KR20040003735A - Vertical type probe card - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A vertical type probe card is provided to be capable of easily corresponding to a ball type electrode pad, improving electrical conductivity, and preventing a contact terminal from being stained with electrode pad material. CONSTITUTION: A vertical type probe card is provided with a PCB(Printed Circuit Board)(120) having through holes, a plurality of connection pins(126) protruded from the lower portions of the through holes, and a space transformer(124) connected with the protruded connection pins. The vertical type probe card further includes a plurality of probe tips(130) vertically connected to the lower portions of the space transformer and reinforcing plates(122,132) installed at the upper portion of the PCB and at the lower portion of the space transformer, respectively. Each probe tip includes a body part made of micro tube having an inner hole, an elastic part formed at the lower portion of the body part, and a contact terminal formed at the lower portion of the elastic part.

Description

수직형 프로브 카드{Vertical type probe card}Vertical type probe card {Vertical type probe card}

본 발명은 프로브 카드에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 마이크로 튜브로 이루어지는 본체부의 하단부에 절개형 접촉단자가 구비되어 볼타입의 접촉단자와 용이하게 접촉할 수 있는 수직형 프로브 팁을 구비한 프로브 카드에 관한 것이다.The present invention relates to a probe card, and more particularly, a probe card having a vertical probe tip that is easily provided in contact with a ball-type contact terminal by being provided with a cut-out contact terminal at a lower end of a main body portion formed of a microtube. It is about.

통상, 반도체 제조 공정에서는, 웨이퍼 제조 프로세스를 종료한 후 프로빙 테스트에 의해 양품을 선별하고, 이 양품을 패키지에 수납하여 최종 제품의 형태로 마무리하고 있다. 그리고, 최종 제품의 형태로 마무리된 패키지 완료후의 반도체 장치를 대상으로 하여 번인(Burn-in)을 행하고 있다.Usually, in a semiconductor manufacturing process, after finishing a wafer manufacturing process, a good product is sorted by a probing test, this good product is accommodated in a package, and it finishes in the form of a final product. Then, burn-in is performed for the semiconductor device after package completion, which is finished in the form of a final product.

이와 같은 프로빙 테스트는, 반도체기판 상에 구현된 칩의 전극패드와 접촉한 프로브 카드의 프로브 팁을 통해서 테스트장치가 소정의 전기신호를 인가한 후, 이에 대응하는 전기신호를 다시 테스트장치가 수신함으로써 반도체 기판 상에 구현된 칩의 정상 및 비정상 유무를 테스트하게 된다.The probing test may be performed by applying a predetermined electrical signal to a test apparatus through a probe tip of a probe card in contact with an electrode pad of a chip implemented on a semiconductor substrate, and then receiving the electrical signal corresponding thereto. Test the normal and abnormality of the chip implemented on the semiconductor substrate.

이와 같이, 완성된 상태에 있는 웨이퍼 즉, 반도체 칩을 테스트하는 프로브 카드는 도1에 도시된 바와 같이, 회로가 구성된 인쇄회로기판(110)과, 인쇄회로기판(110)의 상면 중앙에 형성되는 보강판(112)과 도시하지 않은 웨이퍼의 전극패드에 접촉되는 프로브 팁(114')을 구비하며 인쇄회로기판(110)의 회로에 연결되는 니들(114)과, 인쇄회로기판(110)의 저면 중앙에 형성되어 프로브 팁(114')을 지지 고정하는 고정판(116)과 프로브 팁(114')을 고정판(116)에 고정하는 절연물(118)로 이루어진다.As described above, a probe card for testing a semiconductor chip, that is, a semiconductor chip, is formed in the center of the upper surface of the printed circuit board 110 and the printed circuit board 110 as shown in FIG. 1. A needle 114 having a reinforcement plate 112 and a probe tip 114 ′ contacting an electrode pad of a wafer (not shown) and connected to a circuit of the printed circuit board 110, and a bottom surface of the printed circuit board 110. It is formed of a fixed plate 116 formed in the center to support and fix the probe tip 114 'and an insulator 118 to fix the probe tip 114' to the fixed plate 116.

