KR200346519Y1 - Apparatus for cleaning photomask - Google Patents
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Abstract
본 고안은 포토마스크 세정 장치를 개시한다. 개시된 본 고안의 포토마스크 세정 장치는, 포토마스크가 놓여져 고정되는 마스크 고정대와, 상기 마스크 고정대를 회전시키는 모터와, 상기 모터의 회전수를 제어하는 모터 제어부로 구성된 회전부; 상기 회전부의 마스크 고정대 주위에 설치된 슬릿 지지대와, 상기 슬릿 지지대를 통해 위치 이동 가능하도록 장착되며 슬릿을 통해 포토마스크로 고압 증류수를 분사하는 슬릿 모듈과, 상기 슬릿 모듈에서의 슬릿 위치, 높이, 각도를 조절하기 위한 슬릿 제어부로 구성된 슬릿부; 및 상기 회전 및 고압 증류수 분사를 통한 세정이 완료된 포토마스크로부터 잔여 유기물을 제거하기 위해 구비된 자외선 세정기를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 고안에 따르면, 별도의 세정액을 사용하지 않고 슬릿을 통한 고압의 초순수와 자외선 세정만을 이용하여 포토마스크를 세정할 수 있는 세정 장치를 제공함으로써 상기 포토마스크 세정에 소요되는 비용을 절감할 수 있으며, 또한, 친환경적인 포토마스크 세정을 이룰 수 있다.The present invention discloses a photomask cleaning apparatus. The photomask cleaning apparatus of the present invention includes a rotating part including a mask holder on which a photomask is placed and fixed, a motor for rotating the mask holder, and a motor controller for controlling the rotation speed of the motor; A slit support installed around the mask holder of the rotating unit, a slit module mounted to be movable in position through the slit support, and spraying high-pressure distilled water into the photomask through the slit, and the slit position, height, and angle of the slit module. A slit portion composed of a slit controller for adjusting; And an ultraviolet cleaner provided to remove residual organic matter from the photomask in which the cleaning is completed through the rotation and high pressure distilled water injection. According to the present invention, it is possible to reduce the cost of cleaning the photomask by providing a cleaning device capable of cleaning the photomask using only high-pressure ultra pure water and ultraviolet cleaning through the slit without using a separate cleaning liquid, In addition, environmentally friendly photomask cleaning can be achieved.
Description
본 고안은 포토마스크 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 친환경적이면서 비용을 절감할 수 있는 포토마스크 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask cleaning apparatus, and more particularly, to a photomask cleaning apparatus that can be eco-friendly and cost-saving.
유기발광표시소자(Organic Light Emitting Diode : OLED) 및 박막트랜지스터 액정표시소자(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display : TFT-LCD)와 같은 평판표시소자의 양극기판을 제조함에 있어 통상 사진(photolithography) 공정이 이용되고 있음은 주지의 사실이다.Photolithography is commonly used in the manufacture of bipolar substrates for flat panel display devices such as organic light emitting diode (OLED) and thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD). It is well known.
이러한 사진 공정은 식각대상층 상에 감광성 수지(photoresist)를 도포하는 단계와, 상기 감광성 수지의 특정 부분에 포토마스크를 이용해서 빛을 조사시키는 노광 단계와, 소정 화학용액을 이용해서 노광되거나 또는 노광되지 않은 감광성 수지 부분을 제거하는 현상 단계로 구성된다.Such a photo process includes applying a photoresist to an etch target layer, an exposure step of irradiating light to a specific portion of the photosensitive resin using a photomask, and exposing or not using a predetermined chemical solution. Development step of removing the non-photosensitive resin portion.
이와 같은 사진 공정에 있어서, 노광 공정에서 사용하는 포토마스크의 세정 상태는 생산 수율에 큰 영향을 미치는 중요한 요인이 된다.In such a photo process, the cleaning state of the photomask used in an exposure process becomes an important factor which has a big influence on a production yield.
