JP3016998B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3016998B2
JP3016998B2 JP5261856A JP26185693A JP3016998B2 JP 3016998 B2 JP3016998 B2 JP 3016998B2 JP 5261856 A JP5261856 A JP 5261856A JP 26185693 A JP26185693 A JP 26185693A JP 3016998 B2 JP3016998 B2 JP 3016998B2
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level
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和孝 宮野
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、通常時より高い電圧を印加する加速試験時に
おけるワード線電位の制御回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to a control circuit for controlling a word line potential during an acceleration test in which a voltage higher than normal is applied.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置の選別では、初期不良を
起こす可能性のある製品を除くため、加速試験(BT試
験とも呼ばれる。BT:burn-in test)を行う。その
際、加速状態を作り出す手段としては通常高温、高電圧
が使われるが、本明細書においては、高電圧印加の意味
である。而して、半導体記憶装置の加速試験において
は、電源端子に高電圧を与えてもメモリセル上のワード
線では選択されたもののみに高電圧がかけられるだけで
ある。
2. Description of the Related Art In sorting semiconductor memory devices, an accelerated test (also referred to as a BT test; BT: burn-in test) is performed in order to remove products that may cause an initial failure. At this time, high temperature and high voltage are usually used as a means for creating the acceleration state, but in the present specification, it means high voltage application. Thus, in an acceleration test of a semiconductor memory device, even if a high voltage is applied to a power supply terminal, only a selected word line on a memory cell is applied with a high voltage.

【0003】図4は、半導体記憶装置のワード線駆動回
路の一般的構成を示すブロック図である。同図におい
て、1は、高電圧イネーブル信号RAEを受けてロウア
ドレス高電圧信号RAVを発生する高電圧発生回路、2
は、第1ロウデコーダ信号WPE1〜WPEjを受け
て、ロウアドレス高電圧信号RAVから前段ワード線駆
動信号WPL1〜WPLjを作成する前段ワード線駆動
回路、3aは、第2ロウデコーダ信号WLE1〜WLE
iを受けて、前段ワード線駆動信号WPL1からワード
線駆動信号WL1〜WLi(本明細書において、WPL
1〜WPLjは初段ワード線をも意味し、また、WL1
〜WLiはワード線をも示している)を作成する後段ワ
ード線駆動回路である(他の前段ワード線駆動信号WP
L2〜WPLjも、同様に他の後段ワード線駆動回路に
入力され、ワード線駆動信号に加工されるが、他の後段
ワード線駆動回路の図示およびその説明は省略す
る。)。
FIG. 4 is a block diagram showing a general configuration of a word line drive circuit of a semiconductor memory device. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a high voltage generation circuit for receiving a high voltage enable signal RAE and generating a row address high voltage signal RAV;
Receives the first row decoder signals WPE1 to WPEj and generates the preceding word line drive signals WPL1 to WPLj from the row address high voltage signal RAV, and 3a outputs the second row decoder signals WLE1 to WLEj.
i, the word line drive signals WL1 to WLi (WPL in this specification)
1 to WPLj also mean the first word line, and WL1
To WLi also indicate word lines) (the other word line driving signals WP for the other stages).
L2 to WPLj are similarly input to another post-stage word line drive circuit and processed into word line drive signals, but illustration and description of the other post-stage word line drive circuits are omitted. ).

【0004】前段ワード線駆動回路2および後段ワード
線駆動回路3aは、ロウアドレス信号をデコードするロ
ウデコーダに接続され、その出力信号を受けるように構
成されている。その際、前段ワード線駆動回路に接続さ
れたロウデコーダはロウアドレスの上位のビットをデコ
ードし、後段ワード線駆動回路3aに接続されたロウデ
コーダはロウアドレスの下位のビットをデコードする。
そして、後段ワード線駆動回路3aには、メモリアレイ
のワード線WL1〜WLiが接続されており、各ワード
線に接続されたメモリセル(図示なし)はワード線を介
して後段ワード線駆動回路3aにより駆動される。
The preceding word line driving circuit 2 and the succeeding word line driving circuit 3a are connected to a row decoder for decoding a row address signal and are configured to receive an output signal thereof. At this time, the row decoder connected to the preceding word line drive circuit decodes the upper bits of the row address, and the row decoder connected to the subsequent word line drive circuit 3a decodes the lower bits of the row address.
The word lines WL1 to WLi of the memory array are connected to the subsequent word line driving circuit 3a, and the memory cells (not shown) connected to each word line are connected to the latter word line driving circuit 3a via the word lines. Driven by

