KR20040000649A - Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same - Google Patents

Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR20040000649A
KR20040000649A KR1020020035164A KR20020035164A KR20040000649A KR 20040000649 A KR20040000649 A KR 20040000649A KR 1020020035164 A KR1020020035164 A KR 1020020035164A KR 20020035164 A KR20020035164 A KR 20020035164A KR 20040000649 A KR20040000649 A KR 20040000649A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid crystal
lower substrate
sealant
crystal display
upper substrate
Prior art date
Application number
KR1020020035164A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR100853779B1 (en
Inventor
박현탁
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020020035164A priority Critical patent/KR100853779B1/en
Publication of KR20040000649A publication Critical patent/KR20040000649A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100853779B1 publication Critical patent/KR100853779B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G02F1/133311Environmental protection, e.g. against dust or humidity
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/121Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode common or background
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel

Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display, and a method for manufacturing the same are provided to prevent a sealant from flowing into an active area and prevent an inflow of polluted liquid crystal, thereby preventing stains of liquid crystal. CONSTITUTION: A plurality of pixel areas(105) are defined by a plurality of gate lines(103) and a plurality of data lines(104) formed on a lower substrate(101). The lower substrate includes thin film transistors, pixel electrodes. An upper substrate(102) is opposite to the lower substrate, and includes a color filter for realizing R(Red), G(Green), and B(Blue) colors. Liquid crystal is formed between the lower substrate and the upper substrate. A sealant(107) is formed at an outline of an active area(106) formed of the plurality of pixel areas. A liquid crystal inflow prevention wall(108) is formed between the sealant and the active area to prevent a flow of the liquid crystal.

Description

액정표시장치 및 그 제조 방법{Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same}Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히, 액티브 영역과 씰제 사이에 액정 유입 방지 장벽을 형성함으로써 액정 얼룩불량을 방지할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which can prevent liquid crystal stain defects by forming a liquid crystal inflow preventing barrier between the active region and the sealant.

최근, 정보통신 분야의 급속한 발전으로 말미암아, 원하는 정보를 표시해 주는 디스플레이 산업의 중요성이 날로 증가하고 있으며, 현재까지 정보 디스플레이 장치 중 CRT(cathod ray tube)는 다양한 색을 표시할 수 있고, 화면의 밝기도 우수하다는 장점 때문에 지금까지 꾸준한 인기를 누려왔다.Recently, due to the rapid development of the information and communication field, the importance of the display industry for displaying desired information is increasing day by day, and to date, CRT (cathod ray tube) among information display devices can display various colors and display brightness It has also enjoyed steady popularity so far because of its superiority.

하지만, 대형, 휴대용, 고해상도 디스플레이에 대한 욕구 때문에 무게와 부피가 큰 CRT 대신에 평판 디스플레이(flat panel display) 개발이 절실히 요구되고 있다. 이러한 평판 디스플레이는 컴퓨터 모니터에서 항공기 및 우주선 등에 사용되는 디스플레이에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.However, there is an urgent need for the development of flat panel displays instead of CRTs that are bulky and bulky due to the desire for large, portable and high resolution displays. These flat panel displays have a wide range of applications from computer monitors to displays used in aircraft and spacecraft.

현재 생산 혹은 개발된 평판 디스플레이는 액정 디스플레이(liquid crystal display : LCD), 전계 발광 디스플레이(electro luminescent display : ELD), 전계방출 디스플레이(field emission display : FED), 플라즈마 디스플레이(plasma display panel : PDP) 등이 있으며, 이상적인 평판 디스플레이가 되기 위해서는 경중량, 고휘도, 고효율, 고해상도, 고속응답특성, 저구동전압, 저소비전력, 저코스트(cost) 및 천연색 디스플레이 특성 등이 요구된다. 이와 같은 평판 디스플레이 중 상기 액정표시장치는 상기 욕구뿐만 아니라 내구성 및 휴대가 간편하기 때문에 각광을 받고 있다.Currently produced or developed flat panel displays include liquid crystal display (LCD), electro luminescent display (ELD), field emission display (FED), plasma display panel (PDP), etc. In order to achieve an ideal flat panel display, light weight, high brightness, high efficiency, high resolution, high speed response characteristics, low driving voltage, low power consumption, low cost, and color display characteristics are required. Among such flat panel displays, the liquid crystal display device is in the spotlight because of its durability as well as its desire.

한편, 액정표시장치는 액정의 광학적 이방특성을 이용한 화상표시 장치로서, 전압의 인가상태에 따라 분극특성을 보이는 액정에 빛을 조사하게 되면 상기 전압인가에 따른 액정의 배향 상태에 따라 통과되는 빛의 양을 조절하여 이미지를 표현할 수 있는 장치이다.On the other hand, the liquid crystal display device is an image display device using the optical anisotropy characteristics of the liquid crystal, and when the light is irradiated to the liquid crystal exhibiting polarization characteristics according to the voltage applied state of the liquid crystal display device according to the alignment state of the liquid crystal It is a device that can express the image by adjusting the amount.

상기 액정표시장치를 구성하기 위해서는, 상기 액정층을 포함하는 액정패널과, 상기 액정패널의 주변에 구비되어 상기 액정패널에 신호를 인가하고 이러한 신호를 제어하는 회로를 더 필요로 한다.In order to configure the liquid crystal display device, a liquid crystal panel including the liquid crystal layer and a circuit disposed around the liquid crystal panel to apply a signal to the liquid crystal panel and control the signal are further required.

이하, 도면을 참조하여 일반적인 투과형 액정표시장치에 대하여 개략적으로 설명한다.Hereinafter, a general transmissive liquid crystal display device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a general liquid crystal display device.

도 1에 도시된 바와 같이, 액정표시장치는 색상을 표현하기 위한 상부 기판(11)과 하부 기판(12) 및 상기 두 기판사이에 형성된 액정층(13)으로 이루어지는 액정패널(10)과, 상기 액정패널(10) 상하에 서로 직교하도록 배치된 제 1, 제 2 편광판(14,15)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 10 including an upper substrate 11, a lower substrate 12, and a liquid crystal layer 13 formed between the two substrates to express colors, and The first and second polarizing plates 14 and 15 are disposed above and below the liquid crystal panel 10 to be perpendicular to each other.

도시하지는 않았지만, 상기 액정패널(10)의 하부에는 광원인 백라이트와 상기 백라이트로부터 조사된 빛을 투과하기 위한 도광판, 반사판, 확산판 및 프리즘을 더 포함하여 구성된다.Although not shown, the liquid crystal panel 10 further includes a backlight, which is a light source, and a light guide plate, a reflecting plate, a diffusion plate, and a prism for transmitting light emitted from the backlight.

여기서, 상기 제 1, 제 2 편광판(14,15)은 편광방향이 수직인 특성을 갖고 있다.Here, the first and second polarizing plates 14 and 15 have a characteristic in which the polarization direction is vertical.

