KR100887103B1 - A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line - Google Patents
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Abstract
본 발명은 정수를 생산하는 수처리 설비에서 정수되지 않은 물에 살균처리를 목적으로 염소가스를 공급하는 염소가스 공급라인의 유량조절기에 관한 것으로, 살균처리를 위해 공급되는 염소가스 내의 이물질에 의한 유량조절기의 비정상적 작동으로 발생하는 염소가스의 배출방지와 급격한 염소가스의 흐름을 방지하도록 구성된 유량조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flow regulator of a chlorine gas supply line for supplying chlorine gas for the purpose of sterilization in the water treatment equipment to produce purified water, the flow regulator by the foreign matter in the chlorine gas supplied for sterilization treatment The present invention relates to a flow control device configured to prevent the emission of chlorine gas and the rapid flow of chlorine gas caused by abnormal operation of the gas.
본 발명은, 수처리설비의 살균처리를 위한 염소가스 공급용 라인에 설치되어 염소가스를 공급하는 염소가스 공급라인의 유량조절장치에 있어서, 염소용액 저장기와 염소주입기 사이에 설치되어 기화기에 의해 기화된 염소가스의 염소주입기로의 공급량을 조절하는 장치본체;와, 상기 장치본체의 전방에 제공되고 염소가스의 흐름을 일정하게 조절하며 여과하는 조정부재를 갖춘 염소가스 유량 조정부;및, 상기 유량 조정부의 상측에 제공되고 유입되는 염소가스를 여과하는 여과수단를 갖춘 염소가스 여과부를 포함하고, 상기 염소가스 유량 조정부는, 상측에는 염소가스 유입구가 형성되고, 내부에는 상기 유량 조정부재가 마련되는 안착부가 형성되며, 캡으로 밀봉되는 원통지지체를 구비하며, 상기 원통지지체의 장치본체 측 중앙에는 염소가스의 장치본체 측 흐름을 가능하게 하는 개구가 일체로 형성되어, 염소주입기로 공급되는 염소가스를 여과하고 그 유량을 제어토록 구성된 염소가스 공급라인의 여과기능을 갖춘 염소가스 유량조절장치를 제공한다.The present invention is installed in the chlorine gas supply line for supplying chlorine gas for sterilization treatment of the water treatment equipment, the flow rate adjusting device of the chlorine gas supply line, which is installed between the chlorine solution reservoir and the chlorine injector and vaporized by a vaporizer A chlorine gas flow rate adjusting unit having an apparatus main body for adjusting a supply amount of chlorine gas to a chlorine injector; and an adjusting member provided in front of the apparatus main body and constantly adjusting and filtering the flow of chlorine gas; and the flow rate adjusting unit And a chlorine gas filtration unit provided at an upper side and having a filtration means for filtering the chlorine gas flowing therein, wherein the chlorine gas flow rate adjusting unit has a chlorine gas inlet formed at an upper side thereof, and a seating unit at which the flow rate adjusting member is provided therein. And a cylindrical support sealed with a cap, and at the center of the apparatus main body side of the cylindrical support of chlorine gas. An opening for enabling the flow of the main body of the apparatus is integrally formed to provide a chlorine gas flow rate adjusting device having a filtration function of a chlorine gas supply line configured to filter the chlorine gas supplied to the chlorine injector and control the flow rate thereof.
유량조절장치, 유량 조정부, 여과부, 염소주입기, 여과수단Flow control device, flow control unit, filtration unit, chlorine injector, filtration means
Description
도 1은 종래의 염소가스 공급라인의 계통도;1 is a system diagram of a conventional chlorine gas supply line;
도 2는 종래의 유량조절장치의 분해도;2 is an exploded view of a conventional flow control device;
도 3은 본 발명에 의한 염소가스 공급라인의 계통도;3 is a system diagram of a chlorine gas supply line according to the present invention;
도 4는 본 발명에 의한 유량조절장치의 분해도;4 is an exploded view of a flow control device according to the present invention;
도 5는 본 발명에 의한 유량조절장치의 결합도;5 is a combined view of the flow rate control apparatus according to the present invention;
도 6은 본 발명에 의한 조정부재의 사시도;6 is a perspective view of an adjusting member according to the present invention;
도 7은 본 발명에 의한 여과부의 결합 단면도;7 is a cross-sectional view of the combination of the filter unit according to the present invention;
도 8은 본 발명에 의한 여과수단의 사시도이다8 is a perspective view of the filtering means according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1..... 유량조절장치 30..... 유량 조정부1 .....