일반적으로 포토마스크 세정은 그 효과를 높이기 위해 감광성 수지 박리액, 이소프로필 알코올 등과 같은 화학 약품(이하, "세정액"이라 칭함)을 사용하여 수행하며, 포토마스크를 고속 회전시키면서 상기 세정액을 뿌려주는 방식, 솔(brush)을 고속으로 회전시켜 수막 현상을 이용하는 방식, 그리고, MHz 단위 주파수의 초음파(megasoner)를 이용한 방식 등이 이용되고 있다.In general, photomask cleaning is performed using a chemical agent (hereinafter, referred to as a "cleaning liquid"), such as a photosensitive resin peeling liquid or an isopropyl alcohol, in order to enhance the effect, and spraying the cleaning liquid while rotating the photomask at a high speed. For example, a method of rotating a brush at a high speed to use a water film phenomenon, and a method using a megasoner at a frequency unit of MHz are used.
또한, 세정액을 통해 세정된 포토마스크는 초순수 증류를 이용하여 다시 세정되며, 에어 나이프(air knife) 또는 회전 건조 방식에 따라 건조된다.In addition, the photomask cleaned through the cleaning liquid is washed again using ultrapure distillation, and dried according to an air knife or a rotary drying method.
그러나, 전술한 종래의 포토마스크 세정방식들은 고가의 세정액과 많은 양의 증류수 및 클린 드라이 에어(clean dry air)를 사용해야 하므로, 많은 비용이 소요되는 문제가 있고, 또한, 세정액 처리에 대한 문제가 있다.However, the above-described conventional photomask cleaning methods require expensive cleaning liquids and a large amount of distilled water and clean dry air, and thus have a high cost problem, and also have a problem with treatment of cleaning liquids. .
따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래의 제반 문제점들을 해결하기 위해 안출된 것으로, 친환경적이고 비용을 절감할 수 있는 포토마스크 세정 장치를 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, it is an object of the present invention to provide an environmentally friendly and cost-effective photomask cleaning apparatus.
도 1 내지 도 3은 본 고안에 따른 포토마스크 세정 장치를 설명하기 위한 도면.1 to 3 are views for explaining the photomask cleaning apparatus according to the present invention.
도 4는 본 고안의 포토마스크 세정 장치를 이용한 세정시 슬릿 동작 상태를 설명하기 위한 도면.4 is a view for explaining a slit operating state when cleaning using a photomask cleaning apparatus of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1 : 포토마스크 2 : 슬릿1: photomask 2: slit
10 : 회전부 12 : 마스크 고정대10: rotating part 12: mask holder
13 : 가이드 핀 14 : 모터13: guide pin 14: motor
16 : 모터 제어부 20 : 슬릿부16: motor control unit 20: slit part
22 : 슬릿 지지대 24 : 슬릿 모듈22: slit support 24: slit module
25 : 증류수 공급관 26 : 슬릿 제어부25: distilled water supply pipe 26: slit control unit
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 고안은, 포토마스크가 놓여져 고정되는 마스크 고정대와, 상기 마스크 고정대를 회전시키는 모터와, 상기 모터의 회전수를 제어하는 모터 제어부로 구성된 회전부; 상기 회전부의 마스크 고정대 주위에 설치된 슬릿 지지대와, 상기 슬릿 지지대를 통해 위치 이동 가능하도록 장착되며 슬릿을 통해 포토마스크로 고압 증류수를 분사하는 슬릿 모듈과, 상기 슬릿 모듈에서의 슬릿 위치, 높이, 각도를 조절하기 위한 슬릿 제어부로 구성된 슬릿부; 및 상기 회전 및 고압 증류수 분사를 통한 세정이 완료된 포토마스크로부터 잔여 유기물을 제거하기 위해 구비된 자외선 세정기를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, a rotating portion consisting of a mask holder to which the photomask is placed and fixed, a motor for rotating the mask holder, and a motor control unit for controlling the rotational speed of the motor; A slit support installed around the mask holder of the rotating unit, a slit module mounted to be movable in position through the slit support, and spraying high-pressure distilled water into the photomask through the slit, and the slit position, height, and angle of the slit module. A slit portion composed of a slit controller for adjusting; And it provides a photomask cleaning apparatus comprising an ultraviolet cleaner provided to remove the residual organic matter from the cleaning of the photomask is completed through the rotary and high-pressure distilled water spray.
(실시예)(Example)
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 3은 본 고안에 따른 포토마스크 세정 장치를 설명하기 위한 도면들로서, 도 1은 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 마스크 고정대를 도시한 도면이며, 도 3은 슬릿 부분을 도시한 도면이다.1 to 3 are views for explaining a photomask cleaning apparatus according to the present invention, Figure 1 is a view schematically showing a photomask cleaning apparatus, Figure 2 is a view showing a mask holder, Figure 3 It is a figure which shows a slit part.
도 1을 참조하면, 본 고안의 세정 장치(50)는 크게 포토마스크(1)를 회전시키기 위한 회전부(10)와, 상기 포토마스크(1)에 고압 증류수를 분사시키기 위한 슬릿부(20) 및 잔여 유기물을 제거하기 위한 자외선 세정기(도시안됨)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, the cleaning device 50 of the present invention includes a rotating part 10 for rotating the photomask 1 largely, a slit part 20 for injecting high-pressure distilled water into the photomask 1, and And an ultraviolet cleaner (not shown) to remove residual organics.
보다 자세하게, 상기 회전부(10)는 포토마스크(1)가 놓여져 고정되는 마스크 고정대(12)와, 상기 마스크 고정대(12)를 회전시키는 모터(14) 및 상기 모터(14)의 회전수를 제어하는 모터 제어부(16)로 구성된다. 여기서, 상기 마스크 고정대(12)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 가이드 핀(13)에 의해 포토마스크(1)를 고정시키게 되며, 이러한 가이드 핀(13)은 포토마스크의 각 모서리 부분에 대응해서 대략 3개씩이 구비된다.In more detail, the rotation unit 10 controls a mask holder 12 on which the photomask 1 is placed and fixed, a motor 14 for rotating the mask holder 12, and a rotation speed of the motor 14. It consists of a motor control unit 16. Here, the mask holder 12, as shown in Figure 2, to fix the photomask 1 by a guide pin 13, these guide pins 13 correspond to each corner portion of the photomask Approximately three are provided.
상기 슬릿부(20)는 마스크 고정대(12) 주위에 설치된 슬릿 지지대(22)와, 상기 슬릿 지지대(22)를 통해 위치 이동 가능하도록 장착되어 포토마스크(1)로 고압 증류수를 분사하는 슬릿 모듈(24) 및 상기 슬릿 모듈(24)에서의 슬릿 위치, 높이, 각도를 조절하는 슬릿 제어부(26)로 구성된다.The slit part 20 is a slit module 22 installed around the mask holder 12 and the slit module 22 mounted to be movable in position through the slit support 22 to inject high-pressure distilled water into the photomask 1. 24) and a slit control unit 26 for adjusting the slit position, height, and angle in the slit module 24.
여기서, 상기 슬릿 모듈(24)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 하단부에 슬릿(2)이 구비되며, 상단부에는 증류수 공급관(25)이 설치된다. 이러한 슬릿 모듈(24)에 있어서, 슬릿(2)의 위치는 세정 진행시 기판 중앙에서 뒷부분에 위치되도록 하며, 그 각도는 증류수가 원심력 방향으로 분사되도록 하기 위해 포토마스크(1) 중앙쪽으로 기울어지도록 한다. 또한, 슬릿(2)의 간격, 슬릿(2)과 포토마스크(1) 사이의 거리, 그리고, 분사되는 증류수의 압력 등은 세정 효과에 영향을 미치는 주요 요인이므로, 슬릿 제어부(26)는 상기 변수들을 제어한다.Here, the slit module 24, as shown in Figure 3, is provided with a slit 2 at the lower end, the distilled water supply pipe 25 is installed at the upper end. In this slit module 24, the position of the slit 2 is located at the back of the center of the substrate during the cleaning process, and the angle is inclined toward the center of the photomask 1 so that distilled water is injected in the centrifugal force direction. . In addition, since the interval between the slit 2, the distance between the slit 2 and the photomask 1, and the pressure of the distilled water injected are the main factors affecting the cleaning effect, the slit control unit 26 is the variable Control them.
