을 감소시키기 위해 네거티브 워드라인(Negative Word Line, NWL) 구조가 채용되고 있다. 그런데 NWL 구조를 채용하면 워드라인의 프라치지 경사(Slope)가 NWL을 채용하지 않는 경우에 비해 완만해지기 때문에 tRP(로우 프리차지 타임) 특성이 나빠지는 단점이 있다.In DRAM, a negative word line (NWL) structure is employed to improve various characteristics and reduce chip area. However, when the NWL structure is adopted, the slope of the word line becomes smoother than when the NWL is not employed, and thus, the tRP (low precharge time) characteristic is deteriorated.

따라서 NWL 구조를 채용하면서도 tRP 특성저하를 막을 수 있는 수단이 필요하다.Therefore, while adopting the NWL structure, there is a need for a means to prevent the deterioration of tRP characteristics.

본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 NWL 구조를 채용하면서도 tRP 특성저하를 막을 수 있는 수단을 구비하는 반도체 메모리장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a semiconductor memory device employing an NWL structure and having a means for preventing tRP deterioration.

본 발명의 상세한 설명에서 인용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS In order to better understand the drawings cited in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 tRP 특성저하를 막을 수 있는 수단을 구비하는 반도체 메모리장치의 회로도이다.1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device having a means for preventing a tRP characteristic degradation according to an embodiment of the present invention.

도 2는 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압이 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 낮게 형성된 경우 워드라인의 디스차지 파형(WL1)과 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압이 다른 엔모스 트랜지스터들과 같은 경우 워드라인의 디스차지 파형(WL2)을 나타내는 도면이다.FIG. 2 shows the discharge waveform WL1 of the word line and the threshold voltage of the NMOS transistor 44 when the threshold voltage of the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14 is lower than that of other NMOS transistors. In the case of the other NMOS transistors, the discharge waveform WL2 of the word line is illustrated.

도 3은 하강경사 제어회로(17)가 채용되는 경우 입력신호(PXI)의 파형도를 나타내는 도면이다.3 is a diagram showing a waveform diagram of the input signal PXI when the falling slope control circuit 17 is employed.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면에 따른 반도체 메모리장치는, 메모리셀, 상기 메모리셀에 연결되는 워드라인, 제1제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 디스차지시키고 제2제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 프리차지시키는 서브워드라인 드라이버, 및 입력신호를 수신하여 상기 제1제어신호 및 상기 제2제어신호를 발생하는 제어회로를 구비한다.In accordance with an aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes a memory cell, a word line connected to the memory cell, and a discharge of the word line in response to a first control signal and a response to a second control signal. And a subword line driver for precharging the word line, and a control circuit for receiving an input signal and generating the first control signal and the second control signal.

특히 상기 제어회로는, 상기 입력신호를 반전시켜 상기 제1제어신호를 출력하는 제1인버터, 상기 입력신호를 반전시키는 제2인버터, 및 제3제어신호에 응답하여 상기 제2인버터의 출력신호를 반전시켜 상기 제2제어신호를 출력하는 제3인버터를 구비하고, 상기 제3인버터의 엔모스 트랜지스터들중 게이트에 상기 제3제어신호가 연결되는 엔모스 트랜지스터는 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 문턱전압이 낮게 형성되는 것을 특징으로 한다.In particular, the control circuit may include a first inverter outputting the first control signal by inverting the input signal, a second inverter inverting the input signal, and an output signal of the second inverter in response to a third control signal. And a third inverter for inverting the second control signal and outputting the second control signal. Among the NMOS transistors of the third inverter, an NMOS transistor connected to a gate thereof has a threshold voltage compared to other NMOS transistors. It is characterized in that it is formed low.

상기 본 발명의 일면에 따른 반도체 메모리장치는, 상기 입력신호가 전달되는 라인에 연결되고 상기 입력신호의 하강경사를 빠르게 만드는 하강경사(Falling slope) 제어회로를 더 구비할 수 있다.The semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention may further include a falling slope control circuit connected to a line through which the input signal is transmitted and rapidly descending the input signal.

