KR200271013Y1 - 음극선관용 전자총 - Google Patents

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KR200271013Y1 KR2019970025890U KR19970025890U KR200271013Y1 KR 200271013 Y1 KR200271013 Y1 KR 200271013Y1 KR 2019970025890 U KR2019970025890 U KR 2019970025890U KR 19970025890 U KR19970025890 U KR 19970025890U KR 200271013 Y1 KR200271013 Y1 KR 200271013Y1
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Abstract

본 고안은 애노드전극으로 인가된 고압이 하부전극으로 방전되어 전극을 손상시키는 것을 방지하는 스파터링 쉴드가 비드 그라스에 장착된 음극선관용 전자총에 관한 것으로 포커스 전극의 전위를 높여 쉴드컵을 통해 애노드전극으로 인가된 고전류에 의해 하부전극에서 방전이 일어나는 현상을 미연에 방지할 수 있도록 한 것이다.
이를 위해, 복수개의 전극과, 상기 전극의 양측에 매몰되어 일정간격으로 유지하고 상호 절연시키는 역할을 하는 비드 그라스(10)와, 제 5 그리드(6)의 중심부에 위치되게 비드그라스의 외주면에 고정되어 하부전극으로 고전류가 인가되는 것을 차단하는 스파터링 쉴드(13)로 구성된 전자총에 있어서, 스파터링 쉴드(13)가 감기는 부위의 비드 그라스(10) 두께(t)를 네크부(14)측으로 확장하여서 된 것이다.

