KR200362791Y1 - 구리 도금장치의 전처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 전기 구리도금 설비에 설치되는 전처리 장치에 관한 것으로, 특히 장치의 콤팩트에 의해 자동화 구축이 용이하면서 도금할 기판의 세척, 린스 및 표면 활성화가 효과적으로 이루어지는 구리도금의 전처리 장치에 관한 것으로, 행거(1)에 의해 보유 지지되어 안내레일(2)을 따라 이동하는 도금할 기판(3)을 약품 크리너액으로 표면 세정하는 전처리기(4)와 이 전처리기(4)를 거친 기판(3)에서 린스액으로 산화피막을 제거하는 후처리기(5)로 이루어진 구리도금의 전처리 장치에 있어서, 상기 전처리기(4)는 램제트 박스(6a) 내에 다수가 설치되면서 지지 프레임(7)에 고정된 고정 분사판(8)과, 이 고정 분사판(8)에 이격된 상태로 대칭 배치되어 실린더(9)에 의해 직선 이동이 가능한 가동 분사판(10), 상기 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10)에 일정한 등간격으로 상하 좌우 배치되는 다수의 분사노즐(11), 이 분사노즐(11) 들에 약품 세정액(12)을 안내하는 공급배관(13) 및, 이 공급배관(13)으로 약품 세정액(12)을 공급하는 공급부(14)로 이루어지고, 상기 후처리기(5)는 전처리기(4)와 동일 라인상에 연속 배치되면서 스프레이 박스(6b) 내에 설치되는 기판 통과홈(15)을 갖춘 린스 분배관(16)과, 이 린스 분배관(16)의 양측으로 린스액(17)을 살포하는 상하 좌우 등간격으로 배치된 다수의 린스액 분사노즐(18), 이 린스액 분사노즐(18)에 린스액(17)을 안내하는 배관부(19) 및, 이 배관부(19)로 린스액을 공급하는 공급부(20)로 이루어지며, 상기 후처리기(5)와 동일 라인상으로 연속 배치되면서 스프레이 박스(6c) 내에 설치되는 초순수 세정액(21)을 분사하는 초순수기(22)를 갖추어 이루어진 구조로 되어 있다.

Description

구리 도금장치의 전처리 장치{Clean ＆ rince apparatus of cupper plating}

본 고안은 전기 구리도금 설비에 설치되는 전처리 장치에 관한 것으로, 특히 장치의 콤팩트에 의해 자동화 구축이 용이하면서 도금할 기판의 세척, 린스 및 표면 활성화가 효과적으로 이루어지는 구리도금의 전처리 장치에 관한 것이다.

일반적으로 구리 전기도금은 다른 금속표면에 얇은 구리막을 입히거나 인쇄회로기판(일명 PCB라 칭함)과 같은 합성수지 기판 표면에 구리막을 입히는 것인데,본 고안은 후자인 인쇄회로기판에 구리막을 입힐 때 적용되는 기술임을 미리 밝힌다.

전기 구리도금은 크게 전처리 공정, 도금공정 및, 후처리공정으로 요약 될 수 있는바, 여기서 전처리 공정은 도금할 기판의 세척 →탈지 →린스 단계로 이루어지며, 도금할 기판이 전처리 공정을 마치게 되면 도금공정으로 이송되어 도금작업이 이루어진 후, 후처리 공정을 거쳐 구리도금이 완료되는 방식으로 되어 있다.

그러나 종래 구리도금 설비의 전처리 장치는 그 구조가 커서 설비 레이아웃을 크게 점유할 뿐만 아니라, 주로 탈지 탱크 내지는 탈지 크리너액이 담겨진 용기를 갖춤에 따라 장비의 설계 자유도에서 크게 제약을 받았다.

이에 본 고안은 상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 장비의 레이아웃 감축과 자동화 구축이 용이하면서 도금할 기판의 표면 활성화도 효과적으로 이루어지는 구리도금의 전처리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.

