KR101479564B1 - Chlorine inlet device - Google Patents

Chlorine inlet device Download PDF

Info

Publication number
KR101479564B1
KR101479564B1 KR1020130135539A KR20130135539A KR101479564B1 KR 101479564 B1 KR101479564 B1 KR 101479564B1 KR 1020130135539 A KR1020130135539 A KR 1020130135539A KR 20130135539 A KR20130135539 A KR 20130135539A KR 101479564 B1 KR101479564 B1 KR 101479564B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chlorine gas
chlorine
rotating body
glass tube
pole piece
Prior art date
Application number
KR1020130135539A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박영철
Original Assignee
주식회사 태현이엔지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 태현이엔지 filed Critical 주식회사 태현이엔지
Priority to KR1020130135539A priority Critical patent/KR101479564B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101479564B1 publication Critical patent/KR101479564B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/50Treatment of water, waste water, or sewage by addition or application of a germicide or by oligodynamic treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/002Construction details of the apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/29Chlorine compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/04Disinfection

Abstract

According to an embodiment, the present invention relates to a chlorine inputting device comprising a transparent glass pipe (234) through which chlorine gas flowing in through a supply pipe (222) passes; a rotor installed on the inside of the glass pipe (234) and rotated by pressure of supplied chlorine gas; and a sensor (340) sensing the rotor (330). The purpose of the present invention is to provide a chlorine inputting device which can measure whether the exact amounts of chlorine gas are supplied or not by checking the supplied chlorine gas quantity with the naked eye.

Description

염소 투입 장치{Chlorine inlet device}Chlorine inlet device

본 발명은 염소 투입 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 정수 및 하수 처리장에서 조류 및 각종 이물질을 제거하거나 대장균 등을 소독하기 위해 투입되는 기체 상태의 염소 가스량을 정확하게 측정할 수 있도록 한 것이다.
The present invention relates to a chlorine input device, and more particularly, to an apparatus for accurately measuring the amount of chlorine gas in a gaseous state to remove algae and various foreign substances or disinfect E. coli from water and sewage treatment plants.

정수장 및 하수 처리장에서는 원수관을 통해 약품실 및 혼화지에서 물과 함께 분사되는 약품이 골고루 혼화되도록 한 다음, 응집지에서 미세한 슬러지 등을 응집시켜 주고, 응집된 슬러지는 침전지에서 침전시켜 침전물을 제거한 후, 금속 여과지 및 정수지로 보내지는 일련의 과정에 의해 정수 처리가 이루어진다.In the water purification plant and the sewage treatment plant, the chemicals sprayed together with the water in the chemical chamber and the mixed paper are uniformly mixed through the raw water pipe, and then the fine sludge and the like are coagulated in the cohesive paper. The coagulated sludge is precipitated in the coagulating paper, And then sent to a metal filter paper and purified water, and the water treatment is performed by a series of processes.

상기 정수 및 하수 처리장에 투입되는 염소가스는 물과 함께 강한 압력으로 원수 내에 분사되어 원수에 함유되어 있는 조류 및 각종 이물질을 제거하거나, 대장균 등을 소독한다.The chlorine gas introduced into the water purification and sewage treatment plant is sprayed into the raw water with strong pressure together with water to remove algae and various foreign substances contained in the raw water or disinfect E. coli.

상기와 같이 기체로 기화된 염소가스는 염소 투입장치에 의해 항상 일정량의 염소가스가 이젝터 내로 공급되도록 함으로써 물과 함께 염소 투입지점에서 분사가 이루어지게 된다.As described above, the chlorine gas vaporized by the gas is always supplied to the ejector by the chlorine introducing device so that the chlorine gas is injected at the chlorine charging point together with the water.

그러나, 종래 염소 투입장치는 유량 조절계에 의해 조절된 양의 염소가스가 진공 조절기를 거쳐 분사부 내부로 직접 공급이 이루어지도록 되어 있기 때문에 염소가스의 공급 도중 항상 일정량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 작업자가 확인할 수가 없는 문제가 발생된다.However, in the conventional chlorine introducing device, since the amount of chlorine gas controlled by the flow rate controller is directly supplied to the inside of the jetting portion through the vacuum regulator, whether or not a certain amount of chlorine gas is always supplied during the supply of chlorine gas A problem that can not be confirmed by the operator occurs.

그리고 투입되는 염소가스의 잔류 염소량을 측정할 수가 없으므로 설정된 량이 정확하게 공급되지 못할 경우에는 원수 내에 조류 및 각종 이물질 제거나 대장균 등의 소독 작업을 효율적으로 진행할 수가 없는 문제점이 있다.
In addition, since the residual chlorine amount of the chlorine gas to be introduced can not be measured, if the predetermined amount can not be supplied accurately, disinfection work of algae, various kinds of foreign substances, and coliform bacteria can not be efficiently performed in the raw water.

