KR100483576B1 - Gas Spray Use In Polluted Gas Absorbing Apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 오염기체를 정화하기 위하여 정화장치 내로 분출되는 오염기체의 분사방향을 계면접촉효율을 향상시켜 기포가 소멸될 수 있는 방향으로 선정하여 정화효율을 극대화하고, 오염기체의 기포 소멸거리를 축소하여 정화장치의 설비 규모를 적게 할 수 있는 오염기체 정화장치용 기체분사장치에 관한 것이다. 본 기체분사장치는 복수개의 오염기체분사관(50)(50a)(50b)은 수직면상에 다단으로 배치하고 상기 용액분사관(30)의 분사방향과 동일 수평면상으로 복수개의 분사노즐을 설치하되, 상단 오염기체분사관(50)에는 하나의 하부경사노즐(60)과, 중단 오염기체분사관(50a)에는 복수개의 하향경사노즐(70a)(70b)과, 하단 오염기체분사관(50b)에는 복수개의 상부경사노즐(80a)과 수평분사노즐(80b)을 부착하여 이루어진다. 이에 따라, 정화용액의 와류 속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사 또는 역경사 분사를 이루는 오염기체 기포가 정화용액에서 용해 흡수 진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체의 표면과의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화할 수 있음과 동시에, 특히 오염기체 기포의 소멸거리의 축소로 종래의 정화장치보다 설비의 크기를 줄이게 됨은 물론 대량의 오염기체를 정화할 수 있다.The present invention selects the spraying direction of the contaminated gas ejected into the purification apparatus to improve the interfacial contact efficiency to purify the contaminated gas to maximize the purification efficiency by reducing the bubble extinction distance of the contaminated gas The present invention relates to a gas injection device for a pollutant gas purification device, which can reduce the installation scale of a purification device. The gas injection device has a plurality of pollutant gas injection pipes 50, 50a, 50b arranged in multiple stages on a vertical plane, and a plurality of injection nozzles are installed on the same horizontal plane as the injection direction of the solution injection pipe 30. The lower contaminant gas injection pipe 50 has one lower inclined nozzle 60, the suspended contaminant gas injection pipe 50a has a plurality of downwardly inclined nozzles 70a and 70b and a lower contaminant gas injection pipe 50b. It is made by attaching a plurality of upper inclined nozzle (80a) and the horizontal spray nozzle (80b). As a result, the time that the contaminating gas bubbles, which make up the scattering or reverse inclination injection of the strong and weak in the vortex of the purification solution, is increased and dissolved in the purification solution, and the interface contact efficiency between the surface of the micro bubble and the surface of the purification liquid is increased. In addition, the purification efficiency can be maximized and at the same time, the reduction in the extinction distance of the contaminant gas bubbles can reduce the size of the facility compared to the conventional purifier, as well as purify a large amount of contaminated gas.
Description
본 발명은 다이옥신(Dioxin)등 유해물질 및 유해가스 또는 악취로 오염된 기체를 정화하기 위한 정화장치의 개량에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 오염기체를 정화하기 위하여 정화장치 내로 분출되는 오염기체의 분사방향을 계면접촉효율을 향상시켜 기포가 소멸될 수 있는 방향으로 선정하여 정화효율을 극대화하고, 오염기체의 기포 소멸거리를 축소하여 정화장치의 설비 규모를 적게 할 수 있는 오염기체 정화장치용 기체분사장치에 관한 것이다.The present invention relates to an improvement of a purifier for purifying a gas contaminated with harmful substances such as dioxins and harmful gases or odors, and more particularly, injection of a polluted gas ejected into a purifier to purify polluted gases. Direction is selected as the direction in which bubbles can disappear by improving the interfacial contact efficiency, maximizing the purification efficiency, and reducing the bubble extinction distance of the polluted gas to reduce the equipment size of the purification device. Relates to a device.
일반적으로 다이옥신과 이산화황가스 등의 오염기체는 대기 중에 방출되어 대기오염이 날로 악화됨은 물론 유해성분에 의한 인체의 건강악화가 급증하는 추세에 있다.In general, pollutants such as dioxins and sulfur dioxide gases are released into the air, which leads to deterioration of air pollution and the deterioration of human health due to harmful components.