【0005】図5は、図4における後段ワード線駆動回
路3aの構成を示す回路図である。図5に示すように、
第2ロウデコーダ出力信号WLEk(k=1、2、…、
i)は、インバータIVkと、ゲートがVCC電源に接続
されたnチャネルMOSトランジスタNkaの一端に入
力される。トランジスタNkaの他端は、nチャネルM
OSトランジスタNkbのゲートに接続され、インバー
タIVkの出力端子は、nチャネルMOSトランジスタ
Nkcのゲートに接続されており、トランジスタNkb
とトランジスタNkcとは前段ワード線WPL1と接地
との間に直列に接続されており、両トランジスタの接続
点にワード線WLkが接続されている。なお、図4に示
す前段ワード線駆動回路2も後段ワード線駆動回路3a
と同様の回路構成を持つ。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of the latter word line drive circuit 3a in FIG. As shown in FIG.
The second row decoder output signal WLEk (k = 1, 2,...,
i) is input to the inverter IVk and one end of an n-channel MOS transistor Nka whose gate is connected to the V CC power supply. The other end of the transistor Nka is an n-channel M
The output terminal of the inverter IVk is connected to the gate of the OS transistor Nkb, and the output terminal of the inverter IVk is connected to the gate of the n-channel MOS transistor Nkc.
And the transistor Nkc are connected in series between the preceding word line WPL1 and the ground, and a connection point between the two transistors is connected to the word line WLk. Note that the preceding word line driving circuit 2 shown in FIG.
It has the same circuit configuration as.

【0006】次に、図4、図5に示したワード線駆動回
路の動作について説明する。回路の電源電圧VCCを5V
であるものとする。ワード線選択に先立って、高電圧発
生イネーブル信号RAEが活性化されると高電圧発生回
路1は、7.5Vのロウアドレス高電圧信号RAVを発
生する。前段ワード線駆動回路2は、第1ロウデコーダ
出力信号WPE1〜WPEjによって選択された前段ワ
ード線WPLm(m=1、2、…、j)にRAVを伝達
する。いま、WPL1が選択されたものとすると(第1
ロウデコーダ出力信号WPE1がハイレベルになったも
のとすると)、前段ワード線WPL1にはほぼ7.5V
が現れる。後段ワード線駆動回路3aは、第2ロウデコ
ーダ出力信号WLE1〜WLEiによって選択されたワ
ード線WLk(k=1、2、…、i)に前段ワード線駆
動信号WPL1を伝達する。いま、ワード線WL1が選
択されたものとすると(第2ロウデコーダ出力信号WL
E1がハイレベルになったものとすると)、ワード線W
L1にはほぼ7.5Vが現れ、このワード線に接続され
たメモリセルのゲートは一斉に開かれる。第2ロウデコ
ーダ出力信号WLE1がローレベルに下がると、トラン
ジスタN1bがオフし、インバータIV1の出力信号が
ハイレベルになることによりトランジスタN1cがオン
する。よって、ワード線WL1の電位は接地電位にまで
下げられる。これと同期して高電圧信号RAV、前段ワ
ード線駆動信号WPL1も接地電位にまで低下する。
Next, the operation of the word line drive circuit shown in FIGS. 4 and 5 will be described. Power supply voltage V CC of the circuit is 5V
It is assumed that Prior to the word line selection, when the high voltage generation enable signal RAE is activated, the high voltage generation circuit 1 generates a 7.5 V row address high voltage signal RAV. The preceding word line drive circuit 2 transmits RAV to the preceding word line WPLm (m = 1, 2,..., J) selected by the first row decoder output signals WPE1 to WPEj. Now, assuming that WPL1 is selected (first
Assuming that row decoder output signal WPE1 attains a high level), approximately 7.5 V is applied to previous word line WPL1.
Appears. The subsequent word line drive circuit 3a transmits the preceding word line drive signal WPL1 to the word line WLk (k = 1, 2,..., I) selected by the second row decoder output signals WLE1 to WLEi. Now, assuming that the word line WL1 is selected (the second row decoder output signal WL
Assuming that E1 has gone high), the word line W
Approximately 7.5 V appears at L1, and the gates of the memory cells connected to this word line are simultaneously opened. When the second row decoder output signal WLE1 falls to a low level, the transistor N1b turns off, and the output signal of the inverter IV1 goes high, turning on the transistor N1c. Therefore, the potential of word line WL1 is reduced to the ground potential. In synchronization with this, the high voltage signal RAV and the preceding word line drive signal WPL1 also fall to the ground potential.