본 발명의 실시예에 따른 염소 투입 장치는 공급되고 있는 염소가스량을 육안으로 확인할 수 있도록 하여 정확한 량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 측정할 수 있는 염소 투입장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
It is an object of the present invention to provide a chlorine introducing apparatus capable of visually checking the amount of chlorine gas being supplied and measuring whether or not an accurate amount of chlorine gas is being supplied .

본 발명의 실시예는 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스가 통과하는 투명의 유리관(234)과, 상기 유리관(234)의 내부에 설치되어 공급되는 염소가스의 압력에 의해 회전되는 회전체(330) 및 상기 회전체(330)를 감지하는 감지센서(340)를 포함하는 것을 특징으로 하는 염소 투입 장치를 제공할 수 있다.The embodiment of the present invention includes a transparent glass tube 234 through which the chlorine gas flowing through the supply pipe 222 passes and a rotating body 242 rotated by the pressure of the chlorine gas supplied inside the glass tube 234 And a sensor 340 for detecting the rotation of the rotary body 330. The chlorine injection device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

상기 회전체(330)는 유리관(234)의 내부에 형성된 회전축(332)과, 상기 회전축(332)을 중심으로 유리관(234)의 내부를 통과하는 염소가스에 의해 회전되도록 형성된 플라스틱 재질의 프로펠러(334)와, 상기 프로펠러(334)에 형성된 금속편(336)을 포함할 수 있다.The rotating body 330 includes a rotating shaft 332 formed inside the glass tube 234 and a propeller made of plastic formed to rotate by the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 234 about the rotating shaft 332 334, and a metal piece 336 formed on the propeller 334.

상기 감지센서(340)는 회전체(330)를 향하여 지지 부재(238)의 내측에 형성된 하우징(341)과, 상기 하우징(341)의 내측에서 자기력을 발생시키도록 형성된 영구자석(343)과, 상기 영구자석(343)에서 발생된 자속이 회전체(330) 쪽으로 향할 수 있도록 형성된 자극편(344) 및 상기 자극편(344)의 외면을 감싸며 회전체(330)의 회전에 따라 발생되는 자속의 변화를 교류 전압으로 변환시키는 코일(345)을 포함할 수 있다.The detection sensor 340 includes a housing 341 formed inside the support member 238 toward the rotating body 330, a permanent magnet 343 formed to generate a magnetic force from the inside of the housing 341, A magnetic pole piece 344 formed so that the magnetic flux generated from the permanent magnet 343 can be directed toward the rotating body 330 and a magnetic pole piece 344 surrounding the outer surface of the magnetic pole piece 344, And a coil 345 that converts the change to an alternating voltage.

상기 유리관(234)을 통과하는 염소가스의 이송량을 표시하기 위한 염소가스 이송량 표시기(242)를 더 포함할 수 있다.And a chlorine gas transfer amount indicator 242 for indicating the transfer amount of chlorine gas passing through the glass tube 234.

그리고 본 발명의 실시예에는 상기 유리관(234)이 형성되는 투입하우징(210)의 내부에 장착되며 진공 조절기(220)와 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 이송량을 확인하기 위한 염소가스 유량 측정부(230)와, 상기 염소가스 유량 측정부(230)를 통해 원수관(150) 내부의 물속에 투입되는 염소가스의 잔류량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 잔류량을 확인하기 위한 잔류 염소가스 측정부(250)가 더 구비될 수 있다.
In the embodiment of the present invention, the amount of chlorine gas introduced through the vacuum regulator 220 and the supply pipe 222 is measured, and the amount of chlorine gas introduced into the inlet housing 210 through which the glass tube 234 is formed is measured. A chlorine gas flow rate measuring unit 230 for confirming the amount of gas to be transferred and a chlorine gas flow rate measuring unit 230 for measuring the residual amount of chlorine gas introduced into the water inside the raw water pipe 150, A residual chlorine gas measuring unit 250 for checking the residual amount of chlorine gas may be further provided.

본 발명의 실시예는 공급되고 있는 염소가스량을 육안으로 확인할 수 있도록 하여 정확한 량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 측정할 수 있는 효과가 발생된다.The embodiment of the present invention is capable of visually confirming the amount of chlorine gas being supplied, and it is possible to measure whether or not an accurate amount of chlorine gas is supplied.