또한, 상기 하부기판(12)은 어레이기판이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(도시하지 않음)와 화상을 표시하기 위한 화소 전극(도시하지 않음)이 매트릭스형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터를 동작시키기 위해 게이트 라인(16)과 데이터 라인(17)이 직교하도록 형성되어 있다.The lower substrate 12 may also be referred to as an array substrate, and a thin film transistor (not shown), which is a switching element, and a pixel electrode (not shown) for displaying an image are located in a matrix type. In order to operate the thin film transistor, the gate line 16 and the data line 17 are formed to be orthogonal to each other.

그리고, 상부기판(11)은 칼러필터기판이라고도 하며, 상기 게이트 라인(16), 데이터 라인(17) 및 박막트랜지스터로의 빛샘을 방지하기 위한 블랙매트릭스와, 상기 화소전극에 대응하고 R(적색), G(녹색), B(청색)의 색상을 갖는 칼라필터와, 상기 블랙매트릭스 및 칼라필터 상에 공통전극(도시되지 않음)이 형성되어 있다.The upper substrate 11 is also referred to as a color filter substrate. The upper substrate 11 corresponds to a black matrix for preventing light leakage to the gate line 16, the data line 17, and the thin film transistor, and the pixel electrode, and corresponds to R (red). A color filter having a color of G, green, and B (blue), and a common electrode (not shown) are formed on the black matrix and the color filter.

상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)에 각각 형성된 화소전극(도시하지 않음) 및 공통전극(도시하지 않음)은 상기 백라이트로부터 조사된 빛을 투과하기 위해 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide : ITO)와 같은 투명 도전금속으로 이루어져 있다.Pixel electrodes (not shown) and common electrodes (not shown) respectively formed on the lower substrate 12 and the upper substrate 11 are indium-tin oxides for transmitting light emitted from the backlight. -oxide: It is composed of transparent conductive metal such as ITO).

상기 상부 기판(11) 및 하부 기판(12)사이에 형성된 액정층(13)의 액정분자(18)들은 대향하는 상기 두 기판의 표면상에 각각 형성된 배향막(도시하지 않음)에 의해 상기 하부 기판(12)으로부터 상기 상부 기판(11)에 이르기까지 방위각이 90도 꼬여 배향되어 있다.The liquid crystal molecules 18 of the liquid crystal layer 13 formed between the upper substrate 11 and the lower substrate 12 are formed by the alignment layer (not shown) formed on the surfaces of the two substrates facing each other. The azimuth angles from 12) to the upper substrate 11 are twisted by 90 degrees.

즉, 상기 백라이트로부터 조사된 백색의 빛은 상기 제 1 편광판(14)에 의해 일방향으로 편광되고, 상기 제 1 편광판(14)에 편광된 광은 하부 기판(12) 및 액정층(13)에 굴절된다.That is, white light irradiated from the backlight is polarized in one direction by the first polarizing plate 14, and the light polarized by the first polarizing plate 14 is refracted by the lower substrate 12 and the liquid crystal layer 13. do.

이때, 도시된 바와 같이, 상기 액정층(13)에 입사된 광은 상기 액정분자(18)의 꼬임에 의해 방위각이 90도 회전하여 제 1 편광판(14)에 의해 편광된 방향에 직교하도록 굴절된다. 이와 같이, 상기 액정층(13)에서 액정분자(18)의 방위각 또는 극각을 조절하여 투과광의 세기를 조절할 수 있다.At this time, as shown, the light incident on the liquid crystal layer 13 is refracted to be orthogonal to the direction polarized by the first polarizing plate 14 by rotating the azimuth angle by 90 degrees by the twisting of the liquid crystal molecules 18. . As such, the intensity of transmitted light may be adjusted by adjusting the azimuth or polar angle of the liquid crystal molecules 18 in the liquid crystal layer 13.

또한, 액정층(13)에 의해 굴절된 백색의 광은 R.G.B 색상을 나타낼 수 있는 칼라필터(도시하지 않음)가 형성된 상부 기판(11)을 투과하고, 상기 상부 기판(11)에 의해 색상을 갖는 빛은 제 2 편광판(15)을 통과하여 화상으로 표현된다.In addition, the white light refracted by the liquid crystal layer 13 passes through the upper substrate 11 on which a color filter (not shown) capable of expressing an RGB color is formed, and the upper substrate 11 has a color. Light passes through the second polarizing plate 15 and is represented as an image.

따라서, 일반적인 액정표시장치는 백라이트로부터 조사된 광을 이용하여 편광 및 굴절시킨 후 투과광의 세기를 조절하고, 색상을 표현함으로써 화상을 구현할 수 있다.Accordingly, a general liquid crystal display device may implement an image by adjusting the intensity of transmitted light after expressing polarization and refraction using light irradiated from a backlight and expressing color.

이와 같은 종래 기술의 액정표시장치의 평면 구조에 대하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the planar structure of the liquid crystal display of the prior art as follows.

도 2는 종래 기술에 따른 액정표시장치의 평면도로서, 종래 기술의 액정표시장치는 대향하는 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)의 사이에 일방향으로 형성된 복수개의 게이트 라인(16)과, 상기 게이트 라인(16)에 수직한 복수개의 데이터 라인(17)과, 상기 게이트 라인(16) 및 데이터 라인(17)에 의해 정의되는 다수개의화소영역(20)과, 상기 다수개의 화소영역(20)으로 이루어진 액티브 영역(21)과, 상기 액티브 영역(21)의 외곽에서 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)을 합착시키기 위한 씰제(23)(Sealant)를 포함하여 구성된다.FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal display according to the prior art, and the liquid crystal display according to the prior art includes a plurality of gate lines 16 formed in one direction between the lower substrate 12 and the upper substrate 11 facing each other. A plurality of data lines 17 perpendicular to the gate lines 16, a plurality of pixel regions 20 defined by the gate lines 16 and the data lines 17, and the plurality of pixel regions 20. And a sealant 23 for bonding the lower substrate 12 and the upper substrate 11 to the outside of the active region 21.

도시하지는 않았지만, 상기 게이트 라인(16) 및 데이터 라인(17)이 교차하는 부분에 구동신호를 스위칭하기 위한 박막트랜지스터가 형성되어 있고, 상기 씰제(23)의 외곽을 따라 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)을 전기적으로 연결하기 위해 소정 간격 거리를 두고 도트(Dot) 모양으로 형성된 은 패이스트(Ag paste)를 더 포함하여 구성된다.Although not shown, a thin film transistor for switching a driving signal is formed at a portion where the gate line 16 and the data line 17 cross each other, and the lower substrate 12 and the outer portion of the sealant 23 are formed. It further comprises a silver paste formed in a dot shape at a predetermined interval distance to electrically connect the upper substrate 11.