이러한 오염된 기체를 정화하기 위한 정화장치가 여러 형태로 제안되어 사용되고 있다.Purifiers for purifying the contaminated gas have been proposed and used in various forms.
종래에 소개되어 있는 정화장치는 대부분 시설미비 및 정화효율이 저하되어 제대로 사용을 다하지 못하는 비경제적인 문제가 있으며, 대한민국 특허공보 제91-447호에 소개되어 있는 기술에 있어서도 원주형수조 내부에 정화용액을 분사하여 와류를 형성시키고 와류와 동일방향으로 오염기체를 분사하여 줌으로써 오염기체의 기포가 길고 가늘게 되다가 소멸되도록 하여 정화용액에 오염기체가 용해되는 것이다.Most of the purification devices introduced in the related art have an uneconomical problem in that they are not fully used due to poor facilities and deterioration of purification efficiency, and in the technology described in Korean Patent Publication No. 91-447, the purification solution inside the columnar water tank. By forming a vortex to form a vortex and by spraying a contaminant gas in the same direction as the vortex, the contaminant gas is dissolved in the purifying solution so that the bubbles of the contaminating gas become long and thin and then disappear.
그러나 오염기체가 기포로 된 후, 회전하면서 상승하는 길이가 매우 길게 되어 정화용액과 접촉하는 시간이 습식정화장치에 비하여 연장되어 오염기체의 유해성분이 정화용액에 효과적으로 흡수되므로 종래의 습식 정화장치에 비하여 정화효율을 향상시키고 설비의 크기를 줄일 수 있도록 개선되어 있으나, 엄격해진 환경기준에 맞는 정화기능이 되지 못하여 대량처리가 미흡하고, 또한 점유면적에 비례하여 과다한 시공이 이루어지는 문제가 있다.However, after the contaminated gas becomes bubbles, the length of the rising as it rotates becomes very long, and the contact time with the purifying solution is extended compared to the wet purifying apparatus, so that harmful components of the contaminating gas are effectively absorbed by the purifying solution, compared to the conventional wet purifying apparatus. Although it has been improved to improve the purification efficiency and reduce the size of the facility, there is a problem that the large capacity is insufficient due to the purification function that does not meet the stricter environmental standards, and the excessive construction in proportion to the occupied area.
이러한 문제점을 해결하기 위해 정화기능을 향상시키면 설비를 더욱 컴팩트화 할 수 있는 오염기체분사장치가 대한민국 공개특허공보 공개번호 특2000-012164호에 소개되고 있으며, 이는 분출형식이 한정되고 있어서 오염기체 기포의 부력에 의한 상승시간을 보다 길게 할 수 없고, 오염기체분사시 기포의 비표면적을 더욱 크게 하여 정화효율을 극대화하는데 한계가 있으며, 정화용액 내에서 기포의 소멸거리가 길게 되어 설비의 크기를 줄일 수 없는 문제가 있다.In order to solve this problem, a polluted gas spraying device capable of further compacting a facility by improving the purification function is introduced in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2000-012164. The rise time due to the buoyancy can't be longer, and the specific surface area of the bubble is increased to maximize the purification efficiency during the spraying of the polluted gas, and the extinction distance of the bubble in the purification solution is long, reducing the size of the equipment. There is no problem.
