KR20030090942A - Sealing structure of linear motion part of robot for semiconductor manufacturing processes - Google Patents

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KR20030090942A
KR20030090942A KR1020020028829A KR20020028829A KR20030090942A KR 20030090942 A KR20030090942 A KR 20030090942A KR 1020020028829 A KR1020020028829 A KR 1020020028829A KR 20020028829 A KR20020028829 A KR 20020028829A KR 20030090942 A KR20030090942 A KR 20030090942A
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linear drive
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황찬영
안승욱
전인택
김경수
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아이램테크(주)
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Abstract

PURPOSE: A sealing structure of a rectilineal motion unit in a robot for a semiconductor process is provided to prevent the torsion of a wrinkled dustproof layer by rotating the wrinkled dustproof layer synchronously with the rotation of the rectilineal motion unit. CONSTITUTION: A ring-shaped protrusion(34) is formed at the upper body(32) of a case. A bearing(60) is mounted at the outer circumference of the ring-shaped protrusion. A lower sealing unit(50) is mounted at the ring-shaped protrusion through the bearing, and has an L-shaped section. A boss(70) is connected to the lower sealing unit, and has a through hole(72). A sliding rod(80) is slidably mounted at the through hole, and is coupled with the upper body.

Description

반도체공정 로봇 직동부의 실링구조{Sealing structure of linear motion part of robot for semiconductor manufacturing processes}Sealing structure of linear motion part of robot for semiconductor manufacturing processes

본 발명은 반도체 공정용 로봇의 실링구조에 관한 것으로, 구체적으로는 고도의 정밀도를 요하는 크린룸 환경에서 환경에서 작업하는 반도체 공정용 로봇의 직동부를 실링하여 O링의 마모에 의해 발생하는 분진을 주변 환경으로 배출하는 것을 차단하는 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing structure of a semiconductor process robot, and specifically, to seal dust generated by wear of an O-ring by sealing a linear part of a semiconductor process robot working in an environment in a clean room environment requiring high precision. It relates to a structure for blocking the discharge to the environment.

일반적으로, 웨이퍼, LCD 등을 제작하기 위한 반도체 제작공정에 사용되는 로봇은 크게 대기중에서 작업하는 대기형 로봇, 수중이나 고습도 환경에서 작업하는 방수형 로봇, 진공환경에서 작업하는 진공형 로봇으로 구분되는바, 이들 모두 초정밀 반도체 제조라인에 투입되는 관계로, 생산제품의 신뢰성을 확보하기 위해 로봇 자체내에서 발생하는 분진이나 파티클 등을 로봇 외부의 작업환경으로 배출하는 것을 최소화해야만 한다.In general, the robots used in the semiconductor manufacturing process for manufacturing wafers, LCDs, etc. are classified into atmospheric robots working in the air, waterproof robots working in the water or high humidity environment, and vacuum robots working in the vacuum environment. Bars are all put into the ultra-precision semiconductor manufacturing line, so in order to ensure the reliability of the product, the dust or particles generated in the robot itself should be minimized to the outside working environment of the robot.

또, 모든 로봇은 회전운동과 직선운동을 해야만 하므로, 이들 회전운동부와 직선운동부에서 마찰에 의해 분진이나 파티클 등이 발생할 수 밖에 없다.In addition, since all robots must rotate and linearly rotate, dust and particles are inevitably generated by friction in these rotary motion units and linear motion units.

도 1은 종래의 일반적인 반도체 공정용 로봇의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a conventional robot for a semiconductor process.

도시된 바와 같이, 반도체 공정용 로봇은 대부분 두개의 아암(1,2), 제2 아암(2)과는 별도로 로봇 본체를 회전 및 상하로 운동시키기 위한 직동축(10), 제1 아암(1)에 설치되어 회전운동하는 웨이퍼 핸드(3), 직동축(10)의 하부 부분을 둘러싸고 그 내부에 직동축의 회전과 직진운동을 위한 동력발생장치와 동력전달장치를 내장하고 있는 케이스(30)로 구성된다.As shown in the drawing, the robot for semiconductor processing is mostly a linear drive shaft 10 and a first arm 1 for rotating and moving the robot body up and down separately from the two arms 1 and 2 and the second arm 2. Wafer hand (3) installed in the rotational movement and surrounding the lower portion of the linear drive shaft 10, the case 30 having a power generator and a power transmission device for the rotation and linear movement of the linear drive shaft therein It consists of.