이때, 상기 씰제(23)는 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)을 합착하는 역할뿐만 아니라, 상기 액티브 영역(21) 내의 액정(도 1의 18)을 보호하기 위해 상기 액티브 영역(21)을 감싸도록 형성되어 있다.In this case, the sealant 23 serves to bond the lower substrate 12 and the upper substrate 11 as well as the active region 21 to protect the liquid crystal (18 in FIG. 1) in the active region 21. ) Is formed to surround.

또한, 도 3은 도 2의 I~I'선상의 단면도로서, 종래 기술의 액정표시장치는 하부 기판(12) 상에 일방향으로 형성된 게이트 라인(도 2의 16)과 상기 게이트 라인(16)에서 돌출하도록 형성된 게이트 전극(31)과, 상기 게이트 전극(31)을 포함한 하부 기판(12) 전면에 형성된 게이트 절연막(32)과, 상기 게이트 전극(31)에 상측의 게이트 절연막(32)위에 섬 모양으로 형성된 반도체층(33)과, 상기 반도체층(33)의 양 가장자리에 데이터 라인(17)와 동시에 형성된 소스/드레인전극(34a)(34b)을 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 게이트전극(31), 게이트 절연막(32) 반도체층(32) 및 소스/드레인 전극(34a)(34b)으로 이루어진 박막 트랜지스터의 구조를 이룬다.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2, and the liquid crystal display device of the related art has a gate line (16 in FIG. 2) and a gate line 16 formed in one direction on the lower substrate 12. An island shape formed on the gate electrode 31 formed to protrude, the gate insulating film 32 formed on the entire surface of the lower substrate 12 including the gate electrode 31, and on the gate insulating film 32 above the gate electrode 31. And a source / drain electrodes 34a and 34b formed at the same time as the data line 17 at both edges of the semiconductor layer 33. In this case, a thin film transistor including the gate electrode 31, the gate insulating layer 32, the semiconductor layer 32, and the source / drain electrodes 34a and 34b is formed.

상기 박막트랜지스터를 포함한 하부 기판(12) 전체에 걸쳐 형성된 보호막(35)과, 상기한 보호막(35) 위에 드레인 전극(34b)과 연결되도록 형성된 화소전극(36)과, 상기 화소전극(36) 위에 액정(도 1의 18)의 규칙적인 배향을 위한 제 1 배향막(37a)을 더 포함하여 이루어진다.A passivation layer 35 formed on the entire lower substrate 12 including the thin film transistor, a pixel electrode 36 formed on the passivation layer 35 to be connected to the drain electrode 34b, and on the pixel electrode 36. It further comprises a first alignment layer 37a for regular alignment of the liquid crystal (18 in FIG. 1).

또한, 상기 상부 기판(11) 위에 상기 게이트 라인(16), 데이터 라인(17), 및 박막 트랜지스터에 상응하는 부분의 빛을 차단하기 위해 형성된 블랙매트릭스(38)와, 상기 블랙매트릭스(38) 위에 R. G. B 색상을 구현하기 위해 형성된 컬러필터(39)와, 상기 하부 기판(12)의 화소 전극(36)으로부터의 전위차를 만들기 위해 형성된 공통전극(40)과, 상기 공통전극(40) 위에 액정(도 1의 18)의 규칙적인 배향을 위해 형성된 제 2 배향막(37b)을 더 포함하여 이루어진다.In addition, a black matrix 38 formed on the upper substrate 11 to block light of portions corresponding to the gate line 16, the data line 17, and the thin film transistor, and on the black matrix 38. A color filter 39 formed to realize RG B color, a common electrode 40 formed to make a potential difference from the pixel electrode 36 of the lower substrate 12, and a liquid crystal (C) on the common electrode 40. It further comprises a second alignment layer 37b formed for the regular orientation of 18) of FIG.

그리고, 대향하는 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)의 일정공간을 유지하기 위한 스페이서(41)와, 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)의 가장자리에 상기 두 기판의 합착을 위해 형성된 씰제(23)와, 상기 씰제(23)에 둘러싸여 두 기판사이에 형성된 액정층(13)을 더 포함하여 이루어진다.In addition, the spacer 41 for maintaining a predetermined space of the lower substrate 12 and the upper substrate 11 facing each other, and the bonding of the two substrates to the edges of the lower substrate 12 and the upper substrate 11 And a liquid crystal layer 13 formed between the two substrates surrounded by the sealant 23.

여기서, 상기 액정층(13)은 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)사이에 형성되어 있고, 상기 씰제(23)에 의해 외부의 이물질로부터 보호받고, 외부로 누출되지 않도록 밀폐되어 있다.Here, the liquid crystal layer 13 is formed between the lower substrate 12 and the upper substrate 11, and is sealed by the sealant 23 to protect it from foreign matter and to prevent leakage to the outside.

이때, 상기 씰제(23)는 상기 하부 기판(12) 및 상부 기판(11)을 합착하기 위한 접착 물질로서 주로 열경화형 씰제를 사용하는 데, 상기 씰제(23)는 이온성 유기화합물로 이루어진 상기 액정과 쉽게 반응할 수 있다.In this case, the sealant 23 mainly uses a thermosetting sealant as an adhesive material for bonding the lower substrate 12 and the upper substrate 11, wherein the sealant 23 is the liquid crystal made of an ionic organic compound. Can easily react with

때문에, 종래 기술의 액정표시장치는 상기 씰제(23)를 상기 액티브 영역(21)과 소정 부분 이격(離隔)하여 형성함으로써 상기 씰제(23)에 인접한 액정(18)이 오염되더라도 상기 액티브 영역(21)의 액정(18)에 영향을 줄일 수 있다.Therefore, the liquid crystal display of the related art is formed by separating the sealant 23 from the active region 21 by a predetermined portion so that the active region 21 may be contaminated even if the liquid crystal 18 adjacent to the sealant 23 is contaminated. Can reduce the influence on the liquid crystal 18.

이와 같이 구성된 종래 기술의 액정표시장치의 제조 방법을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the manufacturing method of the conventional liquid crystal display device configured as described above is as follows.

먼저, 도전성 금속을 이용하여 하부 기판(12) 상에 일방향의 게이트 라인(16) 및 상기 게이트 라인(16)에서 돌출된 게이트 전극(31)을 형성하고, 상기 게이트 전극(31)을 포함하는 상기 하부 기판(12) 전면에 게이트 절연막(32)을 형성한다.First, the gate line 16 in one direction and the gate electrode 31 protruding from the gate line 16 are formed on the lower substrate 12 using the conductive metal, and the gate electrode 31 is formed. The gate insulating layer 32 is formed on the entire lower substrate 12.