이때, 상기 프로브 팁(114')의 소정부는 수평방향에서 하방 즉, 전극패드 방향으로 소정각도 절곡되어 있다.In this case, the predetermined portion of the probe tip 114 ′ is bent at a predetermined angle downward in the horizontal direction, that is, in the electrode pad direction.

상기와 같이 구성된 프로브 카드는 도시하지 않은 지그에 의해 상하로 이동하면서 프로브 팁(114')이 전극패드의 중심부에 접촉되도록 하여 전극패드의 이상 유무를 검하하게 된다.The probe card configured as described above is moved up and down by a jig (not shown) to allow the probe tip 114 'to come into contact with the center of the electrode pad to check for abnormality of the electrode pad.

그러나, 종래의 프로브 카드에 장착되는 프로브 팁은 니들(Needle) 타입으로써 소정부가 수평방향에서 하방 즉, 전극패드 방향으로 소정각도 절곡됨으로써 고집적화된 반도체소자에 대응이 용이하지 않은 문제점이 있었다.However, a probe tip mounted on a conventional probe card has a needle type, and a predetermined portion is bent downward in a horizontal direction, that is, a predetermined angle in an electrode pad direction, thereby making it difficult to cope with a highly integrated semiconductor device.

즉, 상기 프로브 카드에 장착되는 프로브 팁은 소정부가 수평방향에서 하방 즉, 전극패드 방향으로 소정각도 절곡되어 있음으로써 프로브 카드의 고정판에 프로브 팁을 고밀도로 배열 설치가 불가능하여 고집적화된 반도체소자의 전극패드에 대응할 수 없는 문제점이 있었다.That is, a probe tip mounted on the probe card has a predetermined portion bent downward in a horizontal direction, that is, a predetermined angle in the direction of the electrode pad, so that it is impossible to install the probe tips on the fixed plate of the probe card in a high density so that the electrode of the semiconductor device is highly integrated. There was a problem that the pad could not be responded to.

또한, 상기 니들 타입의 프로브 팁이 장착된 프로브 카드는, 최근에 주로 사용되는 볼타입의 전극패드 즉, 상부 표면이 상부로 돌출된 볼타입의 전극패드에는 미끄러 발생 등의 원인에 의해서 접촉이 용이하지 않은 문제점이 있었다.In addition, the probe card equipped with the needle-type probe tip is easily contacted with a ball type electrode pad, which is used mainly in recent years, that is, a ball type electrode pad whose upper surface protrudes upward due to slippage or the like. There was a problem that did not.

본 발명의 목적은, 고밀도 배열 설치가 가능한 프로브 팁을 구비한 수직형 프로브 카드를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a vertical probe card having a probe tip capable of high density array installation.

본 발명의 다른 목적은, 볼타입의 전극패드에 대한 대응이 용이한 프로브 팁을 구비한 수직형 프로브 카드를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a vertical probe card having a probe tip that can easily correspond to a ball type electrode pad.

도 1은 종래의 프로브 카드를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view for explaining a conventional probe card.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 프로브 카드를 설명하기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view for describing a vertical probe card according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 프로브 팁의 제조방법을 설명하기 위한 공정도이다.3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing the probe tip illustrated in FIG. 2.

도 4a는 도 2에 도시된 프로브 팁의 일예를 설명하기 위한 사시도이고, 도 4b는 도 2에 도시된 프로브 팁의 다른 일예를 설명하기 위한 사시도이다.4A is a perspective view illustrating an example of the probe tip illustrated in FIG. 2, and FIG. 4B is a perspective view illustrating another example of the probe tip illustrated in FIG. 2.

도 5는 도 2에 도시된 프로브 팁의 저면도이다.5 is a bottom view of the probe tip shown in FIG. 2.