32, 54..... 패킹 34..... 안착부32, 54 .....
36..... 캡 38..... 원통지지체36 .....
38a..... 유입구 38b..... 개구38a .....
40..... 조정부재 40a..... 구멍40 .....
50..... 여과부 52..... 연결구
50 .....
56..... 유도관 58..... 몸체56 ..... guide
70..... 여과수단 72..... 상부 여과망70 ..... filtering means 72 ..... upper filtering network
78..... 여과재 100..... 염소용액 저장기78 ..... Filter 100 ..... Chlorine solution reservoir
102..... 기화기 110..... 염소주입기102 ..... Carburetor 110 ..... Chlorine injector
116..... 인젝터116 ..... Injector
본 발명은 정수를 생산하는 수처리 설비에서 정수되지 않은 물에 살균처리를 목적으로 염소가스를 공급하는 염소가스 공급라인의 유량조절기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 급격한 염소가스의 흐름으로 인한 구성요소의 파손 방지와 살균처리를 위해 공급되는 염소가스 내의 이물질에 의한 유량조절장치의 비정상적 작동으로 발생하는 염소가스의 방출을 방지하도록 구성된 유량조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flow regulator of a chlorine gas supply line for supplying chlorine gas for the purpose of sterilization to unpurified water in a water treatment plant that produces purified water, and more particularly, to a component of the component due to the rapid flow of chlorine gas. The present invention relates to a flow control device configured to prevent the release of chlorine gas resulting from abnormal operation of the flow control device by foreign matter in the chlorine gas supplied for damage prevention and sterilization treatment.
일반적으로 정수(음용수)를 생산하는 수처리설비에서 정수되지 않은 물에 포함된 미생물(대장균, 박테리아, 기타 일반세균등)과 하절기에 발생하는 조류, 녹조류 등의 억제를 위한 살균처리에 사용되는 염소가스 물과 혼합된 염소수 상태로 살균처리되지 않은 물이 저장된 여과지나 침전지로 공급되어 살균처리되지 않은 물을 살균처리하게 되는데 상기 염소가스는 독성이 강하여 중독의 우려가 있다.In general, chlorine gas used for sterilization to suppress microorganisms (e.g., E. coli, bacteria, other general bacteria) contained in unpurified water and algae and green algae that occur in summer in a water treatment facility that produces purified water (drinking water). The sterile water mixed with water is supplied to the stored filter paper or sedimentation basin to sterilize the unsterilized water. The chlorine gas is toxic and may cause poisoning.
도 1에는 종래의 염소가스 공급라인의 계통도가 도시되어 있는데, 염소가스 공급라인을 설명하면 다음과 같다. 1 is a schematic diagram of a conventional chlorine gas supply line, which will be described below.
