KR200296502Y1 - Chlorine injection apparatus - Google Patents
Chlorine injection apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR200296502Y1 KR200296502Y1 KR2020020026476U KR20020026476U KR200296502Y1 KR 200296502 Y1 KR200296502 Y1 KR 200296502Y1 KR 2020020026476 U KR2020020026476 U KR 2020020026476U KR 20020026476 U KR20020026476 U KR 20020026476U KR 200296502 Y1 KR200296502 Y1 KR 200296502Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chlorine gas
- chlorine
- amount
- residual
- measuring unit
- Prior art date
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
본 고안은 염소 투입장치에 관한 것으로서, 염소 투입장치(100)에는 케이스(110)의 내부에 장착되며 진공 조절기(120)와 공급관(122)을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 이송량을 확인하기 위한 염소가스 유량 측정부(130)와, 상기 염소가스 유량 측정부(130)를 통해 원수관(50) 내부의 물속에 투입되는 염소가스의 잔류량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 잔류량을 확인하기 위한 잔류 염소가스 측정부(150)가 구비된 것을 그 특징으로 한다.The present invention relates to a chlorine injector, the chlorine injector 100 is mounted inside the case 110 and measured while measuring the amount of chlorine gas transported through the vacuum regulator 120 and the supply pipe 122. The chlorine gas flow rate measuring unit 130 and the chlorine gas flow rate measuring unit 130 for checking the transfer amount of the chlorine gas, while measuring the residual amount of chlorine gas introduced into the water inside the raw water pipe 50 and measured Characterized in that the residual chlorine gas measuring unit 150 for checking the residual amount of the chlorine gas is provided.
따라서, 기체 상태로 기화된 염소가스가 이젝터의 내부로 공급되기 전에 이송되는 기체 상태의 염소가스가 설정된 량 만큼 항상 일정량의 염소가스가 공급되는지의 여부를 작업자가 용이하게 확인할 수 있음과 동시에, 물속에 함유된 잔류 염소가스량을 실시간으로 확인할 수 있으므로써 정수 작업의 진행시 항상 정확한 량의 염소가스를 공급할 수 있어서 원수내에 함유되어 있는 조류 및 각종 이물질을 효과적으로 제거할 수 있음은 물론, 대장균 등을 효과적으로 소독할 수 있어서 정수 효율을 크게 증대시킬 수 있으며, 정수 작업시 염소가스가 과다하게 투입되는 현상을 방지할 수 있어서 정수시 소요되는 비용을 절감시킬 수 있게 된다.Therefore, the operator can easily check whether or not a certain amount of chlorine gas is always supplied by the set amount of the gaseous chlorine gas before the gaseous chlorine gas vaporized into the ejector, and at the same time, By checking the amount of residual chlorine gas contained in real time, it is possible to supply the correct amount of chlorine gas at all times during the purification process, so that it is possible to effectively remove algae and various foreign substances contained in raw water, and to effectively remove E. coli. Can be sterilized can greatly increase the efficiency of water purification, it is possible to prevent the phenomena of excessive input of chlorine gas during the water purification operation can reduce the cost required for water purification.
Description
본 고안은 염소(鹽素) 투입장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 정수 및 하수 처리장에서 조류 및 각종 이물질을 제거하거나 대장균 등을 소독하기 위해 투입되는 기체 상태의 염소 가스량을 정확하게 측정함과 아울러, 투입된 염소가스의 용해 상태를 직접 감지하므로써 작업자가 염소가스의 공급량 및 적정 투입량을 효율적으로 조절하여 공급할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to a chlorine injecting device, and more particularly, to accurately measure the amount of gaseous chlorine gas to remove algae and various foreign substances or to disinfect E. coli in a purified water and sewage treatment plant. By detecting the dissolved state of chlorine gas directly, the operator can efficiently adjust the supply amount and the proper amount of chlorine gas.
일반적으로, 정수장 및 하수 처리장에서는 원수관을 통해 약품실 및 혼화지에서 물과 함께 분사되는 약품이 골고루 혼화되도록 한 다음, 응집지에서 미세한 슬러지 등을 응집시켜 주고, 응집된 슬러지는 침전지에서 침전시켜 침전물을 제거한 후, 금속 여과지 및 정수지로 보내지는 일련의 과정에 의해 정수 처리가 이루어지게 된다.In general, in a water treatment plant and a sewage treatment plant, chemicals sprayed with water from a chemical chamber and a mixed paper through the raw water pipe are mixed evenly, and then agglomerates fine sludge in the flocculation basin, and the flocculated sludge is precipitated in the sedimentation basin. After removing the precipitate, the water treatment is performed by a series of processes sent to the metal filter paper and water purification paper.
상기와 같은 정수 및 하수 처리장에 투입되는 염소가스는 액체의 염소가스가자연 기화 또는 기화기를 거치면서 기체로 기화된 상태에서 물과 함께 강한 압력으로 원수내에 분사되어 원수에 함유되어 있는 조류 및 각종 이물질을 제거하거나, 대장균 등을 소독하여 주는 중요한 역할을 하게 된다.The chlorine gas introduced into the purified water and sewage treatment plant is injected into the raw water at high pressure with water while the liquid chlorine gas is vaporized with gas while passing through natural vaporization or vaporization, and the algae and various foreign substances contained in the raw water. Eliminate, or disinfect E. coli will play an important role.
상기와 같이 기체로 기화된 염소가스는 염소 투입장치에 의해 항상 일정량의 염소가스가 이젝터내로 공급되도록 하므로써 물과 함께 염소 투입지점에서 분사가 이루어지게 된다.As described above, the gaseous chlorine gas is always injected by the chlorine input device so that a certain amount of chlorine gas is supplied into the ejector.
그러나, 이와 같은 종래의 염소 투입장치는 유량 조절계에 의해 조절된 량의 염소가스가 진공 조절기를 거쳐 이젝터의 내부로 직접 공급이 이루어지도록 되어 있기 때문에 염소가스의 공급 도중 항상 일정량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 작업자가 확인할 수가 없고, 투입되는 염소가스의 잔류 염소량을 측정할 수가 없으므로 인해 진공 조절기 등에 이상이 발생할 때 유량 조절계에서 염소가스의 공급량을 조절시켜 주더라도 설정된 량이 정확하게 공급되지 못할 경우에는 원수내에 조류 및 각종 이물질 제거나, 대장균 등의 소독 작업을 효율적으로 진행할 수가 없는 등의 많은 문제점이 있었다.However, such a conventional chlorine injector has a certain amount of chlorine gas is always supplied during the supply of chlorine gas because the amount of chlorine gas controlled by the flow controller is to be directly supplied to the inside of the ejector through the vacuum regulator. If the operator cannot check whether the amount of chlorine in the chlorine gas that is injected can not be measured, and the amount of chlorine gas is adjusted by the flow controller when an abnormality occurs in the vacuum regulator, etc. There have been many problems such as the removal of algae and various foreign matters in raw water and the inability to efficiently disinfect E. coli.
따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 가스 유량조절계에 의해 설정된 염소가스가 진공 조절압력계를 통해 이젝터의 내부로 공급될 때 현재 공급되고 있는 염소가스량을 육안으로 확인할 수 있도록 하여 정확한 량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 측정할 수 있어 수시로 공급량을 조절시켜 줄 수 있을 뿐만 아니라, 투입된 염소가스량에 의한 물속의 잔류 염소량을 작업자가 실시간으로 확인할 수 있어서 정수 작업을 효율적으로 진행할 수 있는 염소 투입장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention has been devised to solve the conventional problems as described above, when the chlorine gas set by the gas flow controller is supplied to the inside of the ejector through the vacuum control pressure gauge with the naked eye It is possible to check whether or not the correct amount of chlorine gas is being supplied so that the supply amount can be adjusted at any time, and the operator can check the remaining amount of chlorine in the water by the amount of chlorine gas injected in real time. The purpose is to provide a chlorine dosing device that can proceed efficiently.
도 1은 본 고안의 염소 투입장치가 적용된 정수 장치를 개략적으로 나타낸 구성도1 is a schematic view showing a water purification device to which the chlorine input device of the present invention is applied
도 2는 본 고안의 염소 투입장치를 나타낸 정면도2 is a front view showing a chlorine input device of the present invention
도 3은 도 2의 염소가스 유량 측정부를 나타낸 확대 종단면도3 is an enlarged longitudinal sectional view showing a chlorine gas flow rate measurement part of FIG.