상기 하강경사 제어회로는, 소오스에 전원전압이 인가되고 게이트에 제어신호가 인가되는 제1피모스 트랜지스터, 소오스에 상기 제1피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되는 제2피모스 트랜지스터, 드레인에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 제어신호가 인가되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제1엔모스 트랜지스터, 및 드레인에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되고 게이트에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제2엔모스 트랜지스터를 구비한다.The falling slope control circuit may include a first PMOS transistor to which a power supply voltage is applied to a source, and a control signal is applied to a gate, and a line to which a drain of the first PMOS transistor is connected to a source and the input signal is transmitted to a gate. A second PMOS transistor connected to a drain, a first NMOS transistor connected to a drain of the second PMOS transistor, a control signal applied to a gate, and a ground voltage applied to a source, and the input signal transferred to a drain And a second NMOS transistor connected to a gate thereof, a drain of the second PMOS transistor connected to a gate thereof, and a ground voltage applied to a source.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 일면에 따른 반도체 메모리장치는, 메모리셀, 상기 메모리셀에 연결되는 워드라인, 제1제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 디스차지시키고 제2제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 프리차지시키는 서브워드라인 드라이버, 입력신호를 수신하여 상기 제1제어신호 및 상기 제2제어신호를 발생하는 제어회로, 및 상기 입력신호가 전달되는 라인에 연결되고 상기 입력신호의 하강경사를 빠르게 만드는 하강경사 제어회로를 구비한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a memory cell, a word line connected to the memory cell, and discharge of the word line in response to a first control signal. A subword line driver that precharges the word line in response, a control circuit that receives an input signal and generates the first control signal and the second control signal, and a line to which the input signal is transmitted and the input signal Equipped with a descending slope control circuit to quickly create a descending slope of the.

상기 제어회로는, 상기 입력신호를 반전시켜 상기 제1제어신호를 출력하는 제1인버터, 상기 입력신호를 반전시키는 제2인버터, 및 제3제어신호에 응답하여 상기 제2인버터의 출력신호를 반전시켜 상기 제2제어신호를 출력하는 제3인버터를 구비하고, 상기 제3인버터의 엔모스 트랜지스터들중 게이트에 상기 제3제어신호가 연결되는 엔모스 트랜지스터는 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 문턱전압이 낮게 형성되는 것을 특징으로 한다.The control circuit inverts the output signal of the second inverter in response to a first inverter for inverting the input signal and outputting the first control signal, a second inverter for inverting the input signal, and a third control signal. And a third inverter outputting the second control signal, wherein an NMOS transistor having a third control signal connected to a gate of the NMOS transistors of the third inverter has a threshold voltage compared to other NMOS transistors. It is characterized by being formed low.

상기 하강경사 제어회로는, 소오스에 전원전압이 인가되고 게이트에 제어신호가 인가되는 제1피모스 트랜지스터, 소오스에 상기 제1피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되는 제2피모스 트랜지스터, 드레인에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 제어신호가 인가되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제1엔모스 트랜지스터, 및 드레인에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되고 게이트에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제2엔모스 트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 한다.The falling slope control circuit may include a first PMOS transistor to which a power supply voltage is applied to a source, and a control signal is applied to a gate, and a line to which a drain of the first PMOS transistor is connected to a source and the input signal is transmitted to a gate. A second PMOS transistor connected to a drain, a first NMOS transistor connected to a drain of the second PMOS transistor, a control signal applied to a gate, and a ground voltage applied to a source, and the input signal transferred to a drain And a second NMOS transistor connected to a gate thereof, a drain of the second PMOS transistor connected to a gate thereof, and a ground voltage applied to a source thereof.

본 발명과 본 발명의 동작 상의 잇점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings illustrating preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 tRP 특성저하를 막을 수 있는 수단을 구비하는 반도체 메모리장치의 회로도이다.1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device having a means for preventing a tRP characteristic degradation according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 메모리장치는, 다수개의 메모리셀들을 포함하는 메모리셀 어레이(11), 감지증폭기 블록(12), 서브워드라인 드라이버(13), 제1제어회로(14), 제2제어회로(15), 네거티브 워드라인 인에이블 회로(16), 및 하강경사(Falling slope) 제어회로(17)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention may include a memory cell array 11 including a plurality of memory cells, a sense amplifier block 12, a subword line driver 13, and a first word. A control circuit 14, a second control circuit 15, a negative word line enable circuit 16, and a falling slope control circuit 17 are provided.