도 4는 본 고안에 따른 포토마스크 세정 장치를 이용한 세정시 슬릿 동작 상태를 보여주는 도면으로서, 도시된 바와 같이, 슬릿 모듈(24)은 기울어져 배치되며, 이에 따라, 상기 슬릿 모듈(24)은 회전하는 포토마스크(1)에 원심력 방향으로 이동하면서 고압 증류수를 분사하게 된다.4 is a view showing a slit operation state when cleaning using a photomask cleaning apparatus according to the present invention, as shown, the slit module 24 is disposed inclined, accordingly, the slit module 24 is rotated The high pressure distilled water is injected into the photomask 1 while moving in the centrifugal force direction.
계속해서, 상기 자외선 세정기(도시안됨)는 고압 증류수에 의한 세정이 완료된 포토마스크(1)로부터 잔여 유기물을 제거하기 위해 구비된다. 따라서, 슬릿에 의한 세정이 끝난 포토마스크(1)는 적정한 회전수에서 회전 건조되며, 상기 회전 건조 후에는 자외선 세정을 통해 잔여 유기물이 완전히 제거된다.Subsequently, the ultraviolet cleaner (not shown) is provided to remove residual organic matter from the photomask 1 which has been cleaned by high-pressure distilled water. Therefore, the photomask 1 which has been cleaned by the slit is rotated to dry at an appropriate rotational speed, and after the rotary drying, residual organic matter is completely removed through ultraviolet cleaning.
상기한 바와 같은 본 고안의 세정 장치를 이용한 포토마스크 세정방법은 다음과 같다.The photomask cleaning method using the cleaning device of the present invention as described above is as follows.
먼저, 세정하고자 하는 포토마스크를 마스크 고정대에 고정시킨다. 그런다음, 적절한 회전수로 마스크 고정대를 회전시켜 포토마스크를 회전시키며, 이 상태에서 슬릿 모듈로부터 슬릿을 통해 상기 포토마스크에 고압 증류수를 분사시킨다. 이때, 슬릿 위치, 높이, 각도 및 증류수 유량은 슬릿 제어부를 통해 조절한다.First, the photomask to be cleaned is fixed to the mask holder. The photomask is then rotated by rotating the mask holder at an appropriate rotational speed, in which high pressure distilled water is injected into the photomask from the slit module through the slit. At this time, the slit position, height, angle and distilled water flow rate is adjusted through the slit control unit.
그 다음, 슬릿에 의한 세정이 완료되면, 증류수 분사를 정지하고 포토마스크를 회전 건조시킨다.Then, when washing by the slit is completed, distilled water injection is stopped and the photomask is dried by rotation.
그리고나서, 자외선 세정기를 이용한 자외선 세정을 실시하여 포토마스크 표면에 혹시 남아 있을 잔여 수분 및 유기물 등을 완전히 제거하고, 이 결과로서 포토마스크 세정을 완료한다.Then, UV cleaning using a UV cleaner is performed to completely remove residual moisture, organic matters, etc. remaining on the surface of the photomask, and as a result, the photomask cleaning is completed.
전술한 바와 같이 본 고안의 포토마스크 세정 장치는 하기의 잇점을 갖는다.As described above, the photomask cleaning apparatus of the present invention has the following advantages.
포토마스크 상에 묻어 있는 이물질은 노광 공정시 투명성 유리기판 상에 형성된 감광성 수지막과의 접촉에 의한 감광성 수지 알갱이, 수분, 청정실 내에서 떠돌아 다니는 알갱이, 유리 잔사 등으로 구분할 수 있다. 이와 같은 이물질에 있어서 비교적 크기가 큰 알갱이들은 질소나 클린 에어(clean air) 등으로 불어서 제거할 수 있지만, 크기가 작은 알갱이의 경우는 그 제거가 쉽지 않다.Foreign substances on the photomask may be classified into photosensitive resin particles, moisture, particles floating in a clean room, glass residue, and the like, by contact with the photosensitive resin film formed on the transparent glass substrate during the exposure process. In this foreign matter, relatively large grains can be removed by blowing with nitrogen or clean air, but in the case of small grains, the grains are not easy to remove.