다음, 상기 게이트 전극(31)의 상측 상기 게이트 절연막(32) 상에 섬모양으로 반도체층(33)을 형성하고, 상기 반도체층(33)의 중심에서 소정 간격을 갖고 상기 게이트 절연막(32)에 일부 오버랩 된 도전성 금속의 소스/드레인 전극(34a,34b) 및 데이터 라인(17)을 형성한다.Next, the semiconductor layer 33 is formed in an island shape on the gate insulating layer 32 on the upper side of the gate electrode 31, and has a predetermined distance from the center of the semiconductor layer 33 to the gate insulating layer 32. Some overlapping conductive metal source / drain electrodes 34a, 34b and data lines 17 are formed.

그후, 상기 드레인 전극(34b)을 포함하는 상기 하부 기판(12) 상에 보호막(35)을 형성하고, 상기 보호막(35) 상에서 상기 드레인 전극(34b)과 전기적으로 연결되도록 되고 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 도전성 투명금속을 이용하여 화소전극(36)을 형성하고, 상기 화소전극(36)이 형성된 상기 하부 기판(12) 상에 제 1 배향막(37a)을 형성한다.Thereafter, a passivation layer 35 is formed on the lower substrate 12 including the drain electrode 34b, and is electrically connected to the drain electrode 34b on the passivation layer 35 and indium tin oxide (ITO). The pixel electrode 36 is formed using a conductive transparent metal such as), and a first alignment layer 37a is formed on the lower substrate 12 on which the pixel electrode 36 is formed.

그리고, 상기 하부 기판(12)에 대향하는 상부 기판(11) 상에 상기 게이트 라인(16), 데이터 라인(17) 및 박막트랜지스터로의 빛샘을 방지하기 위해 블랙매트릭스(38)를 형성하고, 상기 블랙매트릭스(38)가 형성되지 않은 화소영역(20)에 R.G.B 색상의 안료를 이용하여 컬러필터(39)를 형성하고, 상기 컬러필터(39)가 형성된 상부 기판(11) 상에 도전성 투명금속을 이용하여 공통전극(40)을 형성한 후, 상기 공통전극(40)이 형성된 상부 기판(11) 상에 제 2 배향막(37b)을 형성한다.In addition, a black matrix 38 is formed on the upper substrate 11 facing the lower substrate 12 to prevent light leakage to the gate line 16, the data line 17, and the thin film transistor. A color filter 39 is formed using a pigment of RGB color in the pixel region 20 where the black matrix 38 is not formed, and a conductive transparent metal is formed on the upper substrate 11 on which the color filter 39 is formed. After the formation of the common electrode 40, the second alignment layer 37b is formed on the upper substrate 11 on which the common electrode 40 is formed.

마지막으로, 상기 하부 기판(12) 또는 상부 기판(11) 상에 스페이서(Spacer)(41)를 산포하고, 상기 하부 기판(12) 내지 상부 기판(11)의 외곽에 액정주입구(22)를 제외한 부분에 씰제(23)를 도포하고, 상기 두 기판을 합착하고, 복수개의 셀(Cell)(도시하지 않음)을 각각 절단하고, 진공주입법을 이용하여 상기 셀의 두 기판 사이에 액정(18)을 주입한 후, 상기 액정주입구(22)를 봉지함으로써 액정표시장치 제조 공정을 완료한다.Finally, a spacer 41 is scattered on the lower substrate 12 or the upper substrate 11, and the liquid crystal injection holes 22 are disposed outside the lower substrate 12 to the upper substrate 11. Applying a sealant 23 to the portion, bonding the two substrates, cutting a plurality of cells (not shown), respectively, and using a vacuum injection method to form a liquid crystal 18 between the two substrates of the cell After the injection, the liquid crystal injection hole 22 is sealed to complete the liquid crystal display manufacturing process.

결국, 이와 같은 종래 기술의 액정표시장치는 씰제로부터의 오염을 방지하기 위해 열경화형 씰제를 이용하여 액티브 영역으로부터 소정부분 이격 하여 상기 액티브 영역을 둘러싸도록 형성된다.As a result, the liquid crystal display of the related art is formed to surround the active region by being spaced apart from the active region by a predetermined portion using a thermosetting sealant to prevent contamination from the sealant.

그러나, 이와 같은 종래 기술의 액정표시장치는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the liquid crystal display of the prior art has the following problems.

종래 기술의 액정표시장치는 액티브 영역과 씰제 사이에 소정 부분 떨어져 형성되어 있지만, 상기 씰제와의 반응으로 오염된 액정의 유동을 차폐하는 구조물이 없어서 상기 오염된 액정이 상기 액티브 영역으로 쉽게 유입될 수 있기 때문에 액정 얼룩불량을 일으킬 수 있다.The liquid crystal display of the related art is formed a predetermined portion away from the active region and the sealant, but since there is no structure that shields the flow of the contaminated liquid crystal due to the reaction with the sealant, the contaminated liquid crystal can be easily introduced into the active region. This may cause liquid crystal stains.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 상기 액티브 영역과 씰제 사이에 액정 유입 방지 장벽을 형성함으로써 액정 얼룩불량을 줄일 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which can reduce liquid crystal stain defects by forming a liquid crystal inflow preventing barrier between the active region and the sealant. .

도 1은 일반적인 액정표시장치의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a general liquid crystal display device.

도 2는 종래 기술의 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.2 is a schematic plan view of a liquid crystal display of the prior art.

도 3는 도 1의 I~I'선상의 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

도 4는 본 발명의 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view of the liquid crystal display of the present invention.

도 5는 도 4의 Ⅱ~Ⅱ' 선상의 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 4.

도 6 내지 도 10은 도 4의 Ⅱ~Ⅱ' 선상의 제조 단면도이다.6 to 10 are sectional views taken along the line II-II 'of FIG. 4.

*도면의 주요부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *

101 : 하부 기판 102 : 상부 기판101: lower substrate 102: upper substrate

103 : 게이트 라인 104 : 데이터 라인103: gate line 104: data line

105 : 화소 영역 106 : 액티브 영역105: pixel area 106: active area

107 : 씰제 108 : 액정 유입 방지 장벽107: Sealant 108: Liquid crystal inflow prevention barrier

109 : 액정 주입구 110 : 게이트 전극109: liquid crystal injection hole 110: gate electrode

111 : 게이트 절연막 112 : 반도체층111 gate insulating film 112 semiconductor layer

113a : 소스 전극 113b : 드레인 전극113a: source electrode 113b: drain electrode

114 : 보호막 115 : 화소전극114: protective film 115: pixel electrode

116a : 제 1 배향막 116b : 제 2 배향막116a: first alignment layer 116b: second alignment layer

117 : 블랙매트릭스 118 : 컬러필터117: Black Matrix 118: Color Filter

119 : 공통전극 120 : 스페이서119: common electrode 120: spacer

121 : 액정층121: liquid crystal layer

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정표시장치는, 하부 기판 상에서 종횡으로 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인에 의해 정의되는 화소영역과, 상기 하부 기판에 대향하고 컬러필터가 형성된 상부 기판과, 상기 하부 기판 및 상부 기판의 사이에 형성된 액정과, 상기 화소영역의 외곽에 형성된 씰제와, 상기 씰제와 상기 화소영역 사이에 형성된 액정 유입 방지 장벽을 포함함을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including: a pixel region defined by a gate line and a data line formed vertically and horizontally on a lower substrate, an upper substrate opposing the lower substrate, and having a color filter; And a liquid crystal formed between the upper substrate, a seal formed on the outer side of the pixel region, and a liquid crystal inflow preventing barrier formed between the seal and the pixel region.