상기와 같은 본 고안은 도금할 기판을 약품 크리너 액으로 표면 세정하는 전처리기와 이 전처리기를 거친 기판에서 산화 피막을 제거하는 후처리기로 이루어진 구리도금의 전처리 장치에 있어서, 상기 전처리기는 램제트 박스부에 설치되면서 지지 프레임에 고정된 고정 분사판과, 이 고정 분사판에 대응되어 실린더에 의해 직선 이동이 가능한 가동 분사판, 상기 고정 분사판과 가동 분사판에 일정한 등간격으로 상하 좌우 배치되는 다수의 분사노즐, 이 분사노즐들에 약품 세정액을 안내하는 공급배관 및, 이 공급배관으로 약품 세정액을 공급하는 공급부로 이루어져 있으며, 상기 후처리기는 전처리기의 동일 라인상에 연속 배치되면서 램제트 박스부에 설치되는 기판 통과 홈을 갖춘 린스 분사판과, 이 린스 분사판의 양측에서 린스액을 살포하는 상하 좌우 등간격으로 배치된 다수 개의 린스액 분사노즐 및, 이 린스액 분사노즐에 린스액을 안내하는 배관부 및, 상기 배관부로 린스액을 공급하는 공급부로 이루어져 있으며, 상기 후처리기에 이웃하여 초순수 세정액을 분사하는 초순수기가 설치되어 있다.

도 1은 본 고안에 따른 구리도금의 전처리 장치 전체를 나타낸 정면도,

도 2는 도 1의 평면도,

도 3은 도 1의 Ⅰ-Ⅰ선 단면도,

도 4는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선 단면도,

도 5는 도 1의 Ⅲ-Ⅲ선 단면도,

도 6은 본 고안에 따른 전처리기의 배관상태를 나타낸 도면,

도 7은 도 2의 부분 확대 평면도,

도 8은 본 고안에 따른 후처리기의 배관 설명도,

도 9는 본 고안에 따른 초순수기의 배관 설명도이다.

-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-

1 : 행거, 2 : 안내레일,

3 : 기판, 4 : 전처리기,

5 : 후처리기, 6a : 램제트 박스(Ramjet box),

6b,6c : 스프레이 분사 박스,

7 : 지지 프레임, 8 : 고정 분사판,

9 : 실린더, 10 : 가동 분사판,

11 : 분사노즐, 12 : 약품 세정액,

13 : 공급 배관, 14 : 공급부,

15 : 기판 통과홈, 16 : 린스 분배관,

17 : 린스액, 18 : 린스액 분사노즐,

19 : 배관부, 20 : 공급부,

21 : 초순수 세정액, 22 : 초순수기,

23 : 펌프, 24 : 필터,

25 : 가변호스, 26 : 안내홈,

27 : 고정판, 28 : 초순수액,

29 : 스프레이 노즐, 30 : 공급배관,

31 : 개폐밸브, 32 : 투명커버,

33 : 안내공간.

이하, 본 고안을 첨부된 예시도면에 의거 상세히 설명한다.

도 1과 도 2는 본 고안에 따른 구리도금의 전처리 장치를 나타낸 정면도와 평면도로서, 본 고안은 구리도금 설비에서 도금할 기판을 도금조에서 도금공정 전에 세척 및 린스시키어 이 기판 소재의 활성화 상태를 유지하면서 도금공정에서 도금 밀착이 양호하게 이루어지도록 도와주는 장비이다.