그리고 투입된 염소가스량에 의한 물속의 잔류 염소량을 작업자가 실시간으로 확인할 수 있어서 정수 작업을 효율적으로 진행할 수 있다.
The operator can confirm the amount of residual chlorine in the water by the amount of chlorine gas input in real time, so that the water purification work can be efficiently performed.

도 1은 본 발명의 염소 투입장치가 적용된 정수 장치의 개략도.
도 2는 본 발명의 염소 투입장치를 나타낸 정면개략도.
도 3은 도 2의 염소가스 유량 측정부를 나타낸 확대 종단면도.
도 4는 도 2의 잔류 염소가스 측정부를 나타낸 확대 종단면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view of a water purification apparatus to which a chlorine introducing apparatus of the present invention is applied. FIG.
2 is a front schematic view showing the chlorine-introducing apparatus of the present invention.
3 is an enlarged vertical sectional view of the chlorine gas flow rate measuring unit of FIG. 2;
4 is an enlarged longitudinal sectional view showing the residual chlorine gas measuring unit of FIG. 2;

이하 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 첨부된 도면은 본 발명의 내용을 보다 쉽게 개시하기 위하여 설명되는 것일 뿐, 본 발명의 범위가 첨부된 도면의 범위로 한정되는 것이 아님은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 알 수 있을 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the appended drawings illustrate the present invention in order to more easily explain the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto. You will know.

그리고, 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.In describing the present embodiment, the same designations and the same reference numerals are used for the same components, and further description thereof will be omitted.

또한, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Also, the terms used in the present application are used only to describe certain embodiments and are not intended to limit the present invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

도 1은 본 발명의 염소 투입장치가 적용된 정수 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 2는 본 발명의 염소 투입장치를 나타낸 정면개략도이며, 도 3은 도 2의 염소가스 유량 측정부를 나타낸 확대 종단면도이고, 도 4는 도 2의 잔류 염소가스 측정부를 나타낸 확대 종단면도이다.2 is a schematic front view showing the chlorine-introducing apparatus of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a chlorine gas flow rate measuring unit of FIG. 2, And FIG. 4 is an enlarged longitudinal sectional view showing the residual chlorine gas measuring unit of FIG. 2.

본 발명의 실시예인 염소 투입장치가 적용된 정수 장치는 정수하기 위한 물을 저장하는 물탱크부(100)와, 액체 상태의 염소를 저장하는 염소 저장탱크(120)와, 이 염소 저장탱크(120)의 내부에 저장되어 있는 액체 상태의 염소를 기체의 염소가스로 기화시키는 기화기(130)와, 이 기화기(130)를 통과하면서 기화된 염소가스를 설정량 투입하기 위한 염소 투입장치(200)와, 펌프부(112)의 가동으로 강제 이송되는 상기 물탱크부(100) 내부의 물과 함께 상기 염소 투입장치(200)에서 투입되는 염소가스를 혼화된 상태에서 분사시키는 분사부(140)와, 이 분사부(140)를 통해 물과 함께 희석된 상태로 분사되는 기체 상태의 염소가스를 원수관(150)으로부터 공급되는 원수와 섞여지도록 분사하기 위한 분사 노즐이 내부에 설치되는 투입조(160)로 구성된다.The chlorine storage tank 120 for storing chlorine in a liquid state, the chlorine storage tank 120 for storing chlorine in the liquid state, A chlorine input device 200 for inputting a predetermined amount of vaporized chlorine gas while passing through the vaporizer 130, and a chlorine- A jetting part 140 for jetting the chlorine gas injected from the chlorine input device 200 in a mixed state with the water in the water tank part 100 forcedly transferred by the operation of the pump part 112, And an injection tank 160 in which a spray nozzle for spraying the gaseous chlorine gas injected in a diluted state with water through the sprayer 140 is mixed with the raw water supplied from the raw water pipe 150 .

본 발명의 실시예 중 상기 염소 투입장치(200)에는 투입하우징(210)의 내부에 장착되며 진공 조절기(220)와 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 이송량을 확인하기 위한 염소가스 유량 측정부(230)와, 상기 염소가스 유량 측정부(230)를 통해 원수관(150) 내부의 물속에 투입되는 염소가스의 잔류량을 측정함과 아울러 측정된 염소가스의 잔류량을 확인하기 위한 잔류 염소가스 측정부(250)가 구비된다.In the embodiment of the present invention, the chlorine input device 200 is installed in the input housing 210 and measures the amount of chlorine gas introduced through the vacuum controller 220 and the supply pipe 222, A chlorine gas flow rate measuring unit 230 for measuring the amount of chlorine gas introduced into the water in the raw water pipe 150 through the chlorine gas flow rate measuring unit 230, A residual chlorine gas measuring unit 250 for checking the residual amount of the gas is provided.