여기서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 컬러필터와 같은 물질이다.Here, the liquid crystal inflow preventing barrier is the same material as the color filter.

상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 칼라필터의 R.G.B 색상의 안료를 이용하여 형성된다.The liquid crystal inflow preventing barrier is formed using a pigment of R.G.B color of the color filter.

상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 액정을 주입하기 위해 형성된 액정 주입구의 씰제를 따라 형성된다.The liquid crystal inflow preventing barrier is formed along a sealant of the liquid crystal injection hole formed to inject the liquid crystal.

또한, 본 발명의 또 다른 특징은, 하부 기판에 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하여 화소영역을 형성하는 단계와, 상기 화소영역에 박막트랜지스터 및 화소 전극을 형성하는 단계와, 상부 기판 상에 컬러필터층을 형성하고 상기 화소영역의 외곽에 액정 유입 방지 장벽을 형성하는 단계와, 상기 컬러필터층 및 액정 유입 방지 장벽 상에 공통전극을 형성하는 단계와, 상기 하부 기판 및 상부 기판의 상기 액정 유입 방지 장벽 외곽에 씰제를 형성하는 단계와, 상기 하부 기판 및 상부 기판사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법이다.In addition, another aspect of the present invention, forming a pixel region by forming a gate line and a data line on the lower substrate, forming a thin film transistor and a pixel electrode in the pixel region, and a color filter layer on the upper substrate And forming a liquid crystal inflow prevention barrier on the outside of the pixel region, forming a common electrode on the color filter layer and the liquid crystal inflow prevention barrier, and surrounding the liquid crystal inflow prevention barrier of the lower substrate and the upper substrate. And forming a liquid crystal layer between the lower substrate and the upper substrate.

본 발명의 액정표시장치는 액티브 영역 외곽에 액정 유입 방지 장벽을 형성하여 액정의 유동을 막을 수 있다.In the liquid crystal display of the present invention, a liquid crystal inflow prevention barrier may be formed outside the active area to prevent the liquid crystal from flowing.

즉, 본 발명의 액정표시장치는 액티브 영역과 씰제 사이에 액정 유입 방지 장벽을 형성함으로써 상기 씰제와의 반응으로 오염된 액정이 상기 액티브 영역 내부에 유입되는 것을 방지할 수 있기 때문에 액정 얼룩불량을 방지할 수 있다.That is, the liquid crystal display device of the present invention prevents liquid crystal staining by preventing the liquid crystal contaminated by the reaction with the seal agent from flowing into the active region by forming a liquid crystal inflow preventing barrier between the active region and the sealant. can do.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 액정표시장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, the liquid crystal display of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view of a liquid crystal display according to the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 액정표시장치는 박막트랜지스터(도시하지 않음) 및 화소 전극(도시하지 않음)이 형성되는 하부 기판(101)과, 상기 하부 기판(101)에 대향하고 R.G.B 색상을 구현하기 위한 칼라필터(도시하지 않음)가 형성되는 상부 기판(102)과, 상기 하부 기판(101) 및 상부 기판(102)의 사이에 주입된 액정(도시하지 않음)과, 상기 하부 기판(101) 상에 일방향으로 형성된 복수개의 게이트 라인(103)과, 상기 게이트 라인(103)에 수직한 복수개의 데이터 라인(104)과, 상기 게이트 라인(103) 및 데이터 라인(104)에 의해 정의되는 다수개의 화소영역(105)과, 상기 하부 기판(101) 및 상부 기판(102)을 합착시키기 위해 다수개의 상기 화소영역(105)으로 이루어진 액티브 영역(106)의 외곽에서 소정 거리를 갖고 형성된 씰제(107)(sealant)와, 상기 씰제(107)와 상기 액티브 영역(106) 사이에서 액정의 유동을 막기 위해 형성된 액정 유입 방지 장벽(108)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 4, the liquid crystal display according to the present invention has a lower substrate 101 on which a thin film transistor (not shown) and a pixel electrode (not shown) are formed, and opposes the lower substrate 101 to RGB. An upper substrate 102 having a color filter (not shown) for realizing color, a liquid crystal (not shown) injected between the lower substrate 101 and the upper substrate 102, and the lower substrate. Defined by a plurality of gate lines 103 formed in one direction on the 101, a plurality of data lines 104 perpendicular to the gate line 103, the gate lines 103 and the data lines 104. Sealing agent formed at a predetermined distance from the outer periphery of the active region 106 consisting of a plurality of the pixel region 105 to bond the plurality of pixel regions 105 and the lower substrate 101 and the upper substrate 102 (107) (sealant), the sealant 107 and the liquid It is configured to include a barrier preventing the liquid crystal inlet 108 is formed to prevent the liquid flow between the probe regions 106.

이때, 액정 유입 방지 장벽(108)은 상기 씰제(107)와 상기 액티브 영역(106) 사이에 형성되는 액정의 유동을 최소화하기 위해 라인(Line) 모양으로 형성되는 더미 패턴으로서, 상기 씰제(107)에 의해 오염된 액정이 상기 액티브 영역(106)으로 유입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 액정 유입 방지 장벽(108)은 액정 주입구(109)의 씰제를 따라 형성되어 있다.In this case, the liquid crystal inflow preventing barrier 108 is a dummy pattern formed in a line shape to minimize the flow of the liquid crystal formed between the sealant 107 and the active region 106, and the sealant 107. The liquid crystal contaminated by the liquid crystal may be prevented from flowing into the active region 106. In addition, the liquid crystal inflow preventing barrier 108 is formed along the sealant of the liquid crystal injection hole 109.

따라서, 본 발명의 액정표시장치는 액티브 영역(106)과 씰제(107) 사이에 액정 유입 방지 장벽(108)을 설치함으로써 상기 씰제(107)와의 반응으로 오염된 액정이 상기 액티브 영역(106) 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있기 때문에 상기 액티브 영역(106)에서의 액정 얼룩불량을 방지할 수 있다.Accordingly, in the liquid crystal display of the present invention, a liquid crystal inflow preventing barrier 108 is provided between the active region 106 and the sealant 107 so that the liquid crystal contaminated by the reaction with the sealant 107 is inside the active region 106. Since it is possible to prevent the inflow to the liquid crystal irregularities in the active region 106 can be prevented.

또한, 상기 액정 유입 방지 장벽은 일정한 폭과 높이를 갖고, 상기 컬러필터와 같은 동일한 물질로 형성된다.In addition, the liquid crystal inflow preventing barrier has a constant width and height and is formed of the same material as the color filter.