서브워드라인 드라이버(13)는 제1제어신호(PXIB)에 응답하여 워드라인(WL)을 백바이어스 전압(VBB) 레벨로 디스차지시키고 제2제어신호(PXID)에 응답하여 워드라인(WL)을 승압전압(VPP) 레벨로 프리차지시킨다. 워드라인(WL)은 메모리셀 어레이(11) 내의 메모리셀들에 연결된다. 서브워드라인 드라이버(13)는 엔모스 트랜지스터들(31-34)을 포함하여 구성된다.The subword line driver 13 discharges the word line WL to the back bias voltage VBB level in response to the first control signal PXIB and the word line WL in response to the second control signal PXID. Precharge to a boosted voltage (VPP) level. The word line WL is connected to the memory cells in the memory cell array 11. The subwordline driver 13 includes NMOS transistors 31-34.

제1제어회로(14)는 입력신호(PXI)를 수신하여 제1제어신호(PXIB) 및 제2제어신호(PXID)를 발생한다. 제1제어회로(14)는 입력신호(PXI)를 반전시켜 제1제어신호(PXIB)를 출력하는 제1인버터(41), 입력신호(PXI)를 반전시키는 제2인버터(42), 제3제어신호(CT)에 응답하여 제2인버터(42)의 출력신호를 반전시켜 제2제어신호(PXID)를 출력하는 제3인버터(43)를 구비한다. 제1인버터(41)의 전원전압으로는 내부 전원전압(VCCA)이 사용되고 제2인버터(42) 및 제3인버터(43)의 전원전압으로는 내부 전원전압(VCCA)보다 높은 승압전압(VPP)이 사용된다.The first control circuit 14 receives the input signal PXI and generates a first control signal PXIB and a second control signal PXID. The first control circuit 14 inverts the input signal PXI and outputs the first control signal PXIB. The first inverter 41 outputs the first control signal PXIB, and the second inverter 42 and the third inverter inverts the input signal PXI. And a third inverter 43 for inverting the output signal of the second inverter 42 in response to the control signal CT to output the second control signal PXID. An internal power supply voltage VCCA is used as the power supply voltage of the first inverter 41, and a boost voltage VPP higher than the internal power supply voltage VCCA is used as the power supply voltages of the second inverter 42 and the third inverter 43. This is used.

특히 제3인버터(43)를 구성하는 엔모스 트랜지스터들중 게이트에 제3제어신호(CT)가 연결되는 엔모스 트랜지스터(44)는 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여문턱전압(Vth)이 낮게 형성된다.In particular, the NMOS transistor 44 in which the third control signal CT is connected to the gate among the NMOS transistors constituting the third inverter 43 has a lower threshold voltage Vth than other NMOS transistors. .

네거티브 워드라인 인에이블 회로(16)는 외부에서 인가되는 로우 어드레스(RADD)에 응답하여 네거티브 워드라인 인에이블 신호(NWEI)를 발생한다. 네거티브 워드라인 인에이블 회로(16)는 낸드게이트(61), 피모스 트랜지스터(62), 및 엔모스 트랜지스터(63)를 포함하여 구성된다.The negative word line enable circuit 16 generates a negative word line enable signal NWEI in response to a row address RADD applied from the outside. The negative word line enable circuit 16 includes a NAND gate 61, a PMOS transistor 62, and an NMOS transistor 63.

하강경사 제어회로(17)는 입력신호(PXI)가 전달되는 라인에 연결되고 제어신호(CNT)에 응답하여 입력신호(PXI)의 하강경사를 빠르게 즉 경사지게 만든다. 하강경사 제어회로(17)는 입력신호(PXI)가 전달되는 라인의 끝부분인 메모리셀 어레이(11)의 탑 에지(top edge) 부근에 배치되는 것이 바람직하다.The falling slope control circuit 17 is connected to the line through which the input signal PXI is transmitted and makes the falling slope of the input signal PXI fast, that is, in response to the control signal CNT. The falling slope control circuit 17 is preferably disposed near the top edge of the memory cell array 11, which is the end of the line through which the input signal PXI is transmitted.