【0007】加速試験時においても、ワード線駆動回路
2、3aはほぼ同様の動作を行う。加速試験時には、高
電圧発生回路1に入力される加速試験信号BTがハイレ
ベルとなる。これにより、高電圧発生回路1は、イネー
ブル信号RAEが活性化されたときに12Vの高電圧R
AVを発生する。この高電圧RAVは、前段ワード線駆
動回路2、後段ワード線駆動回路3aを介して前段ワー
ド線WPLm、ワード線WLkに伝達されるが、高電圧
RAVが12Vまで高められたときにはMOSトランジ
スタのソース・ドレイン拡散層とpウェルとの間にブレ
ークダウンが起こることにより、前段ワード線駆動信号
WPL1〜WPLjは10.5Vまでしか上昇しない。
そして、ワード線駆動信号WL1〜WLiのハイレベル
も10.5Vに留まる。すなわち、加速試験時にはワー
ド線には加速電圧10.5Vが印加される。そして、通
常動作時と同様に、デコーダ出力信号WPE1〜WPE
j、WLE1〜WLEiが非選択となったときにワード
線の電位は接地電位にまで低下する。
During the accelerated test, the word line driving circuits 2 and 3a perform almost the same operation. At the time of the acceleration test, the acceleration test signal BT input to the high voltage generation circuit 1 is at a high level. As a result, when the enable signal RAE is activated, the high voltage generation circuit 1
Generate AV. This high voltage RAV is transmitted to the preceding word line WPLm and the word line WLk via the preceding word line driving circuit 2 and the succeeding word line driving circuit 3a, but when the high voltage RAV is increased to 12V, the source of the MOS transistor is increased. The preceding word line drive signals WPL1 to WPLj rise only up to 10.5 V due to the breakdown occurring between the drain diffusion layer and the p-well.
The high level of the word line drive signals WL1 to WLi also remains at 10.5V. That is, an acceleration voltage of 10.5 V is applied to the word line during the acceleration test. Then, as in the normal operation, the decoder output signals WPE1 to WPE
j, the potential of the word line drops to the ground potential when WLE1 to WLEi are deselected.