도 5는 도 4의 Ⅱ~Ⅱ' 선상의 단면도로서, 본 발명의 액정표시장치는 하부 기판(101) 상에 일방향으로 형성된 게이트 라인(103)과 상기 게이트 라인(103)에서 돌출하도록 형성된 게이트 전극(110)과, 상기 게이트 라인(103)을 포함한 하부 기판(101) 전면에 형성된 게이트 절연막(111)과, 상기 게이트 전극(110) 상측의 게이트 절연막(111)위에 섬 모양으로 형성된 반도체층(112)과, 상기 반도체층(112)의 양 가장자리에 데이터 라인(104)을 포함하여 형성된 소스/드레인전극(113a)(113b)을 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 게이트전극(110), 게이트 절연막(111), 반도체층(112) 및 소스/드레인 전극(113a)(113b)으로 이루어진 박막트랜지스터(도시하지 않음)의 구조를 이룬다.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line II to II 'of FIG. 4, and the liquid crystal display according to the present invention includes a gate line 103 formed in one direction on the lower substrate 101 and a gate electrode formed to protrude from the gate line 103. A gate insulating layer 111 formed on the entire surface of the lower substrate 101 including the gate line 103, and a semiconductor layer 112 formed in an island shape on the gate insulating layer 111 above the gate electrode 110. And source / drain electrodes 113a and 113b including data lines 104 at both edges of the semiconductor layer 112. In this case, a thin film transistor (not shown) including the gate electrode 110, the gate insulating layer 111, the semiconductor layer 112, and the source / drain electrodes 113a and 113b is formed.

이와 같은 상기 박막트랜지스터를 포함한 하부 기판(101) 전체에 걸쳐 형성된 보호막(114)과, 상기한 보호막(114) 위에서 콘택홀(도시하지 않음)을 통하여 드레인 전극(113b)과 연결되도록 형성된 화소전극(115)과, 상기 화소전극(115) 위에서 액정(도시하지 않음)의 배향을 위한 제 1 배향막(116a)을 더 포함하여 이루어진다.The passivation layer 114 formed on the entire lower substrate 101 including the thin film transistor and the pixel electrode formed to be connected to the drain electrode 113b through the contact hole (not shown) on the passivation layer 114. 115 and a first alignment layer 116a for alignment of liquid crystal (not shown) on the pixel electrode 115.

또한, 상기 상부 기판(102) 위에 상기 화소 영역(도 4의 105)으로의 빛을 차단하기 위해 형성된 블랙매트릭스(117)와, 상기 블랙매트릭스(117) 위에 다수개의 화소 영역(105)으로 이루어진 액티브 영역(도 1의 106) 내에서 R. G. B 색상을 구현하기 위해 형성된 컬러필터(118) 및 상기 액티브 영역(106) 외곽에서 상기 컬러필터(118)와 동시에 형성된 액정 유입 방지 장벽(108)과, 상기 컬러필터(118) 및 액티브 영역(106) 상에 상기 화소 전극(115)으로부터 전위차를 만들기 위해 형성된 공통전극(119)과, 상기 공통전극(119) 위에 액정의 규칙적인 배열을 위해 형성된 제 2 배향막(116b)을 더 포함하여 이루어진다.In addition, an active layer comprising a black matrix 117 formed on the upper substrate 102 to block light to the pixel region 105 in FIG. 4, and a plurality of pixel regions 105 formed on the black matrix 117. A color filter 118 formed to implement RG B color in the region 106 of FIG. 1 and a liquid crystal inflow prevention barrier 108 formed simultaneously with the color filter 118 outside the active region 106, and A common electrode 119 formed on the color filter 118 and the active region 106 to make a potential difference from the pixel electrode 115, and a second alignment layer formed on the common electrode 119 for regular arrangement of liquid crystals; 116b is further included.

그리고, 대향하는 상기 하부 기판(101) 및 상부 기판(102)의 일정공간을 유지하기 위한 스페이서(120)와, 상기 하부 기판(101) 및 상부 기판(102)의 합착을 위해 상기 액정 유입 방지 장벽(108) 외부에 형성된 씰제(107)와, 상기 씰제(107)에 둘러싸여 두 기판사이에 형성된 액정층(121)을 더 포함하여 이루어진다.The liquid crystal inflow preventing barrier for bonding the spacer 120 to maintain a predetermined space of the lower substrate 101 and the upper substrate 102 and the lower substrate 101 and the upper substrate 102 to face each other. (108) It further comprises a sealant 107 formed on the outside, and the liquid crystal layer 121 formed between the two substrates surrounded by the sealant 107.

여기서, 상기 액정층(121)은 상기 씰제(107)에 의해 외부의 이물질로부터 보호받고, 외부로 누출되지 않도록 밀폐되어 있다.Here, the liquid crystal layer 121 is protected from foreign matter by the sealant 107 and is sealed to prevent leakage to the outside.

또한, 상기 액정 유입 방지 장벽(108)은 상기 컬러필터(118)와 동시에 상기 상부 기판(102) 상에 형성되어 상기 씰제(107)에 인접한 액정의 유동을 최소화하기 위해 일정한 높이를 갖는다.In addition, the liquid crystal inflow preventing barrier 108 is formed on the upper substrate 102 simultaneously with the color filter 118 and has a constant height to minimize the flow of the liquid crystal adjacent to the sealant 107.

이때, 상기 액정 유입 방지 장벽(108)의 높이는 상기 두 기판의 합착되는 사이 간격 이하로 형성하고, 상기 컬러필터(118)에 사용되는 R.G.B 안료를 각각 단층 또는 복층으로 형성함으로써 조절될 수 있다.In this case, the height of the liquid crystal inflow barrier 108 may be adjusted to be less than or equal to the gap between the two substrates, and the R.G.B pigments used in the color filter 118 may be adjusted in a single layer or a plurality of layers, respectively.

즉, 상기 액티브 영역(106) 내에서는 화소 영역(105)에 상기 컬러필터(118)를 R.G.B 각각의 안료를 동일 층 내에 형성하지만, 상기 액티브 영역(106) 외에서는 상기 R.G.B 각각의 안료를 적층하여 복층 구조로 형성함으로써 상기 액정 유입 방지 장벽(108)의 높이를 증가시킬 수 있다.That is, in the active region 106, the color filter 118 is formed in the same layer as the color filter 118 in the pixel region 105, but in the outside of the active region 106, the pigments of the RGB are stacked. By forming a multilayer structure, the height of the liquid crystal inflow prevention barrier 108 may be increased.

또한, 상기 R.G.B 색상 각각의 안료 중 어느 하나의 안료를 사용하여 상기 액정 유입 방지 장벽(108)을 형성하여도 무방하다.In addition, the liquid crystal inflow preventing barrier 108 may be formed using one of the pigments of each of the R.G.B colors.