하강경사 제어회로(17)는, 소오스에 승압전압(VPP)이 인가되고 게이트에 제어신호(CNT)가 인가되는 제1피모스 트랜지스터(71), 소오스에 제1피모스 트랜지스터(71)의 드레인이 연결되고 게이트에 입력신호(PXI)가 전달되는 라인이 연결되는 제2피모스 트랜지스터(72), 드레인에 제2피모스 트랜지스터(72)의 드레인이 연결되고 게이트에 제어신호(CNT)가 인가되며 소오스에 접지전압(VSS)이 인가되는 제1엔모스 트랜지스터(73), 및 드레인에 입력신호(PXI)가 전달되는 라인이 연결되고 게이트에 제2피모스 트랜지스터(72)의 드레인이 연결되며 소오스에 접지전압(VSS)이 인가되는 제2엔모스 트랜지스터(74)를 구비한다.The falling slope control circuit 17 includes a first PMOS transistor 71 to which a boosted voltage VPP is applied to a source, and a control signal CNT is applied to a gate, and a drain of the first PMOS transistor 71 to a source. Is connected to the second PMOS transistor 72 connected to the line to which the input signal PXI is transmitted to the gate, and the drain of the second PMOS transistor 72 is connected to the drain, and the control signal CNT is applied to the gate. A first NMOS transistor 73 to which a ground voltage VSS is applied to a source, a line to which an input signal PXI is transmitted to a drain, and a drain of the second PMOS transistor 72 are connected to a gate thereof. A second NMOS transistor 74 is provided to which a ground voltage VSS is applied to the source.

도 1을 참조하여 좀더 설명하면 디스차지 동작시 워드라인(WL)의 전하는, 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압(Vth) 레벨까지는 엔모스 트랜지스터(44)를 통해 접지(VSS)로 빠져나간다. 다음에 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압(Vth)보다 낮은 레벨에서는 워드라인(WL)의 전하는 서브워드라인 드라이버(13)의 엔모스 트랜지스터(32) 및 제2제어회로(15)의 엔모스 트랜지스터(52)를 통해 빠져나가서 최종적으로 워드라인(WL)의 레벨은 백바이어스 전압(VBB) 레벨이 된다.Referring to FIG. 1, the charge of the word line WL during the discharge operation is performed through the NMOS transistor 44 up to the threshold voltage Vth level of the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14. Exit to ground (VSS). Next, at a level lower than the threshold voltage Vth of the NMOS transistor 44, the charge of the word line WL is applied to the NMOS transistor 32 of the subword line driver 13 and the NMOS of the second control circuit 15. After exiting through the transistor 52, the level of the word line WL finally becomes the back bias voltage VBB level.

그런데 일반적인 반도체 메모리장치의 제조공정에서는 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)를 포함한 모든 엔모스 트랜지스터들의 문턱전압(Vth)이 1볼트(Volt) 정도로 매우높다. 이로 인하여 워드라인(WL)의 레벨이 1볼트 부근부터는 서브워드라인 드라이버(13)의 엔모스 트랜지스터(32) 및 제2제어회로(15)의 엔모스 트랜지스터(52)가 디스차지 패쓰가 되므로 워드라인(WL) 신호의 하강경사가 매우 완만해져 버리고 이로 인하여 tRP(로우 프리차지 타임) 특성이 나빠지게 된다.However, in the manufacturing process of the general semiconductor memory device, the threshold voltage Vth of all the NMOS transistors including the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14 is about 1 Volt. As a result, when the level of the word line WL is about 1 volt, the NMOS transistor 32 of the subword line driver 13 and the NMOS transistor 52 of the second control circuit 15 become discharge paths. The falling slope of the line WL signal becomes very gentle, resulting in poor tRP (low precharge time) characteristics.

그런데 본 발명에 따른 반도체 메모리장치에서는 상술한 바와 같이 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압이 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 약 0.3볼트 정도 낮게 형성된다. 따라서 그만큼 많은 워드라인의 전하가 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)를 통해 빠져 나가게 되며 이에 따라 워드라인(WL) 신호의 하강경사가 빨라지게 된다.However, in the semiconductor memory device according to the present invention, as described above, the threshold voltage of the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14 is about 0.3 volts lower than that of other NMOS transistors. As a result, the charge of the word line is discharged through the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14, and thus the falling slope of the word line WL signal is increased.

