KR200232174Y1 - Pollutant Gas Spray Apparatus for Purifying Pollutant Gases - Google Patents

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KR200232174Y1
KR200232174Y1 KR2020010005111U KR20010005111U KR200232174Y1 KR 200232174 Y1 KR200232174 Y1 KR 200232174Y1 KR 2020010005111 U KR2020010005111 U KR 2020010005111U KR 20010005111 U KR20010005111 U KR 20010005111U KR 200232174 Y1 KR200232174 Y1 KR 200232174Y1
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purifying
purification
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임정홍
윤영철
임정채
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아니코산업 주식회사
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Abstract

본 고안은 다이옥신(dioxin)등 유해물질 및 유해가스 또는 악취로 오염된 기체를 정화하기 위한 오염기체 정화장치용 기체분사장치에 관한 것이다. 본 기체분사장치는 용액분사관의 사이에 오염기체분사관이 1단이상이며 적어도 하나이상 동일수평면상에 배치하고, 상기 오염기체분사관에 분사노즐을 배치하되, 최상단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 하방으로 경사지게 하부경사노즐을 설치하며, 또한 설치위치는 용액 상부면에서 오염기체분사관 입구직경의 1배이상 깊숙이 설치하고,하단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 상방향과 하방향으로 경사지게 상,하부경사노즐을 설치하여 이루어진다. 이에 따라 정화용액의 와류속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사를 이루는 오염기체 기포가 정화용액에서 용해 흡수 진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체 표면과의 계면접촉효율을 향상시켜 기포가 소멸됨으로써 정화효율을 극대화 할 수 있음과 동시에, 특히 오염기체 기포의 소멸거리 축소로 종래의 정화장치보다 설비의 크기를 줄이게 됨은 물론 대량의 오염기체를 정화할 수 있는 것이다.The present invention relates to a gas injection device for a pollutant gas purification device for purifying a gas contaminated with harmful substances such as dioxin and harmful gases or odors. This gas spraying device has one or more stages of contaminated gas ejection pipes and at least one or more contaminant gas ejection pipes, and spray nozzles are arranged on the contaminating gas ejection pipes. The lower inclined nozzle is installed to be inclined downward from the top, and the installation position is installed at least 1 times deeper than the inlet diameter of the polluted gas injector at the upper surface of the solution, and the upper polluted gas injector is inclined upward and downward from the horizontal center line. This is achieved by installing a lower inclined nozzle. As a result, contaminant gas bubbles forming strong and scattered sprays in the same direction in the vortex of the purifying solution increase the time for dissolution and absorption in the purifying solution, and improve the interfacial contact efficiency between the surface of the microbubble and the purifying liquid and the bubbles disappear. By maximizing the purification efficiency, and in particular, by reducing the extinction distance of the polluting gas bubbles, it is possible to reduce the size of the installation compared to the conventional purification device, as well as to clean a large amount of polluted gas.

Description

오염기체 정화장치용 기체분사장치{Pollutant Gas Spray Apparatus for Purifying Pollutant Gases}Gollutant Gas Spray Apparatus for Purifying Pollutant Gases

본 고안은 다이옥신(dioxin)등 유해물질 및 유해가스 또는 악취로 오염된 기체를 정화하기 위한 정화장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 오염기체를 정화하기 위하여 정화장치 내에서 분출되는 오염기체의 분사가 계면접촉효율을 향상시켜 기포가 소멸됨으로써 정화효율을 극대화하고, 오염기체의 기포 소멸거리를 축소하여 정화장치 설비의 크기를 적게할 수 있도록 하는 오염기체 정화장치용 기체분사장치에 관한 것이다.The present invention relates to a purifier for purifying harmful substances such as dioxin and gases contaminated with toxic gases or odors, and more particularly, the injection of polluted gas ejected from the purifier to purify polluted gases. The present invention relates to a gas injection device for a pollutant gas purification device, which can maximize the purification efficiency by improving the interfacial contact efficiency and reduce the size of the purification device by reducing the bubble extinction distance of the polluted gas.

일반적으로 다이옥신과 이산화황가스 등의 오염기체는 대기중에 방출되어 대기오염이 날로 악화 됨은 물론 유해성분에 의한 인체의 건강악화가 급증하는 추세에 있다.In general, polluting gases such as dioxins and sulfur dioxide gas are released into the air, causing air pollution to deteriorate day by day, as well as the deterioration of human health due to harmful components.

