KR20020063394A - Metal cathode and indirectly heated cathode assembly having the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A metallic cathode and an indirectly heated cathode structure having the same are provided to improve characteristics of electron emission and enlarge a lifetime of a metallic cathode by forming an osmium coating layer or an osmium-ruthenium alloy coating layer on a cathode including barium, one of tungsten and rhenium, and platinum. CONSTITUTION: A metallic cathode(13) is formed by depositing an osmium coating layer or an osmium-ruthenium alloy coating layer(12) on an alloy(11) including barium-tungsten or rhenium-platinum. The metallic cathode(13) is fixed on an upper portion of a sleeve(15) including a heater(14) by using a welding method. The ruthenium of the osmium-ruthenium alloy coating layer(12) is less than 50 weight percent. The osmium coating layer or the osmium-ruthenium alloy coating layer(12) has thickness of 100 to 10000 angstrom.

Description

금속 음극 및 이를 구비한 방열형 음극구조체{Metal cathode and indirectly heated cathode assembly having the same}Metal cathode and heat dissipating cathode structure having same {Metal cathode and indirectly heated cathode assembly having the same}

본 발명은 전자빔 장치의 금속 음극에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 텔레비전 브라운관, 촬상관 등의 전자빔 장치에 이용될 수 있는, 전자방출능력이 우수할 뿐만 아니라 수명이 향상된 열전자 방출 금속 음극 및 이를 구비한 방열형 음극구조체에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal cathode of an electron beam apparatus, and more particularly, a heat electron emission metal cathode having an excellent electron emission capability and an improved lifetime, which can be used in an electron beam apparatus such as a television CRT and an imaging tube, and a heat radiation type including the same. It relates to a cathode structure.

종래 전자관용 열전자 방출 음극에는 니켈(Ni)을 주성분으로 하고 규소(Si), 마그네슘(Mg) 등을 환원제로서 미량 함유시킨 금속 기재(base metal) 위에 바륨을 주성분으로 하는 알카리토류 금속 탄산염층, 바람직하게는 (Ba, Sr, Ca)CO3로 구성된 삼원 탄산염, 또는 (Ba, Sr)CO3로 구성된 이원 탄산염으로부터 전환된 산화물로 된 전자방출물질층을 구비한 소위 "산화물 음극"이 널리 사용되었다. 이러한 산화물 음극은 일함수(work function)가 낮아서 비교적 낮은 온도(700-800℃)에서 사용할 수 있다는 장점이 있는 반면, 전자방출능력에 한계가 있어 1A/㎠ 이상의 전류밀도를 방출하기 어려울 뿐만 아니라, 재료가 반도체이고 전기 저항이 크기 때문에 전자방출 밀도를 높이면 주울(Joule)열에 의한 자기가열로 인해 재료가 증발되거나 용융되어 음극이 열화되거나, 장기간 사용에 의해 금속기재와 산화물층 사이에 중간 저항층이 형성되어 수명이 단축되는 단점이 있다.A conventional alkali metal carbonate layer having barium as a main component on a base metal containing nickel (Ni) as a main component and a trace amount of silicon (Si), magnesium (Mg) as a reducing agent in a conventional electron tube cathode, preferably Preferably, the so-called "oxide cathode" having an electron emitting material layer of oxide converted from a ternary carbonate composed of (Ba, Sr, Ca) CO 3 , or a binary carbonate composed of (Ba, Sr) CO 3 is widely used. . These oxide cathodes have the advantage of being able to be used at relatively low temperatures (700-800 ° C.) due to their low work function, but have a limit in electron emission capability, which makes it difficult to emit a current density of 1 A / cm 2 or more. Because the material is a semiconductor and the electrical resistance is high, if the electron emission density is increased, the material is evaporated or melted due to the self heating by Joule heat, thereby deteriorating the cathode, or the intermediate resistance layer is formed between the metal substrate and the oxide layer by long-term use. There is a disadvantage that the life is shortened.