염소용액 저장기(100)내에 염소용액이 공급되고, 상기 공급된 염소용액은 염소용액 저장기(100)로부터 상기 염소가스 공급라인에 공급된다. 염소는 비교적 낮은 압력 하에서도 압축이 가능하고 액화시키기 용이하기 때문에, 염소가스 공급라인 상에 설치된 상기 염소용액 저장기(100) 주변의 온도가 상온일 경우에는 염소용액 저장기(100)의 상부 취출구 부위의 염소용액은 일부가 이미 기화된 상태로 되어 있는 것이다. 상기 염소용액은 상기 염소용액 저장기(100)로부터 수동밸브(108)를 거쳐 내부식성이 강한 연결튜브(106)로 연결되어 있는 기화기(102)로 보내진 후, 잔여수분이 제거되어 염소가스로 기화된다. The chlorine solution is supplied into the
그리고, 상기 기화기(102)는 이후에 인젝터(116)를 구비한 염소주입기(110)와 상기 연결튜브(106)로 연결되어 있는 유량조절장치(200)와 연결된다. 상기의 기화기(102)와 유량조절장치(200) 사이에는 상기 염소가스를 차단할 수 있는 수동밸브(108)와 자동밸브(104)가 도 1에 도시된 바와 같이 배치되어 있다. 상기 유량조절장치(200)와 연결튜브(106)에 의해 연결되어 있는 염소주입기(110)는 상기 유량조절장치(200)로부터 일정량의 염소가스를 공급받고, 정수지와 급수배관(114)으로 연결되어 있어서 정수를 공급받는다. The
상기와 같이 배치되어 있는 상기 염소주입기(110)는 상기 유량조절장치(200)에 의해 일정하게 공급되는 염소가스와 정수지로부터 공급되는 정수를 혼합하여 염소수를 생성하고, 상기와 같이 염소주입기(110)에서 생성된 염소수를 염소수배관(112)에 의해 살균처리되지 않은 물이 저장된 여과지나 침전지로 공급하여 상기 살균처리되지 않은 물을 살균처리하게 된다.
The
한편, 도 2는 종래의 유량조절장치(200)를 도시하고 있는데, 상기 유량조절장치(200)는 제 1, 2 바디(202)(204), 다이어프램(206), 캡너트(212)를 구비한 축(208), 및 상기 다이어프램(206)에 부착되어 있는 캡시트(214)와 상기 축(208)에 탄성력을 가하고 있는 스프링(220)을 포함하고 있다.On the other hand, Figure 2 shows a conventional
그리고, 상기 축(208)은 상기 제 1 바디(202)의 중앙에 형성되어 있는 공급구(202a)의 직경보다 작은 직경의 원통형 몸체를 가지고 있고 상기 몸체의 일측 끝단에는 상기 공급구(202a) 직경보다 큰 직경확대부(208b)가 형성되어 있으며 타측 끝단에는 캡너트(212)가 나사결합되어 있다. 상기 축(208)상에서 직경확대부(208b)와 캡너트(212) 사이에 스프링에 의해 탄성력을 받는 고정판이 고정되어 있다. In addition, the
그런데, 상기 염소주입기(110)가 제 1 바디의 하부에 형성되어 있는 배출구(218)를 통해 유량조절장치(200)로부터 염소가스를 흡입하면 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204) 사이에 마련된 상기 유량조절장치(200)의 내부공간에 진공이 형성되어 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204) 사이에 배치된 다이어프램(206)이 염소가스 공급관(210)쪽으로 팽창하게 되고, 이때 다이어프램(206)에 부착되어 있는 캡시트(214)가 상기 축(208)의 캡너트(212) 부분을 염소가스 공급관(210)쪽으로 밀어 전진시킨다.However, when the
그리고 나서, 상기와 같은 방법으로 상기 축(208)이 염소가스 공급관(210)쪽으로 전진하게 되면 상기 제 1 바디(202)의 중앙에 형성된 공급구(202a)와 상기 축(208)의 몸체 사이에 형성된 틈으로 염소가스가 상기 유량조절장치(200)내로 공 급되어 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204) 사이에 마련된 내부공간의 진공이 점차해제되어 상기 다이어프램(206)은 수축한다.Then, when the
그리고, 상기 다이어프램(206)에 부착되어 있는 상기 캡시트(214)가 상기 축(208)에 나사결합된 캡너트(212)에 접촉하지 않아 상기 축(208)을 염소가스 공급관(210)쪽으로 밀지 않게 되면 상기 축(208)에 고정된 고정판(208a)은 스프링(220) 탄성력에 의해 상기 축(208)의 직경확대부(208b) 하면이 상기 공급구(202a) 상면에 접촉할때까지 후퇴하여 염소가스의 공급을 차단한다. In addition, the
만일, 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204)사이에 마련된 내부공간에 염소가스가 과도하게 유입되어 압력이 높아지면 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)에 마련된 벤트(vent)(202b)에 의해 염소가스 일부가 방출되어 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204) 사이에 마련된 내부공간은 일정압력을 유지하여 일정한 유량의 염소가스를 염소주입기(110)로 공급할 수 있게 된다. 즉, 상기 벤트(202b)는 릴리프 밸브의 역할을 하는 것이다.If the chlorine gas is excessively introduced into the internal space provided between the
그러나, 종래에는 염소가스 공급라인에 설치된 가스 검지기(미도시)에 의해 방출된 가스를 검지한 후 경보를 발생하도록 시스템이 구축되어 있었으나, 염소가스 공급시 근본적으로 발생될 수 있는 염소가스 방출의 문제점을 해결하지는 못하는 것이었다. However, in the past, a system was constructed to detect an emitted gas by a gas detector (not shown) installed in a chlorine gas supply line and to generate an alarm. It was not able to solve.