따라서, 본 고안은 슬릿(slit)을 통해 분사되는 고압의 증류수를 이용하여 크기가 작은 알갱이를 제거한다. 또한, 세정 효과를 증가시키기 위해 포토마스크를 회전시키면서 상기 증류수를 분사시킨다.Therefore, the present invention removes small grains by using distilled water of high pressure injected through a slit. In addition, the distilled water is sprayed while rotating the photomask to increase the cleaning effect.
즉, 포토마스크를 회전시킬 경우, 패턴 불량을 야기하는 마스크 상의 알갱이들에 원심력이 작용하게 되며, 이때, 약하게 붙어 있는 알갱이는 원심력에 의해 제거된다. 또한, 붙어있는 정도가 심한 알갱이는 원심력이 작용하더라도 쉽게 제거되지 않겠지만, 슬릿을 통해 고압의 초순수 증류수가 분사되는 경우에는 원심력에 고압의 증류수 힘이 더해지므로, 붙어있는 정도가 심한 알갱이들 또한 완벽한 제거가 가능하게 된다.That is, when the photomask is rotated, the centrifugal force acts on the grains on the mask causing the pattern defect. At this time, the weakly attached grains are removed by the centrifugal force. In addition, even if the granules are heavily attached, they will not be easily removed even if centrifugal force is applied. Removal is possible.
여기서, 분사되는 증류수의 압력은 포토마스크 패턴에 일반적으로 사용되는 크롬 패턴이 탈리되지 않는 범위 내에서 조절한다. 또한, 슬릿은 마스크 회전 중심으로부터 뒤쪽에 위치시키며, 경사지게 설치하여 마스크 중앙 부분으로 증류수가 분사되도록 한다. 포토마스크 전면에 걸쳐 증류수를 분사하기 위해 세정 중 슬릿 모듈을 슬릿 지지대를 통해 이동시키며, 제거된 알갱이들은 다시 원심력과 이에 의한 분사된 증류수의 흐름에 의해 마스크 외부로 이동하게 된다.Here, the pressure of the injected distilled water is adjusted within a range in which the chromium pattern generally used in the photomask pattern is not detached. In addition, the slit is located rearward from the center of rotation of the mask, it is installed inclined so that distilled water is injected into the center portion of the mask. The slit module is moved through the slit support during cleaning to inject distilled water over the entire surface of the photomask, and the removed particles are again moved out of the mask by centrifugal force and the flow of the injected distilled water.
한편, 회전 및 고압 증류수에 의한 세정이 끝난 포토마스크에 있어서는 알갱이와 같은 이물질은 제거되겠지만, 표면에 유기물이 잔류될 수 있다. 그런데, 본 고안은 회전 및 고압 증류수에 의한 세정이 완료된 포토마스크에 대해 증류수를 분사하지 않는 상태에서 회전 건조방식을 이용해 1차적으로 건조한 후, 자외선 세정을 실시하므로, 혹시 남아 있을 수도 있는 잔여 유기물 또한 완전히 제거시킨다.On the other hand, in the photomask that has been cleaned by rotating and high-pressure distilled water, foreign substances such as granules will be removed, but organic substances may remain on the surface. By the way, the present invention is primarily dried using a rotary drying method in a state in which no distilled water is sprayed on the photomask, which has been cleaned by rotation and high-pressure distilled water, and then washed with ultraviolet rays, so that any remaining organic matter may remain. Remove it completely.