또한, 산화물 음극은 깨지기 쉽고 장착되는 금속기재에 대한 접착력이 낮으므로 이러한 타입의 음극을 구비한 음극선 장치의 수명은 짧아지게 된다. 예를 들어, 칼라 수상관의 3개 산화물 음극중 하나만 손상되어도 비싼 전체 장치가 고장나게 되는 것이다.In addition, since the oxide cathode is fragile and has low adhesion to the metal substrate to be mounted, the lifetime of the cathode ray device having this type of cathode is shortened. For example, if only one of the three oxide cathodes of a color receiver is damaged, the entire expensive device will fail.

이러한 이유 때문에 전술한 산화물 음극의 단점이 없는 고성능 금속 음극을 음극선 장치에 적용하려는 시도가 활기를 띄게 되었다.For this reason, attempts have been made to apply high-performance metal cathodes to the cathode ray device without the disadvantages of the oxide cathode described above.

예를 들어, 란타늄 헥사보라이드(LaB6)에 기초한 금속 음극은 산화물 음극에 비하여 강도가 크고 더 높은 전자방출능력을 갖는 것으로 알려져 있는데, 헥사보라이드의 단결정 음극은 10A/㎠ 정도의 높은 전류밀도를 방출할 수 있다. 그러나, 란타늄 헥사보라이드 음극은 수명이 짧기 때문에 음극 유니트의 대체가 가능한 일부 진공전자장치에만 사용되어 왔다. 란타늄 헥사보라이드 음극의 수명이 짧은 이유는히이터의 구성물질과의 높은 반응성에 기인한 것으로서, 란타늄 헥사보라이드가 히이터의 구성물질, 예를 들어 텅스텐과 접촉하여 많은 깨지기 쉬운 화합물을 형성하기 때문이다.For example, a metal cathode based on lanthanum hexaboride (LaB 6 ) is known to have higher strength and higher electron emission ability than an oxide cathode. Can emit. However, lanthanum hexaboride cathodes have been used only in some vacuum electronics, which can replace the cathode units because of their short lifetime. The short lifetime of the lanthanum hexaboride cathode is due to its high reactivity with the constituents of the heater, since lanthanum hexaboride forms many fragile compounds in contact with the constituents of the heater, eg tungsten. .

미국 특허 제4137476호에는 이러한 반응 가능성을 제거하기 위하여 란타늄 헥사보라이드와 히이터의 바디(body) 사이에 다른 배리어(barrier)층을 형성시킨 음극이 개시되어 있다. 그러나, 이 방법에 의하면 음극 생산비용이 상당히 증가하며 음극의 수명을 크게 개선하기도 어렵다.US Pat. No. 4,137,476 discloses a cathode in which another barrier layer is formed between lanthanum hexaboride and the body of the heater to eliminate this possibility of reaction. However, this method significantly increases the cost of producing the negative electrode and makes it difficult to significantly improve the lifetime of the negative electrode.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기 문제점을 해결하기 위하여 전자방출능력이 우수할 뿐만 아니라 수명이 향상된 전자빔 장치의 열전자 방출 금속 음극을 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide a hot electron emitting metal cathode of an electron beam device having an excellent electron emission capability and an improved lifetime in order to solve the above problems.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 금속 음극을 구비한 방열형 음극구조체를 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a heat radiation type negative electrode structure having the metal cathode.

도 1은 본 발명에 따른 금속 음극을 구비한 방열형 음극구조체의 구조를 도시한 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a heat radiation type negative electrode structure having a metal cathode according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따라 제조된 금속 음극의 루테늄 함량 변화에 따른 전류밀도 변화를 나타내는 그래프이다.2 is a graph showing a change in current density according to the ruthenium content change of the metal anode prepared according to the present invention.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 바륨 0.5 내지 10.0중량%, 텅스텐 및 레늄 중 어느 하나 이상의 금속 0.5 내지 15.0중량% 및 나머지량의 백금으로 이루어진 음극 위에 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금으로 이루어진 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 전자빔 장치용 열전자 방출 금속 음극을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a coating layer formed of an osmium or osmium-ruthenium alloy on a cathode composed of 0.5 to 10.0 wt% of barium, 0.5 to 15.0 wt% of at least one metal of tungsten and rhenium, and a balance of platinum. A hot electron emitting metal cathode for an electron beam device is provided.