도 6a 및 도 6b는 도2 에 도시된 프로브 팁의 사용 상태를 설명하기 위한 단면도이다.6A and 6B are cross-sectional views illustrating a state of use of the probe tip shown in FIG. 2.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

120 : 인쇄회로기판 122 : 상부 보강판120: printed circuit board 122: upper reinforcement plate

124 : 공간변환기 126 : 포고핀124: space converter 126: pogo pin

128 : 연결부 130 : 프로브 팁128: connection 130: probe tip

132 : 하부 보강판134 : 볼트132: lower reinforcement plate 134: bolt

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 수직형 프로브 카드는, 다층 회로와 연결된 관통홀이 형성된 인쇄회로기판과 상기 관통홀에 삽입되어 하방으로 돌출된 탄성 재질의 전기적 접속핀과 상기 돌출된 접속핀과 연결된 공간변환기와 상기 공간변환기 하부에 수직형으로 부착된 프로브 팁과 상기 인쇄회로기판 및 공간변환기 상하부에 구비된 보강판을 구비하는 프로브 카드에 있어서, 상기 프로브 팁은 탄성력을 지닌 도전성 재질로 내부홀이 구비된 마이크로 튜브로 이루어지는 본체부와 상기 본체부 하측에 형성된 복수의 절개부를 구비하는 탄성부와 상기 탄성부 하단에 구비된 접촉단자를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a vertical probe card according to the present invention includes a printed circuit board having a through hole connected to a multilayer circuit, an electrical connection pin of an elastic material inserted into the through hole, and protruding downward, and the protruding connection pin. A probe card having a space transducer connected to a probe and a probe tip vertically attached to a lower portion of the space transducer and a reinforcement plate provided on upper and lower portions of the printed circuit board and the space transducer, wherein the probe tip is made of an electrically conductive material having elastic force. It characterized in that it comprises a main body consisting of a micro-tube having a hole, an elastic portion having a plurality of cutouts formed on the lower side of the main body and a contact terminal provided on the lower end of the elastic portion.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 카드를 설명하기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a probe card according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 프로브 카드는, 도2에 도시된 바와 같이 다층 내부 회로와 연결된 관통홀(넘버링되지 않음)이 형성된 인쇄회로기판(120)을 구비하고, 상기 인쇄회로기판(120)의 관통홀에 탄성 재질의 복수의 포고핀(Pogo pin : 126)이 삽입되어 하방으로 돌출되어 있다.As shown in FIG. 2, the probe card according to the present invention includes a printed circuit board 120 having a through hole (not numbered) connected to a multilayer internal circuit, and formed in the through hole of the printed circuit board 120. A plurality of pogo pins (126) of elastic material are inserted and protrude downward.

이때, 상기 포고핀(126) 내부에는 스프링(Spring) 등의 탄성체가 구비됨으로써 상하로 소정의 유격이 발생하여 상하 간격이 조절될 수 있도록 되어 있다.At this time, the pogo pin 126 is provided with an elastic body such as a spring (Spring) so that a predetermined clearance is generated up and down to adjust the vertical gap.

그리고, 상기 인쇄회로기판(120)의 관통홀에 삽입 돌출된 포고핀(126)과 다층 회로가 구비되는 공간변환기(124) 상의 연결부(128)가 납땜 등의 방법에 의해서연결되어 있다.In addition, the pogo pin 126 inserted into the through hole of the printed circuit board 120 and the connecting portion 128 on the space converter 124 provided with the multilayer circuit are connected by soldering or the like.

또한, 상기 포고핀(126)에 의해서 연결된 인쇄회로기판(120)과 공간변환기(124) 상하부에 상부 보강판(122) 및 하부 보강판(132)이 구비되어 볼트(134)에 의해서 체결됨으로써 인쇄회로기판(120) 및 공간변환기(124)가 고정되어 있다.In addition, an upper reinforcement plate 122 and a lower reinforcement plate 132 are provided on upper and lower portions of the printed circuit board 120 and the space converter 124 connected by the pogo pins 126 to be printed by being fastened by bolts 134. The circuit board 120 and the space converter 124 are fixed.

그리고, 상기 공간 변환기(124) 하측에 본 발명에 따른 마이크로 튜브를 이용한 프로브 팁(130)이 에폭시수지 등과 같은 물질을 이용한 연결수단(도시되지 않음)에 의해서 연결 구비되어 있다.In addition, the probe tip 130 using the microtube according to the present invention is provided below the space transducer 124 by a connecting means (not shown) using a material such as an epoxy resin.