도 4는 도 2의 잔류 염소가스 측정부를 나타낸 확대 종단면도4 is an enlarged longitudinal sectional view showing the residual chlorine gas measuring unit of FIG.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10; 물저장부 12; 펌프10; Water storage unit 12; Pump
20; 염소 저장탱크 30; 기화기20; Chlorine storage tank 30; carburetor
40; 이젝터 50; 원수관40; Ejector 50; Water pipe
60; 투입조 100; 염소 투입장치60; Dosing tank 100; Chlorine Injector
110; 케이스 120; 진공 조절기110; Case 120; Vacuum regulator
122; 공급관 130; 염소가스 유량 측정부122; Supply line 130; Chlorine Gas Flow Measurement Unit
132; 눈금 134; 유리관132; Graduation 134; Glass tube
136; 플로터 138; 지지 부재136; Plotter 138; Support member
140; 저항부 142; 염소가스 이송량 표시기140; Resistance unit 142; Chlorine gas flow indicator
144; 수동 및 자동 유량조절기 146; 가스량 주조절기144; Manual and automatic flow regulators 146; Gas volume main controller
150; 잔류 염소가스 측정부 152; 샘플링 펌프150; Residual chlorine gas measuring unit 152; Sampling pump
154; 농도 감지센서 156; 잔류 염소량 표시기154; Concentration sensor 156; Residual Chlorine Indicator
상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 염소 저장탱크의 내부에 저장되어 있는 액체 상태의 염소를 자연 기화 또는 기화기를 통과하면서 기체 상태의 염소가스로 기화시켜 이 기화된 염소가스를 이젝터의 내부로 공급하기 위한 염소 투입장치에 있어서, 상기 염소 투입장치에는 케이스의 내부에 장착되며 진공 조절기와 공급관을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 이송량을 확인하기 위한 염소가스 유량 측정부와, 상기 염소가스 유량 측정부를 통해 원수관 내부의 물속에 투입되는 염소가스의 잔류량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 잔류량을 확인하기 위한 잔류 염소가스 측정부가 구비된 것을 특징으로 하는 염소 투입장치가 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention vaporizes liquid chlorine stored in the chlorine storage tank into gaseous chlorine gas while passing through a natural vaporization or vaporizer to supply the vaporized chlorine gas into the ejector. In the chlorine injecting device, the chlorine injecting device is mounted inside the case, and the chlorine gas flow rate measuring unit for measuring the amount of chlorine gas conveyed through the vacuum regulator and the supply pipe and checking the measured amount of chlorine gas conveyed. And a chlorine gas measuring unit for measuring the residual amount of chlorine gas introduced into the water inside the raw water pipe through the chlorine gas flow rate measuring unit and checking the residual amount of the measured chlorine gas. Is provided.
또한, 상기 염소가스 유량 측정부는 상기 공급관을 통해 유입되는 염소가스가 통과하며 눈금이 표시되는 투명의 유리관과, 상기 유리관의 내부에 설치되어 공급되는 염소가스의 압력에 의해 상승 및 하강하는 자석으로 된 플로터와, 상기 유리관의 상단 및 하단을 지지하기 위해 설치되는 지지 부재와, 상기 지지 부재의 내측면에 부착되며 플로터의 승강 위치를 감지하며 플로터와 통전되는 전자석으로 된 저항부와, 상기 유리관을 통과하는 염소가스의 이송량을 표시하기 위한 염소가스이송량 표시기로 구성된 것을 그 특징으로 한다.The chlorine gas flow rate measuring unit may include a transparent glass tube through which chlorine gas flowing through the supply pipe passes and a scale is displayed, and a magnet rising and falling by pressure of chlorine gas installed and supplied inside the glass tube. A floater, a support member installed to support the top and bottom of the glass tube, a resistance portion attached to an inner surface of the support member and sensing an elevated position of the plotter and energized with the plotter, and passing through the glass tube Characterized in that consisting of a chlorine gas transfer amount indicator for displaying the transfer amount of chlorine gas.
