KR200375465Y1 - Liquid Spray Use In Polluted Gas Absorbing Apparatus - Google Patents
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Abstract
본 고안은 오염기체를 정화하기 위하여 정화용액분사관을 오염기체분사관과 수평이면서 평행이고 방사형 방향으로 오염기체분사관의 1단, 2단, 3단 각각의 단 사이에 설치하며 평면 상에서 정화용액 분사관과 오염기체 분사관의 설치비율을 2열이상 다수 설치하여, 정화용액의 적은 분출량에서도 오염기체가 와류속에서 선회흡수 분해되어 분산 소멸이 이루어지도록 하는 오염기체 정화장치용 액체분사장치에 관한 것이다. 본 액체분사장치는, 정화용액분사관(30)을 오염기체분사관(50)(50a)(50b)과 동일 평행 방사형 방향으로 수직면상에서 오염기체분사관(50)(50a)(50b)의 각각의 단 사이에 설치하며, 평면상에서 하나의 정화용액분사관(30)에 대해 오염기체분사관(50)(50a)(50b)은 적어도 2열이상 다수로 설치하여서 이루어진다. 따라서, 강약의 비산분사를 이루는 오염기체 기포가 수평면상으로 분출되는 정화용액의 량보다 더욱 많은 분사력을 이루게 하면서 높이를 다르게 하고 분사영역의 분사량을 다르게 하여 용해 흡수되는 시간이 늘어나며 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화 할 수 있으며, 동력손실을 최소화 하여 에너지전력을 경제적으로 사용할 수 있다. In order to purify the polluted gas, the purifying solution spray pipe is installed between the 1st, 2nd, and 3rd stages of the polluted gas spray pipe in the horizontal, parallel and radial directions with the polluted gas spray pipe. The installation rate of the injection pipe and the contaminant gas injection pipe is installed in two or more rows, and the liquid injection device for the contaminant gas purification device that disperses and dissipates the polluted gas by swirling and absorbing it in the vortex even with a small ejection amount of the purification solution. It is about. This liquid spraying device is used to purify the liquid injection pipe 30 into each of the contaminated gas injection pipes 50, 50a and 50b on a vertical plane in the same parallel radial direction as the contaminated gas injection pipes 50, 50a and 50b. It is installed between the stages of the condensation gas injection pipe 50, 50a, 50b for one purification solution injection pipe 30 on the plane is made by installing at least two or more rows. Therefore, the contaminated gas bubbles forming the scattering spray of strength and weakness have more spraying power than the amount of the purifying solution sprayed on the horizontal plane, while the height is increased and the spraying amount of the spraying area is changed to increase the time of dissolution and absorption. It can maximize the purification efficiency by improving the interface contact efficiency, and can use energy power economically by minimizing the power loss.
Description
본 고안은 다이옥신(Dioxin)등 유해물질 및 유해가스 또는 악취로 오염된 기체를 정화하는 정화장치의 개량에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 오염기체를 정화하기 위하여 정화용액분사관을 오염기체분사관과 수평이면서 평행이고 방사형 방향 으로 오염기체분사관의 1단, 2단, 3단 각각의 단 사이에 설치하며 평면 상에서 정화용액 분사관과 오염기체 분사관의 설치비율을 2열이상 다수 설치하여, 정화용액의 적은 분출량에서도 오염기체가 와류속에서 선회흡수 분해되어 분산 소멸이 이루어지도록 하는 오염기체 정화장치용 액체분사장치에 관한 것이다. The present invention relates to an improvement of a purification device for purifying a gas contaminated with harmful substances such as dioxins and harmful gases or odors, and more particularly, in order to purify contaminated gas, a purification solution spray pipe is connected to a polluted gas spray pipe. Horizontal, parallel and radial directions It is installed between 1st, 2nd, and 3rd stages of the contaminated gas injection pipe, and the installation ratio of the purifying solution injection pipe and the contaminating gas injection pipe is installed in two or more rows on the plane. The present invention relates to a liquid spraying device for a polluting gas purification device in which a polluting gas is swirled and absorbed in a vortex to disperse and dissipate.