이와 같이 구성된 본 발명의 액정표시장치의 제조방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.The manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention configured as described above is as follows.

도 6 내지 도 10은 본 발명의 액정표시장치의 제조 단면도이다.6 to 10 are cross-sectional views of manufacturing a liquid crystal display of the present invention.

먼저, 도 6에 도시된 바와 같이, 도전성 금속을 이용하여 하부 기판(101) 상에 일방향의 게이트 라인(도 1의 103) 및 상기 게이트 라인(103)에서 돌출된 게이트 전극(110)을 형성하고, 상기 게이트 전극(110)을 포함하는 상기 하부 기판(101) 전면에 게이트 절연막(111)을 형성하고, 상기 게이트 전극(110)의 상측 상기 게이트 절연막(111) 상에 섬모양으로 반도체층(112)을 형성하고, 상기 반도체층(112)의 중심에서 소정 간격을 갖고 상기 게이트 절연막(111)에 일부 오버랩 된 도전성 금속의 소스/드레인 전극(113a,113b) 및 데이터 라인(104)을 형성한다.First, as shown in FIG. 6, a gate line (103 in FIG. 1) and a gate electrode 110 protruding from the gate line 103 are formed on the lower substrate 101 using a conductive metal. The gate insulating layer 111 is formed over the lower substrate 101 including the gate electrode 110, and the semiconductor layer 112 is formed on the gate insulating layer 111 on the upper side of the gate electrode 110. ) And the source / drain electrodes 113a and 113b and the data line 104 of the conductive metal partially overlapping the gate insulating layer 111 at a predetermined distance from the center of the semiconductor layer 112.

다음, 상기 드레인 전극(113b)을 포함하는 상기 하부 기판(101) 상에보호막(114)을 형성하고, 상기 보호막(114) 상에서 상기 드레인 전극(113b)과 전기적으로 연결되고 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 도전성 투명금속을 이용하여 화소전극(115)을 형성하고, 상기 화소전극(115)이 형성된 상기 하부 기판(101) 상에 제 1 배향막(116a)을 형성한다.Next, a passivation layer 114 is formed on the lower substrate 101 including the drain electrode 113b, and is electrically connected to the drain electrode 113b on the passivation layer 114 and is indium tin oxide (ITO). The pixel electrode 115 is formed using a conductive transparent metal such as the first, and a first alignment layer 116a is formed on the lower substrate 101 on which the pixel electrode 115 is formed.

그리고, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 하부 기판(101)에 대향하는 상부 기판(102) 상에 상기 게이트 라인(103), 데이터 라인(104), 박막트랜지스터 및 액티브 영역(도 4의 106) 가장자리로의 빛샘을 방지하기 위해 블랙매트릭스(117)를 형성한다.As shown in FIG. 7, the gate line 103, the data line 104, the thin film transistor and the active region (106 of FIG. 4) are disposed on the upper substrate 102 facing the lower substrate 101. The black matrix 117 is formed to prevent light leakage to the edge.

그 다음, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 액티브 영역(106)의 화소영역(도 4의 105)에 R.G.B 색상을 갖도록 하기 위해 각 색상의 안료를 이용하여 컬러필터(118)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 8, the color filter 118 is formed using pigments of each color to have the R.G.B color in the pixel region (105 in FIG. 4) of the active region 106.

이때, 상기 컬러필터(118)의 형성과 동시에 상기 컬러필터(118)와 같은 R.G.B 안료를 이용하여 단층 또는 복층 구조로 상기 액티브 영역(106)의 외곽에서 상기 액티브 영역(106)을 둘러싸도록 액정 유입 방지 장벽(108)을 형성한다.In this case, at the same time as the color filter 118 is formed, the liquid crystal flows in such a manner as to surround the active region 106 at the periphery of the active region 106 in a single layer or a multilayer structure using the same RGB pigment as the color filter 118. Forming a barrier 108.

그 후, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 액정 유입 방지 장벽(108)이 형성된 상부 기판(102) 상에 도전성 투명금속을 이용하여 공통전극(119)을 형성하고, 상기 공통전극(119)이 형성된 상부 기판(102) 상에 제 2 배향막(116b)을 형성한다.Thereafter, as shown in FIG. 9, the common electrode 119 is formed on the upper substrate 102 on which the liquid crystal inflow preventing barrier 108 is formed by using a conductive transparent metal, and the common electrode 119 is formed. The second alignment layer 116b is formed on the formed upper substrate 102.

마지막으로, 상기 하부 기판(101) 또는 상부 기판(102) 상에 스페이서(120)를 산포하고, 상기 하부 기판(101) 내지 상부 기판(102)의 외곽에 액정주입구(도 1의 109)를 제외한 부분에 씰제(107)를 도포하고, 상기 두 기판을 합착하고, 복수개의 셀을 각각 절단하고, 진공주입법을 이용하여 상기 셀의 두 기판 사이에 액정을 주입한 후, 상기 액정주입구(109)를 봉지함으로써 액정표시장치 제조 공정을 완료한다.Finally, the spacer 120 is distributed on the lower substrate 101 or the upper substrate 102, except for the liquid crystal inlet (109 of FIG. 1) outside the lower substrate 101 to the upper substrate 102. Applying a sealant 107 to the part, bonding the two substrates, cutting a plurality of cells, respectively, and injecting a liquid crystal between the two substrates of the cell using a vacuum injection method, and then the liquid crystal injection hole 109 By sealing, the liquid crystal display manufacturing process is completed.

이때, 상기 액정의 주입 시 액정 주입구(109)의 씰제(107)를 따라 형성된 상기 액정 유입 방지 장벽(108)에 의해 액티브 영역(106)으로 주입되는 액정이 상기 씰제(107)에 직접 접촉하지 않기 때문에 상기 액정의 오염을 방지할 수 있다.In this case, the liquid crystal injected into the active region 106 by the liquid crystal inflow prevention barrier 108 formed along the sealant 107 of the liquid crystal injection hole 109 does not directly contact the sealant 107 when the liquid crystal is injected. Therefore, contamination of the liquid crystal can be prevented.

결국, 본 발명의 액정표시장치는 액티브 영역(106)과 씰제(107) 사이에 컬러필터(118)와 동시에 액정 유입 방지 장벽(108)을 형성함으로써 상기 액티브 영역(106) 내부로 씰제(107)의 유입을 방지하고, 오염된 액정의 유입을 방지할 수 있기 때문에 액정 얼룩불량을 방지할 수 있다.As a result, in the liquid crystal display of the present invention, the sealant 107 is formed inside the active region 106 by forming a barrier 108 for preventing the inflow of liquid crystal simultaneously with the color filter 118 between the active region 106 and the sealant 107. Can prevent the inflow of the contaminated liquid crystal and prevent the inflow of contaminated liquid crystal.

이상 상술한 바와 같이, 본 발명의 액정표시장치 및 그 제조방법은 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the liquid crystal display of the present invention and its manufacturing method have the following effects.

본 발명의 액정표시장치 및 그 제조방법은 액티브 영역과 씰제 사이에 컬러필터와 같은 안료를 이용하여 액정 유입 방지 장벽을 형성함으로써 상기 액티브 영역 내부로 씰제의 유입을 방지하고, 오염된 액정의 유입을 방지할 수 있기 때문에 액정 얼룩불량을 방지할 수 있다.The liquid crystal display of the present invention and a method of manufacturing the same prevent the inflow of the sealant into the active region by forming a barrier to prevent liquid crystal inflow using a pigment such as a color filter between the active region and the sealant, thereby preventing the inflow of contaminated liquid crystal. Since it can prevent, liquid-crystal stain defect can be prevented.

Claims (8)

하부 기판 상에서 종횡으로 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인에 의해 정의되는 화소영역과,A pixel region defined by gate lines and data lines formed vertically and horizontally on the lower substrate; 상기 하부 기판에 대향하고 컬러필터가 형성된 상부 기판과,An upper substrate facing the lower substrate and having a color filter formed thereon; 상기 하부 기판 및 상부 기판의 사이에 형성된 액정과,A liquid crystal formed between the lower substrate and the upper substrate, 상기 화소영역의 외곽에 형성된 씰제와,A sealant formed at an outer side of the pixel region; 상기 씰제와 상기 화소영역 사이에 형성된 액정 유입 방지 장벽을 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치.And a liquid crystal inflow prevention barrier formed between the sealant and the pixel region. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 컬러필터와 같은 물질임을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display of claim 1, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is made of the same material as the color filter. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 칼라필터의 R.G.B 색상의 안료를 이용하여 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is formed by using a pigment of R.G.B color of the color filter. 제 3 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 R.G.B 색상 각각의 안료 중 적어도 두 개 이상을 적층한 복층 구조로 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is formed of a multilayer structure in which at least two or more pigments of each of the R.G.B colors are stacked. 제 3 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 R.G.B 색상 각각의 안료 중 어느 하나의 색 안료를 이용한 단층으로 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is formed of a single layer using any one color pigment among the pigments of each of the R.G.B colors. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 액정을 주입하기 위해 형성된 액정 주입구의 씰제를 따라 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치The liquid crystal display of claim 1, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is formed along a sealant of a liquid crystal injection hole formed to inject the liquid crystal. 하부 기판에 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하여 화소영역을 형성하는 단계;Forming a pixel region by forming a gate line and a data line on the lower substrate; 상기 화소영역에 박막트랜지스터 및 화소 전극을 형성하는 단계;Forming a thin film transistor and a pixel electrode in the pixel region; 상부 기판 상에 컬러필터층을 형성하고 상기 화소영역의 외곽에 액정 유입 방지 장벽을 형성하는 단계;Forming a color filter layer on the upper substrate and forming a liquid crystal inflow prevention barrier outside the pixel region; 상기 컬러필터층 및 액정 유입 방지 장벽 상에 공통전극을 형성하는 단계;Forming a common electrode on the color filter layer and the liquid crystal inflow prevention barrier; 상기 하부 기판 및 상부 기판의 상기 액정 유입 방지 장벽 외곽에 씰제를 형성하는 단계;Forming a sealant outside the liquid crystal inflow barrier of the lower substrate and the upper substrate; 상기 하부 기판 및 상부 기판사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치 제조 방법.And forming a liquid crystal layer between the lower substrate and the upper substrate. 제 7 항에 있어서, 상기 액정 유입 방지 장벽은 상기 화소영역 둘레에 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치 제조 방법.8. The method of claim 7, wherein the liquid crystal inflow preventing barrier is formed around the pixel area.
KR1020020035164A 2002-06-22 2002-06-22 Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same KR100853779B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020035164A KR100853779B1 (en) 2002-06-22 2002-06-22 Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020035164A KR100853779B1 (en) 2002-06-22 2002-06-22 Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040000649A true KR20040000649A (en) 2004-01-07
KR100853779B1 KR100853779B1 (en) 2008-08-25

Family

ID=37312476

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020035164A KR100853779B1 (en) 2002-06-22 2002-06-22 Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100853779B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101681644B1 (en) 2011-10-18 2016-12-02 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal display and manufacturing method thereof
KR20180069563A (en) * 2016-12-15 2018-06-25 삼성에스디아이 주식회사 Color filter and liquid crystal display comprising the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04243229A (en) * 1991-01-18 1992-08-31 Fujitsu Ltd Liquid crystal display panel
US5335103A (en) * 1992-02-21 1994-08-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Double seal pattern for a liquid crystal device with curved ends
JPH10153785A (en) * 1996-09-26 1998-06-09 Toshiba Corp Liquid crystal display device
JP3568862B2 (en) * 1999-02-08 2004-09-22 大日本印刷株式会社 Color liquid crystal display
KR100630879B1 (en) * 1999-09-18 2006-10-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 seal printing apparatus for LCD
JP4414061B2 (en) * 2000-05-17 2010-02-10 三菱電機株式会社 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR100853779B1 (en) 2008-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2017140000A1 (en) Va type coa liquid crystal display panel
KR100313947B1 (en) Liquid crystal display
US6879353B2 (en) Array substrate for IPS mode liquid crystal display device
US7580092B2 (en) Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US7830490B2 (en) Liquid crystal display
KR20040091184A (en) In-Plane Switching Mode Liquid Crystal Display Device and the Method for Manufacturing the same
US20030067569A1 (en) Liquid crystal display panel having light impermeable layer with alignment marks
KR20030058166A (en) Liquid crystal display device
US6967703B2 (en) Liquid crystal display device and method thereof
US20100053031A1 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
KR100853779B1 (en) Liquid Crystal Display device and Method for Manufacturing the same
KR19990086094A (en) Structure of the pad portion in the liquid crystal display and a manufacturing method thereof
KR20180126732A (en) Manufacturing method of multi-panel and display device
KR100989165B1 (en) In-Plane Switching Mode Liquid Crystal Display device and method for fabricating the same
KR20050041586A (en) Liquid crystal display device
KR20050000447A (en) liquid crystal display devices
KR20080003085A (en) In plane switching mode liquid crystal display device and method of fabricating thereof
KR20030042641A (en) Liquid crystal display having conductive pillar
KR100411974B1 (en) Liquid crystal display device
KR101356618B1 (en) Color filter substrate, method of fabricating the same and liquid crystal display device including the same
KR100949491B1 (en) In-Plane Switching Mode Liquid Crystal Display device
KR101023718B1 (en) Liquid Crystal Display Device and method for fabricating the same
JP2002006328A (en) Liquid crystal display device
KR101232166B1 (en) Liquid Crystal Display Device and method for fabricating the same
KR20060091135A (en) Liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130619

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140630

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150728

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160712

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170713

Year of fee payment: 10