Description

음극선관용 전자총
본 고안은 음극선관용 전자총에 관한 것으로써, 좀 더 구체적으로는 애노드전극으로 인가된 고압이 하부전극으로 방전되어 전극을 손상시키는 것을 방지하는 스파터링 쉴드에 관한 것이다.
도 1은 종래의 전자총을 나타낸 정면도로써, 전압이 인가됨에 따라 전자빔을 방사하는 음극부(1)와, 상기 음극부에 근접되게 설치되어 전자빔의 방사량을 제어하는 제 1 그리드(2)와, 상기 제 1 그리드에 근접되게 설치되어 방사된 전자빔을 당겨내어 가속시키는 제 2 그리드(3)와, 상기 제 2 그리드에 근접되게 차례로 설치되어 전극사이에 렌즈를 형성하는 제 3,4,5,6 그리드(4)(5)(6)(7)와, 상기 제 6 그리드에 근접되게 설치되어 애노드(도시는 생략함)을 통해 고압이 인가되는 애노드전극(8)과, 상기 애노드전극에 고정된 쉴드컵(9)으로 구성되어 이들이 비드 그라스(10)에 의해 상호 일정간격을 유지하고 있다.
상기한 각 전극에는 스템(11)에 고정된 스템핀(12)을 통해 각기 다른 전압이 인가되는데, 상기 스템(11)은 네크부에 실링된다.
그리고 상기 제 5 그리드(6)가 위치하는 비드 그라스(10)의 외주면에는 음극선관이 구동될 때 애노드 전극(8)의 높은 전위로 인해 제 2 그리드(3)방향의 하부전극에서 방전이 발생되지 않도록 스파터링 쉴드(13)가 감겨져 있다.
즉, 포커스 전극인 제 5 그리드(6)의 전위를 높여서 하부전극으로 고전위가 유입되는 현상을 방지하도록 되어 있다.
이와 같은 종래의 전자총을 네크부(14)에 조립하면 도 2a 및 도 2b에 나타낸 바와 같이 비드 그라스(10)와 네크부(14)의 내경이 평행하게 일정한 간격을 유지하게 된다.
이에 따라 도 4에 나타낸 그래프에서와 같이 스파터링 쉴드(13)를 장착하지 않은 점선의 전위분포보다는 유리하지만, 쉴드컵(9)을 통해 애노드 전극(8)으로 인가된 고전류가 스파터링 쉴드(13)를 통하여 인가되어 하부전극에 손상을 입히는 경우가 종종 발생되는 문제점이 있었다.
본 고안은 종래의 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 포커스전극의 전위를 높여 쉴드컵을 통해 애노드전극으로 인가된 고전류에 의해 하부전극에서 방전이 일어나는 현상을 미연에 방지할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 형태에 따르면, 복수개의 전극과, 상기 전극의 양측에 매몰되어 일정간격으로 유지하고 상호 절연시키는 역할을 하는 비드 그라스와, 제 5 그리드의 중심부에 위치되게 비드그라스의 외주면에 고정되어 하부전극으로 고전류가 인가되는 것을 차단하는 스파터링 쉴드로 구성된 전자총에 있어서, 스파터링 쉴드가 감기는 부위의 비드 그라스 두께가 네크부측으로 확장된 음극선관용 전자총이 제공된다.
도 1은 종래의 전자총을 나타낸 정면도
도 2a 및 도 2b는 전자총이 네크부에 설치된 상태의 종단면도
도 3a 및 도 3b는 본 고안의 구조를 갖는 전자총이 네크부에 설치된 상태의 종단면도
도 4는 본 고안 및 종래에서 각 전극의 전위분포를 나타낸 그래프
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
6 : 제 5 그리드 10 : 비드 그라스
13 : 스파터링 쉴드 14 : 네크부
이하, 본 고안을 일 실시예로 도시한 도 3a 내지 도4를 참고로 하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3a 및 도 3b는 본 고안의 구조를 갖는 전자총이 네크부에 설치된 상태의 종단면도이고 도 4는 본 고안 및 종래에서 각 전극의 전위분포를 나타낸 그래프이다.
본 고안의 구성 중 종래의 전자총 구성과 동일한 부분은 그 설명을 생략하고 동일부호를 부여하기로 한다.
본 고안은 하부전극으로 고전류가 인가되는 것을 차단하는 스파터링 쉴드(13)가 감기는 부위의 비드 그라스(10) 두께(t)가 일정폭(b)을 갖도록 네크부(14)측으로 확장되게 구성되어 있다.
이때, 비드 그라스(10)의 두께(t)가 네크부(14)측으로 0.5mm 이상 확장되고, 그 폭(b)은 스파터링 쉴드(13)의 폭 이상으로 크게 설정되어 있다.
이와 같이 구성된 본 고안의 전자총이 구동하면 각 전극간에 전위가 형성되는데, 상기 각 전극 중 애노드 전극(8)에 25 ∼ 30 KV, 포커스 전극에는 각 전자총의 포커스 전압을 그리고 가속전극인 제 2 그리드(3)에는 260 V, 제어전극인 제 1 그리드(2)에는 0 V를 인가하여 측정을 실시하였다.
상기 조건에 따라 나타나는 포커스 전극부의 전위차를 도 4에 굵은 선으로 표시하였다.
이와 같이 본 고안에서는 스파터링 쉴드(13)가 장착되는 비드 그라스(10)의 두께(t)와 폭(b)이 네크부(14)측으로 확장되게 구성되어 있어 상기 스파터링 쉴드(13)가 장착된 부위의 전위가 종래에 비해 높아지게 된다.
즉, 도 4의 그래프에 나타낸 바와 같이 종래의 전자총에서는 스파터링 쉴드부의 전위가 약 10 KV 정도이었으나, 본 고안에서는 스파터링 쉴드부의 전위가 약 15 KV 정도로 높아져 애노드 전압과의 전위차가 줄어들게 됨을 실험을 통해 알 수 있었다.
이상에서와 같이 본 고안은 스파터링 쉴드(13)가 장착되는 비드 그라스(10)를 네크부(14)측으로 확장하여 상기 스파터링 쉴드가 장착된 부위에 인가되는 전압과 애노드 전극에 인가되는 전압의 전위차를 약 50 % 정도 줄일 수 있게 되므로 애노드 전극에 인가되는 고압으로 인해 하부전극에 방전이 일어나는 현상이 현저히 줄어들게 된다.

Claims (2)

  1. 복수개의 전극과, 상기 전극의 양측에 매몰되어 일정간격으로 유지하고 상호 절연시키는 역할을 하는 비드 그라스와, 제 5 그리드의 중심부에 위치되게 비드그라스의 외주면에 고정되어 하부전극으로 고전류가 인가되는 것을 차단하는 스파터링 쉴드로 구성된 전자총에 있어서, 스파터링 쉴드가 감기는 부위의 비드 그라스 두께가 네크부측으로 확장된 음극선관용 전자총.
  2. 제 1 항에 있어서,
    비드 그라스의 두께가 네크부측으로 0.5mm 이상 확장되고, 그 폭은 스파터링 쉴드의 폭 이상으로 크게 설정된 음극선관용 전자총.
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