【0008】従来の半導体記憶装置における加速試験時
の前段ワード線とワード線の電位推移を図6に示す。こ
こでは、ワード線WL1から順に、WL2、WL3、…
と活性化されるものとする。まず、前段ワード線WPL
1の電位が加速試験電位VCC+α(10.5V)に高め
られる。次いで、ワード線WL1の電位がVCC+αに高
められ、一定時間経過後に、前段ワード線WPL1、ワ
ード線WL1の電位は接地電位となる。このとき高電圧
発生回路1の発生するRAVも接地電位にまで低下す
る。以下、同様にワード線WL2、WL3が順次加速試
験電位にまで高められ、接地電位に戻される。
FIG. 6 shows a potential transition of a preceding word line and a word line during an acceleration test in a conventional semiconductor memory device. Here, in order from the word line WL1, WL2, WL3,.
And activated. First, the preceding word line WPL
1 is increased to the accelerated test potential V CC + α (10.5 V). Next, the potential of the word line WL1 is raised to V CC + α, and after a certain period of time, the potentials of the preceding word line WPL1 and the word line WL1 become the ground potential. At this time, the RAV generated by the high voltage generation circuit 1 also drops to the ground potential. Hereinafter, similarly, the word lines WL2 and WL3 are sequentially raised to the accelerated test potential and returned to the ground potential.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の加速試
験では、各ワード線に印加される加速電圧は、ワード線
が選択される一時期に限定されるため、1本当たりの高
電圧印加時間は短時間に留まる。而して、加速試験にお
ける加速状態はΔV×T(但し、ΔVは加速電圧と通常
印加電圧との差、Tは加速電圧印加時間)に比例すると
予測されるところ、半導体記憶装置の加速試験では、1
本のワード線当たりTが極めて短くなるので有効に加速
を行わせるには、長時間をかけて加速を行わせるかΔV
を高くしなければならないことになる。しかし、上記し
たように、ジャンクション・ブレークダウンが起こるた
めワード線の電位を一定以上に上げることは不可能であ
る。もっともこれに対し、通常は負に印加されているp
ウェルを加速試験時には0電位としてジャンクション・
ブレークダウン電圧を高めることも行われているがこれ
にも限界がある。また、加速試験の電圧を一定以上に高
くすることは加速試験の範囲を超えてしまい、ΔV×T
により加速の程度を予測することができなくなるため好
ましくない。
In the above-described conventional acceleration test, the acceleration voltage applied to each word line is limited to one time when a word line is selected. Stay for a short time. Thus, the acceleration state in the acceleration test is predicted to be proportional to ΔV × T (where ΔV is the difference between the acceleration voltage and the normal applied voltage, and T is the acceleration voltage application time). , 1
Since T per word line becomes extremely short, in order to perform acceleration effectively, it is necessary to perform acceleration over a long time or ΔV
Must be raised. However, as described above, it is impossible to raise the potential of the word line to a certain level or more because junction breakdown occurs. However, on the other hand, p which is normally applied negatively
Set the well to 0
Some attempts have been made to increase the breakdown voltage, but this has its limitations. Further, increasing the voltage of the acceleration test to a certain level or more exceeds the range of the acceleration test, and ΔV × T
Is not preferable because the degree of acceleration cannot be predicted.