도 2는 제1제어회로(14)의 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압이 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 낮게 형성된 경우 워드라인의 디스차지 파형(WL1)과 엔모스 트랜지스터(44)의 문턱전압이 다른 엔모스 트랜지스터들과 같은 경우 워드라인의 디스차지 파형(WL2)을 나타내는 도면이다. 도 2에서 볼 수 있듯이 WL1이 WL2에 비하여 하강경사가 빠름을 알 수 있다.FIG. 2 shows the discharge waveform WL1 of the word line and the threshold voltage of the NMOS transistor 44 when the threshold voltage of the NMOS transistor 44 of the first control circuit 14 is lower than that of other NMOS transistors. In the case of the other NMOS transistors, the discharge waveform WL2 of the word line is illustrated. As can be seen in Figure 2 it can be seen that WL1 is faster down slope than WL2.

한편 도 1에서 서브워드라인 드라이버(13)의 엔모스 트랜지스터(32) 및 제2제어회로(15)의 엔모스 트랜지스터(52)의 턴온 시점은 제1제어신호(PXIB)의 상승시점에 의해 결정된다. 즉 제1제어신호(PXIB)의 상승시점이 빠를수록 엔모스 트랜지스터(32) 및 엔모스 트랜지스터(52)의 턴온 시점이 빨라지게 되며 이에 따라 워드라인(WL) 신호의 하강경사가 빨라지게 된다.In FIG. 1, the turn-on time of the NMOS transistor 32 of the subword line driver 13 and the NMOS transistor 52 of the second control circuit 15 is determined by the rising point of the first control signal PXIB. do. In other words, the faster the rising point of the first control signal PXIB is, the faster the turn-on time of the NMOS transistor 32 and the NMOS transistor 52 becomes, and accordingly, the falling slope of the word line WL signal is faster.

그런데 상술한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 메모리장치는 입력신호(PXI)가 전달되는 라인에 연결되고 제어신호(CNT)에 응답하여 입력신호(PXI)의 하강경사를 빠르게 즉 경사지게 만드는 하강경사 제어회로(17)를 구비한다. 이에 따라 도 3에 도시된 바와 같이 하강경사 제어회로(17)에 의해 입력신호(PXI)의 하강경사가 빨라지게 되고 이로 인해 제1제어신호(PXIB)의 상승시점이 빨라지므로 결국 워드라인(WL) 신호의 하강경사가 빨라지게 된다.However, as described above, the semiconductor memory device according to the present invention is connected to the line through which the input signal PXI is transmitted, and the falling slope control circuit which rapidly inclines the falling slope of the input signal PXI in response to the control signal CNT. (17) is provided. As a result, as illustrated in FIG. 3, the falling slope of the input signal PXI is accelerated by the falling slope control circuit 17, and thus, the rising point of the first control signal PXIB is increased, so that the word line WL is eventually used. D) The slope of the signal becomes faster.

따라서 본 발명에 따른 반도체 메모리장치는 NWL 구조를 채용하면서도 tRP 특성이 저하되지 않는 장점이 있다.Therefore, the semiconductor memory device according to the present invention has an advantage that the tRP characteristic is not degraded while employing the NWL structure.

이상 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.The best embodiment has been disclosed in the drawings and specification above. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit the scope of the invention as defined in the claims or the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 메모리장치는 NWL 구조를 채용하면서도 tRP 특성이 저하되지 않는 장점이 있다.As described above, the semiconductor memory device according to the present invention has an advantage that the tRP characteristic is not deteriorated while employing the NWL structure.

Claims (5)