또한 본원 출원인의 실용신안 등록 제232174호에서와 같은 오염기체 정화장치용 기체분사장치와 같이 오염기체분사관의 수직면상과 수평면상에 복수개 설치되어 있는 분사노즐에 의하여 정화액의 와류 속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사를 이루도록 되어 있으나, 비산각도가 하향분사방향으로 집중되어 있기 때문에 와류만 커질 뿐 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율이 극대화되지 못하는 문제가 있다.In addition, in the same direction in the vortex of the purifying liquid by the spray nozzles provided on the vertical plane and the horizontal plane of the polluting gas injection pipe, such as the gas injection device for the polluting gas purifying device as in the Utility Model Registration No. 232174 of the present applicant. Although it is supposed to achieve the scattering spray of the strength and weakness, since the scattering angle is concentrated in the downward spraying direction, only the vortex becomes large and there is a problem that the interfacial contact efficiency of the microbubble and the purification liquid is not maximized.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 정화를 위해 분출된 오염기체 기포가 수평면상으로 분출되는 정화용액에 대하여 복수의 분사력이 다르게 함으로써 용해 흡수되는 시간이 늘어나며 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화 할 수 있으며, 오염기체 기포의 소멸거리를 축소하여 설비의 크기를 줄여 규격을 컴팩트화 할 수 있는 오염기체 정화장치용 기체분사장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, by increasing the time that is dissolved and absorbed by a plurality of different injection force for the purifying solution is sprayed to the purifying solution is sprayed on the horizontal plane, the fine bubbles and the purifying liquid It is possible to maximize the purification efficiency by improving the interfacial contact efficiency, and to reduce the size of the facility by reducing the extinction distance of the polluting gas bubbles, and to provide a gas injection device for the polluting gas purification device that can compact the size.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 특징은 정화용액이 와류로 회전하는 원주형 수조와, 그 원주형수조에 세워 설치되어 정화용액을 분사하는 용액분사관과, 용액분사관의 사이에 복수개 설치되는 오염기체분사관에 있어서, 상기 복수개의 오염기체분사관은 수직면상에 다단으로 배치하고 상기 용액분사관의 분사방향과 동일 방향과 역방향으로 수평면상에 복수개의 분사노즐을 설치하되, 상단 오염기체분사관에는 하나의 하부경사노즐과, 중단 오염기체분사관에는 복수개의 하향경사노즐과, 하단 오염기체분사관에는 상부경사노즐과 수평분사노즐을 부착하여 이루어지는 오염기체 정화장치용 기체분사장치가 제공된다Technical features of the present invention for achieving the above object is provided between a plurality of tanks and a solution injection tube for spraying the purification solution is installed in the columnar tank, the purification solution is rotated in the vortex, the tank and the solution injection pipe In the polluted gas spray pipe, the plurality of polluted gas spray pipes may be arranged in multiple stages on a vertical plane, and a plurality of spray nozzles may be installed on the horizontal plane in the same direction as the spray direction of the solution spray pipe. There is provided a single inclined nozzle in the officer's office, a plurality of downward inclined nozzles in the suspended polluting gas injector, and a gas injector for the contaminated gas purifier, which is attached to the lower inclined gas injector by attaching an upper inclined nozzle and a horizontal spray nozzle.
여기서 상기 오염기체분사관은 상기 용액분사관의 사이에 배치되고 상단기체분사관은 복수개의 하부경사노즐이, 하단 기체분사관은 복수개의 하부경사노즐과 하나의 상부분사노즐이 부착되어 역경사분사를 이루도록 구성되어 있다.The contaminated gas spray pipe is disposed between the solution spray pipe, the upper gas spray pipe has a plurality of lower inclined nozzles, and the lower gas spray pipe has a plurality of lower inclined nozzles and one upper spray nozzle attached thereto. It is configured to achieve.
이하, 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described in detail.
도 1은 본 발명에 의한 기체분사장치가 적용된 정화장치를 사시도로 도시하고, 도 2는 본 발명에 의한 기체분사장치의 작동상태를 요부 구성도로 도시하고 있다.1 is a perspective view showing a purifier to which the gas injection device according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a main configuration diagram showing an operating state of the gas injection device according to the present invention.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 오염기체 정화장치용 기체분사장치는 정화용액이 와류로 회전하는 원주형수조(15)의 중앙에 세워져 소정기준이상의 넘침을 예방하기 위한 보조수조(20)가 마련되어 있고, 상기 원주형수조(15)에 세워 설치되어 정화용액을 분사하기 위한 용액분사관(30)에 정화용액을 분사하기 위한 펌프(P)가 연결되어 있으며, 상기 원주형수조(15)의 둘레에 배치된 환형급기관(40)에 연통되어 원주형수조(15)내부에 설치된 오염기체분사관(50)(50a)(50b)을 포함하는 오염기체정화장치(100)가 구성되어 있다.As shown in Figures 1 and 2, the gas injection device for contaminant gas purification apparatus of the present invention is built in the center of the columnar water tank (15) in which the purification solution rotates in a vortex, an auxiliary water tank for preventing the overflow of a predetermined standard or more. 20 is provided, the pump (P) for injecting the purification solution to the solution injection pipe 30 for injecting the purification solution is installed in the columnar water tank (15) is connected, the cylindrical water tank The polluting gas purifying apparatus (100), which includes a polluting gas spray pipe (50) (50a) and (50b) installed in the columnar water tank (15) in communication with the annular supply pipe (40) arranged around the (15), Consists of.