【0010】したがって、この発明の目的とするところ
は、各ワード線に高電圧の印加される時間を長くするこ
とであり、これにより、半導体記憶装置の加速試験を短
時間で行いうるようにすることである。また、過度に高
電圧を印加することを避けうるようにして、加速を安定
して行わせることができるようにすると共に加速の程度
を定量的に判断できるようにすることである。
Therefore, an object of the present invention is to lengthen the time during which a high voltage is applied to each word line, so that an acceleration test of a semiconductor memory device can be performed in a short time. That is. Another object of the present invention is to make it possible to avoid applying an excessively high voltage so that the acceleration can be stably performed and to quantitatively determine the degree of the acceleration.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、通常動作時においては、選択ワー
ド線の電位を第1のレベルとし、選択の終了した時点で
該ワード線の電荷を引き抜いてその電位を第2のレベル
とする半導体記憶装置において、加速試験における高電
圧印加時には、内部に設けられた高電圧発生回路により
形成された、第1のレベルより高い第3のレベルの電位
を選択ワード線に印加し、該ワード線の非選択時には通
常動作時に行われる該ワード線に対する電荷引き抜き動
作を中止させて該ワード線をフローティング状態とし、
該ワード線を高電位に維持することを特徴とする半導体
記憶装置、が提供される。具体的には、本発明による半
導体記憶装置は、通常動作時に通常動作時ワード線駆動
電圧、加速試験時に高電圧発生回路(1)により形成さ
れた、通常動作時ワード線駆動電圧より高い加速試験時
ワード線駆動電圧が印加されるワード線駆動信号線(W
PL1、WPL2、…、WPLi)と接地間に第1のM
OSトランジスタ(N1b、N2b、…、Nib)と第
2のMOSトランジスタ(N1c、N2c、…、Ni
c)とが第1のMOSトランジスタを前記ワード線駆動
信号線側として直列に接続され、両トランジスタの接続
点がワード線(WL1、WL2、…、WLi)に接続さ
れ、ロウデコーダ出力信号(WLE1、WLE2、…、
WLEi)が第1のMOSトランジスタのゲートに接続
され、ロウデコーダ出力信号(WLE1、WLE2、
…、WLEi)と加速試験信号(BT)とが入力される
NORゲート(NR1、NR2、…、NRi)の出力信
号が第2のMOSトランジスタのゲートに接続されてな
るワード線駆動回路(3)を有し、前記第1のMOSト
ランジスタは前記ロウデコーダ出力信号の活性時に導通
状態になされ、前記第2のMOSトランジスタは前記ロ
ウデコーダ出力信号または前記加速試験信号の活性時に
非導通状態になされる。
To achieve the above object, according to the present invention, during normal operation, the potential of a selected word line is set to the first level, and at the time when the selection is completed, the potential of the word line is set. In a semiconductor memory device in which electric charges are drawn and the potential is set to a second level, when a high voltage is applied in an acceleration test, a third level higher than the first level, which is formed by a high voltage generating circuit provided therein, is used. Is applied to the selected word line, and when the word line is not selected, the charge extracting operation for the word line performed during the normal operation is stopped to bring the word line into a floating state ,
A semiconductor memory device characterized by maintaining the word line at a high potential is provided. More specifically, the semiconductor memory device according to the present invention has a normal operation word line drive voltage during normal operation and an acceleration test formed by the high voltage generation circuit (1) during the acceleration test that is higher than the normal operation word line drive voltage. When a word line drive signal line (W
, PL1, WPL2,..., WPLi) and ground.
The OS transistors (N1b, N2b,..., Nib) and the second MOS transistors (N1c, N2c,.
c) are connected in series with the first MOS transistor as the word line drive signal line side, the connection point of both transistors is connected to word lines (WL1, WL2,..., WLi), and the row decoder output signal (WLE1) is connected. , WLE2, ...,
WLEi) is connected to the gate of the first MOS transistor, and the row decoder output signals (WLE1, WLE2,.
, WLEi) and the acceleration test signal (BT) are input to the NOR gates (NR1, NR2,..., NRi) and the word line drive circuit (3) is connected to the gate of the second MOS transistor. Wherein the first MOS transistor is rendered conductive when the row decoder output signal is activated, and the second MOS transistor is rendered non-conductive when the row decoder output signal or the acceleration test signal is activated. .

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施例のワード線駆動
回路のブロック図であり、図2は、図1における後段ワ
ード線駆動回路3の構成を示す回路図である。図1にお
いて、図4の従来例の部分と共通する部分には同一の参
照番号が付せられているので重複する説明は省略する
が、本実施例においては、後段ワード線駆動回路3には
加速試験信号BTが入力されている。後段ワード線駆動
回路の詳細については図2を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a word line driving circuit according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a subsequent word line driving circuit 3 in FIG. In FIG. 1, the same reference numerals are given to the same parts as those in the conventional example in FIG. 4, and thus the duplicated description will be omitted. The acceleration test signal BT is input. Details of the latter word line drive circuit will be described with reference to FIG.