이러한 오염된 기체를 정화하기 위한 정화장치가 여러형태로 제안된 바 있다.Purifiers for purifying such contaminated gas have been proposed in various forms.

종래에 소개되어 있는 정화장치는 대부분 오염기체 정화장치가 시설미비 및 정화효율이 저하되어 제대로 사용을 다하지 못하는 비경제적인 문제가 있다.Purifiers introduced in the related art have an uneconomic problem in which most pollutant gas purifiers are not fully used due to poor facility and purification efficiency.

이러한 문제점을 개선하기 위한 기술이 대한 민국 특허공보 제91-447호에 게재되어 있다.Techniques for remedy this problem are disclosed in Korean Patent Publication No. 91-447.

상기 인용기술은 원주형수조 내부에 정화용액을 분사하여 와류를 형성시키고 와류와 동일방향으로 오염기체를 분사하여 줌으로써 오염기체의 기포가 길고 가늘게 되다가 소멸되도록 함으로써 정화용액에 오염기체가 용해되는 것이다.The above-mentioned technology is to form a vortex by injecting a purification solution into the columnar water tank, and by spraying a contaminant gas in the same direction as the vortex, so that the bubbles of the contaminating gas become long and thin and then disappear to dissolve the contaminating gas in the purification solution.

그러나 오염기체가 기포로 된 후, 회전하면서 상승하는 길이가 매우 길게 되어 정화용액과 접촉하는 시간이 습식정화장치에 비하여 연장되어 오염기체의 유해성분이 정화용액에 효과적으로 흡수되므로 종래의 습식 정화장치에 비하여 정화효율을 향상시키고 설비의 크기를 줄일 수 있게 개선되어 있으나, 엄격해진 환경기준에 맞는 정화기능이 되지 못하여 대량처리가 미흡하고, 또한 점유면적에 비례하여과다한 시공이 이루어지는 문제가 있다.However, after the contaminated gas becomes bubbles, the length of the rising as it rotates becomes very long, and the contact time with the purifying solution is extended compared to the wet purifying apparatus, so that harmful components of the contaminating gas are effectively absorbed by the purifying solution, compared to the conventional wet purifying apparatus. Although it has been improved to improve the purification efficiency and reduce the size of the facility, there is a problem that the large capacity is insufficient due to the purification function to meet the stricter environmental standards, and also excessive construction in proportion to the occupied area.

이러한 문제점을 해결하기 위해 정화기능을 향상시키면 설비를 더욱 컴팩트화 할 수 있는 오염기체분사장치가 대한민국 공개특허공보 공개번호 특2000-012164호에 소개되고 있으며, 이를 도 1로 도시하였다.In order to solve this problem, a polluted gas spraying device capable of further compacting the facility by improving the purification function is introduced in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2000-012164, which is illustrated in FIG.

도 1에 도시된 바와 같이 인용 기술은 원주형수조(1) 내부에 설치된 오염기체분사관(7)의 중심 수평선상에서 상방과 하방의 위치에 상, 하분사노즐(8)(9)을 설치하여 오염기체분사시 전방의 오염기체분사관(7)에 입사된 방향에 직각에 가까운 각도로 반사, 비산되도록 하며, 이러한 용액분사관(4)의 노즐(10)의 배치위치가 상하로 배열된 오염기체분사관(7)의 사이에 있도록 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, the cited technique is provided with the upper and lower spray nozzles 8 and 9 at positions up and down on the central horizontal line of the polluting gas spray pipe 7 installed inside the columnar tank 1. When the polluted gas is sprayed, it is reflected and scattered at an angle close to the direction perpendicular to the direction incident to the polluted gas ejection tube 7 in front, and the arrangement of the nozzle 10 of the solution spray tube 4 is arranged up and down. It is comprised so that it may be between the gas injection pipes 7.