오염기체분사관(50)(50a)(50b)은 상기 용액분사관(30)의 사이에서 동일 수직면상으로 1단 이상으로 배열되어 있으며, 적어도 하나 이상 동일 수평면상에 설치되어 있고, 하부경사노즐(60)과 하향경사노즐(70a)(70b), 상부경사노즐(80a)과 수평분사노즐(80b)이 배치되어 있다.The contaminated gas spray pipes 50, 50a and 50b are arranged in one or more stages on the same vertical plane between the solution spray pipes 30, at least one of which is installed on the same horizontal plane, and has a lower slope nozzle. 60, downwardly inclined nozzles 70a and 70b, upper inclined nozzles 80a and horizontal spray nozzles 80b are arranged.
그리고 상단 오염기체분사관(50)에는 하나의 하부경사노즐(60)이 설치되어 있으며, 중단 오염기체분사관(50a)에는 복수개의 하향경사노즐(70a)(70b)이 부착되어 있으며, 하단 오염기체분사관(50b)에는 복수개의 상부경사노즐(80a)과 수평분사노즐(80b)이 부착되어 있다.In addition, one lower inclined nozzle 60 is installed in the upper polluted gas spray pipe 50, and a plurality of downwardly inclined nozzles 70a and 70b are attached to the suspended polluted gas spray pipe 50a and contaminated at the bottom. A plurality of upper inclination nozzles 80a and a horizontal injection nozzle 80b are attached to the gas injection pipe 50b.
또한 본 발명에서는 도 3에서와 같이 상하단 오염기체분사관(90)(90a)을 상기 용액분사관(30)의 사이에 배치하고, 여기서 상단기체분사관(90)은 복수개의 하부경사노즐(62)(62a)이 설치되어 있으며, 하단 기체분사관(90a)은 복수개의 하부경사노즐(64a)(64b)과, 하나의 상부분사노즐(66)이 병행하여 부착되어 역경사분사와 기체와 액체가 서로 엇비슷하게 마주보게 이루어지도옥 구성되는 형태로 이루어진다.In addition, in the present invention, as shown in FIG. 3, the upper and lower contaminant gas injection pipes 90 and 90a are disposed between the solution injection pipes 30, and the upper gas injection pipes 90 are provided with a plurality of lower inclination nozzles 62. (62a) is installed, the lower gas injection pipe (90a) is a plurality of lower inclination nozzles (64a, 64b) and one upper injection nozzle (66) are attached in parallel to the reverse slope injection, gas and liquid They are made to face each other in a similar way.
이와 같은 구성으로 이루어진 본 발명의 기체분사장치의 작동은 도 2에 도시된 바와 같이 용액분사관(30)에서 분출되는 정화용액은 원주형수조(15)내에 와류를 형성하고, 상,중,하단으로 배열되어 있는 오염기체분사관(50)(50a)(50b)에서 분사되는 오염기체가 기포로 되어 상기 와류에 회전되면서 흡수, 용해된다.In the operation of the gas injection device of the present invention having such a configuration, as shown in FIG. 2, the purification solution ejected from the solution injection pipe 30 forms a vortex in the columnar water tank 15, and the upper, middle and lower ends. The polluted gas sprayed from the polluted gas spray pipes 50, 50a and 50b arranged in the form becomes bubbles and is absorbed and dissolved while rotating in the vortex.