본 고안은 행거(1)에 의해 보유 지지되어 안내레일(2)을 따라 이동하는 도금할 기판(3)을 약품 크리너액으로 표면 세정하는 전처리기(4)와 이 전처리기(4)를 거친 기판(3)에서 린스액으로 산화피막을 제거하는 후처리기(5)로 이루어진 구리도금의 전처리 장치에 있어서, 상기 전처리기(4)는 램제트 박스(6a) 내에 설치되면서 지지 프레임(7)에 고정된 고정 분사판(8)과, 이 고정 분사판(8)에 이격된 상태로 대칭 배치되어 실린더(9)에 의해 직선 이동이 가능한 가동 분사판(10), 상기 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10)에 일정한 등간격으로 상하 좌우 배치되는 다수의 분사노즐(11), 이 분사노즐(11) 들에 약품 세정액(12)을 안내하는 공급배관(13) 및,이 공급배관(13)으로 약품 세정액(12)을 공급하는 공급부(14)로 이루어지고, 상기 후처리기(5)는 전처리기(4)와 동일 라인상에 연속 배치되면서 스프레이 분사 박스(6b) 내에 설치되는 기판 통과홈(15)을 갖춘 린스 분배관(16)과, 이 린스 분배관(16)의 양측으로 린스액(17)을 살포하는 상하 좌우 등간격으로 배치된 다수의 린스액 분사노즐(18), 이 린스액 분사노즐(18)에 린스액(17)을 안내하는 배관부(19) 및, 이 배관부(19)로 린스액을 공급하는 공급부(20)로 이루어지며, 상기 후처리기(5)와 동일 라인상으로 연속 배치되면서 스프레이 분사 박스(6c) 내에 설치되는 초순수 세정액(21)을 분사하는 초순수기(22)를 갖추어 이루어진 구조로 되어 있다.

여기서 상기 약품 세정액(12)을 전처리기(4)의 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10)의 분사노즐(11) 들로 공급하는 공급부(14)는 펌프(23)와 필터(24)를 갖추고 있으며, 이 공급부(14)의 가변 호스(25)가 공급배관(13)에 연결되어 있다.

또한, 상기 세정 린스액(17)을 후처리기(5)의 린스 분배관(16)에 형성된 분사노즐(18)에 공급하는 공급부(20)에도 펌프(23)와 필터(24)를 갖추고 있으며, 이 공급부(20)의 가변 호스(25)가 배관부(19)에 연결되어 있다.

한편 상기 초순수기(22)는 기판(3)을 안내하는 안내홈(2b)을 갖춘 고정판(27)과, 이 고정판(27)의 양측으로 배치되어 초순수액(28)을 살포하는 스프레이 노즐(29), 이 스프레이 노즐에 초순수액(28)을 공급하는 공급배관(30)으로 이루어지고, 이 공급배관(30)으로 공급되는 초순수액(29)은 개폐 밸브(31)에 의해 제어된다.

그리고 상기 전처리기(4)와 후처리기(5) 및 초순수기(22)는 도면에서 4개, 2개 및 1개 단위로 설치한 상태를 보여주고 있으나, 작업공정, 도금상태, 도금 종류에 따라 이들의 설치단위를 유연하게 조정 가능함은 물론이다.

또한, 상기 전처리기(4)와 후처리기(5) 및 초순수(22)에 설치된 램제트 박스(6a), 스프레이 분사 박스(6b,6c)들 전체에는 투명커버(32)가 설치되어 기판(3)의 작업흐름과 전처리 상태를 작업자가 손쉽게 육안으로 감시할 수 있다.

이어 본 고안에 따른 전처리 장치의 작동을 설명한다.

도 1 내지 도 2와 같이 안내레일(2)을 따라 이동하는 행거(1)에 현가된 도금할 기판(3)이 화살표 방향을 따라 전처리 장치의 전처리기(4)에 투입되면, 이 도금할 기판(3)은 전처리기(4)의 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10) 사이에 형성된 안내 공간(33)을 따라 이동하게 된다.

즉 상기 안내 공간(33)은 가동 분사판(10)이 실린더(9)에 의해 도 6과 같이 화살표 방향으로 이동하여 형성되는데, 이때 고정 분사판(8)은 지지 프레임(7)에 고정된 상태에서 이 가동 분사판(10)만 이동하여 기판(3) 통과용 안내 공간(33)을 형성하게 된다.

따라서 상기 도금할 기판(3)이 행거(1)에 보유 지지된 상태에서 전처리기(4)의 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10) 사이에 형성된 안내 공간(33)으로 투입되면, 세정액 탱크(도면에 도시하지 않았음) 내에 있는 약품 세정액(12)이 펌프(23)와 필터(24)를 거쳐 공급배관(13)을 통하여 분사노즐(11) 들에 의해 분사되어 기판(3)의 1단계의 탈진 및 세정작업이 이루어진다.