본 발명에 따른 금속 음극에 있어서, 상기 오스뮴-루테늄 합금은 루테늄의 함량이 50중량% 이하인 것이 바람직하다.In the metal cathode according to the present invention, the osmium-ruthenium alloy preferably has a ruthenium content of 50% by weight or less.

본 발명에 따른 금속 음극에 있어서, 상기 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금 코팅층의 두께는 100Å 내지 10000Å인 것이 바람직하다.In the metal cathode according to the present invention, the thickness of the osmium or osmium-ruthenium alloy coating layer is preferably 100 kPa to 10000 kPa.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 상기 금속 음극을 구비하는 것을 특징으로 하는 방열형 음극구조체를 제공한다.In order to achieve the above another technical problem, the present invention provides a heat radiation type negative electrode structure comprising the metal negative electrode.

이하 본 발명에 따른 금속 음극 및 그 제조방법을 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, a metal negative electrode and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail.

본 발명의 음극은 백금-바륨으로 이루어진 합금에 소정량의 텅스텐 및/또는 레늄을 첨가하여 음극 물질을 제조하고, 이 음극 물질 상부에 오스뮴 단일물질 또는 오스뮴-루테늄으로 이루어진 합금을 코팅하므로써 음극의 일함수를 낮추는데 그 특징이 있다.The negative electrode of the present invention is prepared by adding a predetermined amount of tungsten and / or rhenium to an alloy of platinum-barium to prepare a negative electrode material, and coating an alloy of an osmium monomaterial or an osmium-ruthenium layer on top of the negative electrode material. It is characterized by lowering the function.

본 발명의 금속 음극은 바륨 0.5 내지 10.0중량%를 포함한다. 바륨 금속의 함량이 0.5중량% 미만이면 활성성분인 바륨 금속의 결핍으로 인해 음극의 수명이 단축되며 10.0중량%를 초과하면 전자방출특성이 낮은 Pt2Ba와 같은 화합물을 음극표면에 형성하는 문제점이 있다.The metal cathode of the present invention contains 0.5 to 10.0% by weight of barium. If the content of the barium metal is less than 0.5% by weight, the lifetime of the cathode is shortened due to the lack of the active barium metal. If the content of the barium metal is more than 10.0% by weight, a compound such as Pt 2 Ba having low electron emission characteristics is formed on the surface of the cathode. have.

본 발명의 음극용 합금은 텅스텐 및/또는 레늄 0.5 내지 15.0중량%를 포함한다. 텅스텐 및/또는 레늄의 함량은 합금의 가소성 및 전자방출능력이 저하되지 않는 한도내에서 선택되는데, 그 함량이 0.5중량% 미만이면 합금의 융점이 저하되어 음극의 고온작동이 곤란하고 함량이 15.0중량%를 초과하면 음극의 전자방출능력 및 가소성이 저하되는 문제점이 있다.The alloy for the negative electrode of the present invention comprises 0.5 to 15.0% by weight of tungsten and / or rhenium. The content of tungsten and / or rhenium is selected as long as the plasticity and electron-emitting ability of the alloy are not lowered. If the content is less than 0.5% by weight, the melting point of the alloy is lowered, making it difficult to operate the cathode at a high temperature and the content is 15.0%. If it exceeds%, there is a problem that the electron-emitting ability and plasticity of the negative electrode is lowered.