이때, 상기 공간 변환기(124)는 본 발명에 따른 프로브 팁(130)이 수직적으로 공간 변환기(124)에 부착됨으로써 반도체소자의 작은 피치간격에 대응하기 위하여 극도로 조밀하게 배열 설치된 프로브 팁(130)이 상대적으로 넓게 배열 설치되는 인쇄회로기판(120)과 전기적으로 연결될 수 있도록 하는 기능을 수행한다.In this case, the space transducer 124 is probe tip 130 is installed in an extremely tight arrangement to correspond to the small pitch interval of the semiconductor device by attaching the probe tip 130 in accordance with the present invention vertically to the space transducer 124 This relatively wide array of the printed circuit board 120 is installed to perform a function to be electrically connected.

그리고, 상기 프로브 팁(130), 다층 회로가 구비된 공간 변환기(124), 포고핀(126) 및 인쇄회로기판(120) 내부의 회로는 서로 전기적으로 연결되어 있다.In addition, the probe tip 130, the space converter 124 having a multilayer circuit, the pogo pins 126, and the circuits inside the printed circuit board 120 are electrically connected to each other.

도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 카드에 장착된 프로브 팁의 제조방법을 설명하기 위한 공정도이다.3 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a probe tip mounted on a probe card according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 프로브 팁(130)의 제조방법은, 도3에 도시된 바와 같이 먼저 소정의 탄성력을 지닌 구리(Cu), 텅스텐(W), 구리 합금 및 텅스텐 합금 재질로써 중앙에 내부홀(10a)이 형성된 소정길이의 마이크로 튜브(Micro tube) 즉, 본체부(10)를 준비한다.Method of manufacturing the probe tip 130 according to the present invention, as shown in Figure 3, first with a predetermined elastic force copper (Cu), tungsten (W), a copper alloy and a tungsten alloy material in the center of the inner hole (10a) Prepare a predetermined length of the micro tube (ie, the micro tube), that is, the main body portion 10.

이때, 상기 본체부(10)는 후속공정에서 프로브 팁(130)으로 제작되는 것으로써 상기 본체부(10)의 내부홀(10a)의 직경은 수㎛로 고집적화된 전자소자의 전극패드의 크기를 고려하여 적당한 직경의 마이크로 튜브로 준비한다.In this case, the main body 10 is manufactured by the probe tip 130 in a subsequent process, so that the diameter of the inner hole 10a of the main body 10 is several μm, the size of the electrode pad of the electronic device highly integrated. Take into consideration microtubes of suitable diameter.

다음으로, 상기 본체부(10)의 외측 표면에 소정두께의 포토레지스트 등의 보호막(12)을 형성한다. 이때, 상기 보호막(12)은 포토레지스트 이외에 산화막 등과 같이 반도체 제조공정에서 식각 마스크로 사용되는 다양한 재질로 사용이 가능함은 당연하다할 것이다.Next, a protective film 12 such as a photoresist having a predetermined thickness is formed on the outer surface of the main body portion 10. At this time, it will be obvious that the protective film 12 may be used in various materials used as an etching mask in a semiconductor manufacturing process, such as an oxide film, in addition to a photoresist.

계속해서, 상기 외측 표면에 보호막이 형성된 본체부(10)의 하단부를 소정깊이 소정의 제 1 식각액이 저장된 제 1 배스(Bath : 2) 내부에 팁핑(Dipping)함으로써 본체부(10)의 내부 중앙에 형성된 내부홀(10a)을 내부 방향으로 소정각도 경사커팅하여 본체부(10)의 하단부에 경사면(14)을 형성한다.Subsequently, the inner center of the main body portion 10 is tipped by tipping the lower end portion of the main body portion 10 having the protective film formed on the outer surface into the first bath 2 in which the first etching liquid having a predetermined depth is stored. The inclined surface 14 is formed at the lower end of the main body 10 by inclining the inner hole 10a formed at a predetermined angle in the inward direction.

이어서, 상기 경사면(14)이 형성된 본체부(10)의 내부 중앙에 형성된 내부홀(10a)에 포토레지스트 등과 같이 식각액에 대해서 선택비가 떨어지는 끼움물질(16)을 매립한다.Subsequently, the fitting material 16 having a low selectivity with respect to the etchant, such as a photoresist, is embedded in the inner hole 10a formed at the inner center of the main body portion 10 on which the inclined surface 14 is formed.

이때, 상기 끼움물질(16)은 본체부(10)의 내부 중앙에 형성된 내부홀(10a) 전체에 매립할 수도 있으나 작업의 편리성을 감안하여 본체부(10) 하단부에서 본체부(10) 중앙부까지만 매립한다.At this time, the fitting material 16 may be buried in the entire inner hole (10a) formed in the inner center of the main body portion 10, but in consideration of the convenience of the main body portion 10 at the lower end of the main body portion 10 Only landfill until

다음으로, 상기 끼움물질(16)이 내부홀(10a)에 매립된 본체부(10)의 외부 표면에 형성된 보호막(12)에 레이저 빔을 주사함으로써 보호막 패턴(18)을 형성한다.Next, the protective film pattern 18 is formed by scanning the laser beam on the protective film 12 formed on the outer surface of the body portion 10 in which the fitting material 16 is embedded in the inner hole 10a.

이때, 상기 보호막 패턴(18)은 후속공정에서 탄성부가 형성되는 본체부(10)의 하단부에 형성되며, 상기 보호막 패턴(18)을 형성하는 과정은 본체부(16)를 회전시키면서 보호막(12)에 반복적으로 레이저 빔을 주사하여 보호막(12)을 제거함으로써 형성한다. 특히, 상기 레이저 빔을 주사하는 과정의 레이저 빔의 스팟 사이즈(Spot size)는 공정 진행자의 편리성을 감안하여 적당한 사이즈로 조절함이 바람직하다.In this case, the passivation layer pattern 18 is formed at the lower end of the main body portion 10 in which the elastic portion is formed in a subsequent process, and the process of forming the passivation layer pattern 18 rotates the main body portion 16 while the passivation layer 12 is formed. It is formed by repeatedly scanning the laser beam on the protective film 12. In particular, the spot size of the laser beam in the process of scanning the laser beam is preferably adjusted to an appropriate size in consideration of the convenience of the process coordinator.

계속해서, 상기 보호막 패턴(18)이 하단부에 형성된 본체부(10)를 소정의 제 2 식각액이 저장된 제 2 배스(4) 내부에 팁핑시킴으로써 보호막 패턴(18)에 의해서 개방된 본체부(10)를 완전히 습식식각하여 서로 소정간격 이격된 복수의 절개부(19)가 구비된 탄성부(20)를 형성한다.Subsequently, the main body 10 opened by the protective film pattern 18 by tipping the main body 10 having the protective film pattern 18 formed at the lower end thereof into the second bath 4 in which the predetermined second etching solution is stored. Completely wet etching to form an elastic part 20 having a plurality of cutouts 19 spaced apart from each other by a predetermined interval.

이때, 상기 본체부(10) 내측 중앙에 형성된 내부홀(10a)에 매립된 끼움물질(16)은 제 2 배스(4) 내부에 저장된 제 2 식각액이 보호막 패턴(18)에 의해서 폐쇄된 본체부(10) 하단의 내면을 습식식각하는 것을 방지하는 기능을 수행한다.In this case, the fitting material 16 embedded in the inner hole 10a formed at the inner center of the main body portion 10 may include a main body portion in which the second etchant stored in the second bath 4 is closed by the protective layer pattern 18. (10) It performs a function to prevent wet etching of the inner surface of the bottom.

마지막으로, 상기 본체부(10) 내측 중앙에 형성된 내부홀(10a)에 매립된 끼움물질(16)을 제거함으로써 복수의 절개부(19)를 구비하는 탄성부(20)와 상기 탄성부(10) 단부가 내측으로 소정각도 경사커팅된 접촉단자(22)가 구비된 프로브 팁(130)을 형성한다.Finally, the elastic part 20 and the elastic part 10 having a plurality of cutouts 19 by removing the fitting material 16 embedded in the inner hole 10a formed at the inner center of the main body part 10. ) To form a probe tip 130 having a contact terminal 22 inclined at an angle to an end thereof.

이하, 전술한 바와 같은 방법에 의해서 구현된 프로브 팁에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, a probe tip implemented by the method as described above will be described in detail.