【0013】図2に示すように、第2ロウデコーダ出力
信号WLEk(k=1、2、…、i)は、ゲートがVCC
電源に接続されたnチャネルMOSトランジスタNka
の一端と、ノアゲートNRkの一方の入力端子に入力さ
れる。ノアゲートNRkの他方の入力端子には加速試験
信号BTが共通に入力されている。トランジスタNka
の他端は、nチャネルMOSトランジスタNkbのゲー
トに接続され、ノアゲートNRkの出力端子は、nチャ
ネルMOSトランジスタNkcのゲートに接続されてい
る。トランジスタNkbとトランジスタNkcとは前段
ワード線WPL1と接地との間に直列に接続され、両ト
ランジスタの接続点にワード線WLkが接続されてい
る。
As shown in FIG. 2, the gate of the second row decoder output signal WLEk (k = 1, 2,..., I) is V CC.
N-channel MOS transistor Nka connected to power supply
And one input terminal of the NOR gate NRk. The acceleration test signal BT is commonly input to the other input terminal of the NOR gate NRk. Transistor Nka
Is connected to the gate of n-channel MOS transistor Nkb, and the output terminal of NOR gate NRk is connected to the gate of n-channel MOS transistor Nkc. The transistor Nkb and the transistor Nkc are connected in series between the preceding word line WPL1 and the ground, and a connection point of both transistors is connected to the word line WLk.

【0014】加速試験信号BTは、通常時ローレベル、
加速試験時にハイレベルとなる信号である。通常動作
時、すなわち、BTがローレベルであるとき、各ノアゲ
ートはインバータとして動作するので、図2に示した後
段ワード線駆動回路の動作は図4に示す従来例のそれと
変わるところはない。加速試験時にBTがハイレベルと
なると、各ノアゲートNR1〜NRiの出力信号は第2
ロウデコーダ出力信号WLEkの値によらずローレベル
となる。したがって、トランジスタN1c〜Nicは常
時オフとなり、各ワード線は非選択時にはフローティン
グ状態となる。
The acceleration test signal BT is normally at a low level,
This is a signal that goes high during an acceleration test. During normal operation, that is, when BT is at a low level, each NOR gate operates as an inverter, so that the operation of the subsequent word line drive circuit shown in FIG. 2 is not different from that of the conventional example shown in FIG. When the BT goes high during the acceleration test, the output signals of the NOR gates NR1 to NRi become the second signals.
It goes low regardless of the value of the row decoder output signal WLEk. Therefore, the transistors N1c to Nic are always off, and each word line is in a floating state when not selected.

【0015】いま、図2の後段ワード線駆動回路におい
て、ワード線WL1から順にWL2、WL3と選択され
るものとすると、図3に示すように、前段ワード線WP
L1の電位がVCC+α(10.5V)となり、それに続
けてワード線WL1の電位もVCC+αとなる。一定時間
後、ワード線WL1は非選択となり、前段ワード線WP
L1のレベルもローレベルとなるが、ワード線の充電電
荷を接地に引き抜くトランジスタN1cがオフされてい
るため、ワード線WL1はVCC+αの電位を保持し続け
る。次に、ワード線WL2が選択され、加速試験電圧
(VCC+α)が印加され、その後非選択となるが高電圧
を保持し続ける。以下、同様に順次ワード線が選択さ
れ、非選択後も高電圧を保持し続ける。この一連の動作
を続けることにより複数のワード線を同時に高電位に保
持することができる。
Now, assuming that word lines WL2 and WL3 are selected in order from word line WL1 in the latter word line driving circuit of FIG. 2, as shown in FIG.
The potential of L1 becomes V CC + α (10.5 V), and subsequently the potential of the word line WL1 also becomes V CC + α. After a certain time, the word line WL1 is deselected and the previous word line WP
The level of L1 also becomes low, but the word line WL1 keeps the potential of V CC + α because the transistor N1c that pulls the charge of the word line to the ground is off. Next, the word line WL2 is selected, an acceleration test voltage (V CC + α) is applied, but then is not selected continues to hold the high voltage. Hereinafter, similarly, the word lines are sequentially selected, and the high voltage is maintained even after the non-selection. By continuing this series of operations, a plurality of word lines can be simultaneously held at a high potential.