도 2는 도 1의 직동축(10)과 케이스(30)의 종래의 밀봉구조를 자세히 도시한 부분확대 단면도이고, 도 3은 도 2의 B 부분의 확대도이다.FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a conventional sealing structure of the linear drive shaft 10 and the case 30 of FIG. 1 in detail, and FIG. 3 is an enlarged view of a portion B of FIG.

도시된 바와 같이, 종래의 반도체공정 로봇의 직동축(10)은 회전운동과 동시에 상하로 직동운동한다. 따라서, 직동축의 회전 및 직선운동에 의한 마찰로 인해 발생하는 분진이나 파티클을 주변 작업환경으로 배출하는 것을 방지하기 위해 직동축 둘레에 아코디온 형태로 주름진 방진주름막(40)을 설치하여 직동축(40)을 노출부를 둘러싸고 있다. 이 방진주름막(40)은 상단부는 직동축(10)과 동기적으로 회전 및 상하 직선운동하는 상부몸체(12)에 연결되고, 그 하단부는 케이스의상단몸체(32)에서 미끄럼 운동하는 환형 무게추(34)에 연결되어 있다. 방진주름막(40)의 주름진 형태로 인해, 방진주름막은 직동축(10)의 상하 왕복운동과 함께 자체적으로 접혀졌다 펼쳐졌다 하면서 직동축의 직진운동을 방해하지 않으면서 직동축의 노출부를 주변환경에서 차단하고 있다.As shown, the linear motion shaft 10 of the conventional semiconductor process robot moves up and down simultaneously with the rotational movement. Therefore, in order to prevent the dust or particles generated by friction due to the rotation and linear movement of the linear drive shaft to the surrounding work environment, the anti-corrugated anti-wrinkle film 40 in the form of accordion is installed around the linear drive shaft. 40) surrounds the exposed portion. The anti-vibration wrinkle membrane 40 has an upper end connected to the upper body 12 which rotates and moves up and down synchronously with the linear drive shaft 10, and the lower end thereof has an annular weight which slides on the upper body 32 of the case. It is connected to the weight 34. Due to the corrugated shape of the anti-vibration wrinkle membrane 40, the anti-vibration wrinkle membrane is folded and unfolded itself with the up and down reciprocating motion of the linear drive shaft 10 while the exposed portion of the linear drive shaft does not interfere with the linear motion of the linear drive shaft. Blocked by

또, 직동축(10)이 회전하면 방진주름막(40) 자체도 직동축과 함께 회전하게 된다. 물론, 방진주름막 상단부는 상부몸체(12)에 결합되어 있으므로, 직동축과 동기적으로 회전한다. 또한, 방진주름막(40)의 하단부는 미끄럼 운동 가능한 환형 무게추(34)에 결합되어 있으므로, 역시 직동축의 회전과 동시에 회전 가능하다. 그러나, 방진주름막(40)의 상단부는 상부몸체(12)와 동기적으로 회전하지만, 무게추(34)는 케이스의 상단몸체(32)와의 사이에 미끄럼 마찰이 발생할 수 밖에 없으므로 직동축의 회전과 동기적으로 회전하지 못하게 된다. 이에 따라, 회전운동시에는 하단부의 마찰력으로 인해 방진주름막(40)에 비틀림이 발생하여 그 수명이 단축되는 문제가 있다.In addition, when the linear drive shaft 10 rotates, the anti-vibration wrinkle membrane 40 itself also rotates with the linear drive shaft. Of course, since the upper part of the anti-vibration wrinkle membrane is coupled to the upper body 12, it rotates synchronously with the linear drive shaft. In addition, since the lower end portion of the anti-vibration wrinkle film 40 is coupled to the annular weight 34 that can be slid, it is also possible to rotate simultaneously with the rotation of the linear drive shaft. However, while the upper end of the anti-vibration wrinkle membrane 40 rotates in synchronism with the upper body 12, the weight 34 is a sliding friction between the upper body 32 and the upper body 32 of the case, so the rotation of the linear shaft It can't rotate synchronously. Accordingly, during the rotational movement, a twist occurs in the anti-vibration wrinkle film 40 due to the frictional force of the lower end, thereby shortening its lifespan.