도4a 및 도4b는 도2에 도시된 프로브 팁의 사시도이고, 도5는 저면도이다.4A and 4B are perspective views of the probe tip shown in FIG. 2, and FIG. 5 is a bottom view.

본 발명에 따른 프로브 팁(130)은, 도4a, 도4b 및 도5에 도시된 바와 같이 소정의 탄성력을 지닌 구리(Cu), 텅스텐(W), 구리 합금 및 텅스텐 합금 재질로써 중앙에 내부홀(10a)이 형성된 소정길이의 마이크로 튜브(Micro tube)로 이루어지는 원통형상의 본체부(10)를 구비한다.Probe tip 130 according to the present invention, as shown in Figures 4a, 4b and 5 has a predetermined elastic force copper (Cu), tungsten (W), copper alloy and tungsten alloy material in the center hole The cylindrical main body part 10 which consists of a micro tube of predetermined length in which 10a was formed is provided.

이때, 상기 본체부(10)의 내부홀(10a)의 직경은 고집적화된 전자소자의 전극패드의 크기가 고려되어 수㎛로 이루어진다.At this time, the diameter of the inner hole (10a) of the main body portion 10 is made of several ㎛ considering the size of the electrode pad of the highly integrated electronic device.

그리고, 상기 본체부(10)의 하단부에는 본체부(10) 하측 외부 표면에 형성된 보호막(12)에 레이저 빔을 주사하여 소정영역의 보호막(12)을 제거함으로써 보호막 패턴(18)을 형성한 후, 상기 보호막 패턴(18)이 형성된 본체부(10) 하측을 식각액에 딥핑(Dipping)하여 습식식각함으로써 형성된 복수의 절개부(19)를 구비하는 탄성부(20)가 형성되어 있다.In addition, after forming the protective film pattern 18 on the lower end of the main body 10 by removing a protective film 12 of a predetermined region by scanning a laser beam to the protective film 12 formed on the lower outer surface of the main body 10. In addition, an elastic portion 20 having a plurality of cutouts 19 formed by dipping a lower side of the main body portion 10 on which the protective layer pattern 18 is formed into an etching solution and wet etching the same is formed.

이때, 상기 탄성부(20)의 절개부(19)는 적어도 2개 이상 구비되어 탄성부(20)가 외측으로 팽창된 후, 다시 원래의 위치로 복원될 수 있도록 함이 바람직하고, 특히 도4b에 도시된 바와 같이 복수의 절개부(19) 중의 이웃하는 절개부(19)는 서로 소정의 단차를 가짐으로써 전극패드와 접촉하는 과정에 본체부(10)의 소정부에 물리적 스트레스가 가해지는 것을 방지하도록 되어 있다.In this case, at least two cutouts 19 of the elastic part 20 are preferably provided so that the elastic part 20 can be restored to its original position after the elastic part 20 is expanded outward, in particular, FIG. 4B. As shown in FIG. 2, the neighboring cutouts 19 of the plurality of cutouts 19 have a predetermined step with each other so that physical stress is applied to a predetermined part of the main body 10 in the process of contacting the electrode pads. It is to prevent.

또한, 상기 탄성부(20)의 하단면에는 탄성부(20) 단부가 내측으로 소정각도 경사진 접촉단자(22)가 구비되어 있다.In addition, the lower end surface of the elastic portion 20 is provided with a contact terminal 22 in which the end portion of the elastic portion 20 is inclined at a predetermined angle.

상기와 같은 본 발명의 프로브 팁의 작용 효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the effect of the probe tip of the present invention as described above are as follows.