본 발명의 금속 음극은 상기 바륨-텅스텐 및/또는 레늄-백금으로 이루어진음극 위에 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금으로 이루어진 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 한다. 상기 음극 위에 코팅된 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금층은 음극의 일함수를 감소시키는 역할을 한다. 이러한 오스뮴-루테늄 합금은 루테늄의 함량이 50중량% 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 25중량% 내외로 하는 것이 바람직하다.The metal cathode of the present invention is characterized by forming a coating layer made of osmium or osmium-ruthenium alloy on the cathode made of barium-tungsten and / or rhenium-platinum. The osmium or osmium-ruthenium alloy layer coated on the cathode serves to reduce the work function of the cathode. It is preferable that such an osmium-ruthenium alloy has a ruthenium content of 50% by weight or less, more preferably about 25% by weight.

또한 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금층의 두께는 100Å 내지 10000Å인 것이 바람직한데, 더욱 바람직하게는 300Å 내지 5000Å인 것이 바람직하다. 이 범위내에서 전자방출능력을 저하시키지 않으면서 효과적으로 음극의 일함수를 감소시킬 수 있다.In addition, the thickness of the osmium or osmium-ruthenium alloy layer is preferably 100 kPa to 10000 kPa, more preferably 300 kPa to 5000 kPa. Within this range, the work function of the cathode can be effectively reduced without lowering the electron-emitting ability.

이하에서는, 본 발명에 따른 금속 음극의 제조방법을 예를 들어 상세히 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the metal negative electrode which concerns on this invention is demonstrated in detail, for example.

먼저, Pt, Ba 및 텅스텐 및/또는 레늄을 아크로에 넣는다. Pt와 Ba은 융점 차이가 크므로 순간적으로 금속을 융해시킬 수 있는 아크로를 사용하는 것이 바람직하며 Ba은 증발하기 쉬우므로 최종 합금에 함유될 함량보다 10 내지 15%를 더 넣어 Ba의 함량을 조절하도록 한다. 이어서, 아크로 내부를 진공 상태로 유지한 후 Ar 가스와 같은 불활성 기체를 주입한다. 그런 다음, 아크로에 전압을 인가하여 짧은 시간 내에 Pt, Ba 및 텅스텐 및/또는 레늄을 융해시킨다. Pt와 Ba은 밀도차가 많이 나므로 이들 금속으로 이루어진 균일한 합금을 얻기 어렵다. 따라서, 상기 융해 과정 및 응고과정을 수회 반복 실시하면 화학적 및 미세구조적 균일성이 향상된 본 발명에 따른 합금을 제조할 수 있다.First, Pt, Ba and tungsten and / or rhenium are placed in an arc furnace. Since Pt and Ba have a large melting point difference, it is preferable to use an arc furnace that can melt the metal instantaneously. Since Ba is easy to evaporate, 10 to 15% of the content of the final alloy is added to control the content of Ba. do. Subsequently, the inside of the arc furnace is kept in a vacuum state and then an inert gas such as Ar gas is injected. A voltage is then applied to the arc furnace to melt Pt, Ba and tungsten and / or rhenium in a short time. Since Pt and Ba have a large density difference, it is difficult to obtain a uniform alloy composed of these metals. Therefore, by repeatedly performing the melting process and the solidification process, it is possible to produce an alloy according to the present invention with improved chemical and microstructure uniformity.

이어서, 아크로에서 제조한 합금 상에 진공 증착법 등을 이용하여 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금을 코팅하여 본 발명에 따른 금속 음극을 제조하고, 전자관의 음극 구조에 적합하도록 절단 또는 성형한 후 음극 구조체에 장착한다.Subsequently, the metal cathode according to the present invention is prepared by coating an osmium or osmium-ruthenium alloy on an alloy prepared in an arc by vacuum deposition or the like, and cutting or shaping it to be suitable for the cathode structure of the electron tube, and then attaching it to the cathode structure. do.

본 발명에 따른 전자관용 금속 음극은 직열형 음극구조체에 사용될 수도 있으나 도 1에 나타난 바와 같은 방열형 음극구조체에 사용하는 것이 바람직하다.The metal cathode for an electron tube according to the present invention may be used in a direct type cathode structure, but is preferably used in a heat radiation type cathode structure as shown in FIG. 1.