상기 염소가스 유량 측정부(230)는 상기 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스가 통과하는 투명의 유리관(234)과, 상기 유리관(234)의 내부에 설치되어 공급되는 염소가스의 압력에 의해 회전되는 회전체(330)와, 상기 유리관(234)의 상단 및 하단을 지지하기 위해 설치되는 지지 부재(238)와, 상기 지지 부재(238)의 내측에 부착되며 회전체(330)를 감지하는 감지센서(340)와, 상기 유리관(234)을 통과하는 염소가스의 이송량을 표시하기 위한 염소가스 이송량 표시기(242)로 구성된다.The chlorine gas flow rate measuring unit 230 includes a transparent glass tube 234 through which the chlorine gas flowing through the supply tube 222 passes and a chlorine gas supply unit 234 provided inside the glass tube 234, A supporting member 238 installed to support the upper and lower ends of the glass tube 234 and a supporting member 238 attached to the inside of the supporting member 238 and configured to sense the rotating body 330 A detection sensor 340 and a chlorine gas transfer amount indicator 242 for indicating the transfer amount of chlorine gas passing through the glass tube 234.

상기 회전체(330)는 유리관(234)의 내부에 형성된 회전축(332)과, 상기 회전축(332)을 중심으로 유리관(234)의 내부를 통과하는 염소가스에 의해 회전되도록 형성된 플라스틱 재질의 프로펠러(334)와, 상기 프로펠러(334)의 끝단에 형성된 금속편(336)을 포함한다.The rotating body 330 includes a rotating shaft 332 formed inside the glass tube 234 and a propeller made of plastic formed to rotate by the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 234 about the rotating shaft 332 334 and a metal piece 336 formed at an end of the propeller 334.

상기 프로펠러(334)는 회전축(332)을 중심으로 복수개가 방사형태로 등간격으로 형성된다.A plurality of the propellers 334 are formed at regular intervals around the rotary shaft 332 in a radial manner.

상기 감지센서(340)는 회전체(330)를 향하여 지지 부재(238)의 내측에 형성된 하우징(341)과, 상기 하우징(341)의 내측에서 자기력을 발생시키도록 형성된 영구자석(343)과, 상기 영구자석(343)에서 회전체(330) 쪽으로 향하여 형성된 자극편(344) 및 상기 자극편(344)의 외면을 감싸며 회전체(330)의 회전에 따라 발생되는 자속의 변화를 교류 전압으로 변환시키는 코일(345)이 포함된다.The detection sensor 340 includes a housing 341 formed inside the support member 238 toward the rotating body 330, a permanent magnet 343 formed to generate a magnetic force from the inside of the housing 341, A magnetic pole piece 344 formed on the permanent magnet 343 toward the rotating body 330 and a magnetic flux piece 344 covering the outer surface of the magnetic pole piece 344 and converting the magnetic flux generated by the rotation of the rotating body 330 into an AC voltage And a coil 345 for inducing a magnetic field.

이때 코일(345)의 일측에는 전선이 접속되어 코일(345)과 염소가스 이송량 표시기(242)가 전기적으로 접속된다.At this time, a wire is connected to one side of the coil 345, and the coil 345 and the chlorine gas transfer amount indicator 242 are electrically connected.

상기 잔류 염소가스 측정부(250)는 상기 원수관(150)에 장착되어 원수관(150) 내부의 물속에 투입된 잔류 염소량을 측정하기 위해 가동하는 샘플링 펌프(252)와, 상기 잔류 염소가스 측정부(250)의 내부에 부착되어 샘플링 펌프(252)의 가동에 의해 공급된 물속의 잔류 염소량을 실량 측정하기 위한 농도 감지센서(254)와, 상기 농도 감지센서(254)에 의해 감지된 잔류 염소량을 표시하기 위한 잔류 염소량 표시기(256)로 구성된다.The residual chlorine gas measuring unit 250 includes a sampling pump 252 mounted on the raw water pipe 150 and operated to measure the amount of residual chlorine introduced into the water inside the raw water pipe 150, A concentration detection sensor 254 attached to the inside of the reaction chamber 250 for measuring the actual amount of residual chlorine in the water supplied by the operation of the sampling pump 252 and a control unit 260 for controlling the residual chlorine amount detected by the concentration detection sensor 254 And a residual chlorine amount indicator 256 for display.

한편, 상기 투입하우징(210)의 내부에는 원수관(150) 내부를 흐르는 원수량에 필요한 적정량의 염소가스가 공급되도록 수동 및 자동 조작하기 위한 수동 및 자동 유량조절기(244)가 상기 유리관(234)의 상단과 연통되도록 설치되며, 상기 수동 및 자동 유량조절기(244)를 통과한 염소가스를 분사부(140)로 공급하기 위한 가스량 주조절기(246)가 설치되어 구성된다.A manual and automatic flow rate regulator 244 for manual and automatic operation is installed in the glass tube 234 to supply a proper amount of chlorine gas required for the raw water flowing inside the raw water pipe 150, And a main gas regulator 246 for supplying chlorine gas, which has passed through the manual and automatic flow regulator 244, to the jetting unit 140 is installed.

상기와 같이 구성된 본 발명은 도 1 내지 도 4에 도시한 바와 같이, 정수 장치를 본격적으로 가동시키기 전에 먼저, 상기 원수관(150)의 내부를 흐르는 원수량에 필요한 적정량의 염소가스를 공급될 수 있도록 상기 염소 투입장치(200)에 구비된 염소가스 유량 측정부(230)의 유리관(234)의 상단과 연통되도록 설치되어 있는 수동 및 자동 유량조절기(244)를 조작하여 원수에 필요한 정량의 염소가스가 공급될 수 있도록 염소가스의 유량을 정확하게 조절한 상태에서 정수장치를 가동시킨다.As shown in FIGS. 1 to 4, before the water purification apparatus is fully activated, a sufficient amount of chlorine gas necessary for the raw water flowing in the raw water pipe 150 can be supplied A manual and automatic flow rate regulator 244 provided so as to communicate with the upper end of the glass tube 234 of the chlorine gas flow rate measuring unit 230 provided in the chlorine introducing apparatus 200 is operated so that a predetermined amount of chlorine gas So that the flow rate of the chlorine gas can be precisely controlled.

상기 정수 장치가 가동되면, 도 1에 도시한 바와 같이 물탱크부(100) 내에 저장되어 있는 물은 펌프부(112)의 가동으로 인해 분사부(140)측으로 공급되어 분사됨과 동시에, 상기 염소 저장탱크(120)의 내부에 저장되어 있는 액체 상태의 염소는 기화기(130)를 통과하면서 기체의 염소가스로 기화되며, 이와 동시에 기화된 기체의 염소가스는 상기 염소 투입장치(200)를 통과하면서 설정된 일정량의 염소가스가 상기 분사부(140)의 내부로 공급되고, 이 분사부(140)의 내부에서 물과 함께 혼화된 염소가스는 투입조(160)의 내부로 분사됨에 따라 원수관(150)으로부터 공급되는 원수와 섞여지는 일련의 과정을 반복하면서 정수 작업을 진행하게 된다.1, the water stored in the water tank unit 100 is supplied to the jetting unit 140 due to the operation of the pump unit 112 and is sprayed, and at the same time, The liquid chlorine stored in the tank 120 is vaporized into the chlorine gas of the gas while passing through the vaporizer 130. At the same time, the chlorine gas of the vaporized gas is passed through the chlorine- A predetermined amount of chlorine gas is supplied to the interior of the sprayer 140. The chlorine gas mixed with the water in the sprayer 140 is injected into the interior of the inlet tank 160, And the water is mixed with the raw water supplied from the water purification system.

이때, 본 발명의 특징부인 상기한 염소 투입장치(200)의 작동 상태를 도 2 내지 도 4를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the chlorine injection device 200 will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4. FIG.

상기 진공 조절기(220)를 통과하여 공급관(222)으로 이송되는 염소가스는 이 공급관(222)의 상단과 연통되며 상기 지지 부재(238)에 의해 상단 및 하단이 지지되어 설치된 유리관(234)의 하단부를 통해 상단부로 이송하게 된다.The chlorine gas transferred through the vacuum regulator 220 to the supply pipe 222 is connected to the upper end of the supply pipe 222 and the lower end of the glass pipe 234, To the upper end.

이때, 상기 유리관(234)의 하단부를 통해 내부로 이송되는 염소가스의 이송 압력에 의해 상기 유리관(234)의 내부에 설치된 회전체(330)도 회전을 하게 된다.At this time, the rotating body 330 installed in the glass tube 234 also rotates due to the transfer pressure of the chlorine gas transferred through the lower end of the glass tube 234.

이때, 회전체(330)가 회전하여 자성체인 금속편(336)이 감지센서(340)의 자극편(344)에 근접되면, 영구자석(343)에 의하여 발생된 자속이 자극편(344)을 경유하여 금속편(336)에 집중되므로 코일(345)에는 상대적으로 높은 전압이 유기된다.At this time, when the rotating body 330 rotates and the metal piece 336, which is a magnetic body, comes close to the magnetic pole piece 344 of the detection sensor 340, the magnetic flux generated by the permanent magnet 343 passes through the magnetic pole piece 344 So that a relatively high voltage is induced in the coil 345.

그리고 회전체(330)가 좀 더 회전하여 자극편(344)이 금속편(336)과 인접 금속편(336) 사이의 공간에 위치되면 영구자석(343)에 의하여 발생된 자속이 분산되게 되어 코일(345)에는 상대적으로 낮은 전압이 유기된다.When the rotating body 330 further rotates and the magnetic pole piece 344 is positioned in the space between the metal piece 336 and the adjacent metal piece 336, the magnetic flux generated by the permanent magnet 343 is dispersed, A relatively low voltage is induced.

상기 회전체(330)를 회전시킨 염소기체는 유리관(234)의 상단부를 통해 빠져나가 상기 수동 및 자동 유량 조절기(244) 및 가스량 주조절기(246)를 거쳐 상기 분사부(140)의 내부로 진공에 의해 빨려들어가 물과 함께 혼화된 상태로서 분사시키게 된다.The chlorine gas that has rotated the rotating body 330 is discharged through the upper end of the glass tube 234 and is discharged into the spraying portion 140 through the manual and automatic flow rate regulator 244 and the gas amount regulator 246 And is sprayed in a mixed state with water.

상기와 같이 유리관(234)의 내부를 통과하는 염소가스의 이송 압력으로 인해 회전되는 회전체(330)의 회전수를 자력으로 측정하여 이 측정값을 4~20 ㎃의 아날로그 신호로서 PLC로 전송하고 상기 염소가스 이송량 표시기(242)에 표시함과 동시에, 외부의 제어반으로 전송함으로써 작업자가 상기 염소가스 이송량 표시기(242)에 나타난 눈금 위치를 보고 설정된 염소가스가 정확하게 공급되고 있는 지의 여부를 손쉽게 확인할 수 있게 된다.As described above, the rotational speed of the rotating body 330 rotated due to the transfer pressure of the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 234 is measured by a magnetic force, and the measured value is transmitted to the PLC as an analog signal of 4 to 20 mA The chlorine gas transfer amount is displayed on the chlorine gas transfer amount indicator 242 and transmitted to an external control panel so that the operator can easily check whether the set chlorine gas is correctly supplied or not by checking the scale position indicated on the chlorine gas transfer amount indicator 242 .

또한, 상기한 물속에 희석되어 있는 잔류 염소량은 상기 원수관(150)에 장착된 샘플링 펌프(252)가 가동함에 따라 물을 펌핑하여 상기 잔류 염소가스 측정부(250)의 내부로 보내줌과 동시에, 이 잔류 염소가스 측정부(250)의 내부에 부착된 농도 감지센서(254)가 물속에 투입된 잔류 염소량을 실량 측정하여 상기 잔류 염소량 표시기(256)에 전송하여 주고, 이와 동시에 외부의 제어반으로 현재의 잔류 염소량을 정확하게 실시간으로 알려줄 수 있게 된다.In addition, the residual chlorine amount diluted in the water is pumped with the sampling pump 252 mounted on the raw water pipe 150 being operated and sent to the inside of the residual chlorine gas measuring unit 250, The residual chlorine amount measuring sensor 254 attached to the inside of the residual chlorine gas measuring unit 250 measures the actual amount of residual chlorine introduced into the water and transfers it to the residual chlorine amount indicator 256. At the same time, The amount of residual chlorine can be precisely notified in real time.

상기와 같이 본 발명의 실시예는 공급되고 있는 염소가스량을 육안으로 확인할 수 있도록 하여 정확한 량의 염소가스가 공급되고 있는지의 여부를 측정할 수 있는 효과가 발생된다.As described above, according to the embodiment of the present invention, the amount of chlorine gas being supplied can be visually confirmed, and it is possible to measure whether or not an accurate amount of chlorine gas is supplied.

그리고 투입된 염소가스량에 의한 물속의 잔류 염소량을 작업자가 실시간으로 확인할 수 있어서 정수 작업을 효율적으로 진행할 수 있다.The operator can confirm the amount of residual chlorine in the water by the amount of chlorine gas input in real time, so that the water purification work can be efficiently performed.

이상과 같이 본 발명에 따른 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.
It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. . Therefore, the above-described embodiments are to be considered as illustrative rather than restrictive, and the present invention is not limited to the above description, but may be modified within the scope of the appended claims and equivalents thereof.

100: 물탱크부 112: 펌프부
120: 염소 저장탱크 130: 기화기
140: 분사부 150: 원수관
160: 투입조 200: 염소 투입장치
210: 투입하우징 220: 진공 조절기
222: 공급관 230: 염소가스 유량 측정부
234: 유리관 238: 지지 부재
242: 염소가스 이송량 표시기 244: 유량조절기
246: 가스량 주조절기 250: 잔류 염소가스 측정부
252: 샘플링 펌프 254: 농도 감지센서
256: 잔류 염소량 표시기 330: 회전체
332: 회전축 334: 프로펠러
336: 금속편 340: 감지센서
341: 하우징 343: 영구자석
344: 자극편 345: 코일
100: water tank part 112: pump part
120: chlorine storage tank 130: vaporizer
140: jetting part 150: raw water pipe
160: Charging tank 200: chlorine charging device
210: input housing 220: vacuum regulator
222: supply pipe 230: chlorine gas flow rate measuring part
234: glass tube 238: support member
242: chlorine gas transfer amount indicator 244: flow rate regulator
246: Main gas regulator 250: Residual chlorine gas measuring unit
252: Sampling pump 254: Concentration sensor
256: residual chlorine indicator 330: rotating body
332: rotating shaft 334: propeller
336: metal piece 340: detection sensor
341: housing 343: permanent magnet
344: magnetic pole piece 345: coil

Claims (5)

삭제delete 삭제delete 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스 이송량을 측정하기 위한 염소가스 유량 측정부(230)를 포함하는 염소 투입 장치에 있어서,
상기 염소가스 유량 측정부(230)는
상기 공급관(222)을 통해 유입되는 염소가스가 통과하는 투명의 유리관(234)과,
상기 유리관(234)의 내부에 설치되어 공급되는 염소가스의 압력에 의해 회전되는 회전체(330)와,
상기 유리관(234)을 지지하기 위해 설치되는 지지 부재(238)와,
상기 지지 부재(238)에 형성되는 감지센서(340)를 포함하며,
상기 회전체(330)는
유리관(234)의 내부에 형성된 회전축(332)과,
상기 회전축(332)을 중심으로 유리관(234)의 내부를 통과하는 염소가스에 의해 회전되도록 형성된 플라스틱 재질의 프로펠러(334) 및
상기 프로펠러(334)의 끝단에 형성된 금속편(336)을 포함하고,
상기 감지센서(340)는
지지 부재(238)에 형성된 영구자석(343)과,
상기 영구자석(343)에서 회전체(330) 쪽으로 형성된 자극편(344) 및
상기 자극편(344)의 외면을 감싸며 회전체(330)의 회전에 따라 발생되는 자속의 변화를 교류 전압으로 변환시키는 코일(345)을 포함하며,
상기 회전체(330)가 회전하여 자성체인 금속편(336)이 감지센서(340)의 자극편(344)에 근접되면, 영구자석(343)에 의하여 발생된 자속이 자극편(344)을 경유하여 금속편(336)에 집중되므로 코일(345)에는 금속편(336)이 감지센서(340)의 자극편(344)에 근접되지 않을 때보다 상대적으로 높은 전압이 유기되고, 회전체(330)가 좀 더 회전하여 자극편(344)이 금속편(336)과 인접 금속편(336) 사이의 공간에 위치되면 영구자석(343)에 의하여 발생된 자속이 분산되게 되어 코일(345)에는 금속편(336)이 감지센서(340)의 자극편(344)에 근접될 때보다 상대적으로 낮은 전압이 유기되어 유리관(234)의 내부를 통과하는 염소가스의 이송 압력으로 인해 회전되는 회전체(330)의 회전수를 자력으로 측정하는 것을 특징으로 하는 염소 투입 장치.
And a chlorine gas flow rate measuring unit (230) for measuring the amount of chlorine gas transferred through the supply pipe (222)
The chlorine gas flow rate measuring unit 230 measures
A transparent glass tube 234 through which the chlorine gas flowing through the supply pipe 222 passes,
A rotating body 330 installed inside the glass tube 234 and rotated by a pressure of chlorine gas supplied thereto,
A support member 238 installed to support the glass tube 234,
And a sensing sensor (340) formed on the support member (238)
The rotating body 330 includes:
A rotating shaft 332 formed inside the glass tube 234,
A plastic propeller 334 formed to rotate by the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 234 around the rotation axis 332,
And a metal piece (336) formed at an end of the propeller (334)
The sensing sensor 340
A permanent magnet 343 formed on the support member 238,
A magnetic pole piece 344 formed from the permanent magnet 343 toward the rotating body 330,
And a coil 345 that surrounds the outer surface of the magnetic pole piece 344 and converts a change in magnetic flux generated by the rotation of the rotating body 330 to an AC voltage,
The magnetic flux generated by the permanent magnet 343 passes through the magnetic pole piece 344 when the rotating body 330 rotates and the metal piece 336 as a magnetic body approaches the magnetic pole piece 344 of the detection sensor 340 A relatively higher voltage is induced in the coil 345 than when the metal piece 336 is not close to the pole piece 344 of the detection sensor 340 and the rotating body 330 is more The magnetic flux generated by the permanent magnet 343 is dispersed when the magnetic pole piece 344 is located in the space between the metal piece 336 and the adjacent metal piece 336. The magnetic piece 336 is inserted into the coil 345, The rotating speed of the rotating body 330, which is rotated due to the transfer pressure of the chlorine gas passing through the inside of the glass tube 234, is relatively lower than when the magnetic pole piece 344 of the rotor 340 approaches the pole piece 344, Wherein the chlorine content is measured.
삭제delete 삭제delete
KR1020130135539A 2013-11-08 2013-11-08 Chlorine inlet device KR101479564B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130135539A KR101479564B1 (en) 2013-11-08 2013-11-08 Chlorine inlet device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130135539A KR101479564B1 (en) 2013-11-08 2013-11-08 Chlorine inlet device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101479564B1 true KR101479564B1 (en) 2015-01-07