여기서, 저압 수은 등을 사용하는 자외선 세정기는 194.8㎚ 및 253.7㎚ 파장을 발생하는데, 상기 194.8㎚에 해당하는 파장은 647KJ/mol의 에너지를 가지며, 하기의 표 1에서와 같이 원자간의 결합에너지 보다 큰 에너지를 가지므로, 유기물의 원자간 사슬을 끊어주어 잔여 유기물을 제거한다.Here, a UV cleaner using low pressure mercury or the like generates wavelengths of 194.8 nm and 253.7 nm, and the wavelength corresponding to 194.8 nm has an energy of 647 KJ / mol and is larger than the binding energy between atoms as shown in Table 1 below. As it has energy, it breaks the interatomic chain of organics to remove residual organics.
<표 1>TABLE 1
결국, 본 고안의 세정 장치는 별도의 세정액 및 다량의 증류수를 사용하지 않고 회전 및 슬릿을 통한 고압 증류수 분사를 통해 포토마스크를 세정하므로, 세정 비용을 절감할 수 있음은 물론 소량의 증류수만 사용하면 되므로 친환경적인 세정을 이룰 수 있다.As a result, the cleaning apparatus of the present invention cleans the photomask by spraying high-pressure distilled water through rotation and slit without using a separate washing liquid and a large amount of distilled water, thereby reducing the cleaning cost and using only a small amount of distilled water. Therefore, eco-friendly cleaning can be achieved.
또한, 본 고안은 회전 및 고압 증류수에 의한 세정 후, 자외선 세정이 수행되도록 장치를 구성함으로써 혹시 남아 있을 수 있는 잔여 유기물 또한 완벽하게 제거할 수 있는 바, 포토마스크 세정의 신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, the present invention can completely remove any residual organic matter that may be left by configuring the device to perform ultraviolet cleaning after the rotation and washing with high-pressure distilled water, it is possible to ensure the reliability of the photomask cleaning.
이상에서와 같이, 본 고안은 별도의 세정액을 사용하지 않고 슬릿을 통한 고압의 초순수와 자외선 세정만을 이용하여 포토마스크를 세정할 수 있는 세정 장치를 제공함으로써 상기 포토마스크 세정에 소요되는 비용을 절감할 수 있으며, 또한, 친환경적인 포토마스크 세정을 이룰 수 있다.As described above, the present invention provides a cleaning device capable of cleaning the photomask using only high pressure ultrapure water and ultraviolet cleaning through a slit without using a separate cleaning solution, thereby reducing the cost of cleaning the photomask. In addition, environmentally friendly photomask cleaning can be achieved.
따라서, 본 고안은 새로운 장치의 제공을 통해 포토마스크 세정의 신뢰성을 확보할 수 있으므로, 평판표시장치의 양극기판 제조시 생산 수율을 향상시킬 수 있다.Therefore, the present invention can secure the reliability of photomask cleaning by providing a new device, thereby improving the production yield when manufacturing the positive electrode substrate of the flat panel display device.
이상, 여기에서는 본 고안의 특정 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 당업자에 의해서 이에 대한 수정과 변형을 할 수 있다. 따라서, 이하 실용신안등록청구범위는 본 고안의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.Hereinbefore, although specific embodiments of the present invention have been shown and described, modifications and variations can be made by those skilled in the art. Accordingly, the utility model registration claims below may be understood to include all modifications and variations as long as they fall within the true spirit and scope of the present invention.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0036087U KR200346519Y1 (en) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | Apparatus for cleaning photomask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0036087U KR200346519Y1 (en) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | Apparatus for cleaning photomask |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR200346519Y1 true KR200346519Y1 (en) | 2004-04-03 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0036087U KR200346519Y1 (en) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | Apparatus for cleaning photomask |
Country Status (1)
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| KR (1) | KR200346519Y1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210058017A (en) | 2019-11-13 | 2021-05-24 | 아레텍 주식회사 | Mask guide pin auto changer and mask guide pin auto changing method using the mask guide pin auto changer |
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2003
- 2003-11-19 KR KR20-2003-0036087U patent/KR200346519Y1/en not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210058017A (en) | 2019-11-13 | 2021-05-24 | 아레텍 주식회사 | Mask guide pin auto changer and mask guide pin auto changing method using the mask guide pin auto changer |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| REGI | Registration of establishment | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120315 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |