KR20030020178A - Method for framing a plasma display panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for assembling a plasma display panel is provided to achieve improved exhaust conductance and allow for an ease of mass production of a PDP. CONSTITUTION: A method for assembling a plasma display panel comprises a first step of depositing a sealing agent(12) including frit on one of an upper substrate and a lower substrate where a predetermined pattern including a barrier rib(10) is formed, in such a manner that the deposited sealing agent has a height higher than the height of the barrier rib; a second step of disposing a variable spacer(14) between the upper substrate and the lower substrate, wherein the spacer has a height lower than the height of the barrier rib and which expands or contracts in accordance with the temperature; a third step of aligning the upper substrate and the lower substrate, and transferring upper and lower substrates into a furnace; a fourth step of thermally expanding the spacer to have a height higher than the height of the barrier rib by raising the internal temperature of the furnace to a first temperature level higher than the softening point and lower than the melting point of the sealing agent, and contracting the sealing agent to have a height equal or similar to the height of the spacer; a fifth step of sealing upper and lower substrates under the first temperature level; a sixth step of permitting an end of the spacer to be disposed at the position higher than a predetermined height by thermally contracting the spacer; a seventh step of exhausting air from upper and lower substrates by reinforcing the sealing agent while maintaining the exhaust temperature for a predetermined time period; an eighth step of contracting the sealing agent to have a height equal or similar to the height of the barrier by raising and lowering the internal temperature of the furnace; and a ninth step of contracting the spacer to have a height lower than the height of the barrier rib by lowering the internal temperature of the furnace to the normal temperature.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법{METHOD FOR FRAMING A PLASMA DISPLAY PANEL}Assembly method of plasma display panel {METHOD FOR FRAMING A PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공 배기로와 동일한 배기 효과를 얻을 수 있으면서도 양산이 용이한 플라즈마 디스플레이 패널 조립방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a method for assembling a plasma display panel, which can achieve mass production while achieving the same exhaust effect as a vacuum exhaust path.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel, 이하 편의상 'PDP'라 칭한다)은 기체 방전으로 생성된 진공 자외선을 형광체 발광에 이용하여 소정의 영상을 구현하는 표시장치로서, 고해상도의 대화면 구성이 가능하여 차세대 박형 표시장치로 각광받고 있다.In general, a plasma display panel (PDP) is hereinafter referred to as 'PDP' for convenience, and is a display device that implements a predetermined image by using vacuum ultraviolet rays generated by gas discharge for emitting phosphors. It is getting into the spotlight as next generation thin display device.

이러한 PDP는 통상적으로 그 내면에 전극이 일정 패턴으로 각각 형성되어 서로 마주보도록 설치되는 한쌍의 상하 기판을 포함하는데, 상기 상하 기판중 어느 한개의 기판에는 배기 및 방전 가스 주입을 위한 수단이 구비된다.Such a PDP typically includes a pair of upper and lower substrates on which an electrode is formed in a predetermined pattern to face each other, and any one of the upper and lower substrates is provided with means for exhaust and discharge gas injection.

이하에서 상기 기판들을 조립하는 공정을 설명한다.Hereinafter, a process of assembling the substrates will be described.

패턴이 형성된 상하 기판중 어느 한 기판의 실링(sealing)을 원하는 위치에 글래스 파우더(glass powder)와 접착제(binder) 등을 배합하여 형성한 프리트(Frit) 등의 실링제를 도포한 후 전소성 처리하고, 각 기판에 제공된 정렬 마크(Align Mark)를 관찰하면서 상기 상하 기판을 정렬하며, 정렬이 끝나면 지그를 이용하여 양 기판을 클램핑한 후 공지의 일반적인 봉착 배기로(배기 공정이 대기압 하에서 이루어지는 배기로를 의미한다)로 이송하고, 상기 봉착 배기로에서는 가열, 봉착, 배기, 가스 주입 등의 공정이 이루어진다.Apply a sealing agent such as frit formed by mixing glass powder and adhesive at a desired position to seal the one of the upper and lower substrates on which the pattern is formed, and then pre-fired. Align the upper and lower substrates while observing the alignment marks provided on each substrate, and after the alignment is completed, clamp both substrates using a jig and then use a known general sealed exhaust passage (exhaust passage in which the exhaust process is performed under atmospheric pressure). The heating, sealing, exhausting, gas injection, and the like in the sealed exhaust passage.