본 발명에서는 정화용액을 분사하는 용액분사관(30)의 사이에 상기 오염기체분사관(50)(50a)(50b)을 3단으로 배열하고 적어도 하나 이상 동일수평면상에 설치되어 각각의 상하부 및 하향경사노즐(60)(70a)(70b)(80a)과 수평분사노즐(80b)을 통하여 오염기체를 하향 또는 수평 및 상향을 향해 분사 및 비산되도록 함으로써 무수한 작은 기포체(B)가 생성되고, 그 기포체(B)는 용액분출관(30)에서 분출되는 정화용액의 와류에 의하여 회전되면서 신속한 파괴로 무수히 많고 작은 기포가 제거되고, 이에 따라 분사되었던 오염기체의 유해물질이 정화용액에 반응하여 정화를 이루게 된다.In the present invention, the polluted gas injection pipes 50, 50a and 50b are arranged in three stages between the solution injection pipes 30 for injecting the purification solution, and at least one of the upper and lower parts is installed on the same horizontal plane. Countless small bubbles (B) are generated by spraying and scattering contaminated gas downward or horizontally and upwardly through downward inclined nozzles 60, 70a, 70b, 80a and horizontal spray nozzles 80b. The bubble (B) is rotated by the vortex of the purification solution ejected from the solution ejection pipe 30, the myriad of small bubbles are removed by rapid destruction, and the harmful substances of the contaminated gas that has been sprayed in response to the purification solution Purification is achieved.
이러한 정화과정은 정화용액이 용액분출관(30)을 통하여 수평분사됨과 동시에 그 분사력을 기초로 원주형수조(15)내에서 와류를 형성하게 되고, 오염기체는 상기 용액분사관(30)의 사이에 배열된 오염기체분사관(50)(50a)(50b)을 통하여 분사되는데 최상단에 배치되어 있는 상단 오염기체분사관(50)에는 하방향으로만 분사될 수 있는 하부경사노즐(60)이 1열로 설치되어 반부채살모양으로 하향분사를 이루게 되어 정화용액의 분사력을 방해하지 않고 와류 형성을 이루게 되어 있다.In this purification process, the clarification solution is horizontally sprayed through the solution ejection pipe 30 and simultaneously forms a vortex in the columnar water tank 15 based on the injection force, and the contaminated gas is interposed between the solution spray pipe 30. The lower inclined nozzle 60, which can be sprayed only downward, is injected into the upper polluted gas injector 50 disposed at the top thereof through the polluted gas injector 50, 50a and 50b arranged in the upper portion. It is installed with heat and is sprayed downward in half-shape shape to form vortex without disturbing the injection force of the purification solution.
또한 중단에 배치되어 있는 중단 기체분사관(50a)에는 하향으로 분사될 수 있는 하향분사노즐이 2열로 설치되어 반부채살모양으로 하향분사를 이루게 되어 강력한 분사력으로 와류를 일으키게 되므로 기포체(B)의 생성을 극대화하여 용액분사관(30)에서 분사되는 정화용액과의 정화효율을 극대화하고, 오염기체의 기포 소멸거리를 축소할 수 있다.In addition, the gas spray pipe 50a disposed at the middle of the bubble body B is provided with two rows of downward spray nozzles that can be sprayed downward to form a half jet-shaped downward spray, causing vortices with a strong blowing force. By maximizing the production can be maximized the purification efficiency with the purification solution injected from the solution injection pipe 30, it is possible to reduce the bubble extinction distance of the contaminated gas.
그리고 하단에 배치되어 있는 오염기체분사관(50b)에는 수평방향과 상방향으로 분사될 수 있는 상부경사노즐(80a)과 수평분사노즐(80b)이 설치되어 부채살모양으로 수평과 상하향분사를 이루게 하여 상기 하향경사노즐(70a)(70b)의 분사력과 편승하는 분사력으로 오염기체분사관(50a)(50b)의 사이로 강한분사력을 이루게 되어 정화용액에 의하여 정화를 이루게 되고, 하부경사노즐(60)은 1열로 하여 오염기체분사관(50)의 하부로 약한 분사가 이루어지도록하여 오염기체의 강약분사로 와류에 의한 기포분쇄를 더욱 촉진하게 된다.In addition, the upper inclined nozzle 80a and the horizontal spray nozzle 80b, which can be sprayed in the horizontal direction and the upper direction, are installed in the polluted gas spray pipe 50b disposed at the bottom to form horizontal and vertical sprays in the shape of a fan. The jetting force of the downward inclination nozzles (70a, 70b) and the jetting force of piggybacking to achieve a strong injection force between the polluting gas injection pipe (50a, 50b) is to be purified by the purification solution, the lower inclination nozzle (60) In a single row, a weak spray is made to the lower portion of the polluted gas ejection pipe 50, thereby further promoting bubble pulverization due to vortices due to the strong and weak spraying of the polluted gas.