상기 인용기술은 용액분사관(4)에서 분사되는 정화용액에 의하여 원주형수조(1)내에 와류가 형성되고, 이에 오염기체분사관(7)에 의하여 분사되는 오염기체가 분사됨과 동시에 전방에 설치된 오염기체분사관(7)에 부딪혀 입사방향과 직각에 가까운 각도로 비산되면서 부채살모양으로 퍼지며, 이 때 무수한 작은 기포체(A)가 생성되고, 이러한 기포체(A)는 정화용액에 의한 와류에 의하여 회전되면서 신속하게 파괴되어 무수히 많은 작은 기포가 제거되고, 이에 따라 분사되었던 오염기체중 유해물질이 정화용액에 반응하여 흡수, 용해, 흡착되는 것이다.In the cited technique, a vortex is formed in the columnar water tank 1 by the purification solution injected from the solution injection pipe 4, and contaminant gas injected by the polluting gas injection pipe 7 is sprayed and installed at the front. It hits the polluted gas injector 7 and scatters in a fan shape while being scattered at an angle close to the direction of incidence. In this case, a myriad of small bubbles A are generated, and these bubbles A are subjected to the vortex caused by the purification solution. As it rotates, it is rapidly destroyed and numerous small bubbles are removed. Accordingly, harmful substances in the contaminated gas are absorbed, dissolved, and adsorbed in response to the purification solution.

그러나 이와 같은 인용기술은 분출형식이 한정되고 있어서 오염기체 기포의 부력에 의한 상승시간을 보다 길게 할 수 없고, 오염기체분사시 기포의 비표면적을 더욱 크게하여 정화효율을 극대화하는데 한계가 있으며, 정화용액 내에서 기포의 소멸거리가 길게 되어 설비의 크기를 줄일 수 없는 문제가 있다.However, this citation technique is limited in the type of ejection, so that the rise time due to the buoyancy of the contaminated gas bubbles can not be longer, and the specific surface area of the bubble during the contaminant gas spray is increased to limit the maximum purification efficiency. The extinction distance of the bubbles in the solution is long, there is a problem that can not reduce the size of the equipment.

본 고안은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 정화를 위해 분출된 오염기체 기포가 정화용액에 용해흡수되는 시간이 늘어나며 미세기포와 정화액체의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화할 수 있으며, 오염기체 기포의 소멸거리를 축소하여 설비의 크기를 줄여 규격을 컴팩트화 할 수 있는 오염기체 정화장치용 기체분사장치를 제공하는데 있다.The present invention was created to solve such a conventional problem, and the time that the polluted gas bubbles ejected for purification are dissolved and absorbed in the purification solution increases, and the interface contact efficiency of the fine bubbles and the purification liquid is improved to maximize the purification efficiency. In addition, it is possible to reduce the extinction distance of the polluting gas bubbles to reduce the size of the facility to provide a gas injection device for a pollutant gas purification device that can compact the specifications.

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 기술적 특징은 정화용액이 공급되는 원주형수조와, 그 원주형수조에 세워 설치되어 정화 용액을 분사하는 용액분사관과, 상기 원주형수조의 둘레에 배치된 환형급기관에 연통되어 원주형수조 내부에 설치된 오염기체분사관으로 구성된 오염기체분사장치에 있어서, 상기 용액분사관의 사이에 동일 수직면상에 오염기체분사관이 1단이상이며 적어도 하나이상을 동일수평면상에 배치하고, 상기 오염기체분사관에 분사노즐을 배치하되, 최상단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 하방으로 경사지게 하부경사노즐을 설치하며, 최상단 오염기체분사관은 용액 상부 표면에서 그 관의 입구 직경의 1배이상 깊숙이 설치하고, 상기 용액분사관과 오염기체분사관의 분사방향은 동일하며 시계 또는 반시계방향중 어느 한 방향으로 유체의 회전을 이루고, 하단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 상방향과 하방향으로 경사지게 상, 하부경사노즐을 설치하여 이루어지는 오염기체 정화장치용 기체분사장치가 제공된다.Technical features of the present invention for achieving the above object is a columnar water tank to which the purification solution is supplied, a solution spray pipe installed in the columnar water tank for spraying a purification solution, and an annular air supply pipe arranged around the columnar water tank. In a polluted gas ejection device comprising a polluted gas ejection pipe installed in a columnar water tank, the polluted gas ejection pipe having one or more stages on the same vertical plane between the solution ejection pipes and at least one of the The nozzle nozzle is disposed in the contaminant gas ejection pipe, and the lower inclined nozzle is installed in the upper contaminant gas ejection pipe inclined downward from the horizontal center line. Installed more than 1 times deep, the spray direction of the solution injection pipe and the contaminated gas injection pipe is the same, either clockwise or counterclockwise Direction, and the lower pollutant gas ejection pipe is provided with a gas ejection device for a pollutant gas purifier, which is provided with upper and lower inclined nozzles inclined upward and downward from a horizontal center line.