일반적으로 다이옥신과 이산화황가스 등의 오염기체는 대기 중에 방출되어 대기오염이 날로 악화됨은 물론 유해성분에 의한 인체의 건강악화가 급증하는 추세에 있다. In general, pollutants such as dioxins and sulfur dioxide gases are released into the air, which leads to deterioration of air pollution and the deterioration of human health due to harmful components.
이러한 오염된 기체를 정화하기 위한 정화장치가 여러 형태로 제안되어 사용되고 있다. Purifiers for purifying the contaminated gas have been proposed and used in various forms.
종래에 소개되어 있는 정화장치는 대부분 시설미비 및 정화효율이 저하되어 제대로 사용을 다하지 못하는 비경제적인 문제가 있으며, 대한민국 특허공보 제91-447호에 소개되어 있는 기술에 있어서도 원주형수조 내부에 정화용액을 분사하여 와류를 형성시키고 와류와 동일방향으로 오염기체를 분사하여 줌으로써 오염기체의 기포가 길고 가늘게 되다가 소멸되도록 하여 정화용액에 오염기체가 용해되는 것이다. Most of the purification devices introduced in the related art have an uneconomical problem in that they are not fully used due to poor facilities and deterioration of purification efficiency, and in the technology described in Korean Patent Publication No. 91-447, the purification solution inside the columnar water tank. By forming a vortex to form a vortex and by spraying a contaminant gas in the same direction as the vortex, the contaminant gas is dissolved in the purifying solution so that the bubbles of the contaminating gas become long and thin and then disappear.
그러나 오염기체가 기포로 된 후, 회전하면서 상승하는 길이가 매우 길게 되어 정화용액과 접촉하는 시간이 습식 정화장치에 비하여 연장되어 오염기체의 유해성분이 정화용액에 효과적으로 흡수되므로 종래의 습식 정화장치에 비하여 정화효율을 향상시키고 설비의 크기를 줄일 수 있도록 개선되어 있으나, 엄격해진 환경기준에 맞는 정화기능이 되지 못하여 대량처리가 미흡하고, 또한 점유면적에 비례하 여 과다한 시공이 이루어지는 문제가 있다. However, after the polluted gas becomes bubbles, the length of the rising as it rotates becomes very long, and the contact time with the purifying solution is extended compared to the wet purifying device, so that harmful components of the polluting gas are effectively absorbed by the purifying solution, compared to the conventional wet purifying apparatus. It has been improved to improve the purification efficiency and to reduce the size of the facility, but it does not have the purification function that meets the stricter environmental standards, so that the bulk processing is insufficient, and it is proportional to the occupied area. There is a problem of excessive construction.
이러한 문제점을 해결하기 위해 정화기능을 향상시키면서 설비를 더욱 컴팩트화 할 수 있는 오염기체분사장치가 국내 공개특허공보 공개번호 특2000-012164호에 소개되고 있으며, 이는 분출형식이 한정되고 있어서 오염기체 기포의 부력에 의한 상승시간을 보다 길게 할 수 없고, 오염기체분사시 기포의 비표면적을 더욱 크게 하여 정화효율을 극대화하는데 한계가 있으며, 정화용액 내에서 기포의 소멸거리가 길게 되어 설비의 크기를 줄일 수 없는 문제가 있다. In order to solve this problem, a polluted gas spraying device capable of further compacting the facility while improving the purification function has been introduced in Korean Laid-Open Patent Publication No. 2000-012164, which has a limited ejection type, which causes polluted gas bubbles. The rise time due to the buoyancy can't be longer, and the specific surface area of the bubble is increased to maximize the purification efficiency during the spraying of the polluted gas, and the extinction distance of the bubble in the purification solution is long, reducing the size of the equipment. There is no problem.
그리고, 물질 혼합방법 및 장치가 국내 특허등록 제 0225048호에 소개 되고 있으며, 이는 동일 수평선 상에서 분출하는 제1물질과 제2물질이 교차적으로 분사하므로 혼합이 결여되는 구조를 가지게 되고 특히 상하단으로 분사를 이루면서 분사노즐 상하부로 선회하는 흐름을 만들고 일부분사에 의해 부딪치는 것으로 소형와류에 의한 확산운동을 유도하지만 분사각도가 항상 전방의 관체 상하면에 부딪치는 분사를 이루게 되므로 기포의 비표면적을 더욱 크게 하여 정화효율을 극대화하는데 한계가 있으며, 정화용액 내에서 기포의 소멸거리가 길게 되어 설비의 크기를 줄일 수 없는 문제가 있다. In addition, a material mixing method and apparatus are introduced in Korean Patent Registration No. 0225048, which has a structure that lacks mixing because the first material and the second material that are ejected on the same horizontal line cross-batch, and in particular, spray the upper and lower ends. While forming the flow turning up and down the injection nozzle and bumping by partial yarn, it induces the diffusion movement by small vortex, but the injection angle always makes the injection to hit the upper and lower body of the front tube, so the specific surface area of the bubble is increased. There is a limit to maximize the purification efficiency, there is a problem that can not reduce the size of the facility because the extinction distance of bubbles in the purification solution is long.
또한, 제1물질과 제2물질의 분사량이 같아져서 불필요한 과다 방사로 인해 동력손실에 따른 에너지전력 손실이 있으며 1:1 배열 구성으로 이루어지고 있어서 흡수 효율이 떨어지는 문제점이 있다. In addition, since the injection amount of the first material and the second material is the same, there is an energy power loss due to power loss due to unnecessary excessive radiation, and the absorption efficiency is lowered because it is made of a 1: 1 arrangement.
한편, 본원 출원인의 실용신안 등록 제232174호에서와 같은 오염기체 정화장치용 기체분사장치와 같이 오염기체분사관의 수직면상과 수평면상에 복수개 설치되 어 있는 분사노즐에 의하여 정화액의 와류 속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사를 이루도록 되어 있으나, 비산각도가 하향분사방향으로 집중되어 있기 때문에 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율이 극대화 되지 못하는 문제가 있다. On the other hand, as in the gas injection device for polluting gas purification device as in the Utility Model Registration No. 232174 of the present applicant, a plurality of installed on the vertical plane and horizontal plane of the polluted gas injection pipe Although the spray nozzles are designed to achieve strong spraying in the same direction in the vortex of the purifying liquid, the scattering angle is concentrated in the downward spraying direction. .
본 고안은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 정화를 위해 분출된 오염기체 기포가 수평면상으로 분출되는 정화용액의 량보다 더욱 많은 분사력을 이루게 하면서 높이를 다르게 하고 분사영역의 분사량을 다르게 하여 용해 흡수되는 시간이 늘어나며 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화 할 수 있으며, 동력손실을 최소화 하여 에너지전력을 경제적으로 사용할 수 있는 오염기체 정화장치용 액체 분사장치를 제공하는데 있다. The present invention has been devised to solve such a conventional problem, and the height of the spraying area is changed while changing the height while making the spraying gas bubbles for purifying achieve more spraying power than the amount of purifying solution sprayed on the horizontal plane. By differently increasing the time of dissolution and absorption, it is possible to maximize the purification efficiency by improving the interfacial contact efficiency of microbubbles and purification liquids, and to provide a liquid injection device for pollutant gas purification device that can use energy power economically by minimizing power loss. It is.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 기술적 특징은 정화용액의 와류가 회전하는 원주형수조는 환형급기관 내부에 설치 되고, 그 내부에 방사상으로 설치된 다수의 오염기체분사관에 일방향으로 다수의 노즐을 형성시키며 상기 오염기체분사관과 환형급기관이 연통되도록 하고, 또한 원주형수조 내부에 다수의 정화 용액분사관을 입설하고 일방향으로 다수의 노즐을 수평선상으로 배열하며 다수의 정화용액분사관에 펌프를 연결하고 원주형수조의 중심에 정화용액이 일류 할 수 있는 보조수조가 설치되는 오염기체 정화장치에 있어서, 상기 정화용액분사관을 오염기체분사관과 동일 평행 방사형 방향으로 수평면상에서 오염기체분사관의 각각의 단 사이에 설치하며, 평면상에서 하나의 정화용액분사관에 대해 오염기체분사관은 적어도 2열이상 다수로 설치하여 구성되어 있다. Technical features of the present invention for achieving the above object is a columnar tank in which the vortex of the purification solution rotates is installed inside the annular supply pipe, and a plurality of nozzles in one direction to a plurality of polluting gas spray pipes radially installed therein. The contaminant gas injection pipe and the annular supply pipe are in communication with each other. Also, a plurality of purification solution injection pipes are placed in the columnar water tank, and a plurality of nozzles are arranged in one direction on a horizontal line, and a plurality of purification solution injection pipes are pumped. In the contaminated gas purification device is installed in the center of the columnar tank to purify the solution first, the purge solution spray pipe in the horizontal plane in the same parallel radial direction to the contaminated gas spray pipe of the contaminated gas spray pipe It is installed between each stage, and at least two rows of contaminated gas injection pipes for one purification solution injection pipe on the plane. It is constructed by installing a.