한편, 본 발명의 오염기체분사관(90)(90a)은 도 3에서와 같이 용액분사관(30)의 사이에 배치되고 상단 기체분사관(90)은 복수개의 하부경사노즐(62)(62a)이 배치되어 있으며 하단 기체분사관(90a)에는 복수개의 하부경사노즐(64a)(64b)과 하나의 상부분사노즐(66)이 부착되어 역경사분사로 분사되어 용액분사관(30)에서 분사되는 정화용액과 엇 비슷하게 마주치는 충돌현상을 극대화함으로써 기포의 분쇄가 촉진되며 오염기체의 기포가 정화용액에서 용해흡수진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체의 표면과의 계면 접촉효율이 향상(비표면적 증대)되므로 정화효율을 극대화 할 수 있다.Meanwhile, the polluted gas spray pipes 90 and 90a of the present invention are disposed between the solution spray pipes 30 as shown in FIG. 3 and the upper gas spray pipes 90 are provided with a plurality of lower slope nozzles 62 and 62a. And a plurality of lower inclination nozzles 64a and 64b and one upper injection nozzle 66 are attached to the lower gas injection pipe 90a and sprayed in reverse inclination injection to be injected from the solution injection pipe 30. By maximizing the collision phenomenon that is similar to the purifying solution, the pulverization of bubbles is promoted, the time taken for the bubbles of contaminated gas to be dissolved and absorbed in the purifying solution increases, and the interface contact efficiency between the surface of the fine bubble and the surface of the purifying liquid is improved. As the specific surface area is increased), the purification efficiency can be maximized.
이상과 같이, 본 발명은 정화용액의 와류속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사나 또는 역경사 분사를 이루는 오염기체 기포가 정화용액에서 용해 흡수 진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체의 표면과의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화할 수 있음과 동시에, 특히 오염기체 기포의 소멸거리의 축소로 종래의 정화장치보다 설비의 크기를 줄이게 됨은 물론 대량의 오염기체를 정화할 수 있는 효과가 제공된다.As described above, the present invention increases the time that the contaminated gas bubbles dissolving and absorbing in the purification solution are increased in the same direction in the vortex of the purification solution, or in the same direction. In addition to improving the interfacial contact efficiency, the purification efficiency can be maximized. In addition, the reduction in the extinction distance of the contaminant gas bubbles reduces the size of the facility compared to the conventional purifier, as well as the effect of purifying a large amount of contaminated gas. Is provided.
도 1은 본 발명에 의한 기체분사장치가 적용된 정화장치의 사시도이고,1 is a perspective view of a purifier to which a gas injection device according to the present invention is applied;
도 2는 본 발명에 의한 기체분사장치의 작동을 설명하는 요부 구성도이고,2 is a main configuration diagram illustrating the operation of the gas injection device according to the present invention;
도 3은 본 발명에 의한 기체분사장치의 다른 실시예의 요부 구성도이다.3 is a main structural diagram of another embodiment of the gas injection apparatus according to the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
15 : 원주형수조 20 : 보조수조15: columnar tank 20: auxiliary tank
30 : 용액순환관 40 : 환형급기관30: solution circulation tube 40: annular supply pipe
50,50a,50b,90,90a : 오염기체분사관 60,62a,62b,64a,64b : 하부경사노즐50,50a, 50b, 90,90a: Polluted gas injector 60,62a, 62b, 64a, 64b: Lower inclined nozzle
66 : 상부분사노즐 70a,70b : 하향경사노즐66: upper injection nozzle 70a, 70b: downward inclination nozzle
80a : 상부경사노즐 80b : 수평분사노즐80a: Upper inclined nozzle 80b: Horizontal spray nozzle
100 : 오염기체정화장치100: pollutant gas purification device
P : 펌프 B : 기포체P: Pump B: Bubble
Claims (2)
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| KR10-2002-0084104A KR100483576B1 (en) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | Gas Spray Use In Polluted Gas Absorbing Apparatus |
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