도 1은 종래 기술에 따른 봉착 배기로에서의 온도 프로파일을 나타내는 것으로, 초기에는 봉착 배기로의 내부가 대기압 상태에서 대략 25℃ 정도로 유지되고 있다.1 shows a temperature profile in a sealed exhaust passage according to the prior art, and initially the interior of the sealed exhaust passage is maintained at about 25 ° C. under atmospheric pressure.

이 상태에서 가열 공정이 행해지는데, 상기 가열 공정은 패널의 파손을 방지할 수 있는 한도 내에서 일정 시간(대략 2시간 20분)동안 최대 가열 속도(대략 3℃/min의 속도)로 행해진다(구간 1).In this state, a heating step is performed, and the heating step is performed at a maximum heating rate (about 3 ° C./min) for a predetermined time (about 2 hours and 20 minutes) within the limit to prevent breakage of the panel ( Section 1).

이후, 프리트의 용융 온도 이상이면서 산화마그네슘(MgO)의 크랙이 발생하지않는 온도, 즉 대략 440℃의 온도하에서 20분 정도 동안 봉착 공정이 행해지며(구간 2), 봉착 공정이 완료되면 가열 속도와 동일한 속도로 배기 온도까지 강온시키는 강온 공정이 행해진다(구간 3).Afterwards, the sealing process is performed for 20 minutes at a temperature not exceeding the melting temperature of the frit but not causing the crack of magnesium oxide (MgO), that is, approximately 440 ° C (section 2). The temperature reduction step of lowering to the exhaust temperature at the same speed is performed (section 3).

봉착 배기로의 온도가 배기 온도까지 강온되면 프리트의 연화점(softening point) 즉, 355℃ 이하의 최대 온도 조건(대략 350℃)에서 10시간 동안 배기 공정이 이루어지고(구간 4 내지 8), 배기가 완료되면 설비가 허용하는 최대 냉각 속도로 4시간동안 냉각 공정이 이루어진다(구간 9).When the temperature of the enclosed exhaust furnace is lowered to the exhaust temperature, the exhaust process is performed for 10 hours at the softening point of the frit, that is, at the maximum temperature condition of about 355 ° C or lower (approximately 350 ° C) (section 4 to 8), and the exhaust Upon completion, the cooling process will take place for 4 hours at the maximum cooling rate allowed by the installation (section 9).

상기 냉각 공정이 완료되면 봉착 배기로의 온도는 초기 온도인 대략 25℃ 정도로 강온되는데, 이후에는 상기 온도 상태에서 배기관을 예열하는 예열 공정과(구간 10), 방전 개스를 주입한 후 배기관을 팁 오프 시키는 개스 주입 공정이 이루어진다(구간 11).When the cooling process is completed, the temperature of the enclosed exhaust furnace is lowered to about 25 ° C., which is an initial temperature, and thereafter, a preheating process of preheating the exhaust pipe at the temperature state (section 10), and tipping off the exhaust pipe after the discharge gas is injected. A gas injection process is performed (section 11).

그런데, 상기 도 1의 온도 프로파일에 따른 조립 공정에 의하면, 방전셀 구조가 복잡한 경우, 배기 컨덕턴스(conductance)가 배기구 주변보다 매우 작기 때문에 진공 도달에 장시간이 소요되고, 가열 배기시 방전셀 내부에서 배출된(outgassing) 가스(공기를 포함한다)가 외부로 용이하게 배출되지 않는 등의 문제점이 있으며, 이러한 문제점은 방전셀의 모든 측벽이 차단된 격벽 구조에서 더욱 심각하게 발생된다.However, according to the assembly process according to the temperature profile of FIG. 1, when the discharge cell structure is complicated, it takes a long time to reach the vacuum because the exhaust conductance is much smaller than the periphery of the exhaust port, and discharged inside the discharge cell during heating exhaust. There is a problem that outgassing gas (including air) is not easily discharged to the outside, and this problem occurs more seriously in the barrier rib structure in which all sidewalls of the discharge cells are blocked.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 일본국 특개평9-251839호에는 배기 공정중에는 스페이서를 이용하여 하판의 격벽 상단이 상판에 닿지 않도록 이격시키는 한편, 배기 도중에는 가열 배기로를 진공 상태로 유지하는 패널 조립장치가 개시되어있다.In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 9-251839 uses a spacer during the exhaust process so that the upper end of the partition wall does not touch the upper plate, while the exhaust assembly keeps the heating exhaust passage in a vacuum state during the exhaust process. Is disclosed.

그런데, 상기 일본국 특허는 방전셀 각각의 배기 컨덕턴스가 상당히 개선되는 효과가 있지만, 다수의 패널을 진공 챔버에 넣어야 하고, 여러 층으로 배열된 패널을 진공상에서 가열해야 하며, 배기 공정을 완료한 후 스페이서를 제거해야 하는 등의 문제점으로 인해 양산이 용이하지 않고, 또한 기판 실링제를 진공 상태에서 가열해야 하므로 용융된 실링제에 녹아 있던 공기가 거품화 하여 밀봉성이 저하되는 문제점이 있다.By the way, the Japanese patent has the effect of significantly improving the exhaust conductance of each discharge cell, but it is necessary to put a large number of panels in a vacuum chamber, heat the panels arranged in multiple layers in a vacuum, and after the exhaust process is completed Due to the problem of removing the spacer, mass production is not easy, and the substrate sealing agent must be heated in a vacuum state, so that air dissolved in the molten sealing agent foams and the sealing property is deteriorated.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 진공 배기로와 동일한 배기 효과를 얻을 수 있으면서도 양산이 용이한 플라즈마 디스플레이 패널 조립방법을 제공함에 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a plasma display panel assembly method which is easy to mass produce while achieving the same exhaust effect as a vacuum exhaust path.

도 1은 종래 기술에 따른 봉착 배기로에서의 온도 프로파일을 나타내는 도면.1 shows a temperature profile in a sealed exhaust passage according to the prior art;

도 2는 본 발명에 따른 봉착 배기로에서의 온도 프로파일을 나타내는 도면.2 shows a temperature profile in a sealed exhaust passage in accordance with the present invention.

도 3a 내지 도 3e는 도 2의 온도 프로파일에 따른 가변형 스페이서, 실링제 및 격벽 높이를 상대적으로 비교한 도면.3A-3E are comparative comparisons of variable spacers, sealants, and barrier heights according to the temperature profile of FIG.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 가변형 스페이서의 다양한 실시예 및 배치예를 나타내는 도면.4a to 4c are views showing various embodiments and arrangement of the variable spacer according to the present invention.

상기한 본 발명의 목적은, 상온에서 격벽 이하의 높이를 가지며 온도에 따라 열팽창 및 수축됨으로써 높이가 가변하는 가변형 스페이서를 상하 기판 사이에 배치하고, 상기 상하 기판을 정렬한 후, 정렬이 끝난 양 기판을 배기 공정이 대기압 하에서 이루어지는 봉착 배기로의 내부로 이송하며, 배기 단계에서는 상기 가변형 스페이서의 단부가 격벽 단부 이상의 위치에 위치되도록 하고, 배기 완료후에는 가변형 스페이서의 단부가 격벽 단부 이하의 위치에 위치되도록 하여 상하 기판을 조립하는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is to place a variable spacer having a height below the partition wall at room temperature and varying in height by thermal expansion and contraction according to the temperature between the upper and lower substrates, and after aligning the upper and lower substrates, both substrates are aligned. Is transferred into the sealed exhaust path where the exhaust process is performed under atmospheric pressure, and in the exhausting step, the end of the variable spacer is positioned at a position above the partition wall end, and after the exhaust is completed, the end of the variable spacer is located at a position below the partition wall end. It is achieved by the assembly method of the plasma display panel to assemble the upper and lower substrates as possible.

이하, 첨부도면을 참조로 하여 본 발명의 패널 조립 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a panel assembly method of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 봉착 배기로에서의 온도 프로파일을 도시한 것이며, 도 3a 내지 3e는 도 2의 온도 프로파일에 따른 가변형 스페이서, 프리트, 격벽 높이를 상대적으로 비교한 도면을 도시한 것이다.FIG. 2 illustrates a temperature profile in a sealed exhaust path according to the present invention, and FIGS. 3A to 3E show comparatively comparing heights of a variable spacer, a frit, and a partition wall according to the temperature profile of FIG. 2.

격벽(10)을 포함하는 소정 패턴이 형성된 상하 기판(미도시함)이 마련되면, 상기 기판중 어느 한 기판의 실링(sealing)을 원하는 위치에 글래스 파우더(glass powder)와 접착제(binder) 등을 배합하여 형성한 프리트(Frit) 등의 실링제(12)를 도포한 후 전소성 처리하는데, 이때, 상기 실링제(12)는 격벽(10) 높이 이상의 높이로 도포한다.When a top and bottom substrate (not shown) having a predetermined pattern including the partition 10 is provided, glass powder, adhesive, and the like are placed at a desired position for sealing one of the substrates. After applying a sealing agent 12 such as frit formed by blending and prebaking, the sealing agent 12 is applied to a height of at least the height of the partition wall (10).

그리고, 실링제(12)의 도포가 완료되면 온도에 따라 열팽창 및 수축됨으로써 높이가 가변하는 가변형 스페이서(14)를 상하 기판 사이에 배치하는데, 상기 가변형 스페이서(14)는 상온에서 격벽(10) 이하의 높이를 가지는 것이 바람직하며(도 4a 참조), 스페이서(14)의 일단부는 격벽(10)이 제공된 하판에 고정할 수 있다.When the application of the sealant 12 is completed, a variable spacer 14 having a variable height is disposed between the upper and lower substrates by thermal expansion and contraction according to temperature, and the variable spacer 14 is less than or equal to the partition 10 at room temperature. It is preferable to have a height of (see Figure 4a), one end of the spacer 14 can be fixed to the lower plate provided with the partition wall (10).

가변형 스페이서(14)의 배치가 완료되면, 각 기판에 제공된 정렬 마크(Align Mark)를 관찰하면서 상기 상하 기판(미도시함)을 정렬하고, 정렬이 끝나면 지그(미도시함)를 이용하여 양 기판을 클램핑한 후 공지의 일반적인 봉착 배기로(배기 공정이 대기압 하에서 이루어지는 배기로를 의미한다)로 이송하며, 상기 봉착 배기로(미도시함)에서 도 2의 온도 프로파일을 따라 가열, 봉착, 배기, 가스 주입 등의 공정을 실시한다.When the arrangement of the variable spacer 14 is completed, the upper and lower substrates (not shown) are aligned while observing an alignment mark provided on each substrate, and when the alignment is completed, both substrates are used by using a jig (not shown). Is clamped and then transferred to a known general enclosed exhaust path (meaning that the exhaust process is performed under atmospheric pressure), and in the enclosed exhaust path (not shown), heating, encapsulation, exhaust, Processes such as gas injection are performed.

이를 상술하면, 봉착 배기로(미도시함)의 내부는 대기압 상태에서 대략 25℃정도로 유지되고 있는바, 이때 지그에 의해 이송된 하 기판(미도시함)에 제공된 스페이서(14), 실링제(12), 격벽(10)은 도 3의 구간 1 개시 시점에서 도시한 바와 같은 높이를 각각 유지한다.In detail, the inside of the sealed exhaust path (not shown) is maintained at about 25 ° C. under atmospheric pressure, in which case the spacer 14 provided on the lower substrate (not shown) transferred by the jig and the sealing agent ( 12, the partition wall 10 maintains the height as shown at the start of the interval 1 of FIG.

이 상태에서 봉착 배기로(미도시함)의 내부를 패널의 파손을 방지할 수 있는 한도 내에서 일정 시간(대략 2시간 20분)동안 최대 가열 속도(대략 3℃/min의 속도)로 가열하여 상기 배기로의 내부 온도를 실링제(12)의 연화점(355℃) 이상, 용융점 이하의 제1 설정 온도(대략 440℃)까지 승온시킨다(도 2의 구간 1).In this state, the inside of the sealed exhaust path (not shown) is heated at the maximum heating rate (approximately 3 ° C./min) for a predetermined time (approximately 2 hours 20 minutes) within the limit to prevent panel damage. The internal temperature of the exhaust passage is raised to a first set temperature (approximately 440 ° C.) above the softening point (355 ° C.) of the sealing agent 12 and below the melting point (section 1 in FIG. 2).

이와 같이 상기 봉착 배기로의 내부 온도를 승온시키면 도 3의 구간 2 시점에 도시한 바와 같이 스페이서(14)가 격벽(10) 높이 이상의 최대 높이로 열팽창됨과 아울러, 상기 실링제(12)가 가변형 스페이서(14)와 동일 내지 유사한 높이로 축소된다.As such, when the internal temperature of the sealed exhaust passage is elevated, the spacer 14 is thermally expanded to the maximum height of the partition 10 or more as shown in the section 2 time point in FIG. 3, and the sealing agent 12 is a variable spacer. It is reduced to the same or similar height as (14).

이후, 상기 제1 설정 온도하에서 20분 정도 동안 봉착 공정을 실시하고(도 2의 구간 2), 봉착 공정이 완료되면 봉착 배기로의 내부 온도가 연화점(355℃) 이하의 배기 온도(대략 350℃)에 도달할 때까지 상기 가열 속도와 동일한 속도(대략 3℃/min의 속도)로 강온시킨다(도 2의 구간 3).Thereafter, the sealing process is performed for about 20 minutes under the first set temperature (section 2 of FIG. 2), and when the sealing process is completed, the internal temperature of the sealing exhaust passage is less than the softening point (355 ° C) of the exhaust temperature (approximately 350 ° C). ) Is lowered at the same rate as the heating rate (about 3 ° C./min) (section 3 of FIG. 2).

상기 구간 3의 강온 단계가 완료되면 가변형 스페이서(14)와 실링제(12)가 도 3의 구간 3,4 시점에서 도시한 바와 같이 온도 변화로 인해 높이가 축소되는데, 상기 가변형 스페이서(14)의 높이가 격벽(10)에 비해 높으므로 격벽(10)과 상 기판(미도시함)은 서로 이격된 상태로 유지된다.When the temperature reduction step of the section 3 is completed, the variable spacer 14 and the sealing agent 12 are reduced in height due to temperature change as shown in the section 3 and 4 of FIG. 3. Since the height is higher than that of the barrier rib 10, the barrier rib 10 and the upper substrate (not shown) are kept spaced apart from each other.

여기에서, 상기 격벽(10)과 상 기판(미도시함)은 배기 컨덕턴스를 고려하여10㎛ 이상의 간격이 유지되도록 하는 한편, 상 기판의 파손을 고려하여 1000㎛ 이하의 간격이 유지되도록 하는 것이 바람직하다.Here, the partition wall 10 and the upper substrate (not shown) are preferably maintained at an interval of 10 μm or more in consideration of the exhaust conductance, while maintaining an interval of 1000 μm or less in consideration of the breakage of the upper substrate. Do.

이후 상기 배기 온도를 일정 시간동안 유지하면서 상기 실링제(12)를 강화시켜 양 기판 내측의 공기를 배기하는데(도 2의 구간 4), 상기 구간 4에서 스페이서(14)는 약간 수축되지만 상 기판(미도시함)과 격벽(10) 상단은 여전히 이격된 상태로 유지된다(도 3c 참조).Thereafter, while maintaining the exhaust temperature for a predetermined time, the sealing agent 12 is reinforced to exhaust air inside both substrates (section 4 of FIG. 2). In the section 4, the spacer 14 slightly contracts but the upper substrate ( Not shown) and the top of the barrier 10 remains still spaced apart (see FIG. 3C).

충분한 배기가 이루어지면, 상기 봉착 배기로(미도시함)의 내부 온도를 실링제(12)의 연화점(355℃) 부근까지 승온시켰다가 연화점 이하의 배기 온도까지 강온시는 단계를 거치게 되는데(구간 5~7), 이 구간들(구간 5~7)은 도 3의 구간 5~8에서 도시한 바와 같이 실링제(12)를 격벽(10)과 동일 내지 유사한 높이로 축소시키기 위해 필요하다.When sufficient exhaust air is generated, the temperature inside the sealed exhaust path (not shown) is raised to near the softening point (355 ° C.) of the sealing agent 12, and the temperature is lowered to the exhaust temperature below the softening point. 5-7), these sections (sections 5-7) are necessary to reduce the sealing agent 12 to the same or similar height as the partition wall 10 as shown in sections 5-8 of FIG.

이때, 상기 구간에서의 승온(구간 5), 유지(구간 6) 및 강온 구간(구간 7)은 실링제(12)가 연화하여 가압될 수 있도록 설계하며, 상기 구간에서의 온도 상승에 의한 아웃개스(outgas)를 충분히 제거할 수 있는 구간(구간 8)을 가지는 것이 유리하다.At this time, the temperature rise (section 5), the maintenance (section 6) and the temperature-falling section (section 7) in the section is designed so that the sealing agent 12 is softened and pressurized, the outgassing due to the temperature rise in the section It is advantageous to have a section (section 8) capable of sufficiently removing outgas.

이후, 설비가 허용하는 최대 냉각 속도로 봉착 배기로의 내부 온도를 상온까지 강온시키는데(구간 9), 상기 구간 9의 공정이 완료되면 도 3의 구간 9~11에서 도시한 바와 같이 가변형 스페이서(14)가 격벽(10) 높이 이하로 열축소된다.Thereafter, the internal temperature of the enclosed exhaust passage is lowered to room temperature at the maximum cooling rate allowed by the facility (section 9). When the process of the section 9 is completed, the variable spacer 14 as shown in sections 9 to 11 of FIG. 3 is completed. ) Is thermally reduced to the height of the partition wall 10 or less.

이와 같이 가변형 스페이서(14)의 열축소가 완료되면, 상기 상온 온도 상태에서 배기관을 예열하고(구간 10), 방전 개스를 주입한 후 배기관을 팁 오프 시킨다(구간 11).When the heat reduction of the variable spacer 14 is completed as described above, the exhaust pipe is preheated at the room temperature (section 10), the discharge gas is injected, and the exhaust pipe is tipped off (section 11).

상기에서 상세히 설명한 바와 같이, 각 구간의 온도에 따른 스페이서(14)의 높이, 실링제(12)의 높이, 격벽(10)의 높이를 각각 Hs, Hf, Hb라 할 때, 구간 1의 개시 시점에서는 Hs〈Hb《Hf이지만, 구간 1의 종료 시점으로부터 구간 4의 종료 시점까지는 Hb〈Hf≒Hs이 되고, 구간 5 내지 8에서는 Hs≒Hf≒Hb이 되며, 구간 9 내지 11에서는 Hs≤Hf=Hb가 된다.As described in detail above, when the height of the spacer 14, the height of the sealing agent 12, and the height of the partition wall 10 according to the temperature of each section are Hs, Hf, and Hb, respectively, the start time of the section 1 Where Hs < Hb < Hf, but Hb < Hf < Hs from the end of section 1 to the end of section 4, Hs < Hf < Hb in sections 5-8, and Hs < Hf = in sections 9-11 Hb.

따라서, 배기 단계인 구간 4에서는 격벽(10)과 상 기판(미도시함) 사이에 일정 공간이 유지되어 배기 컨덕턴스가 향상되고, 배기 단계를 완료한 구간 9 이후에는 스페이서(14)가 초기 높이로 복귀되어 상기 스페이서(14)를 용이하게 제거할 수 있다.Therefore, in section 4, which is the exhaust stage, a constant space is maintained between the partition wall 10 and the upper substrate (not shown) to improve the exhaust conductance, and after the segment 9 where the exhaust stage is completed, the spacer 14 returns to the initial height. The spacer 14 can be easily returned to remove the spacer 14.

또한, 패널의 봉착 및 배기 공정이 일반적인 봉착 배기로에서 이루어지므로, 진공 배기로를 사용할 경우에 발생하는 문제점들, 즉 다수의 패널을 진공 챔버에 넣어야 하는 문제, 여러 층으로 배열된 기판을 진공상에서 가열해야 하는 문제, 스페이서가 제기능을 다한 후 제거되기 어려운 문제, 용융된 실링제에 녹아 있던 공기가 거품화 하는 문제를 해결하면서도 진공 배기로와 동일한 배기 효과를 얻을 수 있다.In addition, since the sealing and evacuation process of the panel is performed in a general encapsulation exhaust passage, problems that occur when using a vacuum exhaust passage, that is, a problem of having to put a plurality of panels in a vacuum chamber, a substrate arranged in multiple layers under vacuum The same exhaust effect as a vacuum exhaust path can be obtained while solving the problem of heating, difficulty in removing the spacer after its functioning, and foaming of the air dissolved in the molten sealing agent.

이와 같이, 온도 변화에 따라 열팽창 및 열수축하는 가변형 스페이서(14)로는 온도 변화에 민감하게 반응하는 물질, 일례로, 격벽 높이가 120㎛이고, 상온에서의 스페이서의 높이가 100㎛인 경우, 봉착 배기로 내부를 최대 온도인 대략 450℃로 가열했을 때 대략 180㎛ 정도로 열팽창되는 물질이 사용될 수 있다.As described above, the variable spacer 14 that thermally expands and contracts in response to temperature change is a material that reacts sensitively to temperature change, for example, when the height of the barrier rib is 120 μm and the height of the spacer is 100 μm at room temperature, A material that thermally expands to about 180 μm may be used when the furnace interior is heated to a maximum temperature of approximately 450 ° C.

이는, 상기한 최대 온도에서 180㎛ 정도인 스페이서(14)가 배기 온도인 350℃에서는 대략 170㎛의 높이를 가질 수 있게 되므로, 배기 단계에서 스페이서(14)가 격벽(10)에 비해 충분히 높아서 배기 컨덕턴스가 향상되기 때문이다.This is because the spacer 14 having a diameter of about 180 μm at the maximum temperature can have a height of approximately 170 μm at 350 ° C. at the exhaust temperature, so that the spacer 14 is sufficiently high compared to the partition wall 10 at the exhaust stage to exhaust. This is because conductance is improved.

그리고, 상기 가변형 스페이서(14)는 재료의 열팽창 특성과 연동되는 가로 세로비를 조정하는 것에 따라 기하학적으로 온도 변화에 민감하게 변동하도록 설계할 수도 있다.In addition, the variable spacer 14 may be designed to be geometrically sensitive to temperature change by adjusting the aspect ratio associated with the thermal expansion characteristic of the material.

도 4a 내지 4c는 가변형 스페이서의 다양한 실시예 및 배치예를 도시한 것이다.4A to 4C show various embodiments and arrangements of the variable spacers.

상기 도 4a는 가변형 스페이서(14)를 루프(loop)형으로 형성한 것으로, 이러한 스페이서(14)는 하 기판(16)상에서 실링제(12)가 도포된 외곽으로 배치할 수 있으며, 취급이 간편하고 스페이서의 제거가 가능한 장점을 갖는다.4A illustrates a variable spacer 14 formed in a loop shape. The spacer 14 may be disposed on the lower substrate 16 on the outer side of which the sealing agent 12 is applied, and is easy to handle. And the removal of the spacer is possible.

그리고, 도 4b는 가변형 스페이서(14)를 바아(bar)형으로 형성한 것으로, 이러한 스페이서(14)는 하 기판(16)상에서 상기의 루프형 스페이서와 마찬가지로 실링제(12)의 외곽에 배치할 수 있으며, 온도 변화에 의한 길이 변화로 인해 발생될 수 있는 문제점, 예를 들어 스페이서와 실링제가 접촉되는 등의 문제점을 방지할 수 있고, 스페이서의 제거가 가능하다.4B shows a bar-shaped variable spacer 14, which is disposed on the lower substrate 16 at the outer side of the sealing agent 12 in the same manner as the loop spacer. It is possible to prevent a problem that may occur due to a change in length due to temperature change, for example, a problem such as contact between the spacer and the sealing agent, and removal of the spacer is possible.

또한, 도 4c는 가변형 스페이서(14)를 팰릿(pallet)형으로 형성한 것으로, 이러한 스페이서(14)는 실링제 페이스트에 혼합된 후 상기 실링제(12)와 함께 하 기판(16)에 도포할 수 있으며, 공정이 간편해지는 장점을 갖는다.In addition, FIG. 4C shows that the variable spacer 14 is formed into a pallet. The spacer 14 is mixed with the sealing agent paste and then applied to the lower substrate 16 together with the sealing agent 12. And has the advantage of simplifying the process.

이상에서는 온도 변화에 따라 열팽창 및 열수축하는 가변형 스페이서를 사용하여 상하 기판을 조립하는 경우를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니다.In the above, the case of assembling the upper and lower substrates by using a variable spacer that thermally expands and contracts according to temperature changes has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

즉, 본 발명은 기계적으로 높이를 가변할 수 있는 지그 형태의 기구물을 스페이서로 사용하거나, 또는 구체 및 스프링으로 이루어진 바이-스테이블(bi-stable)한 기구물을 스페이서로 사용할 수 있음은 당업자에게 있어 자명하다.That is, the present invention can be used as a spacer using a jig-shaped instrument that can vary the height mechanically, or a bi-stable instrument consisting of a sphere and a spring can be used as a spacer to those skilled in the art Self-explanatory

이와 같이, 본 발명은 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.As described above, the present invention can be modified and practiced in various ways within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings, and it is natural that the present invention also falls within the scope of the present invention.

상술한 바와 같은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법에 의하면, 일반적인 봉착 배기로에서 봉착 및 배기 작업을 실시함과 아울러, 온도에 따라 높이가 가변하는 가변형 스페이서를 사용함으로써, 진공 배기로를 사용할 경우에 발생하는 여러가지 문제점들을 해결함과 동시에 배기 단계에서의 배기 컨덕턴스 향상이 가능하므로, 양산이 가능한 등의 효과가 있다.According to the method of assembling the plasma display panel according to the present invention as described above, the vacuum exhaust passage can be used by performing the sealing and exhaust operation in a general sealed exhaust passage and by using a variable spacer whose height varies with temperature. Solving the various problems that occur in the case and at the same time it is possible to improve the exhaust conductance in the exhaust step, there is an effect such as mass production possible.

Claims (7)

격벽을 포함하는 소정 패턴이 형성된 상하 기판중 적어도 어느 한 기판에 프리트(frit) 등의 실링제를 상기 격벽 높이 이상의 높이로 도포하는 단계와;Applying a sealing agent such as frit to at least one of upper and lower substrates having a predetermined pattern including a partition wall to a height equal to or higher than the partition wall height; 상온에서 격벽 이하의 높이를 가지며, 온도에 따라 열팽창 및 수축됨으로써 높이가 가변하는 가변형 스페이서를 상하 기판 사이에 배치하는 단계와;Arranging between the upper and lower substrates a variable spacer having a height equal to or less than a partition at room temperature and whose height varies by thermal expansion and contraction according to temperature; 상기 상하 기판을 정렬한 후, 정렬이 끝난 양 기판을 배기 공정이 대기압 하에서 이루어지는 봉착 배기로의 내부로 이송하는 단계와;Aligning the upper and lower substrates, and then transferring the aligned substrates into the sealed exhaust path in which the exhaust process is performed under atmospheric pressure; 상기 실링제의 연화점 이상, 용융점 이하의 제1 설정 온도까지 봉착 배기로의 내부 온도를 승온시켜 상기 가변형 스페이서를 격벽 높이 이상의 최대 높이로 열팽창시킴과 아울러, 상기 실링제를 가변형 스페이서와 동일 내지 유사한 높이로 축소시키는 가열 단계와;The internal temperature of the sealed exhaust passage is raised to a first set temperature above the softening point of the sealant and below the melting point, thereby thermally expanding the variable spacer to a maximum height of at least the height of the partition wall, and the sealant has the same or similar height as that of the variable spacer. A heating step of shrinking the furnace; 상기 제1 설정 온도하에서 상하 기판을 봉착하는 봉착 단계와;A sealing step of sealing the upper and lower substrates under the first set temperature; 봉착 배기로의 내부 온도를 연화점 이하의 배기 온도까지 강온시켜 상기 스페이서를 열수축 시킴으로써 상기 가변형 스페이서의 단부가 격벽 단부로부터 일정 높이 이상의 위치에 위치되도록 하는 강온 단계와;A temperature lowering step of lowering an internal temperature of a sealed exhaust path to an exhaust temperature below a softening point and thermally contracting the spacers such that an end portion of the variable spacer is positioned at a predetermined height or more from a partition end; 상기 배기 온도를 일정 시간동안 유지하면서 상기 실링제를 강화시켜 양 기판 내측의 공기를 배기하는 배기 단계와;An exhausting step of exhausting air inside both substrates by strengthening the sealing agent while maintaining the exhaust temperature for a predetermined time; 봉착 배기로의 내부 온도를 연화점 부근까지 승온시켰다가 연화점 이하의 배기 온도까지 강온시킴으로써 실링제를 격벽과 동일 내지 유사한 높이로 축소시키는단계와;Reducing the sealing agent to a height equal to or similar to that of the partition wall by raising the internal temperature of the sealed exhaust path to near the softening point and then to the exhaust temperature below the softening point; 봉착 배기로의 내부 온도를 상온까지 강온시킴으로써 가변형 스페이서를 격벽 높이 이하로 축소시키는 단계;Reducing the variable spacer below the height of the partition by lowering the internal temperature of the sealed exhaust path to room temperature; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.Assembly method of a plasma display panel comprising a. 제 1항에 있어서, 상기 배기 단계에서는 상 기판과 격벽 사이에 10∼103㎛의 간격이 유지되는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.2. The method of assembling a plasma display panel according to claim 1, wherein in said exhausting step, a spacing of 10 to 10 3 mu m is maintained between the upper substrate and the partition wall. 제 1항에 있어서, 상기 가변형 스페이서가 루프(loop)형으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.The method of assembling a plasma display panel according to claim 1, wherein the variable spacer has a loop shape. 제 1항에 있어서, 상기 가변형 스페이서가 복수개의 바아(bar)형으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.The method of assembling a plasma display panel according to claim 1, wherein the variable spacer has a plurality of bar shapes. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 가변형 스페이서가 실링제의 외곽에 배치되는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.The method of assembling a plasma display panel according to claim 3 or 4, wherein the variable spacer is disposed outside the sealing agent. 제 5항에 있어서, 상기 가변형 스페이서는 패널 조립 완료후 제거되는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.The method of claim 5, wherein the variable spacer is removed after the panel assembly is completed. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 가변형 스페이서가 실링제와 함께 도포되는 팰릿(pallet)형으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 조립 방법.The method of assembling a plasma display panel according to claim 3 or 4, wherein the variable spacer is formed in a pallet type in which the variable spacer is coated with a sealing agent.
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