본 발명은 종래의 이와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 로봇 직동부를 밀봉하는 방진주름막의 전체를 직동부의 회전운동과 완전히 동기적으로 회전하도록 구성함으로써, 방진주름막의 비틀림 현상을 원천적으로 차단하여 그 수명단축을 방지하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems in the prior art, by configuring the whole of the anti-vibration wrinkle membrane sealing the robot linear motion portion to be completely synchronized with the rotational movement of the linear motion portion, thereby blocking the torsion phenomenon of the anti-vibration wrinkle membrane at the source. The purpose is to prevent shortening of the service life.

도 1은 일반적인 반도체 공정로봇의 전체적인 개략도;1 is an overall schematic diagram of a typical semiconductor process robot;

도 2는 종래의 반도체 공정로봇 직동부의 실링구조를 보여주는 부분단면도;2 is a partial cross-sectional view showing a sealing structure of a conventional semiconductor process robot linear motion unit;

도 3은 도 2의 B 부분의 상세도;3 is a detail view of portion B of FIG. 2;

도 4은 본 발명에 따른 반도체 공정로봇 직동부의 실링구조를 보여주는 부분단면도;4 is a partial cross-sectional view showing a sealing structure of a semiconductor process robot linear motion unit according to the present invention;

도 5는 도 4의 A 부분의 상세도.FIG. 5 is a detail view of portion A of FIG. 4. FIG.

이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위해, 제1 아암, 제2 아암, 회전운동과 상하 직동운동을 동시에 하는 직동축, 직동축의 하부부분을 둘러싸는 케이스, 케이스 내부의 동력발생구조 및 동력전달구조, 상기 직동축 상단에 장착되어 아암을 회전시키는 동력장치가 내장되어 있는 상부몸체, 상기 직동축의 노출부를 둘러싸고 상단은 상기 상부몸체에 연결되고 하단은 상기 케이스에 연결되는 아코디언 구조의 방진주름막을 포함하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조에 있어서: 상기 케이스의 상단몸체 내단부에서 상부로 돌출된 환형 돌출부; 상기 환형돌출부의 외주변에 장착된 베어링; 상기 베어링을 통해 환형돌출부에 장착되고, 상기 방진주름막의 하단이 고정되어 있는 단면이 대략 L형인 환형의 하단 밀봉체; 상기 하단밀봉체에 안쪽을 향해 연결되고 상하로 관통구멍이 형성되어 있는 하나 이상의 보스; 및 상기 보스의 관통구멍에 슬라이딩 가능하게 장착되고, 상단은 상기 상부몸체에 결합되는 기다란 슬라이딩 로드;를 포함하고, 상기 슬라이딩 로드는 상기 직동축과 동기적으로 회전 및 상하 직동운동을 하고, 이에 따라 슬라이등 로드에 보스를 통해 결합되어 있는 상기 하단밀봉체도 상기 직동축과 동기적으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention, the first arm, the second arm, the linear motion shaft and the upper and lower linear motion at the same time, the case surrounding the lower portion of the linear motion shaft, the power generating structure and power transmission inside the case Structure, the upper body is mounted to the top of the linear drive shaft is built in the power unit for rotating the arm, surrounds the exposed portion of the linear drive shaft, the upper end is connected to the upper body and the lower end is connected to the case of the dustproof wrinkle membrane A sealing structure for a robot linear motion portion for a semiconductor process comprising: an annular protrusion projecting upward from an inner end of an upper body of the case; A bearing mounted on an outer periphery of the annular protrusion; An annular lower end seal mounted on the annular protrusion through the bearing and having an L-shaped cross section in which a lower end of the anti-vibration wrinkle film is fixed; At least one boss connected inwardly to the lower sealing body and having a through hole formed up and down; And an elongated sliding rod slidably mounted in the through-hole of the boss and having an upper end coupled to the upper body, wherein the sliding rod rotates and moves up and down synchronously with the linear driving shaft, thereby The lower sealing body coupled to the slide rod through the boss is also provided with a sealing structure of the robot direct acting portion for a semiconductor process, characterized in that also rotates synchronously with the linear drive shaft.

본 발명에 따른 로봇 직동부의 실링구조에서, 상기 보스는 직동축을 중심으로 대각선 방향으로 두개 장착되고, 이에 대응하는 슬라이딩 보스도 상기 직동축을 중심으로 대각선 방향으로 두개 장착되는 것이 바람직하다.In the sealing structure of the robot linear motion unit according to the present invention, two bosses are mounted in a diagonal direction about the linear motion axis, and two sliding bosses corresponding thereto are also mounted in a diagonal direction about the linear motion axis.

또, 상기 방진주름막의 외면에 내화학성과 방수성을 갖는 테프론 등의 물질을 코팅하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to coat a material such as Teflon having chemical resistance and water resistance on the outer surface of the anti-vibration wrinkle film.

이하 첨부 도면들을 참조하여 본 발명에 대해 자세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 직동축의 실링구조의 단면도이고, 도 5는 도 4의 A 부분의 확대도이다. 설명의 편의상, 종래구조와 동일한 부분에는 동일한 부호를 병기한다.4 is a cross-sectional view of the sealing structure of the linear drive shaft according to the present invention, Figure 5 is an enlarged view of a portion A of FIG. For convenience of description, the same reference numerals are given to the same parts as in the conventional structure.

도시된 바와 같이, 반도체 공정용 로봇에서 회전운동과 상하 직동운동을 동시에 하는 직동축(10)의 상부에는 제2 아암(2)의 동작을 위한 동력발생 및 동력전달장치가 내장되어 있는 상부몸체(12)가 장착되어 있다. 또, 직동축(10)의 하부부분은 케이스(30)로 둘러싸인다. 물론, 이 케이스(30) 내부에는 직동축(10)의 동력원이 내장되어 있다. 이 직동축(10)의 외부는 원통형 구조로서 아코디언 형태의 주름구조를 갖는 방진주름막(40)이 둘러싸고 있다. 방진주름막(40)의 상단은 종래와 마찬가지로 상부몸체(12)에 연결되지만, 하단부의 연결구조는 본 발명의 특징으로서 후술하는 바와 같이 연결되어 있다.As shown in the upper part of the linear motion shaft 10 that simultaneously rotates and moves up and down in the semiconductor process robot, the upper body (1) having a power generation and power transmission device for the operation of the second arm 2 ( 12) is installed. In addition, the lower portion of the linear drive shaft 10 is surrounded by a case (30). Of course, the power source of the linear drive shaft 10 is built in the case 30. The outer side of the linear drive shaft 10 is surrounded by a dust-proof wrinkle membrane 40 having a corrugated structure of accordion shape as a cylindrical structure. The upper end of the anti-vibration wrinkle film 40 is connected to the upper body 12 as in the prior art, but the connection structure of the lower end is connected as described later as a feature of the present invention.

케이스(30)의 상단몸체(32)에는 환형 돌출부(34)가 장착되어 있는바, 가급적 환형돌출부(34)는 상단몸체(32)의 내단부에 위치하는 것이 바람직하며, 볼트 등의 체결구를 이용해 상단몸체에 움직이지 않도록 체결된다. 또, 환형돌출부(34)의 외주변에는 베어링(60)이 장착된다. 그리고, 단면이 대략 L형이고 환형 돌출부에 대응하는 형태의 하단 밀봉체(50)가 상기 환형돌출부(34)에 장착된다. 물론, 하단밀봉체(50)는 환형돌출부(34)의 베어링(60)을 통해 회전 가능하도록 장착된다. 그리고, 도 5에 도시된 바와 같이, 방진주름막(40)의 하단부는 하단밀봉체(50)의 윗면에 볼트, 너트 등의 체결구를 이용해 결합된다. 따라서, 하단밀봉체(50)는 방진주름막(40)과 일체로 회전이 가능한 구조로 된다.The upper body 32 of the case 30 is provided with an annular projection 34, preferably the annular projection 34 is preferably located at the inner end of the upper body 32, fasteners such as bolts It is fastened so as not to move on the upper body. In addition, a bearing 60 is mounted on the outer periphery of the annular projection 34. Then, a lower end seal 50 having a substantially L-shaped cross section and corresponding to the annular projection is mounted on the annular projection 34. Of course, the bottom sealing body 50 is mounted to be rotatable through the bearing 60 of the annular projection (34). And, as shown in Figure 5, the lower end of the anti-vibration wrinkle film 40 is coupled to the upper surface of the bottom sealing body 50 using fasteners such as bolts, nuts. Therefore, the lower end sealing body 50 becomes a structure which can be rotated integrally with the anti-vibration wrinkle film 40.