본 발명에 따른 프로브 팁(130)을 상부 보강판(122), 인쇄회로기판(120), 포고핀(126), 공간 변환기(124) 및 하부 보강판(132)를 구비한 프로브 카드의 공간 변환기(124) 하측에 설치하여 이 프로브 팁(130)이 도5a 및 도5b에 도시된 바와 같이 상부 표면이 상부로 돌출된 볼타입의 전극패드(30) 및 상부 표면이 평탄한 전극패드(32)와 접촉할때 프로브 팁(130)은 프로브카드의 조립체에 수직적으로 고정되어 수직방향으로 전극패드(30, 32)를 가압하게 된다.The probe tip 130 according to the present invention is a space transducer of a probe card having an upper reinforcement plate 122, a printed circuit board 120, a pogo pin 126, a space transducer 124, and a lower reinforcement plate 132. (124) the lower side of the probe tip 130 is a ball-type electrode pad 30, the upper surface of which protrudes upward as shown in Figs. 5A and 5B and the electrode pad 32 of which the upper surface is flat; When contacted, the probe tip 130 is vertically fixed to the assembly of the probe card to press the electrode pads 30 and 32 in the vertical direction.

그리고, 상기 전극패드(30, 32)를 가압함에 따라 프로브 팁의 탄성부(20)는 외부로 벌려지며 전극패드(30, 32)를 감싸안는 형상으로 소정길이 미끄러지며 전극패드(30, 32)와 접촉하게 된다.In addition, as the electrode pads 30 and 32 are pressed, the elastic portion 20 of the probe tip is opened to the outside and slides a predetermined length in a shape that surrounds the electrode pads 30 and 32. Contact with.

이때, 상기 탄성부(20)의 하단면은 내부 중앙에 형성된 내부홀(10a) 방향으로 경사져 있으므로 보다 용이하게 볼타입의 전극패드(30) 표면에서 미끄러지게 되며, 상기 미끄러짐 후 최종적으로 전극패드(30)와 접촉하는 접촉단자(22)는 경사져 있으므로 접촉면적이 종래보다 증가하게 된다.At this time, the bottom surface of the elastic portion 20 is inclined in the direction of the inner hole 10a formed in the inner center more easily slips on the surface of the ball-type electrode pad 30, and finally after the sliding electrode pad ( Since the contact terminal 22 in contact with 30 is inclined, the contact area is increased than before.

또한, 상기 프로브 팁의 접촉단자(22)와 전극패드(30, 32)가 접촉한 상태에서 전극패드에 소정의 전기신호를 인가하여 테스트공정을 완료한 후, 전극패드(30, 32)에 가해지는 압력이 제거되면, 상기 탄성부(20)는 자체 탄성력에 의해서 원래 위치로 복원된다.In addition, after a predetermined electrical signal is applied to the electrode pad while the contact terminal 22 of the probe tip and the electrode pads 30 and 32 are in contact with each other, the test terminal is applied to the electrode pads 30 and 32. When the losing pressure is removed, the elastic portion 20 is restored to its original position by its elastic force.

특히, 상기 탄성부(20)의 자체 탄성력에 의해서 원래 위치로 복원되는 과정에는 먼저 접촉단자(22)의 미끄러짐이 발생된 전극패드(30, 32) 부위로 다시 탄성부(20)가 이동 복원됨으로써 접촉단자(22)에 전극패드 물질이 묻어나지 않는다.In particular, in the process of restoring to its original position by the elastic force of the elastic part 20, the elastic part 20 is moved back to the electrode pads 30 and 32 where the sliding of the contact terminal 22 occurs. The electrode pad material does not adhere to the contact terminal 22.

그리고, 상기 본체부(10) 하단의 탄성부(20)는 외부로 벌려지며 볼타입의 전극패드(30)를 감싸안는 형상으로 볼타입의 전극패드(30)와 접촉함으로써 볼타입의 전극패드(30)에 용이하게 접촉할 수 있다.In addition, the elastic part 20 of the lower end of the main body 10 is opened to the outside and the ball-type electrode pad 30 in contact with the ball-type electrode pad 30 in a shape surrounding the ball-type electrode pad 30 ( 30) can be easily contacted.

또한, 본 발명에 따른 프로브 카드의 프로브 팁(130)은 수직형이므로 고밀도의 배열 설치가 가능하여 고밀도로 배열된 프로브 팁에 의해 고집적화된 전자소자의 작은 크기의 전극패드에 대응이 가능할뿐만 아니라 짧은 피치간격에도 대응이 용이하다.In addition, since the probe tip 130 of the probe card according to the present invention is vertical, it is possible to install a high-density array, so that it is possible to cope with the small size of the electrode pad of the electronic device that is highly integrated by the high-density probe tip. It is easy to cope with pitch interval.