이하, 본 고안을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 고안에 의한 액체분사장치가 적용된 정화장치를 사시도로 도시하고, 도 2는 본 고안에 의한 액체분사장치의 작동상태를 요부 구성도로 도시하고 있다. 1 is a perspective view showing a purifying device to which a liquid injection device according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a main configuration diagram showing an operating state of the liquid injection device according to the present invention.
도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 본 고안의 오염기체 정화장치용 액체분사장치는 원주형수조(15) 내부에 정화용액을 분사하여 와류를 형성시키고 와류와 동일 방향으로 팬(fan)으로 압송되어진 오염기체를 분사하여 기포를 소멸 정화시키도록 구성된다. 1 to 2, the liquid jetting device for contaminant gas purifying apparatus of the present invention forms a vortex by spraying a purifying solution into the columnar water tank 15, and moves to a fan in the same direction as the vortex. It is configured to extinguish and purify the bubbles by injecting the contaminated gas is compressed.
상기 원주형수조(15)는 환형급기관(40) 내부에 설치되고 있으며 그 내부에는 방사상으로 설치된 다수의 오염기체분사관(50)(50a)(50b)에 일방향으로 노즐(52)(54a)(54b)(56a)(56b)(56c)이 형성되어 있다. 그리고 상기 오염기체분사관(50)(50a)(50b)과 환형급기관(40)은 연통되고 또한 원주형수조(15) 내부에 정화용액을 분사하기 위한 다수의 정화용액분사관(30)을 평행하게 방사형태로 설치하고 있으며, 일방향으로 다수의 노즐(32)을 배열하며 원주형수조(15)의 중심에 정화용액이 일류할 수 있는 보조수조(20)가 설치되는 오염기체정화장치(100)가 구비된다. The columnar water tank 15 is installed in the annular air supply pipe 40, and the nozzles 52, 54a in one direction to a plurality of polluted gas spray pipes 50, 50a, 50b radially installed therein. 54b, 56a, 56b and 56c are formed. In addition, the polluted gas injection pipes 50, 50a, 50b and the annular supply pipe 40 are in communication with each other, and a plurality of purification solution injection pipes 30 for injecting the purification solution into the columnar water tank 15 are provided. It is installed in parallel in a radial shape, polluting gas purifying apparatus 100 in which a plurality of nozzles 32 are arranged in one direction, and an auxiliary water tank 20 in which a purification solution can be placed first in the center of the columnar water tank 15 is installed. ) Is provided.
상기 보조수조(20)는 정화용액이 와류로 회전하는 원주형수조(15)의 중앙에 세워져 소정기준이상의 넘침을 예방하고 있다. The auxiliary water tank 20 is built in the center of the columnar water tank 15 in which the purification solution rotates in a vortex to prevent overflow of a predetermined standard or more.