여기서 상기 최상단 오염기체 분사관에 설치되는 하부경사노즐은 2열로 이루어지고 있으며, 상기 하단 오염기체 분사관은 1열로 배열되는 상부경사노즐과, 2열로 배열되는 하부경사노즐로 이루어지고 있다.Here, the lower inclined nozzles installed in the uppermost contaminant gas ejection pipe are composed of two rows, and the lower contaminant gas ejection pipe is composed of an upper inclined nozzle arranged in one row and a lower inclined nozzle arranged in two rows.

도 1은 종래의 정화장치 작동개념 설명도이고,1 is a schematic diagram illustrating the operation of a conventional purifier;

도 2는 본 고안에 의한 기체분사장치가 적용된 정화장치의 사시도이고,2 is a perspective view of a purifier to which a gas injection device according to the present invention is applied,

도 3는 본 고안에 따른 기체분사장치의 작동을 설명하는 구성도이다.3 is a configuration diagram illustrating the operation of the gas injection device according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

15 : 원주형수조 20 : 보조수조15: columnar tank 20: auxiliary tank

30 : 용액분사관 40 : 환형급기관30: solution injection pipe 40: annular supply pipe

50,50a : 오염기체분사관 60a,60b,80a,80b : 하부경사노즐50,50a: Polluted gas injector 60a, 60b, 80a, 80b: Lower inclined nozzle

70 : 상부경사노즐 100 : 오염기체정화장치70: upper inclination nozzle 100: polluted gas purification device

P : 펌프 B : 기포체P: Pump B: Bubble

이하, 본 고안의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 고안에 의한 기체분사장치가 적용된 정화장치의 사시도이고, 도 3은 본 고안에 따른 기체분사장치의 작동을 설명하는 구성도이다.2 is a perspective view of a purification apparatus to which a gas injection device according to the present invention is applied, and FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an operation of the gas injection device according to the present invention.

도 2 및 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이 본 고안에 따른 오염기체 정화장치 용 기체분사장치는 정화용액이 와류로 회전하는 원주형수조(15)의 중앙에 세워져 소정기준이상의 넘침을 예방하기 위한 보조수조(20)가 마련되어 있고, 상기 원주형수조(15)에 세워 설치되어 정화 용액을 분사하기 위한 용액분사관(30)에 정화용액을 분사하기 위한 펌프(P)가 연결되어 있으며, 상기 원주형수조(15)의 둘레에 배치된 환형급기관(40)에 연통되어 원주형수조(15)내부에 설치된 오염기체분사관(50)을 포함하는 통상의 오염기체정화장치(100)가 구성되어 있다.As can be seen in Figures 2 and 3, the gas injection device for the pollutant gas purifier according to the present invention is built in the center of the columnar water tank 15 in which the purifying solution rotates in a vortex to prevent overflow of a predetermined standard or more. A water tank 20 is provided, and a pump P for spraying a purification solution is connected to a solution injection pipe 30 for spraying a purification solution, which is installed in the columnar water tank 15, and the cylinder type is connected. A conventional polluted gas purifying apparatus 100 is formed which includes a polluted gas spray pipe 50 which is connected to an annular air supply pipe 40 disposed around the water tank 15 and is provided inside the cylindrical water tank 15. .

상기 오염기체분사관(50)(50a)은 상기 용액분사관(30)의 사이에서 동일수직면상으로 1단이상으로 배열되어 있으며, 적어도 하나 이상 동일수평면상에 설치되어 있고, 상하부경사노즐(60a)(60b)(70)(80a)(80b)이 배치되어 있다.The polluted gas spray pipes 50 and 50a are arranged in one or more stages on the same vertical plane between the solution spray pipes 30, and are provided on at least one of the same horizontal planes, and the upper and lower inclined nozzles 60a. ), 60b, 70, 80a and 80b are arranged.

최상단에 설치되어 있는 오염기체분사관(50)에는 수평중심선에서 하방향으로 경사지게 하부경사노즐(60a)(60b)이 2열로 설치되어 있으며, 하단에 설치되어 있는 오염기체분사관(50a)에는 수평중심선에서 상방향과 하방향으로 경사지게 상,하부경사노즐(70)(80a)(80b)이 구비되어 있고, 상부경사노즐(70)은 1열로 배열되며, 하부경사노즐(80a)(80b)은 2열로 배열되어 있다.The lower inclined nozzles 60a and 60b are installed in two rows in the contaminated gas ejection pipe 50 installed at the uppermost end so as to be inclined downward from the horizontal center line, and the contaminated gas ejection pipe 50a installed at the bottom is horizontal. Upper and lower inclined nozzles 70, 80a and 80b are inclined upward and downward from the center line, and the upper inclined nozzles 70 are arranged in one row, and the lower inclined nozzles 80a and 80b are It is arranged in two columns.

또한 최상단에 설치되어 있는 오염기체분사관(50)은 용액 상부표면에서 그 관의 입구 직경의 1배이상 깊숙이 설치하고, 상기 기체를 분사하는 상하부경사노즐(60a)(60b)(70)(80a)(80b)과 용액을 분사하는 용액분사관(30)의 분사방향은 시계방향과 같고 필요에 따라 반시계방향으로 변경할 수 있다.In addition, the contaminated gas spray pipe 50 installed at the top is installed at least one times deeper than the inlet diameter of the pipe at the upper surface of the solution, and the upper and lower inclined nozzles 60a, 60b, 70 and 80a spraying the gas. ) 80b and the spraying direction of the solution injection pipe 30 for spraying the solution is the same as the clockwise direction and can be changed counterclockwise as necessary.

이와 같은 구성으로 이루어진 본 고안의 기체분사장치의 작동은 도 3에 도시된 바와 같이 용액분사관(30)에서 분출되는 정화용액은 원주형수조(15)내에서 와류를 형성하고, 상하단으로 배열되어 있는 오염기체분사관(50)(50a)에서 분사되는 오염기체가 기포로 되어 상기 와류에 회전되면서 흡수, 용해된다.Operation of the gas injection device of the present invention having such a configuration as shown in Figure 3, the purification solution ejected from the solution injection pipe 30 forms a vortex in the columnar water tank 15, arranged in the upper and lower ends The polluted gas injected from the polluted gas spray pipes 50 and 50a becomes bubbles and is absorbed and dissolved while being rotated in the vortex.

본 고안에서는 정화용액을 분사하는 용액분사관(30)의 사이에 상기 오염기체분사관(50)(50a)을 1단이상으로 배열하고, 적어도 하나 이상 동일수평면상에 설치되어 각각의 상하부경사노즐(60a)(60b)(70)(80a)(80b)을 통하여 오염기체를 반부채살과 부채살모양으로 함께 분사 및 비산되도록 함으로써 무수한 작은 기포체(B)가 생성되고, 그 기포체(B)는 용액분출관(30)에서 분출되는 정화용액의 와류에 의하여 회전되면서 신속한 파괴로 무수히 많고 작은 기포가 제거되고, 이에 따라 분사되었던 오염기체의 유해물질이 정화용액에 반응하여 정화를 이루게 된다.In the present invention, the contaminated gas injection pipes 50 and 50a are arranged in one or more stages between the solution injection pipes 30 for injecting the purification solution, and at least one of the upper and lower inclination nozzles is installed on the same horizontal plane. By injecting and scattering contaminant gases in half-shape and fan-shape together through (60a) (60b) (70) (80a) (80b), numerous small bubbles (B) are produced, and the bubbles (B) are Rotating by the vortex of the purification solution ejected from the solution ejection pipe 30, a myriad of small and small bubbles are removed by rapid destruction, and thus harmful substances of the contaminated gas that have been injected are purged in response to the purification solution.

이러한 정화과정은 정화용액이 용액분출관(30)을 통하여 수평분사됨과 동시에 그 분사력을 기초로 원주형수조(15)내에서 와류를 형성하게 되고, 오염기체는 상기 용액분출관(30)의 사이에 배열된 오염기체분사관(50)(50a)를 통하여 분사되는데, 최상단에 배치되어 있는 오염기체분사관(50)에는 하방향으로만 분사될 수 있는 하부경사노즐(60a)(60b)이 2열로 설치되어 반부채살모양으로 하향분사를 이루게 되어 오염기체분사관(50)의 상부로 분사되는 정화용액의 분사력을 방해하지 않고 있다.In this purification process, the purification solution is sprayed horizontally through the solution ejection pipe 30 and at the same time forms a vortex in the columnar water tank 15 based on the injection force, and the contaminated gas is interposed between the solution ejection pipe 30. It is sprayed through the polluted gas spray pipe (50) (50a) arranged in the, the lower inclined nozzle (60a) (60b) that can be sprayed only in the downward direction to the polluted gas spray pipe 50 disposed at the top 2 It is installed as a heat to form a downward spray in the shape of a half fan, it does not interfere with the injection force of the purification solution sprayed to the upper portion of the polluted gas injection pipe (50).

또한 하단에 배치되어 있는 오염기체분사관(50a)에는 상방향과 하방향으로 분사될 수 있는 상,하부경사노즐(70)(80a)(80b)이 설치되어 부채살모양으로 상,하향분사를 이루게 하는데, 상부경사노즐(70)은 1열로 하여 상기 하부경사노즐(60a)(60b)의 분사력과 편승하는 정도의 분사력만으로도 오염기체분사관(50)(50a)의 사이로 분사되는 정화용액에 의하여 정화를 이루게 되고, 하부경사노즐(80a)(80b)은 2열로 하여 오염기체분사관(50a)의 하부로 강한 분사가 이루어지도록 하여 오염기체의 강약분사로 와류에 의한 기포분쇄를 더욱 촉진하게 된다.In addition, the upper and lower inclined nozzles 70, 80a and 80b, which can be sprayed in the up and down directions, are installed in the contaminated gas spray pipe 50a disposed at the bottom to form the up and down sprays in the shape of a fan. In this case, the upper inclination nozzle 70 is purged by a purifying solution sprayed between the contaminated gas injection pipes 50 and 50a with only the injection force of the lower inclination nozzles 60a and 60b and the degree of jetting force. The lower inclination nozzles 80a and 80b are formed in two rows so that a strong injection is made to the lower part of the contaminated gas injection pipe 50a, thereby further promoting the pulverization of the bubbles due to the vortex of the contaminated gas.

한편, 본 고안의 오염기체분사관(50)(50a)은 동일수평면상에 적어도 하나 이상 다수개 배치하고, 상, 하부경사노즐(70)(80a)(80b)의 분사되는 오염기체가 상기 오염기체분사관(50)(50a)에 부딪히지 않고 빗각으로 분사되어 와류와의 충돌현상만으로 기포의 분쇄가 촉진되며 오염기체의 기포가 정화용액에서 용해흡수진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화액체의 표면과의 계면 접촉효율이 향상(비표면적 증대)되므로 정화효율을 극대화 할 수 있다.On the other hand, at least one or more contaminated gas ejection pipes 50, 50a of the present invention are disposed on the same horizontal plane, and the contaminated gas sprayed by the upper and lower inclined nozzles 70, 80a, 80b is contaminated. It is sprayed at an oblique angle without hitting the gas injection pipes 50 and 50a to promote the pulverization of bubbles only by collision with the vortex, and increase the time for the bubbles of contaminated gas to be dissolved and absorbed in the purification solution. The efficiency of interface contact with the surface is improved (specific surface area increase), so the purification efficiency can be maximized.

또한 오염기체의 기포의 소멸거리를 축소할 수 있게 되고, 오염기체분사관(50)(50a)을 동일 수직면상에 각각 1단 이상으로 설치하여 종래의 정화장치의 규격보다 설비의 크기를 줄일 수 있어서 설치면적을 작게 하고, 원주형 수조(15)의 규격을 크게 하지 않고도 다수개의 오염기체분사관(50)(50a)를 설치하여 정화를 이루게 함과 동시에 처리용량을 대형화할 수 있게 한다.In addition, it is possible to reduce the extinction distance of the bubbles of the polluting gas, and to install the polluting gas spray pipes 50 and 50a in one or more stages on the same vertical surface, respectively, to reduce the size of the facility than the standard of the conventional purification apparatus. In order to reduce the installation area and to increase the treatment capacity while installing a plurality of polluted gas injection pipes 50 and 50a without increasing the size of the columnar water tank 15, the treatment capacity can be increased.

상술한 바와같이, 본 고안은 정화용액의 와류속에서 같은 방향으로 강약의 비산분사를 이루는 오염기체 기포가 정화용액에서 용해 흡수 진행되는 시간이 늘어나며 미세기포의 표면과 정화 액체의표면과의 계면접촉효율을 향상시켜 정화효율을 극대화할 수 있음과 동시에, 특히 오염기체 기포의 소멸거리의 축소로 종래의 정화장치보다 설비의 크기를 줄이게 됨은 물론 대량의 오염기체를 정화할 수 있는 효과가 제공된다.As described above, the present invention extends the time that the contaminating gas bubbles, which form strong and scattered sprays in the same direction in the vortex of the purifying solution, are dissolved and absorbed in the purifying solution. It is possible to maximize the purification efficiency by improving the efficiency, and in particular, by reducing the extinction distance of the polluting gas bubbles to reduce the size of the facility than the conventional purifier, as well as to provide the effect of purifying a large amount of polluted gas.

Claims (3)

정화용액이 와류로 회전하는 원주형 수조와, 그 원주형수조에 세워 설치되어 정화 용액을 분사하는 용액분사관과, 상기 원주형수조의 둘레에 배치된 환형급기관에 연통되어 원주형수조 내부에 설치된 오염기체분사관으로 구성된 오염기체분사장치에 있어서;Pollution inside the columnar tank in communication with the columnar water tank in which the purification solution rotates in a vortex, a solution injection pipe installed in the columnar water tank, and spraying the purification solution, and an annular air supply pipe arranged around the columnar water tank. In the contaminated gas injection device composed of a gas injection pipe; 상기 용액분사관의 사이에 오염기체분사관이 동일 수직면상에 1단이상이며 적어도 하나이상을 동일수평면상에 배치하고, 상기 오염기체분사관에 분사노즐을 배치하되, 최상단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 하방향으로 경사지게 하부경사노즐을 설치하며, 최상단 오염기체분사관은 용액 상부표면에서 그 관의 입구직경의 1배이상 깊숙이 설치하고, 상기 용액분사관과 오염기체분사관의 분사방향은 동일하며 시계 또는 반시계방향중 어느 한 방향으로 유체의 회전을 이루고, 하단 오염기체분사관에는 수평중심선에서 상방향과 하방향으로 경사지게 상,하부경사노즐을 설치하여 이루어짐을 특징으로 하는 오염기체 정화장치용 기체분사장치.The contaminant gas ejection pipe is disposed in one or more stages on the same vertical plane, and at least one of the contaminant gas ejection pipes is disposed on the same horizontal plane, and the spray nozzle is arranged in the contaminated gas ejection pipe, The lower inclined nozzle is installed to be inclined downward from the center line, and the uppermost contaminant gas ejection pipe is installed at least one times deeper than the inlet diameter of the conduit at the upper surface of the solution, and the spray direction of the solution spray pipe and the contaminating gas spray pipe is the same. The rotation of the fluid in either the clockwise or counterclockwise direction, and the lower pollutant gas injection pipe is installed by inclining the upper and lower inclined nozzles inclined upward and downward from the horizontal center line. Gas injection device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 최상단 오염기체 분사관에 설치되는 하부경사노즐은 2열인 것을 특징으로 하는 오염기체 정화장치용 기체분사장치.The lower inclined nozzle installed in the uppermost contaminant gas injection pipe has two rows. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하단 오염기체 분사관은 1열로 배열되는 상부경사노즐과, 2열로 배열되는 하부경사노즐로 이루어짐을 특징으로 하는 오염기체 정화장치용 기체분사장치.The lower pollutant gas injection pipe is a gas injector for polluting gas purifier, characterized in that the upper inclination nozzles arranged in a row and the lower inclination nozzles arranged in two rows.
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