그리고, 상기 잔류 염소가스 측정부는 상기 원수관에 장착되어 원수관 내부의 물속에 투입된 잔류 염소량을 측정하기 위해 가동하는 샘플링 펌프와, 상기 잔류 염소가스 측정부의 내부에 부착되어 샘플링 펌프의 가동에 의해 공급된 물속의 잔류 염소량을 실량 측정하기 위한 농도 감지센서와, 상기 농도 감지센서에 의해 감지된 잔류 염소량을 표시하기 위한 잔류 염소량 표시기로 구성된 것을 그 특징으로 한다.The residual chlorine gas measuring unit is mounted to the raw water pipe and is operated to measure the amount of residual chlorine introduced into the water inside the raw water pipe, and is attached to the residual chlorine gas measuring unit and supplied by operation of the sampling pump. Characterized in that it consists of a concentration sensor for measuring the actual amount of residual chlorine in the water, and the residual chlorine amount indicator for displaying the residual chlorine amount detected by the concentration sensor.
이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 고안의 염소 투입장치가 적용된 정수 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 2는 본 고안의 염소 투입장치를 나타낸 정면도이며, 도 3은 도 2의 염소가스 유량 측정부를 나타낸 확대 종단면도이고, 도 4는 도 2의 잔류 염소가스 측정부를 나타낸 확대 종단면도이다.1 is a configuration diagram schematically showing a water purification device to which the chlorine input device of the present invention is applied, FIG. 2 is a front view showing a chlorine input device of the present invention, and FIG. 3 is an enlarged longitudinal cross-sectional view showing a chlorine gas flow rate measuring part of FIG. 2. 4 is an enlarged longitudinal sectional view showing the residual chlorine gas measuring unit of FIG. 2.
본 고안의 염소 투입장치가 적용된 정수 장치는 정수하기 위한 물을 저장하는 물저장부(10)와, 액체 상태의 염소를 저장하는 염소 저장탱크(20)와, 이 염소 저장탱크(20)의 내부에 저장되어 있는 액체 상태의 염소를 기체의 염소가스로 기화시키는 기화기(30)와, 이 기화기(30)를 통과하면서 기화된 염소가스를 설정량 투입하기 위한 염소 투입장치(100)와, 펌프(12)의 가동으로 강제 이송되는 상기 물저장부(10) 내부의 물과 함께 상기 염소 투입장치(100)에서 투입되는 염소가스를 혼화된 상태에서 분사시키는 이젝터(40)와, 이 이젝터(40)를 통해 물과 함께 희석된 상태로 분사되는 기체 상태의 염소가스를 원수관(50)으로부터 공급되는 원수와 섞여지도록 분사하기 위한 분사 노즐이 내부에 설치되는 투입조(60)로 구성된다.The water purifying device to which the chlorine injecting device of the present invention is applied includes a water storage unit 10 for storing water for purification, a chlorine storage tank 20 for storing chlorine in a liquid state, and an interior of the chlorine storage tank 20. A vaporizer 30 for vaporizing liquid chlorine stored in the gas into chlorine gas, a chlorine injector 100 for introducing a predetermined amount of vaporized chlorine gas while passing through the vaporizer 30, and a pump ( Ejector 40 and the ejector 40 for injecting the chlorine gas introduced from the chlorine injecting device 100 with the water in the water storage unit 10 forcibly transported by the operation of 12) in a mixed state; It consists of an injection tank 60 is installed therein the injection nozzle for injecting the gaseous chlorine gas is injected in a diluted state with water through the raw water supplied from the raw water pipe (50).
본 고안의 지배적인 특징부인 상기 염소 투입장치(100)에는 케이스(110)의 내부에 장착되며 진공 조절기(120)와 공급관(122)을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 이송량을 확인하기 위한 염소가스 유량 측정부(130)와, 상기 염소가스 유량 측정부(130)를 통해 원수관(50) 내부의 물속에 투입되는 염소가스의 잔류량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 잔류량을 확인하기 위한 잔류 염소가스 측정부(150)가 구비된다.The chlorine input device 100, which is the dominant feature of the present invention, is mounted inside the case 110 and measures the amount of chlorine gas flowing through the vacuum regulator 120 and the supply pipe 122, and measured chlorine gas. Chlorine gas flow rate measurement unit 130 for checking the transfer amount of the chlorine gas flow rate measuring unit 130 and the chlorine gas measured in addition to the residual amount of chlorine gas introduced into the water inside the raw water pipe (50) Residual chlorine gas measuring unit 150 for checking the residual amount of gas is provided.
