KR20020049465A - Method for controlling the amount of the strip plating - Google Patents

Method for controlling the amount of the strip plating Download PDF

Info

Publication number
KR20020049465A
KR20020049465A KR1020000078641A KR20000078641A KR20020049465A KR 20020049465 A KR20020049465 A KR 20020049465A KR 1020000078641 A KR1020000078641 A KR 1020000078641A KR 20000078641 A KR20000078641 A KR 20000078641A KR 20020049465 A KR20020049465 A KR 20020049465A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
strip
air knife
pressure
coil
plating amount
Prior art date
Application number
KR1020000078641A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
손용구
김영규
송찬우
김종수
Original Assignee
이구택
주식회사 포스코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이구택, 주식회사 포스코 filed Critical 이구택
Priority to KR1020000078641A priority Critical patent/KR20020049465A/en
Publication of KR20020049465A publication Critical patent/KR20020049465A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/16Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
    • C23C2/18Removing excess of molten coatings from elongated material
    • C23C2/20Strips; Plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/06Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface with a blast of gas or vapour
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D5/00Control of dimensions of material
    • G05D5/02Control of dimensions of material of thickness, e.g. of rolled material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

PURPOSE: A method for controlling a plating amount of a strip is provided to prevent generation of excessive plating at the welding part between a preceding coil and a following coil by forming a control logic appropriately harmonizing a blowing pressure of a wiping gas and a distance between an air knife and a strip. CONSTITUTION: The method for controlling a plating amount of a strip comprises the steps of determining a plating amount of a following coil; increasing a distance between the following coil and an air knife; and increasing a blowing pressure for blowing air from the air knife, wherein the distance is derived from the following equation 1: £Equation 1|D=axCW+bxV+c, where D is a distance(mm) between the strip and the air knife, CW is a target plating adhesion amount(g/m¬2), V is a transfer speed of the strip(m/min), and a, b and c are constants, the blowing pressure is derived from the following equation 2:£Equation 2|CW=e¬a·V¬b·P¬c·D¬d, where CW is a plating adhesion amount(g/m¬2), V is a transfer speed of the strip(m/min), P is a pressure of a wiping gas(kgf/cm¬2), D is a distance between the strip and the air knife(mm), and a, b, c and d are constants.

Description

스트립 도금량 제어방법{Method for controlling the amount of the strip plating}Method for controlling the amount of the strip plating}

본 발명은 용융아연 도금공정에서 도금부착량을 제어하기 위한 방법에 관한 것이고, 더 상세하게는 선행코일과 후행코일을 용접하여 작업하는 연속라인(Line)의 특성상 선행코일과 후행코일의 목표도금 부착량이 상이한 경우, 즉 선행코일의 목표 도금부착량이 높고 후행코일의 목표 도금부착량이 낮은 경우 또는 선행코일의 목표 도금량이 낮고 후행코일의 목표도금량이 높은 경우에 용접부 전후에서 도금부착량 차이에 의하여 발생하는 도금부착량 편차(과다부착 또는 미달부착)를 최소화하기 위한 도금부착량 제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for controlling the amount of plating in the hot dip galvanizing process, and more particularly, the target plating adhesion amount of the leading coil and the trailing coil due to the characteristics of a continuous line working by welding the preceding coil and the trailing coil. In the case of different, that is, when the target plating amount of the preceding coil is high and the target plating amount of the trailing coil is low, or when the target plating amount of the preceding coil is low and the target plating amount of the trailing coil is high, the plating amount generated by the difference in the plating amount before and after the welded portion. The present invention relates to a plating deposition control method for minimizing deviation (over-attachment or under-attachment).

일반적으로, 용융아연 도금공정은, 도 1에 도시된 바와 같이, 도금욕(5) 내의 용융아연(4)을 스트립(2)을 통과시킴으로써 수행된다. 그리고, 스트립(2) 표면 상의 도금부착량은 스트립(2)의 이송속도(Line Speed)와, 에어나이프(1)에서 불어져 나오는 와이핑가스(Wiping Gas)의 송풍압력과, 스트립(2)과 에어나이프(1) 사이의 간격에 의해서 결정된다.In general, the hot dip galvanizing process is performed by passing the hot dip zinc 4 in the plating bath 5 through the strip 2, as shown in FIG. In addition, the coating amount on the surface of the strip 2 is determined by the line speed of the strip 2, the blowing pressure of the wiping gas blown out of the air knife 1, the strip 2 and It is determined by the distance between the air knifes 1.

대체적으로, 도금부착량은 이송속도 및 스트립(2)과 에어나이프(1) 사이의 간격에 비례하고, 와이핑가스의 송풍압력에 반비례한다. 이때, 이송속도는 통상적으로 스트립의 온도조정을 목적으로 가열로(加熱爐)에서 결정되는 제한적인 인자이다. 그러므로, 도금부착량의 조정작업은 주로 와이핑가스의 송풍압력 및 스트립(2)과 에어나이프(1) 사이의 간격을 조정함으로써 수행된다.In general, the plating amount is proportional to the feeding speed and the spacing between the strip 2 and the air knife 1 and inversely proportional to the blowing pressure of the wiping gas. At this time, the feed rate is usually a limiting factor determined in the heating furnace for the purpose of adjusting the temperature of the strip. Therefore, the adjustment operation of the plating deposition amount is mainly performed by adjusting the blowing pressure of the wiping gas and the interval between the strip 2 and the air knife 1.

따라서, 선행코일과 후행코일 각각의 목표도금 부착량에 차이가 있을 때, 특히 선행코일보다 후행코일의 목표도금 부착량이 높은 경우 용접부가 통과하는 시점에 해당하는 와이핑가스의 송풍압력을 조정한다.Therefore, when there is a difference in the target plating adhesion amount of each of the preceding coil and the following coil, in particular, when the target plating adhesion amount of the trailing coil is higher than that of the preceding coil, the blowing pressure of the wiping gas corresponding to the time point at which the weld passes is adjusted.

그러나, 도 2에 나타난 바와 같이, 와이핑가스의 송풍압력은 압력불균일을 방지하고자 PID(비례, 미분, 적분)제어를 하기 때문에, 일정시간이 경과한 후 목표로 한 설정값에 도달한다. 따라서, 도 3에 나타난 와 같이, 경과시간만큼 도금부착량이 미처 제어되지 않는 미달부분이 발생하게 된다.However, as shown in FIG. 2, since the blowing pressure of the wiping gas is PID (proportional, derivative, integral) control to prevent pressure unevenness, the target set value is reached after a certain time. Therefore, as shown in FIG. 3, under-carrying portions whose plating deposition amount is not controlled by the elapsed time are generated.

또한, 스트립(2)과 에어나이프(1)의 간격조정으로 도금부착량을 제어할 수는 있으나, 간격이 너무 좁으면 스트립(2)과 에어나이프(1)의 충돌 위험이 있고, 간격이 너무 넓으면 상대적으로 와이핑가스의 송풍압력을 증가시켜야 한다. 그러나, 필요이상으로 높은 고압작업은 스트립의 표면에 도금되는 도금표면의 품질을 저하시킬 수 있다.In addition, the coating amount can be controlled by adjusting the gap between the strip 2 and the air knife 1, but if the gap is too narrow, there is a risk of collision between the strip 2 and the air knife 1, and the gap is too wide. If so, the blowing pressure of the wiping gas should be increased relatively. However, higher than necessary high pressure operations may degrade the quality of the plating surface to be plated on the surface of the strip.

한편, 도 4에 나타난 바와 같이, 용접부 전후의 목표 도금부착량에 차이가 있을 시에는 특히 목표 도금부착량이 상대적으로 낮은 선행코일과 상대적으로 높은 후행코일이 연결되어 있는 경우에는 용접부가 에어나이프에 도착하기 전에 미리 설정된 송풍압력으로 와이핑가스를 송풍하는 방식이 사용되고 있다.On the other hand, as shown in Figure 4, when there is a difference in the target plating amount before and after the weld, in particular, when the target plating amount of the relatively low leading coil and the relatively high trailing coil is connected to the welding portion to reach the air knife A method of blowing a wiping gas at a preset blowing pressure has been used.

그리고, 도 5에 나타난 바와 같이 목표 도금부착량이 상대적으로 높은 선행코일과 상대적으로 낮은 후행코일이 연결되어 있는 경우에는 코일의 용접부가 에어나이프를 통과하는 시점에서 설정된 송풍압력으로 와이핑가스를 송풍하는 방식이 사용되고 있다.And, as shown in FIG. 5, when the target plating deposition amount is relatively high, the leading coil and the relatively low trailing coil are connected, the wiping gas is blown at the blowing pressure set when the welding portion of the coil passes through the air knife. The method is being used.

그러나, 상술한 방식들은, 도 4 및 도 5에 나타난 바와 같이, 스트립의 용접부 부근에 과도금현상이 발생하여 필요 이상으로 아연을 소모하는 문제가 있다.However, the above-described schemes, as shown in Figures 4 and 5, there is a problem that the excessive plating occurs near the weld portion of the strip to consume zinc more than necessary.

본 발명은 상기된 바와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 와이핑가스의 송풍압력 및 에어나이프와 스트립 사이의 간격을 적절히 조화시키는 제어로직(Logic)을 구성하여 목표 도금부착량이 상이한 선행코일과 후행코일 사이의 용접부에서 과도금현상이 발생되는 것을 방지하기 위한 코일 용접부에서 도금부착량 제어방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, by configuring a control logic (Logic) to properly match the blowing pressure of the wiping gas and the gap between the air knife and the strip to the target plating deposition amount is different An object of the present invention is to provide a coating amount control method in a coil welding part for preventing overplating from occurring in a welding part between a preceding coil and a trailing coil.

도 1을 일반적인 도금장치를 개략적으로 도시한 도면.1 schematically shows a general plating apparatus.

도 2는 스트립과 에어나이프의 간격 및 와이핑 가스의 압력의 응답특성을 나타내는 그래프.Figure 2 is a graph showing the response characteristics of the gap between the strip and the air knife and the pressure of the wiping gas.

도 3는 응답시간과 도금부착량의 관계를 나타내는 그래프.3 is a graph showing the relationship between response time and plating deposition amount.

도 4는 목표도금량 변경에 따른 응답특성을 나타내는 그래프.Figure 4 is a graph showing the response characteristics according to the target plating amount change.

도 5는 목표도금량 변경에 따른 응답특성을 나타내는 그래프.5 is a graph showing the response characteristics according to the target plating amount change.

도 6은 본 발명에 따른 용접부 전후 도금량 제어로직의 흐름도.6 is a flow chart of the plating amount control logic before and after welding according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 제어시스템의 흐름도.7 is a flow chart of a control system according to the present invention.

도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 목표도금량 변경에 따른 응답특성을 나타내는 그래프.8 is a graph showing the response characteristics according to the target plating amount change according to an embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 목표도금량 변경에 따른 응답특성을 나타내는 그래프.9 is a graph showing the response characteristics according to the target plating amount change according to another embodiment of the present invention.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 목표 도금량이 상대적으로 낮은 선행코일과 상대적으로 높은 후행코일이 용접되어 있고 도금욕을 통과하여 소정의 이송속도로 주행하는 스트립에 에어나이프에서 공기를 송풍하여 상기 스트립의 도금량을 제어하는 방법은 상기 후행코일의 도금량을 결정하는 단계와, 상기 후행코일과 에어나이프 사이의 간격을 증가시키는 단계와, 상기 에어나이프로부터 공기를 송풍하기 위한 송풍압력을 증가시키는 단계로 이루어지고,In order to achieve the above object, according to the present invention, the air is blown from the air knife to a strip in which the target coil has a relatively low leading coil and a relatively high trailing coil are welded and travels at a predetermined feed rate through the plating bath. The method for controlling the plating amount of the strip by determining the plating amount of the trailing coil, increasing the interval between the trailing coil and the air knife, and increasing the blowing pressure for blowing air from the air knife In steps,

상기 간격은 하기 [식 1],The interval is the following [formula 1],

D = a ×CW + b ×V + c .............. (1)로부터 도출되고,D = a × CW + b × V + c .............. Derived from (1),

여기에서, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, CW는 목표 도금부착량(g/m2)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, a, b 및 c는 상수이며,Where D is the distance between the strip and the air knife (mm), CW is the target plating amount (g / m 2 ), V is the feed rate of the strip (m / min), and a, b and c are constants Is,

상기 송풍압력은 하기 [식 2],The blowing pressure is the following [formula 2],

CW = ea·Vb·Pc·Dd.............. (2)로부터 도출되고,CW = e a · V b · P c · D d .............. Derived from (2),

여기에서, CW는 도금부착량(g/㎡)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, a, b, c, d는 상수인 것을 특징으로 한다.Where CW is the coating weight (g / m 2), V is the feed rate of the strip (m / min), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and D is the distance between the strip and the air knife ( mm), and a, b, c, and d are constants.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 목표 도금량이 상대적으로 높은 선행코일과 상대적으로 낮은 후행코일이 용접되어 있고 도금욕을 통과하여 소정의 이송속도로 주행하는 스트립에 에어나이프에서 공기를 송풍하여 상기 스트립의 도금량을 제어하는 방법은 상기 후행코일의 도금량을 결정하는 단계와, 상기 후행코일과 에어나이프 사이의 간격을 감소시키는 단계와, 상기 에어나이프로부터 공기를 송풍하기 위한 송풍압력을 증가시키는 단계로 이루어지고,In addition, according to another embodiment of the present invention, by blowing the air from the air knife to the strip that is welded to the relatively high leading coil and relatively low trailing coil, the target plating amount is passed through the plating bath running at a predetermined feed speed The method for controlling the plating amount of the strip includes determining a plating amount of the trailing coil, reducing a gap between the trailing coil and an air knife, and increasing a blowing pressure for blowing air from the air knife. Made up of

상기 간격은 하기 [식 1],The interval is the following [formula 1],

D = a ×CW + b ×V + c .............. (1)로부터 도출되고,D = a × CW + b × V + c .............. Derived from (1),

여기에서, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, CW는 목표 도금부착량(g/m2)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, a, b 및 c는 상수이며,Where D is the distance between the strip and the air knife (mm), CW is the target plating amount (g / m 2 ), V is the feed rate of the strip (m / min), and a, b and c are constants Is,

상기 송풍압력은 하기 [식 2],The blowing pressure is the following [formula 2],

CW = ea·Vb·Pc·Dd.............. (2)로부터 도출되고CW = e a · V b · P c · D d .............. Derived from (2)

여기에서, CW는 도금부착량(g/㎡)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, a, b, c, d는 상수인 것을 특징으로 한다.Where CW is the coating weight (g / m 2), V is the feed rate of the strip (m / min), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and D is the distance between the strip and the air knife ( mm), and a, b, c, and d are constants.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 용접부 전후 도금량제어 알고리즘과 도금량 제어시스템을 나타내는 도 6을 참조하면, 상위계산기로부터 제어장치에 코일의 두께, 폭 및 도금량과 같은 코일정보가 제공된다. 상위계산기로부터 수신된 정보결과, 선행코일에 비하여 후행코일의 도금량이 증가하는 경우, 용접부가 에어 나이프를 통과하는 시점에서 새로 계산된 간격을 압력과 같이 설정하고 이 후 압력변화에 따른 간격을 보상한다.Referring to FIG. 6, which shows the plating amount control algorithm and the plating amount control system before and after the weld, according to an embodiment of the present invention, coil information such as the thickness, width, and plating amount of the coil is provided from the upper calculator to the controller. As a result of the information received from the upper calculator, when the plating amount of the trailing coil is increased as compared with the preceding coil, the newly calculated interval is set as the pressure at the time when the weld passes the air knife, and then the gap according to the pressure change is compensated. .

예를 들어, 후행코일의 목표 도금량이 감소하는 경우 용접부가 에어나이프를 통과하기 전에 에어나이프의 송풍압력을 우선적으로 조정하고, 상기 송풍압력 변화에 따른 스트립과 에어나이프 사이의 간격보상을 실시한다. 그리고, 용접부가 에어나이프를 통과하는 시점에서 간격을 조정한다.For example, when the target plating amount of the trailing coil decreases, the blowing pressure of the air knife is preferentially adjusted before the weld passes through the air knife, and the gap compensation between the strip and the air knife is performed according to the blowing pressure change. And a space | interval is adjusted at the time when a welding part passes an air knife.

도 7은 본 발명에 따른 용접부 전후 도금량제어 알고리즘을 나타낸다.7 shows a plating amount control algorithm before and after welding according to the present invention.

알고리즘의 단계별 수행에 있어서 공통적으로 수행되는 것은 코일정보를 확인하는 것이다. 즉, 제어장치는 상위 계산기로부터 코일에 대한 정보를 수신받은 후 후행코일의 도금량이 증가하는 것인지 감소하는 것인지를 판단하여 실행하고자 하는 제어를 결정한다.Commonly performed in the step-by-step implementation of the algorithm is to check the coil information. That is, after receiving the information on the coil from the upper calculator, the control device determines whether to control the execution by determining whether the plating amount of the trailing coil is increased or decreased.

[실시예 1]Example 1

본 실시예는 목표 도금량이 상대적으로 낮은 선행코일과 상대적으로 높은 후행코일 사이의 용접부가 에어나이프를 통과하는 경우이다.This embodiment is a case where the weld portion between the relatively low leading coil and the relatively high trailing coil passes through the air knife.

도 8에 나타난 바와 같이, 목표도금량이 증가하는 경우 에어나이프의 간격은 넓혀지고 압력은 낮추어져야 한다. 그러나, 압력의 응답속도가 느리기 때문에 도금량을 신속하게 제어하기 위해서는 간격을 미리 계산된 설정값(DNEW)으로 먼저 넓혀 증가된 도금부착량을 확보한다. 다음 압력을 기본 설정값이 될 때까지 단계적으로 낮추면서 그에 상응하여 간격도 서서히 좁혀준다.As shown in FIG. 8, when the target plating amount is increased, the interval of the air knife should be widened and the pressure should be lowered. However, since the response speed of the pressure is slow, in order to quickly control the plating amount, the interval is first widened to a pre-calculated set value D NEW to secure an increased coating amount. The next pressure is lowered gradually until it reaches the default setting and the gap is gradually narrowed accordingly.

도 7을 참조하면, 후행코일의 도금량이 정해지면 일단 설정해야 할 압력값(PNEXT)과 간격값(DNEXT)을 계산한다. 후행코일의 목표도금량이 증가한다면, 그 도금량을 맞추기 위하여, 현재의 라인속도 및 압력(P)하에서 필요한 임시 간격값(DNEXT)은 하기 [식 1]에 의하여 현재의 스트립의 이송속도(V)와 목표 도금부착량(CW)으로부터 도출된다.Referring to FIG. 7, once the plating amount of the trailing coil is determined, the pressure value P NEXT and the gap value D NEXT , which should be set once, are calculated. If the target plating amount of the trailing coil is increased, in order to match the plating amount, the temporary gap value D NEXT necessary under the current line speed and pressure P is given by the following formula (1) and the feed rate (V) of the current strip. And the target plating amount CW.

D = a ×CW + b ×V + c .............. (1),D = a × CW + b × V + c .............. (1),

여기에서, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, CW는 목표 도금부착량(g/m2)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, a, b 및 c는 상수이다.Where D is the distance between the strip and the air knife (mm), CW is the target plating amount (g / m 2 ), V is the feed rate of the strip (m / min), and a, b and c are constants to be.

한편, 일반적인 도금부착량(CW)은 하기 [식 2]의 수식으로 표현되므로, 후행코일에서 작업하여야 할 압력값(PNEXT)은 하기 [식 2]를 이용하여 도출될 수 있다.On the other hand, since the general coating weight (CW) is represented by the formula of the following [Equation 2], the pressure value (P NEXT ) to work in the trailing coil can be derived using the following [Equation 2].

CW = ea·Vb·Pc·Dd.............. (2), CW = e a · V b · P c · D d .............. (2),

여기에서, CW는 도금부착량(g/㎡)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, a, b, c, d는 상수이다.Where CW is the coating weight (g / m 2), V is the feed rate of the strip (m / min), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and D is the distance between the strip and the air knife ( mm) and a, b, c and d are constants.

즉, 용접부가 에어나이프를 통과할 때까지 기다린 다음 에어나이프를 통과하게 되면, 새로이 설정된 간격값(DNEW)과 현재 압력값(PNEXT)을 설정한다. 이때, 압력은 그대로인데 간격이 넓어지므로 도금량은 순식간에 증가하게 된다.That is, when the welding part waits for passing through the air knife and then passes through the air knife, the newly set interval value D NEW and the current pressure value P NEXT are set. At this time, the pressure remains the same, but the spacing becomes wider, so that the plating amount is increased in an instant.

따라서, 압력을 원래 설정해야 할 압력값(PNEXT)으로 단계적으로 내리기 위하여, 압력값(PNEW)은 상기 [식 2]를 통하여 계산된다. 이때, 압력을 단계적으로 낮추기 위한 압력값(PNEW)의 변동량이 크게되면 간격은 신속히 제어되는 데 반해 압력의 응답이 늦어지므로, 실제 부착되는 도금량은 적게 부착될 수 있으므로 상위컴퓨터로부터 전송받은 목표도금량의 하한값을 벗어나지 않도록 수정된 수정목표 도금량(즉, 목표도금량 - 하한값)에 대응하는 하한 압력값(PNEW)을 상기 [식 2]로부터 도출한다.Therefore, in order to gradually lower the pressure to the pressure value P NEXT to be originally set, the pressure value P NEW is calculated through the above [Equation 2]. At this time, if the amount of change of pressure value (P NEW ) for lowering the pressure stepwise becomes large, the interval is controlled quickly, but the response of the pressure is delayed. The lower limit pressure value P NEW corresponding to the corrected target plating amount (ie, target plating amount-lower limit value) modified so as not to deviate from the lower limit of is derived from the above [Equation 2].

이때, 상기 방식으로 계산된 단계적인 하한 압력값(PNEW)이 원래 설정해야 할 압력값(PNEXT) 보다 작은 경우에는 원래 설정해야할 압력으로 가기 위하여압력값(PNEXT)을 새로운 압력값(PNEW)으로 설정한다.At this time, the new pressure value with the pressure value (P NEXT) is smaller than the pressure value (P NEXT) The stepwise lower pressure value calculated in this manner (P NEW) is to the original setting has to go to a pressure to do the original settings (P NEW ).

한편, 압력이 안정되는 데 필요한 응답시간을 계산하기 위하여, 즉 압력값(PNEXT)으로부터 압력값(PNEW)으로 유지시키기 위하여 소요되는 시간은 하기 [식 3]의 압력응답 함수식을 사용하여 계산한다.On the other hand, in order to calculate the response time required to stabilize the pressure, that is, the time required to maintain the pressure value (P NEW ) from the pressure value (P NEXT ) is calculated using the pressure response function equation of the following [Equation 3] do.

t = a ·ln(P) + b.............. (3),t = aln (P) + b .............. (3),

여기서, t는 소요시간(sec)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, a, b는 상수이다.Where t is the required time (sec), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and a and b are constants.

또한, 단계적인 압력값(PNEW)에 상응하여 그에 해당하는 단계적인 간격값(DNEW)은 상기 [식 1]에 의하여 계산된다.In addition, a stepwise interval value D NEW corresponding to the stepwise pressure value P NEW is calculated by Equation 1 above.

그리고, 계산된 압력값(PNEXT)과 간격값(DNEXT)을 동시에 설정하면 압력과 간격이 동시에 감소하므로, 상쇄작용에 의하여 도금량에는 영향을 주지 않는다. 이때, 단계적인 압력값(PNEW)에 도달하는 데 필요한 응답소요시간(t) 동안 기다렸다가 단계적인 압력값(PNEW)이 원래 설정해야할 압력값(PNEXT)에 도달할 때까지, 도 7에 나타난 바와 같이, 계속하여 단계적으로 압력을 낮춘다. 이러한 과정은 단계적인 압력값(PNEW)과 원래 설정해야 할 압력값(PNEXT)이 동일하면 종료된다.In addition, when the calculated pressure value P NEXT and the interval value D NEXT are set at the same time, the pressure and the gap are simultaneously reduced, and thus the plating amount is not affected by the offset action. At this time, the to reach the step of pressure values the pressure value (P NEXT) need wait phase pressure value (P NEW), the original setting for the response time (t) required to reach the (P NEW), 7 As shown, continue to lower the pressure in stages. This process is terminated when the stepped pressure value P NEW and the pressure value P NEXT originally set should be the same.

[실시예 2]Example 2

본 실시예는 목표 도금량이 상대적으로 높은 선행코일과 상대적으로 낮은 후행코일 사이의 용접부가 에어나이프를 통과하는 경우이다.This embodiment is a case where the weld portion between the relatively high leading coil and the relatively low trailing coil passes through the air knife.

도 9에 나타난 바와 같이, 목표 도금부착량이 높은 코일에서 낮은 코일로 변경이 되는 경우, 에어나이프의 간격은 줄어들고 압력은 증가시켜야 한다. 그러나, 압력의 응답속도가 느리기 때문에 도금량을 신속하게 제어하기 위해선느 도금량은 그대로 유지한 상태에서 압력과 간격을 공히 서서히 높인 다음 용접부가 에어나이프를 통과할 때 압력은 그대로 유지하고 간격을 미리 계산된 설정값(DNEW)으로 설정하여 신속히 제어함으로써 감소된 도금부착량을 확보한다.As shown in FIG. 9, when the target plating amount is changed from the high coil to the low coil, the gap between the air knife should be reduced and the pressure should be increased. However, due to the slow response speed of pressure, in order to quickly control the coating amount, the pressure and the gap are gradually increased while maintaining the plating amount, and then the pressure is maintained as the weld passes through the air knife and the gap is pre-calculated. By setting the setting value (D NEW ) and controlling it quickly, the reduced plating amount is ensured.

도 7을 다시 참조하면, 후행코일의 도금량이 정해지면, 일단 설정해야 할 압력값(PNEXT)과 간격값(DNEXT)을 상기 [식 1]과 [식 2]를 이용하여 계산한다. 그리고, 후행코일의 목표도금량이 감소한다면 현재 작업되고 있는 압력값(PNEXT)에서 새로운 압력값(PNEW)에 도달하는 데 소요되는 시간(t)은 상기 [식 3]을 통해 계산한다. 이는 용접부가 에어나이프로부터 어느정도 거리로 이격되어 있어야 하는 지를 산정하기 위해서이다. 즉, 스트립의 이송속도와 압력응답 지연시간(t)을 곱하여 설정하여야 할 위치(x)를 계산한다.Referring to FIG. 7 again, once the plating amount of the trailing coil is determined, the pressure value P NEXT and the interval value D NEXT to be set once are calculated using the above [Equation 1] and [Equation 2]. And, if the target plating amount of the trailing coil decreases, the time t required to reach the new pressure value P NEW at the current working pressure value P NEXT is calculated by the above [Equation 3]. This is to estimate how far the weld should be from the air knife. That is, the position x to be set is calculated by multiplying the feed rate of the strip by the pressure response delay time t.

따라서, 용접부가 설정위치(x)에 도달할 때까지 기다린다. 그리고, 용접부가 설정위치(x)에 도착하면, 단계적으로 제어할 간격값(DNEW)을 상기 [식 1]로부터 계산한다. 이때, 용접부와 에어나이프 사이의 간격을 무작정 넓히면 도금량이 많이 부착되므로 도금량의 상한값을 설정한다. 즉, 목표도금량에 상한값을 더한 값을 기준으로 상기 [식 1]을 이용하여 설정할 간격값(DNEW)을 계산한다.Therefore, it waits until a welding part reaches the setting position x. Then, when the welded portion arrives at the set position x, the interval value D NEW to be controlled step by step is calculated from the above expression (1). At this time, if the gap between the welded portion and the air knife is widened at random, the plating amount is largely attached, so the upper limit value of the plating amount is set. That is, the interval value D NEW to be set is calculated using Equation 1 on the basis of the target plating amount plus the upper limit value.

계산된 간격(DNEW)에 해당하는 압력(PNEW)은 상기 [식 2]에서 계산한다. 이때, 계산된 압력(PNEW)이 현재의 압력(PNEXT)보다 클 경우, 현재 압력(PNEXT)을 계산된 압력(PNEW)으로 바꾸고, 간격(DNEW)을 상기 [식 2]로 재계산한다.The pressure P NEW corresponding to the calculated interval D NEW is calculated in Equation 2 above. At this time, in case the calculated pressure (P NEW) is greater than the current pressure (P NEXT), change in the pressure (P NEW) calculating the current pressure (P NEXT), intervals (D NEW) for the [formula 2] Recalculate

또한, 계산된 압력(PNEW)의 응답소요시간(t)을 상기 [식 3]으로부터 계산하고, 압력(PNEW)와 간격(DNEW)을 설정한 다음 시간(t) 동안 대기한다. 즉, 원래 설정해야 할 압력값(PNEXT)에 단계적으로 설정할 압력값(PNEW)이 일치하면 더 이상 제어가 필요없으므로 용접부가 에어나이프에 도달할 때까지 기다린다.In addition, the air after the response time (t) of the calculated pressure (P NEW) is calculated from the above Equation 3, the set pressure (P NEW) and the distance (D NEW) for the next time (t). That is, if the pressure value (P NEW ) to be set step by step matches the pressure value (P NEXT ) to be originally set, no further control is required, so wait until the weld reaches the air knife.

그리고, 용접부가 에어나이프에 도착하면 후행코일에 원래 적용되어야 할 계산된 설정간격값(NEXT)을 설정하고 종료한다.Then, when the welding part arrives at the air knife, it sets the calculated set interval value NEXT that should be applied to the trailing coil.

따라서, 에어나이프 간격이 급속히 좁아져 도금부착량이 급감하게 되어 와이핑가스 압력의 응답지연을 보상할 수 있다.Therefore, the air knife interval is rapidly narrowed and the plating deposition amount is drastically reduced to compensate for the response delay of the wiping gas pressure.

본 발명은 선행코일과 후행코일의 용접부 전후에서 목표도금량이 상이한 경우 와이핑가스 압력의 설정에 대한 응답 지연을 에어나이프 간격으로 보상하여, 용접부 전후에서 도금부착량 차이에 의하여 발생하는 도금부착량 편차(과다부착 또는 미달부착)를 최소화시켜 아연도금량이 필요 이상으로 과도하게 부착되는 것을 방지하여 아연소모량을 절감하는 효과가 있다.The present invention compensates the response delay to the setting of the wiping gas pressure in the air knife interval when the target plating amount is different before and after the welded portion of the preceding coil and the trailing coil, and the plating deposition amount variation (excess caused by the plating deposition amount before and after the weld) is excessive. By minimizing adherence or underattachment, the zinc plating amount is prevented from being excessively attached more than necessary, thereby reducing the zinc consumption.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 첨부된 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 요지로부터 벗어나지 않고 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다는 것을 인식하여야 한다.The foregoing is merely illustrative of the preferred embodiments of the present invention and those skilled in the art to which the present invention pertains may make modifications and changes to the present invention without departing from the spirit and gist of the invention as set forth in the appended claims. It should be recognized.

Claims (4)

목표 도금량이 상대적으로 낮은 선행코일과 상대적으로 높은 후행코일이 용접되어 있고 도금욕을 통과하여 소정의 이송속도로 주행하는 스트립에 에어나이프에서 공기를 송풍하여 상기 스트립의 도금량을 제어하는 방법에 있어서,A method of controlling the plating amount of a strip by blowing air from an air knife to a strip in which a target plating amount having a relatively low leading coil and a relatively high trailing coil are welded and traveling at a predetermined feed speed through a plating bath, 상기 후행코일의 도금량을 결정하는 단계와,Determining the plating amount of the trailing coil; 상기 후행코일과 에어나이프 사이의 간격을 증가시키는 단계와,Increasing the spacing between the trailing coil and the air knife; 상기 에어나이프로부터 공기를 송풍하기 위한 송풍압력을 증가시키는 단계로 이루어지고,Increasing blowing pressure for blowing air from the air knife; 상기 간격은 하기 [식 1],The interval is the following [formula 1], D = a ×CW + b ×V + c .............. (1)로부터 도출되고,D = a × CW + b × V + c .............. Derived from (1), 여기에서, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, CW는 목표 도금부착량(g/m2)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, a, b 및 c는 상수이며,Where D is the distance between the strip and the air knife (mm), CW is the target plating amount (g / m 2 ), V is the feed rate of the strip (m / min), and a, b and c are constants Is, 상기 송풍압력은 하기 [식 2],The blowing pressure is the following [formula 2], CW = ea·Vb·Pc·Dd.............. (2)로부터 도출되고CW = e a · V b · P c · D d .............. Derived from (2) 여기에서, CW는 도금부착량(g/㎡)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, a, b, c, d는 상수인 것을 특징으로 하는 스트립의 도금량 제어방법.Where CW is the coating weight (g / m 2), V is the feed rate of the strip (m / min), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and D is the distance between the strip and the air knife ( mm), and a, b, c, and d are constants. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 [식 2]로 표현되는 송풍압력에 도달하기 위한 지연시간(t)은 하기 [식 3],Delay time (t) for reaching the blowing pressure represented by the above [Equation 2] is the following [Equation 3], t = a ·ln(P) + b.............. (3)으로부터 도출되고,t = a · ln (P) + b .............. derived from (3), 여기서, t는 소요시간(sec)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, a, b는 상수인 것을 특징으로 하는 스트립 도금량 제어방법.Where t is the required time (sec), P is the wiping gas pressure (kgf / ㎠), a, b is a strip plating amount control method characterized in that the constant. 목표 도금량이 상대적으로 높은 선행코일과 상대적으로 낮은 후행코일이 용접되어 있고 도금욕을 통과하여 소정의 이송속도로 주행하는 스트립에 에어나이프에서 공기를 송풍하여 상기 스트립의 도금량을 제어하는 방법에 있어서,A method of controlling the plating amount of a strip by blowing air from an air knife to a strip in which a target plating amount of relatively high leading coil and a relatively low trailing coil are welded and traveling through a plating bath and traveling at a predetermined feed speed, 상기 후행코일의 도금량을 결정하는 단계와,Determining the plating amount of the trailing coil; 상기 후행코일과 에어나이프 사이의 간격을 감소시키는 단계와,Reducing the gap between the trailing coil and the air knife; 상기 에어나이프로부터 공기를 송풍하기 위한 송풍압력을 증가시키는 단계로 이루어지고,Increasing blowing pressure for blowing air from the air knife; 상기 간격은 하기 [식 1],The interval is the following [formula 1], D = a ×CW + b ×V + c .............. (1)로부터 도출되고,D = a × CW + b × V + c .............. Derived from (1), 여기에서, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, CW는 목표 도금부착량(g/m2)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, a, b 및 c는 상수이며,Where D is the distance between the strip and the air knife (mm), CW is the target plating amount (g / m 2 ), V is the feed rate of the strip (m / min), and a, b and c are constants Is, 상기 송풍압력은 하기 [식 2],The blowing pressure is the following [formula 2], CW = ea·Vb·Pc·Dd.............. (2)로부터 도출되고CW = e a · V b · P c · D d .............. Derived from (2) 여기에서, CW는 도금부착량(g/㎡)이고, V는 스트립의 이송속도(m/min)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, D는 스트립과 에어나이프 사이의 간격(mm)이고, a, b, c, d는 상수인 것을 특징으로 하는 스트립의 도금량 제어방법.Where CW is the coating weight (g / m 2), V is the feed rate of the strip (m / min), P is the wiping gas pressure (kgf / cm 2), and D is the distance between the strip and the air knife ( mm), and a, b, c, and d are constants. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 [식 2]로 표현되는 송풍압력에 도달하기 위한 지연시간(t)은 하기 [식 3],Delay time (t) for reaching the blowing pressure represented by the above [Equation 2] is the following [Equation 3], t = a ·ln(P) + b.............. (3)으로부터 도출되고,t = a · ln (P) + b .............. derived from (3), 여기서, t는 소요시간(sec)이고, P는 와이핑가스 압력(kgf/㎠)이고, a, b는 상수인 것을 특징으로 하는 스트립 도금량 제어방법.Where t is the required time (sec), P is the wiping gas pressure (kgf / ㎠), a, b is a strip plating amount control method characterized in that the constant.
KR1020000078641A 2000-12-19 2000-12-19 Method for controlling the amount of the strip plating KR20020049465A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000078641A KR20020049465A (en) 2000-12-19 2000-12-19 Method for controlling the amount of the strip plating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000078641A KR20020049465A (en) 2000-12-19 2000-12-19 Method for controlling the amount of the strip plating

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20020049465A true KR20020049465A (en) 2002-06-26

Family

ID=27683427

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000078641A KR20020049465A (en) 2000-12-19 2000-12-19 Method for controlling the amount of the strip plating

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20020049465A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100815814B1 (en) * 2006-12-22 2008-03-20 주식회사 포스코 Method and apparatus for controlling coating weight in continuous galvanizing process
CN112840061A (en) * 2018-09-21 2021-05-25 Posco公司 Plating amount control device and control method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5585664A (en) * 1978-12-21 1980-06-27 Nippon Steel Corp Controlling method for amount of molten metal adhered in continuous hot dipping
JPS5613468A (en) * 1979-07-10 1981-02-09 Nippon Steel Corp Automatically controlling method for hot dipping amount
JPS6353248A (en) * 1986-08-22 1988-03-07 Hitachi Ltd Thickness control device for surface treatment
KR19980052530A (en) * 1996-12-24 1998-09-25 김종진 Plating adhesion amount control apparatus and control method therefor
KR19980052529A (en) * 1996-12-24 1998-09-25 김종진 Plated vehicle control device and method with various control models

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5585664A (en) * 1978-12-21 1980-06-27 Nippon Steel Corp Controlling method for amount of molten metal adhered in continuous hot dipping
JPS5613468A (en) * 1979-07-10 1981-02-09 Nippon Steel Corp Automatically controlling method for hot dipping amount
JPS6353248A (en) * 1986-08-22 1988-03-07 Hitachi Ltd Thickness control device for surface treatment
KR19980052530A (en) * 1996-12-24 1998-09-25 김종진 Plating adhesion amount control apparatus and control method therefor
KR19980052529A (en) * 1996-12-24 1998-09-25 김종진 Plated vehicle control device and method with various control models

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100815814B1 (en) * 2006-12-22 2008-03-20 주식회사 포스코 Method and apparatus for controlling coating weight in continuous galvanizing process
WO2008078910A1 (en) * 2006-12-22 2008-07-03 Posco Method and apparatus for controllin coating weight in continuous galvanizing process
CN112840061A (en) * 2018-09-21 2021-05-25 Posco公司 Plating amount control device and control method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009179834A (en) Strip shape correction and strip vibration reduction method, and hot dip coated strip manufacturing method
JP2010520374A (en) Method and apparatus for continuously depositing a coating on a strip substrate
WO2004003249A1 (en) Molten metal plated steel sheet production method and apparatus
KR20020049465A (en) Method for controlling the amount of the strip plating
JP6238022B2 (en) Method and apparatus for manufacturing molten metal plated steel sheet
JP2003129206A (en) Production method for hot-dip zinc-plated steel sheet
JP5577588B2 (en) Plating adhesion amount control method and apparatus
JPH09302453A (en) Method for controlling coating weight in hot-dip metal plated steel sheet
JP4547818B2 (en) Method for controlling the coating amount of hot dip galvanized steel sheet
JPH1060614A (en) Method for adjusting coating weight of plating utilizing electromagnetic force and apparatus therefor
JPH05263147A (en) Method for controlling strip temperature in continuous annealing furnace
JP5169089B2 (en) Continuous molten metal plating method
KR100527332B1 (en) Method and device for coating a metal strip
KR100815684B1 (en) Adaptive coating weight controller in continuous steel strip galvanizing process
JPH07126823A (en) Method for controlling adhesion of hot dip metal coating
JP3755492B2 (en) Alloyed hot-dip galvanized steel sheet and method for producing the same
JP2593027B2 (en) Plating weight control method
JP6648650B2 (en) Metal strip stabilizer and method for manufacturing hot-dip coated metal strip
JP3380672B2 (en) Method for controlling alloying of galvannealed steel sheet
JPH08197139A (en) Controller for shape of steel plate
JPH05171396A (en) Production of galvannealed steel sheet
JPH11236658A (en) Production of hot dip galvanized steel sheet good in surface property
JP2009275280A (en) Production method of hot-dip plated metal sheet
WO2020121646A1 (en) Method for manufacturing hot-dip metal-plated steel sheet, and apparatus for manufacturing hot-dip metal-plated steel sheet
JP2015160959A (en) Non-contact control device for metal strip and production method for hot-dip galvanized metal strip

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee