KR20030018442A - 다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 - Google Patents
다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030018442A KR20030018442A KR1020010052167A KR20010052167A KR20030018442A KR 20030018442 A KR20030018442 A KR 20030018442A KR 1020010052167 A KR1020010052167 A KR 1020010052167A KR 20010052167 A KR20010052167 A KR 20010052167A KR 20030018442 A KR20030018442 A KR 20030018442A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- inductor
- coils
- balanced
- plasma
- balanced inductor
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
- H01J37/3211—Antennas, e.g. particular shapes of coils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
- H05H1/4652—Radiofrequency discharges using inductive coupling means, e.g. coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
- 플라즈마 반응기를 위한 용량 결합 플라즈마 인덕터에 있어서: 적어도 두 개 이상의 안테나 루프가 평형으로 직결되는 제1 평형 인덕터 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
- 제1 항에 있어서,상기 제1 평형 인덕터 코일에 수평으로 위치하고, 적어도 두 개 이상의 안테나 루프가 평형으로 직결되는 제2 평형 인덕터 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
- 제2 항에 있어서,상기 제1 및 제2 평형 인덕터 코일은 상호 안테나 루프가 엇갈리도록 배치되는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
- 제2 항에 있어서,상기 제1 및 제2 평형 인덕터 코일은 전기적으로 직렬 또는 병렬 중 어느 하나로 연결되는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
- 제4 항에 있어서,상기 제1 및 제2 평형 인덕터 코일에 의해 각기 발생되는 자속이 동일한 방향 또는 역방향이 되도록 상기 제1 및 제2 평형 인덕터 코일이 상호 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
- 제2 항에 있어서,상기 제1 및 제2 평형 인덕터 코일의 안테나 코일들은 상호 동일한 사이즈 및 형상을 갖는 또는 서로 다른 사이즈 및 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 다중 용량 결합 플라즈마 인덕터.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0052167A KR100464808B1 (ko) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0052167A KR100464808B1 (ko) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030018442A true KR20030018442A (ko) | 2003-03-06 |
KR100464808B1 KR100464808B1 (ko) | 2005-01-05 |
Family
ID=27721224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0052167A KR100464808B1 (ko) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100464808B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100486712B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 복층 코일 안테나를 구비한 유도결합 플라즈마 발생장치 |
KR100692420B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2007-03-13 | 주식회사 플라즈마트 | 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나구조 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3294839B2 (ja) * | 1993-01-12 | 2002-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法 |
US5401350A (en) * | 1993-03-08 | 1995-03-28 | Lsi Logic Corporation | Coil configurations for improved uniformity in inductively coupled plasma systems |
JPH11200057A (ja) * | 1998-01-21 | 1999-07-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 誘導結合型プロセスプラズマ装置 |
JPH11317299A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-11-16 | Toshiba Corp | 高周波放電方法及びその装置並びに高周波処理装置 |
US5998933A (en) * | 1998-04-06 | 1999-12-07 | Shun'ko; Evgeny V. | RF plasma inductor with closed ferrite core |
US6164241A (en) * | 1998-06-30 | 2000-12-26 | Lam Research Corporation | Multiple coil antenna for inductively-coupled plasma generation systems |
KR100338057B1 (ko) * | 1999-08-26 | 2002-05-24 | 황 철 주 | 유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치 |
KR100695270B1 (ko) * | 2001-02-03 | 2007-03-14 | 가부시키가이샤 알박 | 유도결합형 알에프 플라스마 소오스 |
KR100404723B1 (ko) * | 2001-04-26 | 2003-11-07 | 주식회사 플라즈마트 | 낮은 종횡비를 갖는 유도결합형 플라즈마 발생장치 |
-
2001
- 2001-08-28 KR KR10-2001-0052167A patent/KR100464808B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100486712B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 복층 코일 안테나를 구비한 유도결합 플라즈마 발생장치 |
KR100692420B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2007-03-13 | 주식회사 플라즈마트 | 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나구조 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100464808B1 (ko) | 2005-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR0162916B1 (ko) | 플라즈마처리장치 | |
KR100340164B1 (ko) | 플라즈마 프로세싱을 위한 rf 유도 플라즈마 소스 | |
KR100513163B1 (ko) | Icp 안테나 및 이를 사용하는 플라즈마 발생장치 | |
US6184488B1 (en) | Low inductance large area coil for an inductively coupled plasma source | |
US6288493B1 (en) | Antenna device for generating inductively coupled plasma | |
KR101091356B1 (ko) | 대규모 유도 결합 플라즈마 소스용 유도 소자 | |
KR100238627B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
JP3905502B2 (ja) | 誘導結合プラズマ発生装置 | |
JP5315243B2 (ja) | 誘導結合コイルおよび該誘導結合コイルを用いた誘導結合プラズマ装置 | |
CN101113514B (zh) | 基底处理设备 | |
JP3903034B2 (ja) | 蛇行コイルアンテナを具備した誘導結合プラズマ発生装置 | |
US6652712B2 (en) | Inductive antenna for a plasma reactor producing reduced fluorine dissociation | |
JPH05275383A (ja) | 高周波誘導プラズマ処理システムおよび方法 | |
WO2003013198A1 (en) | Antenna structure for inductively coupled plasma generator | |
KR100464808B1 (ko) | 다중 유도 결합 플라즈마 인덕터 | |
CN117693804A (zh) | 利用平面螺旋线圈的等离子体源 | |
JP3165356B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR100743842B1 (ko) | 자속 채널에 결합된 플라즈마 챔버를 구비한 플라즈마반응기 | |
TW201349334A (zh) | 等離子體處理裝置及其電感耦合線圈 | |
KR100476902B1 (ko) | 균일 분포 플라즈마를 형성하는 대면적 플라즈마안테나(lapa)및 이를 포함하는 플라즈마 발생장치 | |
KR101039232B1 (ko) | 고밀도 플라즈마 발생장치 | |
CN113921360B (zh) | 等离子体处理装置中的加热装置及抗射频干扰方法 | |
KR100785401B1 (ko) | 유도 결합형 플라즈마 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121218 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131220 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141219 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160831 Year of fee payment: 12 |
|
R401 | Registration of restoration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170717 Year of fee payment: 13 |
|
R401 | Registration of restoration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171219 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191231 Year of fee payment: 16 |