Family

ID=52588002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130135539A KR101479564B1 (en) 2013-11-08 2013-11-08 Chlorine inlet device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101479564B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990073199A (en) * 1999-06-21 1999-10-05 이두우 Automatic Chlorine Input Apparatus and Method for Inputing Thereof
KR200296502Y1 (en) * 2002-09-04 2002-11-23 주식회사 한힘테크놀러지 Chlorine injection apparatus
KR20080097803A (en) * 2007-05-03 2008-11-06 태승전자(주) Flow-metering device and method
KR100993254B1 (en) * 2009-09-30 2010-11-10 유상열 Flowmeter

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990073199A (en) * 1999-06-21 1999-10-05 이두우 Automatic Chlorine Input Apparatus and Method for Inputing Thereof
KR200296502Y1 (en) * 2002-09-04 2002-11-23 주식회사 한힘테크놀러지 Chlorine injection apparatus
KR20080097803A (en) * 2007-05-03 2008-11-06 태승전자(주) Flow-metering device and method
KR100993254B1 (en) * 2009-09-30 2010-11-10 유상열 Flowmeter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107074594B (en) Sensor system and method for sensing chlorine concentration
EP1482292A3 (en) Fueling nozzle with integral hydrogen leak sensor
KR20160145085A (en) System and method for detecting biofilm growth in water systems
EP2070626A3 (en) Wire-cut electric discharge machine having water level abnormality detection function and water level abnormality alarm generation cause specifying method
KR101479564B1 (en) Chlorine inlet device
KR101832930B1 (en) Residual chlorine management system with zinc ionization and micro bubble cleaning system
KR101302734B1 (en) Tro sensor with quantity of flow and fluid pressure buffer chamber
KR200453850Y1 (en) Water meter
KR200296502Y1 (en) Chlorine injection apparatus
KR100786883B1 (en) Deposition method sensor soaping machine
CN105241925B (en) A kind of sensing detection device of constant temperature alternative electrode and sensing element
JP2009095709A (en) Method for producing sterilized water
ES2554395B1 (en) Method of detection of membrane fouling in reverse osmosis, nanofiltration or ultrafiltration plants and associated device
CN207571546U (en) A kind of administration system
JP2014025442A (en) Pump device
KR100680042B1 (en) Precise control equipment for injecting chemical solution
JP6556470B2 (en) Electrolytically generated water chlorine concentration display mixer directly connected to tap faucet and electrolytically generated water dilution supply device using the same
CN203890029U (en) Device for directly filling MO (Metal Organic) source
KR102250699B1 (en) device for projecting chlorine in water
KR100956810B1 (en) Water-treatment controlling system and the apparatus using orp sensor
JP4167078B2 (en) Remaining amount detection device by back pressure detection
CN206788098U (en) A kind of sewage PH electrode cleaning devices
KR102533321B1 (en) Water contamination detecting apparatus
KR200412778Y1 (en) The antiseptic solution injectioning apparatus in proportion to the workload of pump
JP2023073720A (en) Water level detection device and chemical injection device

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
AMND Amendment
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171020

Year of fee payment: 4