한편, 하단밀봉체(50)에는 상하 관통공(72)이 형성되어 있는 보스(70)가 안쪽을 향해 장착된다. 물론, 이 보스(70)는 하단밀봉체(50)와 일체로 결합되어 하단밀봉체와 함께 회전한다. 또, 보스(70)의 관통공(72)을 통해 상하로 기다란 슬라이등 로드(80)가 배치된다. 이 슬라이딩 로드(80)의 상단부는 상기 상부몸체(12)에 체결되어 있고, 그 길이는 직동축(10)의 상하 왕복운동을 커버할 수 있을 만큼 길어야 한다. 따라서, 슬라이딩 로드(80)는 직동축(10)의 상하 왕복운동에 대응하여 상기 보스(70)의 관통공(72)을 통해 상하로 미끄럼 운동함은 물론, 직동축(10)이 회전하면 그 회전과 동일하게 회전하게 된다.On the other hand, the boss 70, the upper and lower through-holes 72 are formed in the lower sealing body 50 is mounted toward the inside. Of course, the boss 70 is integrally coupled with the lower seal body 50 and rotates together with the lower seal body. Moreover, the slender-light rod 80 which is long and vertically arranged through the through-hole 72 of the boss 70 is arrange | positioned. The upper end of the sliding rod 80 is fastened to the upper body 12, the length should be long enough to cover the vertical reciprocating motion of the linear drive shaft (10). Therefore, the sliding rod 80 slides up and down through the through hole 72 of the boss 70 in response to the up and down reciprocating motion of the linear drive shaft 10, as well as when the linear drive shaft 10 rotates. It rotates the same as rotation.

이와 같은 구조로 되어 있기 때문에, 슬라이딩 로드(80)가 직동축(10)과 동기적으로 회전하면, 이에 연결된 보스(70)를 통해 하단밀봉체(50)도 직동축과 동기적으로 회전운동하게 되며, 그 결과, 하단밀봉체(50)에 연결된 방진주름막(40)도 전체가 동일하게 직동축(10)과 동기적으로 회전하게 된다.Since the sliding rod 80 rotates synchronously with the linear drive shaft 10, the lower seal body 50 also rotates synchronously with the linear drive shaft through the boss 70 connected thereto. As a result, the anti-vibration wrinkle film 40 connected to the bottom sealing body 50 is also rotated synchronously with the linear drive shaft 10 as a whole.

또, 상기 보스(70)와 이에 대응하는 슬라이딩 로드(80)는 하나만 설치해도 되고 3개 이상 설치해도 되지만, 대각선 방향으로 마주보는 양쪽에 하나씩 2개 설치하는 것이 안정적인 측면을 고려할 때 바람직하다.In addition, the boss 70 and the sliding rod 80 corresponding thereto may be provided in one or three or more, but it is preferable to install two one at each side facing the diagonal direction in consideration of the stable side.

한편, 반도체공정용 로봇은 일반 대기중에서 작업할 수도 있지만, 수분이 높은 고습도 환경이나 산이나 알카리가 많은 화학 환경에서 작업할 수도 있으므로, 방진주름막 외표면에 테프론 등 내화학성과 방수성을 향상시키는 재료로 코팅하는 것이 바람직하다.On the other hand, the semiconductor process robot can work in the general atmosphere, but it can also work in high humidity environment with high moisture or chemical environment with high acid and alkali. Therefore, the material for improving chemical resistance and waterproofness such as Teflon on the outer surface of the anti-vibration wrinkle film It is preferable to coat with.

이와 같이 구성된 본 발명의 로봇 직동부의 실링구조에 의하면, 직동축을 둘러싼 방진주름막의 상단부와 하단부를 포함한 전체가 직동축의 회전운동에 완전히 동기적으로 회전할 수 있으므로, 종래와 같은 상단부와 하단부 사이의 회전속도차에 의한 비틀림 현상을 완전히 배제할 수 있다. 이에 따라, 방진주름막의 수명단축 문제도 해결된다.According to the sealing structure of the robot linear motion unit of the present invention configured as described above, since the whole including the upper end and the lower end of the anti-vibration wrinkle film surrounding the linear motion shaft can rotate completely in synchronization with the rotational movement of the linear motion shaft, the upper and lower ends as in the prior art The torsional phenomenon due to the difference in rotation speed between them can be completely excluded. Accordingly, the problem of shortening the life of the anti-vibration wrinkle film is also solved.

또한, 종래의 방진주름막의 하단에 연결되어 미끄럼하는 무게추 부분을 베어링을 통해 회전하는 구조로 변경함으로써 분진이나 파티클의 발생 우려도 감소시키는 효과를 부수적으로 얻을 수 있다.In addition, by changing the sliding weight portion connected to the lower end of the conventional anti-vibration wrinkle film to a structure that rotates through the bearing, it is possible to additionally obtain the effect of reducing the risk of dust or particles generated.

Claims (3)

제1 아암, 제2 아암, 회전운동과 상하 직동운동을 동시에 하는 직동축, 직동축의 하부부분을 둘러싸는 케이스, 케이스 내부의 동력발생구조 및 동력전달구조, 상기 직동축 상단에 장착되어 아암을 회전시키는 동력장치가 내장되어 있는 상부몸체, 상기 직동축의 외부를 둘러싸고 상단은 상기 상부몸체에 연결되고, 하단은 상기 케이스에 연결되는 아코디언 구조의 방진주름막을 포함하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조에 있어서:A first arm, a second arm, a direct drive shaft that simultaneously rotates and moves up and down, a case surrounding a lower portion of the direct drive shaft, a power generating structure and a power transmission structure inside the case, mounted on an upper end of the linear drive shaft, An upper body having a built-in power unit for rotating, surrounding the outside of the linear drive shaft, the upper end is connected to the upper body, the lower end is a sealing of the linear motion robot directing unit including an accordion-type dust-proof wrinkle membrane connected to the case In structure: 상기 케이스의 상단몸체 내단부에서 상부로 돌출된 환형 돌출부;An annular protrusion protruding upward from an inner end of the upper body of the case; 상기 환형돌출부의 외주변에 장착된 베어링;A bearing mounted on an outer periphery of the annular protrusion; 상기 베어링을 통해 환형돌출부에 장착되고, 상기 방진주름막의 하단이 고정되어 있는 단면이 대략 L형인 환형의 하단 밀봉체;An annular lower end seal mounted on the annular protrusion through the bearing and having an L-shaped cross section in which a lower end of the anti-vibration wrinkle film is fixed; 상기 하단밀봉체에 안쪽을 향해 연결되고 상하로 관통구멍이 형성되어 있는 하나 이상의 보스; 및At least one boss connected inwardly to the lower sealing body and having a through hole formed up and down; And 상기 보스의 관통구멍에 슬라이딩 가능하게 장착되고, 상단은 상기 상부몸체에 결합되는 기다란 슬라이딩 로드;를 포함하고,A long sliding rod slidably mounted to the through hole of the boss and having an upper end coupled to the upper body; 상기 슬라이딩 로드는 상기 직동축과 동기적으로 회전 및 상하 직동운동을 하고, 이에 따라 슬라이등 로드에 보스를 통해 결합되어 있는 상기 하단밀봉체도 상기 직동축과 동기적으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조.The sliding rod rotates and moves up and down synchronously with the linear drive shaft, and thus the lower sealing body coupled to the slide rod through the boss also rotates synchronously with the linear drive shaft. Sealing structure of robot linear motion part. 제1항에 있어서, 상기 보스가 상기 직동축을 중심으로 대각선 방향으로 두개 장착되고, 이에 대응하는 슬라이딩 보스도 상기 직동축을 중심으로 대각선 방향으로 두개 장착되는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조.According to claim 1, wherein two bosses are mounted in a diagonal direction about the linear motion axis, and two corresponding sliding bosses are mounted in a diagonal direction about the linear drive robot linear motion part for the process Sealing structure. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 방진주름막의 외면에 내화학성과 방수성을 갖는 테프론 등의 물질을 코팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 로봇 직동부의 실링구조.3. The sealing structure according to claim 1 or 2, wherein a material such as Teflon having chemical resistance and water resistance is coated on the outer surface of the anti-vibration wrinkle film.
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