상기 염소가스 유량 측정부(130)는 상기 공급관(122)을 통해 유입되는 염소가스가 통과하며 눈금(132)이 표시되는 투명의 유리관(134)과, 상기 유리관(134)의 내부에 설치되어 공급되는 염소가스의 압력에 의해 상승 및 하강하는 자석으로 된 플로터(Floater)(136)와, 상기 유리관(134)의 상단 및 하단을 지지하기 위해 설치되는 지지 부재(138)와, 상기 지지 부재(138)의 내측면에 부착되며 플로터(136)의 승강 위치를 감지하며 플로터(136)와 통전되는 전자석으로 된 저항부(140)와, 상기 유리관(134)을 통과하는 염소가스의 이송량을 표시하기 위한 염소가스 이송량 표시기(142)로 구성된다.The chlorine gas flow rate measuring unit 130 is installed and supplied inside the glass tube 134 and the transparent glass tube 134 through which the chlorine gas flowing through the supply pipe 122 passes and the scale 132 is displayed. A floater 136 made of a magnet that rises and falls by a pressure of chlorine gas, a support member 138 installed to support the top and bottom of the glass tube 134, and the support member 138. Is attached to the inner side of the) and senses the lifted position of the plotter 136, and the resistance portion 140 made of an electromagnet that is energized with the plotter 136 and for displaying the transfer amount of chlorine gas passing through the glass tube 134 It is composed of a chlorine gas transfer amount indicator 142.
상기 잔류 염소가스 측정부(150)는 상기 원수관(50)에 장착되어 원수관(50) 내부의 물속에 투입된 잔류 염소량을 측정하기 위해 가동하는 샘플링 펌프(152)와, 상기 잔류 염소가스 측정부(150)의 내부에 부착되어 샘플링 펌프(152)의 가동에 의해 공급된 물속의 잔류 염소량을 실량 측정하기 위한 농도 감지센서(154)와, 상기농도 감지센서(154)에 의해 감지된 잔류 염소량을 표시하기 위한 잔류 염소량 표시기(156)로 구성된다.The residual chlorine gas measuring unit 150 is mounted to the raw water pipe 50 and is operated to measure the amount of residual chlorine introduced into the water inside the raw water pipe 50 and the residual chlorine gas measuring unit. The concentration sensor 154 attached to the inside of the 150 to measure the actual amount of chlorine in the water supplied by the operation of the sampling pump 152, and the residual chlorine amount detected by the concentration sensor 154 And a residual chlorine amount indicator 156 for displaying.
한편, 상기 케이스(110)의 내부에는 원수관(50) 내부를 흐르는 원수량에 필요한 적정량의 염소가스가 공급되도록 수동 및 자동 조작하기 위한 수동 및 자동 유량조절기(144)가 상기 유리관(134)의 상단과 연통되도록 설치되며, 상기 수동 및 자동 유량조절기(144)를 통과한 염소가스를 이젝터(40)로 공급하기 위한 가스량 주조절기(146)가 설치되어 구성된다.On the other hand, the case 110 has a manual and automatic flow rate controller 144 for manual and automatic operation so that the appropriate amount of chlorine gas required for the amount of raw water flowing through the raw water pipe 50 is provided in the case 110 of the glass tube 134. It is installed to communicate with the upper end, the gas amount main controller 146 for supplying the chlorine gas passed through the manual and automatic flow regulator 144 to the ejector 40 is installed.
