KR20030056920A - Method for testing a semiconductor memory device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A test method of a semiconductor memory device is provided to be capable of measuring exactly diverse measurement values by using a dummy cell having same condition to a cell. CONSTITUTION: In a test method of a semiconductor memory device, a dummy cell(305) is connected to dummy bit lines(DBL1,DBL2) by forming a contact in the dummy cell. The dummy bit lines(DBL1,DBL2) are connected to probe pads(308,310), respectively. After performing a desired test to the semiconductor memory device, the test result is measured by using the probe pads(308,310).

Description

반도체 메모리 장치의 테스트 방법{METHOD FOR TESTING A SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE}Test method of semiconductor memory device {METHOD FOR TESTING A SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE}

본 발명은 반도체 메모리 장치의 테스트 방법에 관한 것으로서, 특히 메모리 셀에 관한 여러 측정값을 메모리 소자 동작시와 같은 조건에 측정할 수 있는 반도체 메모리 장치의 테스트 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test method for a semiconductor memory device, and more particularly, to a test method for a semiconductor memory device capable of measuring various measurement values for a memory cell under the same conditions as in operation of a memory device.

메모리 공정이 점점 더 작아질수록 메모리를 구성하는 부분들간의 커패시턴스 문제가 더욱 심각해지고 있다. 따라서, 비트 라인과 비트 라인 사이의 커플링 커패시턴스, 셀 커패시터의 커패시턴스, 워드 라인이 턴온 되었을 때 비트 라인에미치는 영향 등에 대한 정밀한 검토가 필요하게 되었다. 그러나 이러한 검토는 지금까지 셀 매트에 대해 직접 이루어지지 않고, 별도로 구현된 테스트 패턴에 대해 측정한 후 실제 셀에 대하여 유추하는 방법으로 이루어졌다.As the memory process becomes smaller and smaller, the capacitance problem between the parts constituting the memory becomes more serious. Therefore, it is necessary to examine closely the coupling capacitance between the bit line and the bit line, the capacitance of the cell capacitor, and the effect on the bit line when the word line is turned on. However, such a review has not been made so far for cell mats, but is made by measuring a test pattern implemented separately and inferring the actual cell.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치 테스트 방법을 도시한 도면이다. 도 1에서 102는 셀 매트(cell mat)를, 104는 더미 셀 부분을 각각 가리킨다. 그리고 WL은 워드 라인을, DWL은 더미 워드 라인을, BL은 비트 라인을, DBL은 더미 비트 라인을 각각 가리키며, CLi은 칼럼 선택 신호를 가리킨다. 도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 테스트 패턴(106)은 셀 매트(102)와 별도로 구현된다. 테스트 패턴(106)은 테스트 값의 측정을 위하여 실제 셀보다 통상 크게 설계되며, 패드(108, 110)를 경유하여 외부의 테스트 장치(도시되지 않음)에 연결된다. 이러한 구성에서 어떤 테스트 조건을 인가하고, 패드(108, 110)를 통해 테스트 패턴(106)의 특성값을 측정한 후, 테스트 패턴(106)과 실제 셀의 크기 등을 고려하여 실제 셀에 대한 특성값을 유추한다. 그러나 이러한 방법은 셀 매트에 대해 직접 이루어지는 것이 아니므로 근본적으로 부정확할 수밖에 없다.1 is a diagram illustrating a conventional semiconductor memory device test method. In FIG. 1, 102 denotes a cell mat and 104 denotes a dummy cell portion. WL indicates a word line, DWL indicates a dummy word line, BL indicates a bit line, DBL indicates a dummy bit line, and CLi indicates a column select signal. As shown in FIG. 1, the test pattern 106 is implemented separately from the cell mat 102. The test pattern 106 is typically designed to be larger than the actual cell for measurement of the test value and is connected to an external test device (not shown) via the pads 108 and 110. In this configuration, a certain test condition is applied, the characteristic value of the test pattern 106 is measured through the pads 108 and 110, and the characteristic of the actual cell is considered in consideration of the test pattern 106 and the size of the actual cell. Infer the value. However, this method is fundamentally inaccurate because it is not done directly to the cell mat.

본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 메모리 셀에 관한 여러 측정값을 메모리 소자 동작시와 동일한 조건에 측정할 수 있는 반도체 메모리 장치의 테스트 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a test method of a semiconductor memory device capable of measuring various measurement values of a memory cell under the same conditions as in operation of a memory device.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치 테스트 방법을 도시한 도면.1 is a diagram illustrating a conventional semiconductor memory device test method.

도 2는 종래의 반도체 메모리 장치의 코어를 도시한 도면.2 illustrates a core of a conventional semiconductor memory device.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 테스트 방법이 구현된 반도체 메모리 장치의 구성도.3 is a configuration diagram of a semiconductor memory device in which a test method according to an embodiment of the present invention is implemented.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 테스트 방법이 구현된 반도체 메모리 장치의 레이아웃을 도시한 도면.4 illustrates a layout of a semiconductor memory device in which a test method according to an embodiment of the present invention is implemented.

이러한 목적을 이루기 위한 본 발명은 반도체 메모리 장치의 테스트 방법에있어서, 더미 셀에 콘택을 형성하여 더미 비트 라인에 연결시키는 단계와, 상기 더미 비트 라인을 프로브 패드(probe pad)에 연결시키는 단계와, 상기 반도체 메모리 장치에 소정 테스트를 수행하고, 테스트 결과를 상기 프로브 패드를 통해 측정하는 단계를 구비하는 것을 일 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, a method of testing a semiconductor memory device includes: forming a contact in a dummy cell and connecting the dummy bit line to the dummy bit line, connecting the dummy bit line to a probe pad; And performing a predetermined test on the semiconductor memory device and measuring a test result through the probe pad.

또한 본 발명은 반도체 메모리 장치의 테스트 방법에 있어서, 더미 셀에 콘택을 형성하여 더미 워드 라인에 연결시키는 단계와, 상기 더미 워드 라인을 프로브 패드(probe pad)에 연결시키는 단계와, 상기 반도체 메모리 장치에 소정 테스트를 수행하고, 테스트 결과를 상기 프로브 패드를 통해 측정하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of testing a semiconductor memory device, the method comprising: forming a contact in a dummy cell and connecting the dummy word line to the dummy word line, connecting the dummy word line to a probe pad; And performing a predetermined test on the test pad and measuring a test result through the probe pad.

또한 본 발명은 메모리 셀에 대한 테스트가 용이한 구성을 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서, 더미 셀과, 상기 더미 셀과 콘택을 통하여 연결된 더미 비트 라인과, 상기 더미 비트 라인과 전기적으로 연결된 프로브 패드(probe pad)를 구비하는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention is a semiconductor memory device having a configuration that is easy to test a memory cell, a dummy cell, a dummy bit line connected through the contact with the dummy cell, and a probe pad electrically connected to the dummy bit line It is another feature to provide a pad).

또한 본 발명은 메모리 셀에 대한 테스트가 용이한 구성을 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서, 더미 셀과, 상기 더미 셀과 콘택을 통하여 연결된 더미 워드 라인과, 상기 더미 워드 라인과 전기적으로 연결된 프로브 패드를 구비하는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention is a semiconductor memory device having a configuration that can be easily tested for a memory cell, comprising a dummy cell, a dummy word line connected through contact with the dummy cell, and a probe pad electrically connected to the dummy word line. It is another feature to do.

이와 같은 본 발명의 구성에 의하면, 실제 셀과 거의 동일한 조건을 갖는 더미 셀을 이용하여 여러 테스트를 수행함으로써 실제 셀에 대한 여러 특성값을 매우 정확하게 측정할 수 있게 된다.According to the configuration of the present invention, by performing a number of tests using a dummy cell having almost the same conditions as the actual cell, it is possible to measure various characteristic values for the actual cell very accurately.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명한다. 설명의 일관성을 위하여 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소 및 신호를 가리키는 것으로 사용한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention; In the drawings, the same reference numerals are used to refer to the same or similar components and signals for the sake of consistency of description.

도 2는 종래의 반도체 메모리 장치의 코어를 도시한 도면으로서, 도 2a는 통상적인 회로도이고, 도 2b는 도 2a의 회로를 입체적으로 도시한 것이며, 도 2c는 레이아웃을 도시한 것이다. 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 반도체 메모리 장치의 셀 매트는 주위의 주변 회로와 셀 매트(cell mat)와의 단차를 맞추기 위하여 주변에 더미 패턴(dummy pattern)을 설치하고 있다. 더미 패턴은 더미 워드 라인(DWL)과 더미 비트 라인(DBL)과 더미 셀(202)로 이루어져 있다. 반면 실제 셀(204)은 실제 워드 라인(WL)과 실제 비트 라인(BL)을 구비하고 있다. 도 2c에서 206은 더미 셀을, 208은 실제 셀에 해당한다.FIG. 2 is a diagram illustrating a core of a conventional semiconductor memory device, in which FIG. 2A is a conventional circuit diagram, FIG. 2B is a three-dimensional diagram of the circuit of FIG. 2A, and FIG. 2C is a layout. As shown in FIG. 2, the cell mat of the semiconductor memory device is provided with a dummy pattern at the periphery so as to match the step between the peripheral circuit and the cell mat. The dummy pattern includes a dummy word line DWL, a dummy bit line DBL, and a dummy cell 202. On the other hand, the real cell 204 has a real word line WL and a real bit line BL. In FIG. 2C, 206 corresponds to a dummy cell and 208 corresponds to an actual cell.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 테스트 방법이 구현된 반도체 메모리 장치의 구성도이다. 도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 셀 매트(302)는 실제 워드 라인(WL)과 실제 비트 라인(BL)을 구비하는 실제 셀 부분(303)과, 더미 워드 라인(DWL)과 더미 비트 라인(DBL)을 구비한 더미 셀 부분(305)으로 나누어진다. 원래 더미 셀 부분(305)은 전술한 바와 같이, 셀 매트(302)와 주변 회로(도시되지 않음) 사이의 공정 단차를 메우기 위하여 실제 셀 부분(303)의 주변에 구현된다. 이럴 경우 더미 셀 부분(305)은 실제 셀 부분(303)과 거의 같은 조건으로 레이아웃 상에서 설계된다. 실제 셀 부분(303)에 저장된 데이터는 칼럼 선택 신호(CLi)의 활성화에 의해 센스 앰프(304)가 인에이블되면, 비트 라인(BL)과 멀티플렉서(306)를경유하여 데이터 신호(DQ)로서 출력된다.3 is a configuration diagram of a semiconductor memory device in which a test method according to an embodiment of the present invention is implemented. As shown in FIG. 3, the cell mat 302 includes a real cell portion 303 having a real word line WL and a real bit line BL, a dummy word line DWL and a dummy bit line ( Divided into a dummy cell portion 305 having a DBL). The original dummy cell portion 305 is implemented around the actual cell portion 303 to fill the process step between the cell mat 302 and the peripheral circuit (not shown), as described above. In this case, the dummy cell portion 305 is designed on the layout under almost the same conditions as the actual cell portion 303. The data stored in the actual cell portion 303 is output as the data signal DQ via the bit line BL and the multiplexer 306 when the sense amplifier 304 is enabled by activation of the column select signal CLi. do.

도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 더미 비트 라인(DBL)에 더미 셀(305a)이 전기적으로 연결되어 있다. 실제 공정에서는 더미 셀(305a)에 콘택을 형성하여 더미 비트 라인(DBL)에 연결된다. 도 3에서 더미 비트 라인(DBL2)은 와이어(312)를 경유하여 프로브 패드(308)에, 와이어(314)를 경유하여 프로브 패드(310)에 전기적으로 연결되어 있다. 본 실시예에서는 더미 비트 라인(DBL)이 프로브 패드(308, 310)에 전기적으로 연결되어 있으나, 다른 목적의 테스트를 위해서 더미 워드 라인(DWL)이 프로브 패드(308, 310)에 전기적으로 연결될 수 있다.As shown in FIG. 3, the dummy cell 305a is electrically connected to the dummy bit line DBL. In an actual process, a contact is formed in the dummy cell 305a and connected to the dummy bit line DBL. In FIG. 3, the dummy bit line DBL2 is electrically connected to the probe pad 308 via the wire 312 and to the probe pad 310 via the wire 314. Although the dummy bit line DBL is electrically connected to the probe pads 308 and 310 in the present embodiment, the dummy word line DWL may be electrically connected to the probe pads 308 and 310 for other purposes. have.

이와 같이 더미 셀(305a)이 더미 비트 라인(DBL)에 전기적으로 연결된 상태에서 기존의 테스트 패턴, 예를 들어 전체 워드 라인 인에이블(all word line enable) 패턴으로 진입하고, 프로브 패드(308, 310)를 통하여 더미 비트 라인(DBL)에 인가된 전압 또는 전류 등을 측정하여 더미 셀 부분(305)의 특성값을 알아냄으로써 실제 셀 부분(303)의 특성값도 알아낸다. 더미 워드 라인(DWL)이 프로브 패드(308, 310)에 연결되도록 한 상태에서 다른 테스트를 수행할 수 있다.As described above, the dummy cell 305a is electrically connected to the dummy bit line DBL and enters an existing test pattern, for example, an all word line enable pattern, and probe pads 308 and 310. The characteristic value of the actual cell portion 303 is also found by measuring the voltage or current applied to the dummy bit line DBL and finding the characteristic value of the dummy cell portion 305. Another test may be performed while the dummy word line DWL is connected to the probe pads 308 and 310.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 테스트 방법이 구현된 반도체 메모리 장치의 레이아웃을 도시한 도면이다. 도 4는 더미 워드 라인(DWL1)이 와이어(412)를 통하여 패드(408)에 전기적으로 연결되고, 더미 비트 라인(DBL2)이 와이어(414)를 통하여 패드(410)에 전기적으로 연결되는 경우이다. 도 4에서 402는 더미 셀을, 404는 더미 셀(402)과 더미 비트 라인(DBL2)의 사이에 형성된 콘택(contact)을, 406은 더미 워드 라인(DWL1)과 와이어(412)가 전기적으로 연결되는 부분을 각각 가리킨다. 그리고 416은 전체 워드 라인 인에이블 패턴을 구현하는 테스트 회로이다.FIG. 4 is a diagram illustrating a layout of a semiconductor memory device in which a test method according to an embodiment of the present invention is implemented. 4 illustrates a case in which the dummy word line DWL1 is electrically connected to the pad 408 through the wire 412, and the dummy bit line DBL2 is electrically connected to the pad 410 through the wire 414. . In FIG. 4, 402 denotes a dummy cell, 404 denotes a contact formed between the dummy cell 402 and the dummy bit line DBL2, and 406 denotes an electrical connection between the dummy word line DWL1 and the wire 412. Point out each part. And 416 is a test circuit that implements the entire word line enable pattern.

여기서 설명된 실시예들은 본 발명을 당업자가 용이하게 이해하고 실시할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 범위를 한정하려는 것은 아니다. 따라서 당업자들은 본 발명의 범위 안에서 다양한 변형이나 변경이 가능함을 주목하여야 한다. 본 발명의 범위는 원칙적으로 후술하는 특허청구범위에 의하여 정하여진다.The embodiments described herein are merely intended to enable those skilled in the art to easily understand and practice the present invention, and are not intended to limit the scope of the present invention. Therefore, those skilled in the art should note that various modifications or changes are possible within the scope of the present invention. The scope of the invention is defined in principle by the claims that follow.

이와 같은 본 발명의 구성에 의하면, 종래와 같이 별도로 구현된 테스트 패턴에 대한 측정값으로 실제 셀에 대해 유추하는 것이 아니라, 실제 셀과 거의 동일한 조건을 갖는 더미 셀을 이용하여 여러 테스트를 수행함으로써 실제 셀에 대한 여러 특성값을 매우 정확하게 측정할 수 있다.According to the configuration of the present invention, rather than inferring the actual cell as a measurement value for the test pattern implemented separately as in the prior art, by performing several tests using a dummy cell having almost the same conditions as the actual cell Various characteristic values for a cell can be measured very accurately.

Claims (4)

반도체 메모리 장치의 테스트 방법에 있어서,In the test method of a semiconductor memory device, 더미 셀에 콘택을 형성하여 더미 비트 라인에 연결시키는 단계와,Forming a contact in the dummy cell and connecting the dummy cell to the dummy bit line; 상기 더미 비트 라인을 프로브 패드(probe pad)에 연결시키는 단계와,Coupling the dummy bit line to a probe pad; 상기 반도체 메모리 장치에 소정 테스트를 수행하고, 테스트 결과를 상기 프로브 패드를 통해 측정하는 단계를Performing a predetermined test on the semiconductor memory device and measuring a test result through the probe pad 구비하는 것을 특징으로 하는 테스트 방법.Test method characterized in that it comprises. 반도체 메모리 장치의 테스트 방법에 있어서,In the test method of a semiconductor memory device, 더미 셀에 콘택을 형성하여 더미 비트 라인에 연결시키는 단계와,Forming a contact in the dummy cell and connecting the dummy cell to the dummy bit line; 상기 더미 워드 라인을 프로브 패드(probe pad)에 연결시키는 단계와,Connecting the dummy word line to a probe pad; 상기 반도체 메모리 장치에 소정 테스트를 수행하고, 테스트 결과를 상기 프로브 패드를 통해 측정하는 단계를Performing a predetermined test on the semiconductor memory device and measuring a test result through the probe pad 구비하는 것을 특징으로 하는 테스트 방법.Test method characterized in that it comprises. 메모리 셀에 대한 테스트가 용이한 구성을 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device having a configuration in which a test for a memory cell is easy, 더미 셀과,With dummy cells, 상기 더미 셀과 콘택을 통하여 연결된 더미 비트 라인과,A dummy bit line connected through the contact with the dummy cell; 상기 더미 비트 라인과 전기적으로 연결된 프로브 패드(probe pad)를A probe pad electrically connected to the dummy bit line 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A semiconductor memory device, characterized in that provided. 메모리 셀에 대한 테스트가 용이한 구성을 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device having a configuration in which a test for a memory cell is easy, 더미 셀과,With dummy cells, 상기 더미 셀과 콘택을 통하여 연결된 더미 비트 라인과,A dummy bit line connected through the contact with the dummy cell; 상기 더미 워드 라인과 전기적으로 연결된 프로브 패드(probe pad)를A probe pad electrically connected to the dummy word line 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A semiconductor memory device, characterized in that provided.
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