이렇게 1단계의 탈지 및 세정작업이 완료된 기판(3)은 계속 진행되면서 후처리기(5)의 린스 분배관(16)에 형성된 기판 통과홈(15)으로 투입되게 되는데, 이때에도 린스액이 공급부(20)의 펌프(23)와 필터(24)를 거쳐 배관부(19)를 통하여 분사노즐(18) 들에서 기판(3)에 스프레이 분사되어지는 2단계 탈진 및 린스작업이 이루어진다.

이어 상기 후처리기(5)의 린스 분배관(16)을 통과한 기판(3)은 초순수기(22)의 고정판(27) 사이에 형성된 안내홈(26)에서 공급배관(30)을 통해 공급되는 초순수액이 스프레이 노즐(29)에 의해 3단계 세정작업이 이루어지는데, 이 3단계 초순수액 세정작업은 인쇄회로기판(3)에서 산기를 완전히 제거하여 도금 직선에 기판(3) 소재의 활성화 상태를 유지하면서 이 기판(3)이 다음 공정인 도금 공정에서 도금액과의 산도가 맞추어지는 전처리 공정의 최후 공정으로 되어 있다.

한편, 분사된 상기 약품 세정액과 린스액 및 초순수 세정액은 공지의 드레인 배관들을 통하여 각각의 저장탱크들로 회수되어 진다.

상기와 같이 본 고안에 따른 구리도금의 전처리 장치는 도금할 기판의 탈지, 세정 및 린스작업이 스프레이 분사 방식으로 정확하게 수행되면서 설비의 레이아웃이 컴팩트화 되어 설계 자유도가 높으며, 필요에 따라 작업공정에 맞추어 전처리기, 후처리기 및 초순수기들을 가변적으로 조정 가능하게 설치할 수 있고, 도금 작업장의 클리화도 이루어지는 잇점 등을 갖는다.

Claims (2)

1. 행거(1)에 의해 보유 지지되어 안내레일(2)을 따라 이동하는 도금할 기판(3)을 약품 크리너액으로 표면 세정하는 전처리기(4)와 이 전처리기(4)를 거친 기판(3)에서 린스액으로 산화피막을 제거하는 후처리기(5)로 이루어진 구리도금의 전처리 장치에 있어서,

   상기 전처리기(4)는 램제트 박스(6a) 내에 설치되면서 지지 프레임(7)에 고정된 고정 분사판(8)과 이 고정 분사판(8)에 이격된 상태로 대칭 배치되어 실린더(9)에 의해 직선 이동이 가능한 가동 분사판(10), 상기 고정 분사판(8)과 가동 분사판(10)에 일정한 등간격으로 상하 좌우 배치되는 다수의 분사노즐(11), 이 분사노즐(11) 들에 약품 세정액(12)을 안내하는 공급배관(13) 및, 이 공급배관(13)으로 약품 세정액(12)을 공급하는 공급부(14)로 이루어지고, 상기 후처리기(5)는 전처리기(4)와 동일 라인상에 연속 배치되면서 스프레이 분사 박스(6b) 내에 설치되는 기판 통과홈(15)을 갖춘 린스 분배관(16)과, 이 린스 분배관(16)의 양측으로 린스액(17)을 살포하는 상하 좌우 등간격으로 배치된 다수의 린스액 분사노즐(18), 이 린스액 분사노즐(18)에 린스액(17)을 안내하는 배관부(19) 및, 이 배관부(19)로 린스액을 공급하는 공급부(20)로 이루어지며, 상기 후처리기(5)와 동일 라인상으로 연속 배치되면서 스프레이 분사 박스(6c) 내에 설치되는 초순수 세정액(21)을 분사하는 초순수기(22)를 갖추어 이루어진 것을 특징으로 하는 구리도금의 전처리 장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 초순수기(22)는 기판(3)을 안내하는 안내홈(2b)을 갖춘 고정판(27)과, 이 고정판(27)의 양측으로 배치되어 초순수액(28)을 살포하는 스프레이 노즐(29), 이 스프레이 노즐에 초순수액(28)을 공급하는 공급배관(30)으로 이루어지고, 이 공급배관(30)으로 공급되는 초순수액(29)은 개폐 밸브(31)에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 구리도금의 전처리 장치.