상기 정화용액분사관(30)을 오염기체분사관(50)(50a)(50b)과 동일 평행 방사형 방향으로 수직면상에서 오염기체분사관(50)(50a)(50b)의 각각의 단 사이에 설치 하고 있으며 평면상에서 하나의 정화용액분사관(30)에 대해 오염기체분사관(50)(50a)(50b)은 적어도 2열이상 다수로 설치하고 있다. The purification solution injection pipe 30 is installed between the respective stages of the polluted gas injection pipes 50, 50a, 50b on the vertical plane in the same parallel radial direction as the polluted gas injection pipes 50, 50a, 50b. The contaminated gas injection pipes 50, 50a and 50b are provided in at least two rows with respect to one purification solution injection pipe 30 on a plane.
상기 오염기체분사관(50)(50a)에는 하부경사노즐(52)(54a)(54b)이 마련되어 있으며 상단부 오염기체분사관(50)에는 하나의 하부경사노즐(52)이 마련되고 중단부 오염기체분사관(50a)에는 한 쌍의 하부경사노즐(54a)(54b)이 마련되어 있다. The lower inclined nozzles 52, 54a and 54b are provided in the contaminated gas ejection pipes 50 and 50a, and one lower inclined nozzle 52 is provided in the upper contaminated gas ejection pipe 50 and the stop part is contaminated. The gas injection pipe 50a is provided with a pair of lower inclined nozzles 54a and 54b.
그리고 하단부 오염기체분사관(50b)에는 상부경사노즐(56a)과, 수평노즐(56b) 및 하부경사노즐(56c)마련되어 있다. The lower contaminant gas spray pipe 50b is provided with an upper inclined nozzle 56a, a horizontal nozzle 56b, and a lower inclined nozzle 56c.
상기 하부, 상부 및 수평노즐(52)(54a)(54b)(56a)(56b)(56c)등은 하나의 오염기체분사관(50)(50a)(50b)의 일측 가장자리 소정영역에 각각 형성되어 소정의 오염기체분사를 이루도록 형성되어 있다. The lower, upper, and horizontal nozzles 52, 54a, 54b, 56a, 56b, 56c, and the like are respectively formed in predetermined regions on one side edge of one contaminated gas ejection pipe 50, 50a, 50b. Thus, it is formed to achieve a predetermined polluted gas injection.
한편, 각단의 오염기체 분사량은 정화용액의 와류상태에서 각각 동일량이 분사되게 하거나 아래단으로 내려 갈수록 분사량이 증가 되도록 분사노즐의 숫자를 증가시키고 정화용액분사관(30)과 오염기체분사관(50)(50a)(50b)의 분사방향은 시계방향이든지 반시계방향이든지 일방향으로 설치되어 구성할 수 있을 것이다. On the other hand, the injection amount of polluting gas at each stage increases the number of injection nozzles so that the same amount is injected in the vortex state of the purification solution or the injection amount is increased as it goes down to the lower stage, and the purification solution injection pipe 30 and the pollution gas injection pipe 50 The injection direction of 50a and 50b may be installed in one direction, whether clockwise or counterclockwise.
이와 같은 구성으로 이루어진 본 고안의 기체분사장치의 작동은 도 2에 도시된 바와 같이 용액분사관(30)에서 분출되는 정화용액은 원주형수조(15)내에 와류를 형성하고, 상, 중, 하단으로 배열되어 있는 오염기체분사관(50)(50a)(50b)에서 분사되는 오염기체가 기포로 되어 상기 와류에 의해 회전되면서 흡수, 용해된다. Operation of the gas injection device of the present invention having such a configuration as shown in Figure 2, the purification solution ejected from the solution injection pipe 30 forms a vortex in the columnar water tank 15, the upper, middle, lower The polluted gas sprayed from the polluted gas ejection pipes 50, 50a and 50b arranged in the form of bubbles is absorbed and dissolved while being rotated by the vortex.