【0016】以上の動作を特定のブロックについてある
いはメモリ装置の全てのメモリセルアレイについて実施
する。ところで、ワード線は非選択となった後はフロー
ティング状態に放置されるため、リーク電流によりその
保持電圧は徐々に低下する。これを避けるには、所定の
ワード線を全て選択した後、さらに始めのワード線から
選択し直し、これを必要回数繰り返すようにすることが
望ましい。これによって、加速試験中常に所定の複数の
ワード線あるいは全てのワード線を高電圧に維持するこ
とができる。
The above operation is performed for a specific block or for all the memory cell arrays of the memory device. By the way, since a word line is left in a floating state after being deselected, its holding voltage gradually decreases due to a leak current. In order to avoid this, it is desirable that after selecting all the predetermined word lines, the first word line is selected again, and this is repeated as many times as necessary. Thus, a predetermined plurality of word lines or all the word lines can be constantly maintained at a high voltage during the accelerated test.

【0017】以上好ましい実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるされるものではなく、
特許請求の範囲に記載された本願発明の要旨内において
各種の変更が可能である。例えば、実施例では、ワード
線駆動回路を前段、後段の2段に分けていたが、これを
1段のものにあるいは3段以上の駆動回路に変更するこ
とができる。
While the preferred embodiment has been described above,
The present invention is not limited to the above embodiments,
Various modifications are possible within the gist of the present invention described in the claims. For example, in the embodiment, the word line driving circuit is divided into two stages, a former stage and a latter stage. However, this can be changed to one stage or three or more stages.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置は、通常動作時においてワード線が非選択となっ
たときそのワード線の電位を接地レベルに下げるトラン
ジスタを、加速試験時にはフローティング状態とするよ
うにしたものであるので、本発明によれば、各ワード線
は非選択とされた後にも選択時の高電圧を保持すること
が可能となり、同時に複数のワード線を高電位とするこ
とができるようになる。したがって、本発明によれば、
半導体記憶装置全体としてワード線に加速電圧をかける
時間を短縮することができる。例えば、128本のワー
ド線の電位を同時に高電位に上げるならばワード線にス
トレスをかける時間を128分の1に短縮することがで
きる。
As described above, in the semiconductor memory device of the present invention, the transistor for lowering the potential of the word line to the ground level when the word line is deselected during the normal operation is set in the floating state during the acceleration test. Therefore, according to the present invention, each word line can hold a high voltage at the time of selection even after being deselected, and simultaneously set a plurality of word lines to a high potential. Will be able to do it. Thus, according to the present invention,
The time for applying the acceleration voltage to the word lines can be shortened as a whole semiconductor memory device. For example, if the potentials of the 128 word lines are simultaneously raised to a high potential, the time for applying stress to the word lines can be reduced to 1/128.

【0019】また、本発明によれば、有効な加速試験を
行うのに過度に高い電圧を印加する必要がなくなり、そ
して加速試験時間を任意に設定することが可能となった
ので、加速の加わり方の予測が容易となり、また加速の
程度のコントロールが容易となる。さらに、本発明によ
れば、加速試験中もワード線の選択が可能であるので、
ワード線単位あるいはブロック単位で加速試験を行うこ
とができる。
According to the present invention, it is not necessary to apply an excessively high voltage to perform an effective acceleration test, and the acceleration test time can be set arbitrarily. Prediction is easier, and the degree of acceleration is easier to control. Further, according to the present invention,
Then, the word line can be selected even during the accelerated test.
Perform acceleration tests in word line units or block units.
Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例のワード線駆動回路のブロ
ック図。
FIG. 1 is a block diagram of a word line driving circuit according to one embodiment of the present invention.

【図2】 図1の実施例における後段ワード線駆動回路
の回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram of a subsequent word line drive circuit in the embodiment of FIG.

【図3】 図2に示す実施例回路の動作説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of the operation of the embodiment circuit shown in FIG. 2;

【図4】 従来例のワード線駆動回路のブロック図。FIG. 4 is a block diagram of a conventional word line drive circuit.

【図5】 従来例における後段ワード線駆動回路の回路
図。
FIG. 5 is a circuit diagram of a subsequent word line drive circuit in a conventional example.