즉, 도 1을 참조하면, 바륨-텅스텐 및/또는 레늄-백금으로 이루어진 합금(11) 위에 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금 코팅층(12)이 형성된 본 발명의 금속 음극(13)은 히이터(14)가 내장된 슬리이브(15)의 상부에 용접하여 방열형 음극구조체의 열전자 방출물질로 사용하는 것이 바람직하다.That is, referring to FIG. 1, the metal cathode 13 of the present invention in which an osmium or osmium-ruthenium alloy coating layer 12 is formed on an alloy 11 made of barium-tungsten and / or rhenium-platinum has a heater 14. It is preferable to use the hot electron emitting material of the heat dissipating cathode structure by welding the upper portion of the built-in sleeve 15.

본 발명을 하기 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<실시예 1><Example 1>

먼저, 분말 형태의 Pt 178g, Ba 16g 및 텅스텐 6g을 아크로에 넣는다. 이어서, 아크로 내부를 진공 상태로 유지한 후 Ar 가스를 주입하였다. 그런 다음, 아크로에 전압을 인가하여 Pt, Ba 및 텅스텐 금속을 융해시키고 세가지 금속의 합금화가 잘 이루어지도록 하였다. 이렇게 얻은 잉고트를 상기 융해 과정을 3회 반복하여 합금의 화학적 및 미세구조적 균일성이 향상되도록 하였고, 최종적으로 Pt 89중량%, Ba 8중량% 및 텅스텐 3중량%로 이루어진 3원 합금을 제조하였다.First, 178 g Pt, 16 g Ba and 6 g tungsten in powder form are placed in an arc furnace. Subsequently, Ar gas was injected after the inside of the arc furnace was kept in a vacuum state. Then, a voltage was applied to the arc furnace to melt the Pt, Ba and tungsten metals and to alloy the three metals well. The ingot thus obtained was repeated three times to melt the chemical and microstructure uniformity of the alloy. Finally, a ternary alloy including 89 wt% Pt, 8 wt% Ba, and 3 wt% tungsten was prepared.

이렇게 얻어진 3원 합금 위에 진공 증착법을 이용하여 두께가 3000Å이고 루테늄의 함량이 25중량%인 오스뮴-루테늄 합금 코팅층을 형성한 후 수소 또는 질소분위기하에서 약 1,000℃ 내외에서 열처리를 하여 본 발명에 따른 음극을 제조하였다.The negative electrode according to the present invention was formed by forming an osmium-ruthenium alloy coating layer having a thickness of 3000Å and a ruthenium content of 25% by weight using a vacuum deposition method on the obtained ternary alloy, and then performing heat treatment at about 1,000 ° C. under hydrogen or nitrogen atmosphere. Was prepared.

이어서, 상기 제조된 음극을 절단하여 도 1에 도시된 방열형 음극구조체 상부에 용접한 후 전류밀도 변화를 측정하여 그 측정결과를 도 2의 그래프에 나타내었다.Subsequently, the prepared negative electrode was cut and welded to the upper portion of the heat dissipating negative electrode structure shown in FIG. 1, and then the change in current density was measured. The measurement results are shown in the graph of FIG. 2.

<실시예 2><Example 2>

루테늄의 함량이 10중량%인 오스뮴-루테늄 합금 코팅층을 형성하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 따라 음극을 제조하였다.A negative electrode was prepared in the same manner as in Example 1 except that an osmium-ruthenium alloy coating layer having a ruthenium content of 10% by weight was formed.

이어서, 상기 제조된 음극을 절단하여 도 1에 도시된 방열형 음극구조체 상부에 용접한 후 전류밀도 변화를 측정하여 그 측정결과를 도 2의 그래프에 나타내었다.Subsequently, the prepared negative electrode was cut and welded to the upper portion of the heat dissipating negative electrode structure shown in FIG. 1, and then the change in current density was measured. The measurement results are shown in the graph of FIG. 2.