본 고안에서는 정화용액을 분사하는 용액분사관(30)의 사이에 상기 오염기체 분사관(50)(50a)(50b)을 3단으로 배열하고 적어도 하나 이상 동일수평면상에 설치 되어 각각의 하부경사노즐(52)(54a)(54b)(56c)과 상부경사노즐(56a)및 수평노즐(56b)을 통하여 오염기체가 하향과 수평 그리고 상향 등으로 분사 및 비산되고 있으므로 무수한 작은 기포체(B)가 생성되고, 그 기포체(B)는 용액분출관(30)에서 분출되는 정화용액의 와류에 의하여 회전되면서 신속한 파괴로 무수히 많고 작은 기포가 제거되고, 이에 따라 분사되었던 오염기체의 유해물질이 정화용액에 반응하여 정화를 이루게 된다. In the present invention, the polluted gas injection pipes 50, 50a and 50b are arranged in three stages between the solution injection pipes 30 for injecting the purification solution, and at least one of them is installed on the same horizontal plane. The lower inclined nozzles 52, 54a, 54b and 56c, and the upper inclined nozzle 56a and the horizontal nozzle 56b are sprayed and scattered downward, horizontally and upwardly. Bubble body (B) is produced, and the bubble body (B) is rotated by the vortex of the purifying solution ejected from the solution ejection pipe (30) to remove numerous and small bubbles due to rapid destruction, and thus the contaminated gas that has been injected. Hazardous substances react with the purification solution to achieve purification.
이러한 정화과정은 정화용액이 용액분사관(30)을 통하여 수평분사됨과 동시에 그 분사력을 기초로 원주형수조(15)내에서 와류를 형성하게 되고, 오염기체는 상기 용액분사관(30)의 사이에 배열된 오염기체분사관(50)(50a)(50b)을 통하여 분사되는데 최상단에 배치되어 있는 상단 오염기체분사관(50)에는 하향으로만 분사될 수 있는 하부경사노즐(52)이 1열로 설치되고, 중단 오염기체분사관(50a)에는 하향으로만 분사될 수 있는 하부경사노즐(54a)(54b)가 반부채살모양으로 하향분사를 이루게 되어 정화용액의 분사력을 방해하지 않고 강력한 와류 형성을 이루게 되어 상부에서 오염기체가 하부로 양호하게 공급된다. In this purification process, the purification solution is sprayed horizontally through the solution injection pipe 30 and at the same time forms a vortex in the columnar water tank 15 based on the injection force, and the contaminated gas is interposed between the solution injection pipe 30. The lower inclined nozzle 52 which can be sprayed only downward is injected into the upper polluted gas injector 50 disposed at the top thereof through the polluted gas injector 50, 50a and 50b arranged in the first row. The lower inclined nozzles 54a and 54b, which can be sprayed downward only, are installed in the suspended polluting gas spray pipe 50a so as to spray downwardly in half-shape shape to form a strong vortex without disturbing the injection force of the purification solution. The contaminant gas is well supplied from the top to the bottom.
또한 하단에 배치되어 있는 하단기체분사관(50b)에는 상부와 수평중심방향 및 하부방향으로 있는 상부경사노즐(56a)와 수평노즐(56b) 및 하부경사노즐(56c)가 1열로 설치되어 있어서 반부채살모양으로 분사를 이루게 되어 강력한 분사력으로 와류를 일으키게 되므로 기포체(B)의 생성을 극대화하여 용액분사관(30)에서 분사되는 정화용액과의 정화효율을 극대화하고, 오염기체의 기포 소멸거리를 축소할 수 있다. In addition, the lower gas injection pipe 50b disposed at the lower side is provided with an upper inclined nozzle 56a, a horizontal nozzle 56b, and a lower inclined nozzle 56c arranged in one row in an upper direction, a horizontal center direction, and a lower direction. Since the spray is made in the shape of a fan, vortices are generated by the powerful spraying force, thus maximizing the generation of the bubble body (B) to maximize the purification efficiency with the purification solution sprayed from the solution injection pipe (30), and the bubble extinction distance of the contaminated gas. Can be shrunk.