즉, 염소가스 공급시 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)에 형성된 공급구(202a)를 통해 급격한 염소가스의 흐름이 발생되어 축(208), 캡너트(212), 및 캡시트(214)등이 손상되었고, 공급되는 염소가스내에 함유된 이물질로 인해 발생한 스케일등이 축(208), 캡너트(212), 및 캡시트(214)등에 부착되어 염소가스의 공급 및 차단이 원활하게 이루어지지 못하여 상기 유량조절장치(200)의 제 1 바디(202)와 제 2 바디(204)에 마련된 내부공간에 과도한 양의 가스가 공급되고 이로인한 염소가스 누출이 발생하여 가스중독사고의 우려가 있는 등의 문제점이 있었다.That is, when chlorine gas is supplied, a rapid flow of chlorine gas is generated through a
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 그 목적은 급격한 염소가스의 흐름을 방지하고 공급되는 염소가스 내의 이물질을 여과하여 염소가스의 공급 및 차단이 원활하게 이루어지도록 개선된 수처리 살균용 염소가스 공급라인의 여과기능을 가진 염소가스 유량조절장치를 제공하는 데에 있다.The present invention is to solve the conventional problems as described above, its purpose is to prevent the rapid flow of chlorine gas and to filter the foreign matter in the chlorine gas supplied to improve the water treatment sterilization is made to smoothly supply and block chlorine gas The present invention provides a chlorine gas flow control device having a filtration function for a chlorine gas supply line.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 수처리설비의 살균처리를 위한 염소가스 공급용 라인에 설치되어 염소가스를 공급하는 염소가스 공급라인의 유량조절장치에 있어서, 염소용액 저장기와 염소주입기 사이에 설치되어 기화기에 의해 기화된 염소가스의 염소주입기로의 공급량을 조절하는 장치본체;와, 상기 장치본체의 전방에 제공되고 염소가스의 흐름을 일정하게 조절하며 여과하는 조정부재를 갖춘 염소가스 유량 조정부;및, 상기 유량 조정부의 상측에 제공되고 유입되는 염소가스를 여과하는 여과수단를 갖춘 염소가스 여과부를 포함하고, 상기 염소가스 유량 조정부는, 상측에는 염소가스 유입구가 형성되고, 내부에는 상기 유량 조정부재가 마련되는 안착부가 형성되며, 캡으로 밀봉되는 원통지지체를 구비하며, 상기 원통지지체의 장치본체 측 중앙에는 염소가스의 장치본체 측 흐름을 가능하게 하는 개구가 일체로 형성되어, 염소주입기로 공급되는 염소가스를 여과하고 그 유량을 제어토록 구성된 염소가스 공급라인의 여과기능을 갖춘 염소가스 유량조절장치를 마련함에 의한다. In order to achieve the above object, the present invention is installed in the chlorine gas supply line for the sterilization treatment of the water treatment equipment in the flow rate adjusting device of the chlorine gas supply line for supplying chlorine gas, installed between the chlorine solution reservoir and the chlorine injector A chlorine gas flow rate adjusting unit having a device body for controlling a supply amount of chlorine gas vaporized by a vaporizer to a chlorine injector, and an adjustment member provided at the front of the device body to constantly regulate and filter the flow of chlorine gas; And a chlorine gas filtration unit provided at an upper side of the flow rate adjusting unit and having a filtration means for filtering the chlorine gas introduced therein, wherein the chlorine gas flow rate adjusting unit has a chlorine gas inlet formed at an upper side thereof, The mounting portion is provided, provided with a cylindrical support sealed with a cap, the device of the cylindrical support In the center of the main body side, an opening is formed integrally to allow the flow of chlorine gas to the main body of the apparatus, and the chlorine gas flow rate with filtration function of the chlorine gas supply line configured to filter the chlorine gas supplied to the chlorine injector and control the flow rate By providing an adjusting device.
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 의한 염소가스 공급라인의 계통도이고, 도 4는 본 발명에 의한 유량조절장치의 분해도이며, 도 5는 본 발명에 의한 유량조절장치의 결합도이고, 도 6은 각각은 본 발명에 의한 조정부재의 사시도이며, 도 7은 본 발명에 의한 여과부의 결합 단면도이고, 도 8은 본 발명에 의한 여과부의 사시도이다.3 is a schematic diagram of a chlorine gas supply line according to the present invention, FIG. 4 is an exploded view of a flow control device according to the present invention, FIG. 5 is a combination view of the flow control device according to the present invention, and FIG. It is a perspective view of the adjustment member which concerns on this invention, FIG. 7: is sectional drawing of the filtration part which concerns on this invention, and FIG. 8 is a perspective view of the filtration part which concerns on this invention.
한편, 상기 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명은 종래의 수처리설비의 살균처리를 위한 염소가스 공급용 라인에서 기화기(102)로부터 장치본체(200')로의 급격한 염소가스의 흐름을 방지하고 공급되는 염소가스 내의 이물질을 여과하여 염소가스의 공급 및 차단이 원활하게 이루어지도록 개선된 유량조절장치(1)를 설치하는 것이다.On the other hand, as shown in FIG. 3, the present invention prevents and supplies a rapid flow of chlorine gas from the
그리고, 도 4에서는 본 발명에 의한 유량조절장치(1)의 분해도가 도시되어 있는데, 이와같은 본발명에 의한 상기 유량조절장치(1)는, 크게 장치본체(200'), 유량 조정부(30), 및 여과부(50)를 포함하고 있다.4 shows an exploded view of the
상기 장치본체(200')는 도 2에 도시된 종래의 유량조절장치(200)와 동일한 구조이므로 유량조절장치(200)와 동일한 기능을 하는 요소는 도 2에 도시된 유량조절장치(200)와 동일한 숫자에 프라임(')을 첨부하여 도 4에 도시하였다.Since the
우선, 상기 장치본체(200')는 제 1 바디(202'), 제 2 바디(204'), 다이어프램(206'), 캡너트(212')를 구비한 축(208'), 및 상기 다이어프램(206')에 부착되어 있는 캡시트(214')와 상기 축(208')에 탄성력을 가하고 있는 스프링(220')을 포함하고 있다. First, the apparatus body 200 'includes a first body 202', a second body 204 ', a diaphragm 206', a shaft 208 'having a cap nut 212', and the diaphragm. A cap seat 214 'attached to 206' and a spring 220 'applying an elastic force to the shaft 208'.
그리고, 상기 축(208')은 상기 제 1 바디(202')의 중앙에 형성되어 있는 공급구(202a')의 직경보다 작은 직경의 원통형 몸체를 가지고 있고 상기 몸체의 일측 끝단에는 상기 공급구(202a') 직경보다 큰 직경확대부(208b')가 형성되어 있으며 타측 끝단에는 캡너트(212')가 나사결합되어 있다. 상기 축(208')상에서 직경확대부(208b')와 캡너트(212') 사이에 스프링에 의해 탄성력을 받는 고정판(208a')이 고정되어 있다. In addition, the shaft 208 'has a cylindrical body having a diameter smaller than the diameter of the
그런데, 상기 염소주입기(110)가 제 1 바디의 하부에 형성되어 있는 배출구(218')를 통해 장치본체(200')로부터 염소가스를 흡입하면 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204') 사이에 마련된 상기 장치본체(200')의 내부공간에 진공이 형성되어 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204') 사이에 배치된 다이어프램(206')이 제 1 바디(202')쪽으로 팽창하게 되고, 이때 다이어프램(206')에 부착되어 있는 캡시트(214')가 상기 축(208')의 캡너트(212') 부분을 제 1 바디(202')쪽으로 밀어 전진시킨다.However, when the
그리고 나서, 상기와 같은 방법으로 상기 축(208')이 제 1 바디(202')쪽으로 전진하게 되면 상기 제 1 바디(202')의 중앙에 형성된 공급구(202a')와 상기 축(208')의 몸체 사이에 형성된 틈으로 염소가스가 상기 장치본체(200')내로 공급되어 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204') 사이에 마련된 내부공간의 진공이 점차해제되어 상기 다이어프램(206')은 수축한다.Then, when the shaft 208 'is advanced toward the first body 202' in the same manner as described above, the
그리고, 상기 다이어프램(206')에 부착되어 있는 상기 캡시트(214')가 상기 축(208')에 나사결합된 캡너트(212')에 접촉하지 않아 상기 축(208')을 제 1 바디(202')쪽으로 밀지 않게 되면 상기 축(208')에 고정된 고정판(208a')은 스프링(220') 탄성력에 의해 상기 축(208')의 직경확대부(208b') 하면이 상기 공급구(202a') 상면에 접촉할때까지 후퇴하여 염소가스의 공급을 차단한다. The
만일, 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204')사이에 마련된 내부공간에 염소가스가 과도하게 유입되어 압력이 높아지면 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')에 마련된 벤트(vent)(202b')에 의해 염소가스 일부가 방출되어 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204') 사이에 마련된 내부공간은 일정압력을 유지하여 일정한 유량의 염소가스를 염소주입기(110)로 공급할 수 있게 된다. 즉, 상기 벤트(202b')는 릴리프 밸브의 역할을 하는 것이다.If the chlorine gas is excessively introduced into the internal space provided between the
또한, 도 4에 도시된 바와 같이 상기 장치본체(200')의 전방에 볼트결합되는 유량 조정부(30)는 상측에 염소가스 내부에 암나사부를 가진 유입구(38a)가 형성되고, 내부에는 안착부(34)가 형성된 원통지지체(38)와 상기 원통지지체(38)를 밀봉하는 캡(36), 및 상기 원통지지체(38)의 내부에 형성된 안착부(34)에 안착되는 조정부재(40)를 포함하고 있다.In addition, as shown in FIG. 4, the flow
그리고, 상기 원통지지체(38)는 상기 장치본체와 볼트결합되는 반대편의 개구부 내주면에 암나사부(38c)가 형성되어 있고, 상기 캡(36)은 그 하부에 숫나사부(36a)가 형성되어 있어서 서로 나사결합되어짐으로서 상기 원통지지체(38)의 밀봉을 이룬다. 상기 조정부재(40)는 도 6에 도시된 바와 같이, 원통체로서 그 원주면을 따라 염소가스 통과량을 균일하게 하여 염소가스의 장치본체(200')로의 급속한 흐름을 방지하고 오염물을 여과하는 다수의 구멍(40a)과 직경 축소부(40b)를 갖추고 있다. In addition, the
또한, 상기 원통지지체(38)의 장치본체(200')측 중앙에는 염소가스의 장치본체(200')측으로의 흐름을 위한 개구(38b)와 안착부(34)가 일체로 형성되며 상기 개구(38b)에는 상기 조정부재(40)의 직경 축소부(40b)가 끼워져 상기 조정부재(40)가 상기 원통지지체(38)내에 마련된 안착부(34)에 고정된다. In addition, an
그리고, 도 7에는 상기 도 4에서 도시된 바와 같이 상기 유량 조정부(30)의 측면에 결합되는 여과부(50)가 도시되어 있는데, 상기 여과부(50)는 몸체(58)와 여과재(78)가 충진된 여과수단(70) 및 연결구(52)를 포함하고 있다. In addition, FIG. 7 shows a
상기 몸체(58)는 원통형으로 그 내부에 여과수단(70)가 삽입될 수 있는 공간이 마련되어 있고 상기 몸체(58) 상부의 내주면에는 암나사부(58a)가 형성되어 있으며 그 하부에는 염소기체를 상기 유량 조정부(30)로 유도하는 유도관(56)이 형성되어 있다. 상기 유도관(56)의 외주면에는 숫나사부(56a)가 형성되어 있다. 상기 몸체(58) 상부의 내주면에 형성된 암나사부(58a)에는 하부에 숫나사부(52a)가 형성된 연결구(52)가 나사결합되어 상기 기화기(102)로부터 기화된 염소가스의 유입을 가능하게 한다. The
하부가 상기 몸체(58)에 나사결합된 상기 연결구(52)는 그 상부에 염소가스를 공급하는 연결튜브(106)와 밀봉을 이루며 결합되어 질 수 있는 구조, 예를들면, 나사결합등을 가지고 있다. The
도 8에 도시된 바와 같이, 상기 몸체(58)의 내부에 삽입되어진 여과수단(70) 는 상,하측에 여과망(72)(76)이 설치되고, 하부에 원판(74a)이 고정된 본체(74) 및, 상기 본체(74)내에 충진된 유리섬유질의 여과재(78)를 포함하고 있다.As shown in FIG. 8, the filtering means 70 inserted into the
또한, 상기 여과부(50)는 상기 유량 조정부(30)의 유입구(39) 내부에 암나사부가 형성되어 있어서 상기 여과부(50) 몸체(58) 하부에 형성된 유도관(56)의 숫나사부(56a)가 나사결합되어짐으로서 상기 유량 조정부(30)와 결합되어진다.In addition, the
상기 여과부의 장기간 사용으로 인한 여과재(78)의 교환시에는 상기 여과부(50)로부터 연결구(52)를 분리하고 상기 여과수단(70)를 상기 여과부 몸체(58)에서 분리한 후 상부 여과망(72)을 분리하고 오염되어 있는 유리섬유질의 여과재(78)를 교체하면 된다. 상부 여과망(72) 및 하부 여과망(76)에 부착된 이물질 등은 사염화탄소나 알코올 등으로 세척하여 재사용이 가능하다.When the filter medium 78 is replaced due to the long-term use of the filter unit, the
이때, 도면부호중 미설명 부호 32, 54는 가스의 누출을 방지하기 위한 패킹이고 216'은 상기 제 1 바디(202')와 제 2 바디(204') 사이의 가스누출을 방지하는 오링이다.In this case,
상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 유량조절장치(1)의 작용을 도 5를 통해 설명하면 다음과 같다.When explaining the operation of the flow
상기 기화기(102)로부터 기화되어 여과부(50)로 공급된 염소가스는 상기 여과부 몸체(58)내에 형성된 안착부에 안착되어 있는 여과수단(70)와 그 내부에 충진된 유리섬유질의 여과재(78)에 의해 여과된 뒤 상기 유량 조정부(30)로 보내진다. 상기 여과부(50)로부터 공급된 염소가스는 상기 유량 조정부(30)내에 구비된 조정 부재(40)의 외주상에 형성된 다수의 구멍(40a)을 통과하여 상기 장치본체의 제 1 바디 중앙에 형성된 공급구(202a')와 상기 공급구(202a')에 삽입된 축(208') 사이의 틈을 통해 상기 장치본체내로 보내지게 되고 상기 장치본체의 제 1 바디(202') 하부에 형성된 배출구(218')를 통해 염소주입기(110)로 보내진다.The chlorine gas vaporized from the
이때, 상기 유량 조정부(30)내에 구비된 조정부재(40)의 외주상에 형성된 다수의 구멍(40a)은 그 직경이 작아서 상기 여과부(50)에서 1차로 염소가스내의 이물질이 여과된 염소가스를 2차로 여과하여 공급되는 염소가스내에 이물질이 포함되지 않도록 한다.At this time, the plurality of
그러므로, 상기와 같은 이중 여과에 의해 공급되는 염소가스내의 이물질이 존재하지 않기 때문에 상기 장치본체(200') 내에 구비된 유량을 조절하는 축(208'), 캡너트(212'), 및 캡시트(214')등이 공급되는 염소가스를 원활하게 공급 및 차단하여 상기 장치본체(200')내에 과도한 염소가스가 유입되지 않는다.Therefore, since there is no foreign matter in the chlorine gas supplied by the double filtration as described above, the shaft 208 ', the cap nut 212', and the cap seat for adjusting the flow rate provided in the apparatus main body 200 ' The chlorine gas supplied to (214 ') and the like is smoothly supplied and blocked so that excessive chlorine gas does not flow into the apparatus main body 200'.
따라서, 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202') 상부에 설치된 벤트(202b)를 통한 염소가스의 방출이 발생하지 않아서 가스누출의 문제점이 해소되고 상기 장치본체(200')로의 급격한 염소가스의 흐름도 또한 방지하는 효과를 얻을 수 있다. Therefore, the chlorine gas is not discharged through the
이와 같이 본 발명인 염소가스 공급라인의 여과기능을 갖춘 염소가스 유량조절장치에 의하면, 상기 장치본체(200')내로 공급되는 연소가스는 상기 여과부(50)에 의해 염소가스내의 이물질이 여과되기 때문에, 상기 장치본체(200') 내에 구비 된 축(208'), 캡너트(212'), 및 캡시트(214')등에 이물질이 부착되어 염소가스의 공급 및 차단이 원활히 이루어지지 않는 문제점을 해소하게 된다. As described above, according to the chlorine gas flow rate adjusting device having a filtration function of the chlorine gas supply line of the present invention, since the foreign matter in the chlorine gas is filtered by the
그러므로 가스누출의 주원인인 상기 장치본체(200')내로의 과도한 염소가스 공급이 이루어지지 않아서 상기 장치본체(200')의 제 1 바디(202') 상부에 설치된 벤트(202b)를 통한 염소가스의 방출이 발생하지 않는다. Therefore, excessive chlorine gas is not supplied into the apparatus main body 200 ', which is the main cause of the gas leakage, so that the chlorine gas through the
따라서, 종래기술의 문제점인 가스누출로 인한 가스중독 사고를 미연에 방지할 수 있게된다. Therefore, it is possible to prevent the gas poisoning accident due to the gas leakage, which is a problem of the prior art.
동시에, 상기 여과부(50)에서 염소가스내의 이물질을 여과하는 여과공정을 거친 염소가스가 상기 유량조정부(30)의 조정부재(40)에 형성된 다수의 구멍(40a)에 의해 추가로 여과되는 동안 급격한 염소가스의 흐름을 완만하게 조정됨으로서 상기 장치 본체(200')로의 급격한 가스흐름을 완화시켜 상기 장치본체(200') 내에 구비된 축(208'), 캡너트(212'), 및 캡시트(214')등의 손상을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.At the same time, while the chlorine gas, which has been subjected to the filtration process of filtering foreign substances in the chlorine gas in the
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020020047682A KR100887103B1 (en) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020047682A KR100887103B1 (en) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040015851A KR20040015851A (en) | 2004-02-21 |
KR100887103B1 true KR100887103B1 (en) | 2009-03-04 |
Family
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---|---|---|---|
KR1020020047682A KR100887103B1 (en) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | A chlorine gas adjusting apparatus with filtering function in chlorine supplying line |
Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102384072B1 (en) | 2021-10-25 | 2022-04-08 | (주)이에스텍 | A sodium hypochlorite generator with high efficiency liquid chlorine vaporizer |
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KR870014878U (en) * | 1986-03-17 | 1987-10-22 | 신영수 | Chlorine gas injector |
KR19990073199A (en) * | 1999-06-21 | 1999-10-05 | 이두우 | Automatic Chlorine Input Apparatus and Method for Inputing Thereof |
KR200296502Y1 (en) * | 2002-09-04 | 2002-11-23 | 주식회사 한힘테크놀러지 | Chlorine injection apparatus |
-
2002
- 2002-08-13 KR KR1020020047682A patent/KR100887103B1/en not_active IP Right Cessation
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KR102384072B1 (en) | 2021-10-25 | 2022-04-08 | (주)이에스텍 | A sodium hypochlorite generator with high efficiency liquid chlorine vaporizer |
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