메모리셀;Memory cells; 상기 메모리셀에 연결되는 워드라인;A word line connected to the memory cell; 제1제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 디스차지시키고 제2제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 프리차지시키는 서브워드라인 드라이버; 및A subword line driver configured to discharge the word line in response to a first control signal and to precharge the word line in response to a second control signal; And 입력신호를 수신하여 상기 제1제어신호 및 상기 제2제어신호를 발생하는 제어회로를 구비하고,A control circuit for receiving an input signal and generating the first control signal and the second control signal; 상기 제어회로는,The control circuit, 상기 입력신호를 반전시켜 상기 제1제어신호를 출력하는 제1인버터;A first inverter outputting the first control signal by inverting the input signal; 상기 입력신호를 반전시키는 제2인버터; 및A second inverter for inverting the input signal; And 제3제어신호에 응답하여 상기 제2인버터의 출력신호를 반전시켜 상기 제2제어신호를 출력하는 제3인버터를 구비하고,A third inverter outputting the second control signal by inverting the output signal of the second inverter in response to a third control signal, 상기 제3인버터의 엔모스 트랜지스터들중 게이트에 상기 제3제어신호가 연결되는 엔모스 트랜지스터는 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 문턱전압이 낮게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.The NMOS transistor having the third control signal connected to a gate of the NMOS transistors of the third inverter has a lower threshold voltage than other NMOS transistors. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 입력신호가 전달되는 라인에 연결되고 상기 입력신호의 하강경사를 빠르게 만드는 하강경사(Falling slope) 제어회로를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.And a falling slope control circuit connected to a line through which the input signal is transmitted and rapidly descending the input signal. 제2항에 있어서, 상기 하강경사 제어회로는,The method of claim 2, wherein the falling slope control circuit, 소오스에 전원전압이 인가되고 게이트에 제어신호가 인가되는 제1피모스 트랜지스터;A first PMOS transistor to which a source voltage is applied to the source and a control signal is applied to the gate; 소오스에 상기 제1피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되는 제2피모스 트랜지스터;A second PMOS transistor having a source connected to a drain of the first PMOS transistor and a line through which the input signal is transmitted to a gate; 드레인에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 제어신호가 인가되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제1엔모스 트랜지스터; 및A first NMOS transistor having a drain connected to the drain of the second PMOS transistor, a control signal applied to a gate, and a ground voltage applied to a source; And 드레인에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되고 게이트에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제2엔모스 트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.And a second NMOS transistor connected to a line to which the input signal is transmitted to a drain, a drain of the second PMOS transistor to a gate, and a ground voltage applied to a source. 메모리셀;Memory cells; 상기 메모리셀에 연결되는 워드라인;A word line connected to the memory cell; 제1제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 디스차지시키고 제2제어신호에 응답하여 상기 워드라인을 프리차지시키는 서브워드라인 드라이버;A subword line driver configured to discharge the word line in response to a first control signal and to precharge the word line in response to a second control signal; 입력신호를 수신하여 상기 제1제어신호 및 상기 제2제어신호를 발생하는 제어회로; 및A control circuit for receiving an input signal and generating the first control signal and the second control signal; And 상기 입력신호가 전달되는 라인에 연결되고 상기 입력신호의 하강경사를 빠르게 만드는 하강경사 제어회로를 구비하고,A falling slope control circuit connected to a line through which the input signal is transmitted and rapidly descending the input signal; 상기 제어회로는,The control circuit, 상기 입력신호를 반전시켜 상기 제1제어신호를 출력하는 제1인버터;A first inverter outputting the first control signal by inverting the input signal; 상기 입력신호를 반전시키는 제2인버터; 및A second inverter for inverting the input signal; And 제3제어신호에 응답하여 상기 제2인버터의 출력신호를 반전시켜 상기 제2제어신호를 출력하는 제3인버터를 구비하고,A third inverter outputting the second control signal by inverting the output signal of the second inverter in response to a third control signal, 상기 제3인버터의 엔모스 트랜지스터들중 게이트에 상기 제3제어신호가 연결되는 엔모스 트랜지스터는 다른 엔모스 트랜지스터들에 비하여 문턱전압이 낮게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.The NMOS transistor having the third control signal connected to a gate of the NMOS transistors of the third inverter has a lower threshold voltage than other NMOS transistors. 제4항에 있어서, 상기 하강경사 제어회로는,The method of claim 4, wherein the falling slope control circuit, 소오스에 전원전압이 인가되고 게이트에 제어신호가 인가되는 제1피모스 트랜지스터;A first PMOS transistor to which a source voltage is applied to the source and a control signal is applied to the gate; 소오스에 상기 제1피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되는 제2피모스 트랜지스터;A second PMOS transistor having a source connected to a drain of the first PMOS transistor and a line through which the input signal is transmitted to a gate; 드레인에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되고 게이트에 상기 제어신호가 인가되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제1엔모스 트랜지스터; 및A first NMOS transistor having a drain connected to the drain of the second PMOS transistor, a control signal applied to a gate, and a ground voltage applied to a source; And 드레인에 상기 입력신호가 전달되는 라인이 연결되고 게이트에 상기 제2피모스 트랜지스터의 드레인이 연결되며 소오스에 접지전압이 인가되는 제2엔모스 트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.And a second NMOS transistor connected to a line to which the input signal is transmitted to a drain, a drain of the second PMOS transistor to a gate, and a ground voltage applied to a source.
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KR100791070B1 (en) * 2006-06-01 2008-01-02 삼성전자주식회사 Semiconductor memory deice

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