상기와 같이 구성된 본 고안은 도 1 내지 도 4에 도시한 바와 같이, 정수 장치를 본격적으로 가동시키기 전에 먼저, 상기 원수관(50)의 내부를 흐르는 원수량에 필요한 적정량의 염소가스를 공급될 수 있도록 상기 염소 투입장치(100)에 구비된 염소가스 유량 측정부(130)의 유리관(134)의 상단과 연통되도록 설치되어 있는 수동 및 자동 유량조절기(144)를 조작하여 원수에 필요한 정량의 염소가스가 공급될 수 있도록 염소가스의 유량을 정확하게 조절한 상태에서 정수 장치를 가동시키게 된다.1 to 4, the present invention configured as described above, before the full operation of the water purifying apparatus, first, an appropriate amount of chlorine gas required for the amount of raw water flowing through the raw water pipe 50 can be supplied. To operate the manual and automatic flow regulator 144 which is installed to communicate with the upper end of the glass tube 134 of the chlorine gas flow rate measuring unit 130 provided in the chlorine input device 100 so that the chlorine gas of the required amount of raw water The water purifier is operated with an accurate adjustment of the flow rate of chlorine gas so that the gas can be supplied.
즉, 상기한 정수 장치가 가동되면, 도 1에 도시한 바와 같이 물저장부(10) 내에 저장되어 있는 물은 펌프(12)의 가동으로 인해 이젝터(40)측으로 공급되어 분사됨과 동시에, 상기 염소 저장탱크(20)의 내부에 저장되어 있는 액체 상태의 염소는 자연 기화 또는 기화기(30)를 통과하면서 기체의 염소가스로 기화되며, 이와 동시에 기화된 기체의 염소가스는 상기 염소 투입장치(100)를 통과하면서 설정된 일정량의 염소가스가 상기 이젝터(40)의 내부로 공급되고, 이 이젝터(40)의 내부에서 물과 함께 혼화된 염소가스는 투입조(60)의 내부로 분사됨에 따라 원수관(50)으로부터 공급되는 원수와 섞여지는 일련의 과정을 반복하면서 정수 작업을 진행하게 된다.That is, when the water purifier is operated, as shown in FIG. 1, the water stored in the water storage unit 10 is supplied to the ejector 40 side by the operation of the pump 12 and is injected, and at the same time, the chlorine The chlorine in the liquid state stored in the storage tank 20 is vaporized with gaseous chlorine gas while passing through the natural vaporization or vaporizer 30, and at the same time the chlorine gas of the vaporized gas is the chlorine input device 100 While passing through the predetermined amount of chlorine gas is supplied to the interior of the ejector 40, the chlorine gas mixed with water in the ejector 40 is injected into the injection tank 60, the raw water pipe ( The process of water purification is performed by repeating a series of processes mixed with raw water supplied from 50).
이때, 본 고안의 특징부인 상기한 염소 투입장치(100)의 작동 상태를 도 2 내지 도 4를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.At this time, the operation state of the above-described chlorine input device 100 which is a feature of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4.
상기 진공 조절기(120)를 통과하여 공급관(122)으로 이송되는 염소가스는 이 공급관(122)의 상단과 연통되며 상기 지지 부재(138)에 의해 상단 및 하단이 지지되어 설치된 유리관(134)의 하단부를 통해 상단부로 이송하게 된다.The chlorine gas, which is passed through the vacuum regulator 120 to the supply pipe 122, communicates with the upper end of the supply pipe 122, and the lower end of the glass tube 134 installed with the upper and lower ends supported by the support member 138. It is transferred to the upper end through.
이때, 상기 유리관(134)의 하단부를 통해 내부로 이송되는 염소가스의 이송 압력에 의해 상기 유리관(134)의 내부에 설치된 플로터(136)는 상승된 상태에서 염소가스는 상기 유리관(134)의 상단부를 통해 빠져나가 상기 수동 및 자동 유량 조절기(144) 및 가스량 주조절기(146)를 거쳐 상기 이젝터(40)의 내부로 진공에 의해 빨려들어가 물과 함께 혼화된 상태로서 분사시키게 된다.At this time, the chlorine gas in the state in which the plotter 136 installed inside the glass tube 134 is raised by the transfer pressure of the chlorine gas transferred to the inside through the lower end of the glass tube 134, the upper end of the glass tube 134 Through the manual and automatic flow regulator 144 and the gas volume main controller 146 is sucked by the vacuum into the interior of the ejector 40 is sprayed as a mixed state with water.
상기와 같이 유리관(134)의 내부를 통과하는 염소가스의 이송 압력으로 인해 자석으로 된 플로터(136)가 상승될 때 이 플로터(136)의 상승되는 위치에 따라 상기 유리관(134)을 지지하는 지지 부재(138)의 내측면에 부착되어 전자석으로 된 저항부(140)가 상기 자석으로 된 플로터(136)와 통전되면서 통상적인 수위계의 원리와 같이 상승된 플로터(136)의 높이를 자력으로 측정하여 이 측정값을 4~20 ㎃의 아날로그 신호로서 PLC로 전송하여 상기 염소가스 이송량 표시기(142)에 표시하여줌과 동시에, 외부의 제어반으로 전송하여 주므로써 작업자가 상기 염소가스 이송량 표시기(142)에 나타난 눈금 위치를 보고 설정된 염소가스가 정확하게 공급되고 있는 지의 여부를 손쉽게 확인할 수 있게 된다.Support for supporting the glass tube 134 according to the raised position of the floater 136 when the magnetic plotter 136 is raised due to the transfer pressure of the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 134 as described above The resistance portion 140 made of an electromagnet attached to the inner side of the member 138 is energized with the magnetic plotter 136, and magnetically measures the height of the raised plotter 136 as in the principle of a conventional water meter. The measured value is transmitted to the PLC as an analog signal of 4 to 20 kHz and displayed on the chlorine gas feed amount indicator 142, and then transmitted to an external control panel. It is easy to check whether the set chlorine gas is supplied correctly by looking at the displayed scale position.
또한, 상기한 물속에 희석되어 있는 잔류 염소량은 상기 원수관(50)에 장착된 샘플링 펌프(152)가 가동함에 따라 물을 펌핑하여 상기 잔류 염소가스 측정부(150)의 내부로 보내줌과 동시에, 이 잔류 염소가스 측정부(150)의 내부에 부착된 농도 감지센서(154)가 물속에 투입된 잔류 염소량을 실량 측정하여 상기 잔류 염소량 표시기(156)에 전송하여 주고, 이와 동시에 외부의 제어반으로 현재의 잔류 염소량을 정확하게 실시간으로 알려줄 수 있게 된다.In addition, the amount of residual chlorine diluted in the water is pumped into the water as the sampling pump 152 mounted on the raw water pipe 50 operates and sent to the inside of the residual chlorine gas measuring unit 150, The concentration sensor 154 attached to the residual chlorine gas measuring unit 150 measures the actual amount of residual chlorine introduced into the water and transmits the residual amount of chlorine to the residual chlorine level indicator 156. The amount of residual chlorine can be reported accurately and in real time.
이상에서 상술한 바와 같이, 본 고안은 기체 상태로 기화된 염소가스가 이젝터의 내부로 공급되기 전에 이송되는 기체 상태의 염소가스가 설정된 량 만큼 항상 일정량의 염소가스가 공급되는지의 여부를 작업자가 용이하게 확인할 수 있음과 동시에, 물속에 함유된 잔류 염소가스량을 실시간으로 확인할 수 있으므로써 정수 작업의 진행시 항상 정확한 량의 염소가스를 공급할 수 있어서 원수내에 함유되어 있는 조류 및 각종 이물질을 효과적으로 제거할 수 있음은 물론, 대장균 등을 효과적으로 소독할 수 있어서 정수 효율을 크게 증대시킬 수 있으며, 정수 작업시 염소가스가 과다하게 투입되는 현상을 방지할 수 있어서 정수시 소요되는 비용을 절감시킬 수 있으므로 인해 장치의 효율성 및 신뢰성을 대폭 향상시킨 매우 유용한 고안이다.As described above, the present invention allows the operator to easily determine whether a certain amount of chlorine gas is always supplied by the set amount of the gaseous chlorine gas, which is transferred before the gaseous chlorine gas is supplied into the ejector. In addition, the amount of chlorine gas contained in the water can be checked in real time, so that the correct amount of chlorine gas can be supplied at all times during the purification process, effectively removing algae and various foreign substances contained in raw water. Of course, it is possible to effectively disinfect E. coli, so that the water purification efficiency can be greatly increased, and it is possible to prevent the excessive input of chlorine gas during water purification work, thereby reducing the cost required for water purification. It is a very useful design that has greatly improved efficiency and reliability.