【図6】 図5に示す従来例回路の動作説明図。6 is an operation explanatory diagram of the conventional circuit shown in FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 高電圧発生回路 2 前段ワード線駆動回路 3、3a 後段ワード線駆動回路 BT 加速試験信号 RAE 高電圧発生イネーブル信号 RAV ロウアドレス高電圧信号 WPE1〜WPEj 第1ロウデコーダ出力信号 WLE1〜WLEi 第2ロウデコーダ出力信号 WPL1〜WPLj 前段ワード線または前段ワード線
駆動信号 WL1〜WLi ワード線またはワード線駆動信号
Reference Signs List 1 high voltage generation circuit 2 front word line drive circuit 3, 3a rear word line drive circuit BT acceleration test signal RAE high voltage generation enable signal RAV row address high voltage signal WPE1-WPEj first row decoder output signal WLE1-WLEi second row Decoder output signal WPL1 to WPLj Previous word line or previous word line drive signal WL1 to WLi Word line or word line drive signal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11C 29/00

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 通常動作時においては、選択ワード線の
電位を第1のレベルとし、選択の終了した時点で該ワー
ド線の電荷を引き抜いてその電位を第2のレベルとする
半導体記憶装置において、加速試験における高電圧印加
時には、内部に設けられた高電圧発生回路により形成さ
れた、第1のレベルより高い第3のレベルの電位を選択
ワード線に印加し、該ワード線の非選択時には通常動作
時に行われる該ワード線に対する電荷引き抜き動作を中
止させて該ワード線をフローティング状態とし、該ワー
ド線を高電位に維持することを特徴とする半導体記憶装
置。
In a semiconductor memory device, during a normal operation, the potential of a selected word line is set to a first level, and when the selection is completed, the charge of the word line is drawn to set the potential to a second level. When a high voltage is applied in an acceleration test, a third-level potential higher than the first level, which is formed by a high-voltage generating circuit provided inside, is applied to a selected word line, and when the word line is not selected, the word line and floating state stops the charge pull-out operation for said word lines to be performed during normal operation, the word
A semiconductor memory device characterized in that a storage line is maintained at a high potential .
【請求項2】 通常動作時に第1のレベル、加速試験時
に第1のレベルより高い第3のレベルの電位が印加され
るワード線駆動信号線と第2のレベルの電位が印加され
る点との間に第1のMOSトランジスタと第2のMOS
トランジスタとが第1のMOSトランジスタを前記ワー
ド線駆動信号線側として直列に接続され、両トランジス
タの接続点がワード線に接続され、ロウデコーダ出力信
号が第1のMOSトランジスタのゲートに入力され、ロ
ウデコーダ出力信号と加速試験信号とが入力されるNO
Rゲートの出力信号が第2のMOSトランジスタのゲー
トに入力されているワード線駆動回路を有し、前記第1
のMOSトランジスタは前記ロウデコーダ出力信号の活
性時に導通状態になされ、前記第2のMOSトランジス
タは前記ロウデコーダ出力信号または前記加速試験信号
の活性時に非導通状態になされることを特徴とする半導
体記憶装置。
2. A word line drive signal line to which a first level potential is applied during a normal operation and a third level potential higher than the first level during an acceleration test, and a point to which a second level potential is applied. Between the first MOS transistor and the second MOS
A transistor is connected in series with the first MOS transistor as the word line drive signal line side, a connection point of both transistors is connected to the word line, and a row decoder output signal is input to the gate of the first MOS transistor; NO to which row decoder output signal and acceleration test signal are input
A word line driving circuit in which an output signal of an R gate is input to a gate of a second MOS transistor;
Wherein the MOS transistor is turned on when the row decoder output signal is activated, and the second MOS transistor is turned off when the row decoder output signal or the acceleration test signal is activated. apparatus.
【請求項3】 加速試験の高電圧印加時において、一部
または全てのワード線が一定の周期で繰り返し選択され
ることを特徴とする請求項1または2記載の半導体記憶
装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a part or all of the word lines are repeatedly selected at a constant period when a high voltage is applied in the acceleration test.
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