본 발명에 의한 프로브 카드의 프보브 팁은 전극패드와 접촉시 외부로 벌려짐으로써 상부 표면이 돌출된 볼타입의 전극패드에 용이하게 대응할 수 있으며, 전기 전도성이 뛰어나며, 전극패드 물질이 접촉단자에 묻어나는 것을 방지할 수 있으며, 수직형으로써 고집적화된 전자소자에 대응이 용이한 효과가 있다.The probe tip of the probe card according to the present invention can easily correspond to the ball-type electrode pad protruding from the upper surface by contact with the electrode pad, and has excellent electrical conductivity. It can be prevented from being buried, and it is easy to cope with a highly integrated electronic device as a vertical type.

이상에서는 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술 사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the technical spirit of the present invention, and such modifications and modifications are naturally within the scope of the appended claims.

Claims (6)

다층 회로와 연결된 관통홀이 형성된 인쇄회로기판과 상기 관통홀에 삽입되어 하방으로 돌출된 탄성 재질의 전기적 접속핀과 상기 돌출된 접속핀과 연결된 공간변환기와 상기 공간변환기 하부에 수직형으로 부착된 프로브 팁과 상기 인쇄회로기판 및 공간변환기 상하부에 구비된 보강판을 구비하는 프로브 카드에 있어서,A printed circuit board having a through hole connected to a multilayer circuit, an electrical connection pin of an elastic material inserted into the through hole and protruding downward, a space converter connected to the protruding connection pin, and a probe vertically attached to a lower portion of the space converter. A probe card having a tip and a reinforcing plate provided on upper and lower portions of the printed circuit board and the space converter, 상기 프로브 팁은 탄성력을 지닌 도전성 재질로 내부홀이 구비된 마이크로 튜브로 이루어지는 본체부와 상기 본체부 하측에 형성된 복수의 절개부를 구비하는 탄성부와 상기 탄성부 하단에 구비된 접촉단자를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 프로브 카드.The probe tip is made of a conductive material having an elastic force and includes a body part formed of a microtube having an inner hole, an elastic part having a plurality of cutouts formed under the body part, and a contact terminal provided at the bottom of the elastic part. Probe card, characterized in that. 제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 튜브는 구리(Cu), 텅스텐(W), 구리 합금 및 텅스텐 합금 재질 중의 어느 하나의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 튜브를 이용한 전자소자 검사용 프로브 팁.The probe tip of claim 1, wherein the microtube is made of any one of copper (Cu), tungsten (W), a copper alloy, and a tungsten alloy material. 제 1 항에 있어서, 상기 절개부는 적어도 2개 이상 구비되는 것을 특징으로 하는 마이크로 튜브를 이용한 전자소자 검사용 프로브 팁.The probe tip of claim 1, wherein at least two cutouts are provided. 제 1 항에 있어서, 상기 탄성부는 상기 본체부 외부 표면에 형성된 보호막의 소정부에 레이저 빔을 주사하여 보호막 패턴을 형성한 후, 상기 보호막 패턴이 형성된 상기 본체부 하측을 식각액에 딥핑(Dipping)하여 습식식각함으로써 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로 튜브를 이용한 전자소자 검사용 프로브 팁.The method of claim 1, wherein the elastic portion is formed by forming a protective film pattern by scanning a laser beam on a predetermined portion of the protective film formed on the outer surface of the main body portion, and then the lower side of the main body portion on which the protective film pattern is formed in a etching solution Probe tip for electronic device inspection using a micro-tube, characterized in that formed by wet etching. 제 1 항에 있어서, 상기 접촉단자는 상기 탄성부 내측으로 소정각도 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로 튜브를 이용한 전자소자 검사용 프로브 팁.The probe tip of claim 1, wherein the contact terminal is formed to be inclined at a predetermined angle inside the elastic portion. 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 절개부 중의 이웃하는 절개부는 서로 소정의 단차를 가지며 구비된 것을 특징으로 하는 마이크로 튜브를 이용한 전자소자 검사용 프로브 팁.The probe tip of claim 1, wherein the neighboring cutouts of the plurality of cutouts have a predetermined step with each other.
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