본 고안은 도면에 도시된 일실시예를 참고로 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 고안의 진정한 기술적인 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2020020026476U KR200296502Y1 (en) | 2002-09-04 | 2002-09-04 | Chlorine injection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2020020026476U KR200296502Y1 (en) | 2002-09-04 | 2002-09-04 | Chlorine injection apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR200296502Y1 true KR200296502Y1 (en) | 2002-11-23 |
Family
ID=73128012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2020020026476U KR200296502Y1 (en) | 2002-09-04 | 2002-09-04 | Chlorine injection apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200296502Y1 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100855609B1 (en) | 2008-01-07 | 2008-09-01 | 주식회사 한힘테크놀러지 | Chlorine dosing equipment use for gas tank of fix type |
| KR100887103B1 (en) * | 2002-08-13 | 2009-03-04 | 주식회사 포스코 | A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line |
| KR101479564B1 (en) * | 2013-11-08 | 2015-01-07 | 주식회사 태현이엔지 | Chlorine inlet device |
| KR102056889B1 (en) | 2019-04-16 | 2020-01-14 | 청정테크주식회사 | Refrigerator integral chlorine infusion system |
-
2002
- 2002-09-04 KR KR2020020026476U patent/KR200296502Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100887103B1 (en) * | 2002-08-13 | 2009-03-04 | 주식회사 포스코 | A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line |
| KR100855609B1 (en) | 2008-01-07 | 2008-09-01 | 주식회사 한힘테크놀러지 | Chlorine dosing equipment use for gas tank of fix type |
| KR101479564B1 (en) * | 2013-11-08 | 2015-01-07 | 주식회사 태현이엔지 | Chlorine inlet device |
| KR102056889B1 (en) | 2019-04-16 | 2020-01-14 | 청정테크주식회사 | Refrigerator integral chlorine infusion system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE68911339T2 (en) | Concentrated sterilant injection device. | |
| IL130519A (en) | Liquid transfer system | |
| KR20010051006A (en) | Chemical delivery system with ultrasonic fluid sensors | |
| KR200296502Y1 (en) | Chlorine injection apparatus | |
| KR102284935B1 (en) | ICT-based waterworks water quality management system that enables sample water recycling | |
| KR20150128350A (en) | Apparatus for producing ultra-pure water production | |
| KR102305950B1 (en) | Aeration water quality measuring device for sewage and wastewater | |
| KR101832930B1 (en) | Residual chlorine management system with zinc ionization and micro bubble cleaning system | |
| KR20150076821A (en) | Ballast System with Accurate TRO Sensing Means | |
| US20070127028A1 (en) | Optical measuring device | |
| KR101302734B1 (en) | Tro sensor with quantity of flow and fluid pressure buffer chamber | |
| KR100897438B1 (en) | Control apparatus for Sewage treatment system | |
| US20220194816A1 (en) | Apparatus and method for providing purified water | |
| KR101479564B1 (en) | Chlorine inlet device | |
| CN111569689A (en) | Equipment for preparing pure chlorine dioxide disinfectant in medical public place | |
| CN219239291U (en) | Waste water treatment device | |
| JP3062426B2 (en) | Chemical injection device | |
| US4405462A (en) | Automatic revitalization of sulfide processing and treatment solutions | |
| JPS58205835A (en) | Dissolved ozone measuring apparatus | |
| CN218724563U (en) | Detection device for judging water inflow uniformity | |
| TW509970B (en) | Liquid transfer system | |
| CN215277097U (en) | Cleaning liquid preparation system capable of avoiding liquid overflowing | |
| KR200404638Y1 (en) | The antiseptic solution injectioning apparatus on measuring antiseptic solution concentration of the water | |
| KR960009376Y1 (en) | Oxygen measuring cap structure | |
| KR20070031723A (en) | Chemical supply apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| REGI | Registration of establishment | ||
| T201 | Request for technology evaluation of utility model | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| T601 | Decision to invalidate utility model after technical evaluation |