따라서 정화용액의 와류상태에서 오염기체분사관(50)(50a)(50b)이 1단, 2단, 3단의 각 단에서 분사량을 동일하게 한다. 이때 각 단의 오염기체분사관(50)(50a)(50b)의 분사노즐(52)(54a)(54b)(56a)(56b)(56c)에서 분사속도는 1단〉2단〉3단〉으로 하고, 분사노즐(52)(54a)(54b)(56a)(56b)(56c)의 면적은 1단〈2단〈3단으로 한다. Therefore, in the vortex state of the purification solution, the pollutant gas injection pipes 50, 50a and 50b have the same injection amount at each stage of the first, second and third stages. At this time, the spraying speeds of the spray nozzles 52, 54a, 54b, 56a, 56b and 56c of the pollutant gas injection pipes 50, 50a and 50b of each stage are 1 stage> 2 stage> 3 stage >, And the area of the spray nozzles 52, 54a, 54b, 56a, 56b, 56c is set to 1 stage <2 stage <3 stage.
이러한 정화용액의 와류 속에서 오염기체의 분사거리가 1단〉2단〉3단이 되어 기존보다 기액 접촉길이 및 시간이 길어지고, 경사부 상하 기포는 분사관의 공간부에서 많은 충돌분산 흡수되므로서 종래보다 정화효율이 증가 된다. In the vortex of the purification solution, the spraying distance of the contaminated gas becomes 1 stage> 2 stage> 3 stage, and the gas liquid contact length and time are longer than before. As a result, the purification efficiency is increased.
한편, 본 고안의 오염기체분사관(50)(50a)(50b)은 도 2에서와 같이 용액분사관(30)의 사이에 배치되고 최상단 1단은 오염기체분사관(50)의 수평중심선에서 하방향으로 1열로 하부경사노즐(52)을 설치하며 그 아래 2단에는 수평 중심선에서 하방향으로 2열로 하부경사노즐(54a)(54b)을 설치하며, 3단에는 수평중심선에서 상방향으로 1열로 상부경사노즐(56a)과, 수평중심방향으로 1열로 수평노즐(56b)과, 하방향으로 1열로 하부경사노즐(56c)을 설치하므로 하부경사노즐(52)은 1열로 하여 오염기체분사관(50)의 하부로 약한 분사가 이루어지도록 하고 2단에는 하향경사노즐(54a)(54b)이 2열로 설치되어 반부채살모양으로 하향분사만을 이루게 되어 강력한 분사력으로 와류를 일으키게 되므로 기포체(B)의 생성을 극대화하여 용액분사관(30)에서 분사되는 정화용액과 정화효율을 극대화한다. Meanwhile, the contaminated gas spray pipes 50, 50a and 50b of the present invention are disposed between the solution spray pipes 30 as shown in FIG. 2, and the uppermost stage 1 is located at the horizontal center line of the polluted gas spray pipe 50. Install the lower inclined nozzle 52 in one row in the downward direction, and install the lower inclined nozzles 54a and 54b in two rows below the horizontal center line in the lower two stages, and in the upper direction from the horizontal center line in the third stage. Since the row inclined nozzle 56a, the horizontal nozzle 56b in one row in the horizontal center direction, and the lower inclined nozzle 56c in one row in the downward direction are installed, the lower inclined nozzle 52 is arranged in one row to contaminate the gas spray pipe. The lower part of the (50) to make a weak injection and the second inclined nozzles (54a) (54b) in the second stage is installed in two rows to form a half-deck only downward injection to create a vortex with a strong blowing force (B) Purification solution and purification efficiency sprayed from the solution injection pipe 30 by maximizing the production of It maximizes.
또한 3단에는 상부로 분사를 이루는 상부경사노즐(56a)과 수평분사를 이루는 수평노즐(56b)와 하방분사를 이루는 하부경사노즐(56c)이 각각 1열로 배치되어 있 어서 상중하단의 분사를 동시에 이루게 되므로 오염기체의 기포가 정화용액에서 용해흡수진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체의 표면과의 계면 접촉효율이 향상(비표면적 증대)되므로 정화효율을 극대화 할 수 있다. In addition, in three stages, an upper inclined nozzle 56a for jetting upward, a horizontal nozzle 56b for horizontal injection and a lower inclined nozzle 56c for downward injection are arranged in one row, respectively. As the upper and lower ends are sprayed at the same time, bubbles of contaminated gas are dissolved and absorbed in the purifying solution, increasing the time, and the interface contact efficiency between the surface of the micro bubble and the surface of the purifying liquid is improved (specific surface area is increased), thereby maximizing the purification efficiency. can do.