<실시예 3><Example 3>

루테늄의 함량이 40중량%인 오스뮴-루테늄 합금 코팅층을 형성하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 따라 음극을 제조하였다.A negative electrode was prepared in the same manner as in Example 1 except that an osmium-ruthenium alloy coating layer having a ruthenium content of 40 wt% was formed.

이어서, 상기 제조된 음극을 절단하여 도 1에 도시된 방열형 음극구조체 상부에 용접한 후 전류밀도 변화를 측정하여 그 측정결과를 도 2의 그래프에 나타내었다.Subsequently, the prepared negative electrode was cut and welded to the upper portion of the heat dissipating negative electrode structure shown in FIG. 1, and then the change in current density was measured. The measurement results are shown in the graph of FIG. 2.

<비교예 1>Comparative Example 1

오스뮴-루테늄 합금 코팅층을 형성하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 따라 3원 합금으로 이루어진 음극을 제조하였다.A negative electrode made of a ternary alloy was prepared in the same manner as in Example 1 except that the osmium-ruthenium alloy coating layer was not formed.

이어서, 상기 제조된 음극을 절단하여 도 1에 도시된 방열형 음극구조체 상부에 용접한 후 전류밀도 변화를 측정하여 그 측정결과를 도 2의 그래프에 나타내었다.Subsequently, the prepared negative electrode was cut and welded to the upper portion of the heat dissipating negative electrode structure shown in FIG. 1, and then the change in current density was measured. The measurement results are shown in the graph of FIG. 2.

도 2의 그래프를 참조하면, 본 발명에 따른 금속 음극은 오스뮴-루테늄 합금 코팅층을 형성하지 않은 종래의 금속 음극에 비해 전류밀도가 높아 전자방출특성이 우수함을 알 수 있다.Referring to the graph of Figure 2, it can be seen that the metal cathode according to the present invention has a high current density compared to the conventional metal cathode that does not form an osmium-ruthenium alloy coating layer has excellent electron emission characteristics.

본 발명에 따른 금속 음극은 일함수를 낮추어 동작온도를 낮출 수 있고, 전자방출능력을 증가시킬 수 있으며, 장수명을 가지므로 전자빔 장치의 음극 물질로 유용하다.The metal cathode according to the present invention can lower the work function to lower the operating temperature, increase the electron emission ability, and has a long life, and thus is useful as a cathode material of the electron beam apparatus.

Claims (4)

바륨 0.5 내지 10.0중량%, 텅스텐 및 레늄 중 어느 하나 이상의 금속 0.5 내지 15.0중량% 및 나머지량의 백금으로 이루어진 음극 위에 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금으로 이루어진 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 전자빔 장치용 열전자 방출 금속 음극.Barium 0.5-10.0% by weight, at least one metal of tungsten and rhenium 0.5-15.0% by weight and the remaining amount of platinum on the cathode consisting of a coating layer made of osmium or osmium-ruthenium alloy is hot electron emission metal for electron beam device cathode. 제1항에 있어서, 상기 오스뮴-루테늄 합금은 루테늄의 함량이 50중량% 이하인 것을 특징으로 하는 전자빔 장치용 열전자 방출 금속 음극.The hot electron emission metal cathode for an electron beam device according to claim 1, wherein the osmium-ruthenium alloy has a ruthenium content of 50 wt% or less. 제1항에 있어서, 상기 오스뮴 또는 오스뮴-루테늄 합금 코팅층의 두께가 100Å 내지 10000Å인 것을 특징으로 하는 전자빔 장치용 열전자 방출 금속 음극.The hot electron emission metal cathode for an electron beam apparatus according to claim 1, wherein the osmium or osmium-ruthenium alloy coating layer has a thickness of 100 kPa to 10000 kPa. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 금속 음극을 구비한 것을 특징으로 하는 방열형 음극 구조체.A heat dissipating negative electrode structure comprising the metal negative electrode of any one of claims 1 to 3.
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