따라서 정화용액의 와류상태에서 오염기체분사관(50)(50a)(50b) 1단,2단,3단의 각단의 오염기체분사량을 1단인 상단에서 3단인 하단으로 내려갈수록 증가시킨다. 이때 각단의 오염기체분사노즐(50)(50a)(50b)에서 분사속도는 1단〉2단〉3단이 되게 하고 상부 및 하부와 수평의 분사노즐(52)(54a)(54b)(56a)(56b)(56c)의 면적은 1단〈2단〈3단으로 한다. Therefore, in the vortex state of the purification solution, the polluted gas injection amount of each stage of the first, second, and third stages of the polluted gas jet pipes 50, 50a, 50b is increased from the top of the first stage to the bottom of the third stage. At this time, the spraying speeds of the spray nozzles 50, 50a and 50b of each stage are 1 stage> 2 stages> three stages, and the injection nozzles 52,54a, 54b (56a) of the upper and lower sides are horizontal. The area | region of (56b) (56c) shall be 1 step | paragraph <2 step | paragraphs.
이러한 정화용액의 와류속에서 오염기체의 분사거리가 1단〉2단〉3단이 되어 기존보다 기액접촉길이 및 시간이 길어지고, 경사부 상하 기포는 분사관에 충돌분산흡수 되므로서 정화효율이 증가된다. In the vortex of the purifying solution, the spraying distance of the contaminated gas becomes 1 stage> 2 stage> 3 stage, and the gas-liquid contact length and time is longer than before. Is increased.
이상과 같이, 본 고안은 정화용액의 와류속에서 일부는 같은 방향으로 일부는 다른 방향등으로 나누어져 강약의 비산분사를 이루는 오염기체 기포가 수평면상으로 분출되는 정화용액의 량보다 더욱 많은 분사력을 이루게 하면서 높이를 다르게 하고 분사영역의 분사량을 다르게 하여 용해 흡수되는 시간이 늘어나며 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화 할 수 있으며, 동력손실을 최소화 하여 에너지전력을 경제적으로 사용할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention provides a greater blowing force than the amount of the purification solution in which contaminated gas bubbles are scattered in the same direction and some are divided into different directions in the vortex of the purification solution, and the air bubbles are scattered in the horizontal plane. By increasing the height and by varying the injection volume of the injection zone, the time to dissolve and increase is increased. The interfacial contact efficiency of microbubbles and purifying liquids can be improved to maximize the purification efficiency, and the energy loss can be used economically by minimizing the power loss. It has an effect.
도 1은 본 고안에 의한 액체분사장치가 적용된 정화장치의 사시도 이고, 1 is a perspective view of a purification apparatus to which a liquid injection device according to the present invention is applied,
도 2는 본 고안에 의한 액체분사장치의 작동을 설명하는 요부 구성도 이다. 2 is a main configuration diagram illustrating the operation of the liquid spraying device according to the present invention.
- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명- -Explanation of the symbols for the main parts of the drawings-
15 : 원주형수조 20 : 보조수조 15: columnar tank 20: auxiliary tank
30 : 정화용액분사관 40 : 환형급기관 30: purification solution injection pipe 40: annular supply pipe
50,50a,50b ; 오염기체분사관 50,50a, 50b; Polluted gas injector
52,54a,54b,56c : 하부경사노즐 52,54a, 54b, 56c: Lower inclined nozzle
56b : 수평분사노즐 56a : 상부경사노즐 56b: Horizontal spray nozzle 56a: Upper slant nozzle
100 : 오염기체정화장치 B : 기포체 100: pollutant gas purification device B: bubble
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