KR20020041017A - Dielectic sensor and manufacture method and wheatstone bridge type dielectric circuit for the cure monitoring of the high temperature composites - Google Patents

Dielectic sensor and manufacture method and wheatstone bridge type dielectric circuit for the cure monitoring of the high temperature composites Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A dielectric sensor and method for manufacturing the same is provided to achieve improved quality of product by measuring the degree of cure of composite material cured in a high temperature, while enhancing sensitivity. CONSTITUTION: A method for manufacturing dielectric sensor comprises a first step(S1) of producing a base substrate from a glass material; a second step(S2) of producing a metal mold; a third step(S3) of producing a sensor pattern by using the metal mold; a fourth step(S4) of grinding the produced sensor pattern; and a fifth step(S5) of plating the completed dielectric sensor with a chrome. A dielectric sensor comprises a base substrate made of a glass material, and a copper paste attached onto the base substrate.

Description

복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서 및 그 제조방법과, 휘스톤 브리지식 유전회로 {Dielectic sensor and manufacture method and wheatstone bridge type dielectric circuit for the cure monitoring of the high temperature composites}Dielectric sensor and manufacture method and wheatstone bridge type dielectric circuit for the cure monitoring of the high temperature composites}

본 발명은 복합재료의 경화도를 측정하기 위한 휘스톤 브리지식 유전회로와 고온용 유전센서 및 그 제조방법에 관한것으로서, 더욱 상세하게는 최대 오차가 ±1% 이하로 정확한 측정을 할 수 있는 휘스톤 브리지식 유전회로와 , 고온에서 기저의 변화를 일으키지 않고 전기적인 특성이 좋은 열경화성수지 복합재료의 경화도를 측정하기 위한 고온용 유전센서 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a Wheatstone bridge dielectric circuit for measuring the degree of cure of the composite material, a high temperature dielectric sensor, and a method for manufacturing the same. More specifically, the Wheatstone which can accurately measure a maximum error of ± 1% or less. The present invention relates to a bridge dielectric circuit, a high temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of a thermosetting resin composite material having good electrical properties without causing a change in base at high temperatures, and a method of manufacturing the same.

종래의 유전센서는 기저가 에폭시나 유리-에폭시 계열인 것으로 150℃이하의 저온에서만 사용할 수 있는 저온용 유전센서가 있었다. 이러한 종래 기술의 유전센서는 에폭시가 150 ℃이상의 온도에서는 자체의 전기적인 변화를 일으켜 복합재료 수지의 소산계수 측정에 많은 오차를 수반한다.Conventional dielectric sensors have a low temperature dielectric sensor that can be used only at a low temperature of 150 ° C. or less based on epoxy or glass-epoxy series. Such a dielectric sensor of the prior art has a large error in measuring the dissipation coefficient of the composite resin because the epoxy generates its own electrical change at a temperature of 150 ℃ or more.

도 1은 유전센서를 220℃분위기 하에서 장시간 방치하여 센서자체의 소산계수를 측정한 그래프로서, 약 25분 후에는 기저가 탄화되어 매우 불안정한 특성을 나타냄을 볼 수 있다.1 is a graph measuring the dissipation coefficient of the sensor by leaving the dielectric sensor in a 220 ° C. atmosphere for a long time, and after about 25 minutes, the base is carbonized to show very unstable characteristics.

도 2는 저온 유전센서를 이용하여 BMI(CIBA-GEIGY사의 Matrimid 5292)수지의 소산계수를 측정한 그래프로서, BMI수지의 경화온도는 220℃이다. 측정된 결과에서볼 수 있듯이 BMI수지는 220℃분위기 하에서 약 3분 후 소산계수가 3.6이상이 되며 약 10분 후 하강함을 볼 수 있다. 하지만 약 10분이 지난 후부터는 소산계수 값이 다시 증가되며 불안정한 특성을 나타냄을 볼 수 있다. 따라서 BMI수지와 같은 고온용 복합재료 수지의 경화도 측정에는 많은 오차를 수반하는 문제점이 있었다.Figure 2 is a graph measuring the dissipation coefficient of BMI (Matrimid 5292, CIBA-GEIGY) using a low temperature dielectric sensor, the curing temperature of the BMI resin is 220 ℃. As can be seen from the measured results, the BMI resin has a dissipation factor of 3.6 or more after about 3 minutes in a 220 ° C atmosphere and drops after about 10 minutes. However, after about 10 minutes, the dissipation factor is increased again, indicating unstable characteristics. Therefore, there was a problem with many errors in the measurement of the curing degree of the high temperature composite resin such as BMI resin.

한편, 복합재료의 경화도를 측정하기 위해서는 유전센서로부터 나온 신호를 측정하는 유전회로가 필요하다. 이러한 유전회로를 이용하여 수지의 경화과정을 측정하기 위하여 수지의 소산 계수(Disssipation factor)값을 이용하였다. 소산계수 Df는 수지의 등가 저항 Rm과 등가 콘덴서 Cm의 항으로 정의될 수 있으며 다음과 같은 관계가 성립한다.On the other hand, in order to measure the degree of curing of the composite material, a dielectric circuit for measuring the signal from the dielectric sensor is required. The dissipation factor value of the resin was used to measure the curing process of the resin using the dielectric circuit. The dissipation factor D f can be defined in terms of the equivalent resistance R m of the resin and the equivalent capacitor C m , and the following relationship holds.

(1) (One)

종래 기술은 복합재료 수지의 등가 저항과 등가 콘덴서 값을 측정하기 위한 여러 가지 방법이 있으나 직렬방식회로(Direct method circuit)가 일반적인 방법으로 알려져 있다.In the prior art, there are various methods for measuring the equivalent resistance and equivalent capacitor value of a composite resin, but a direct method circuit is known as a general method.

도 13은 직렬방식의 회로구성으로, 미리 측정되어진 저항 R을 이용하여 복합재료 수지의 등가 저항 Rm과 등가 콘덴서 Cm을 측정할 수 있도록 한 회로이다.FIG. 13 is a circuit configuration of a series system, in which the equivalent resistance R m and the equivalent capacitor C m of the composite resin can be measured using the resistance R measured in advance.

도 13에 도시된 직렬방식회로은 수지의 소산계수가 전압비와 위상차로 다음과 같이 정의되어진다.In the series circuit shown in Fig. 13, the dissipation coefficient of the resin is a voltage ratio. And phase difference It is defined as follows.

(2) (2)

위 식(2)에서 보는 바와 같이 전압비와 위상차를 측정하면 소산계수 Df를 측정할 수 있었다.Voltage ratio as shown in equation (2) And phase difference By measuring, the dissipation factor D f could be measured.

이러한 종래 기술의 직렬방식회로에서는 등가저항 Rm의 측정 범위는 이론적으로 0에서 무한대(∞)까지이므로 측정 범위가 매우 커져서 정밀도가 저하되는 문제점이 있었다.In the conventional series circuit, the measurement range of the equivalent resistance R m is theoretically from 0 to infinity (∞), which causes a problem in that the measurement range is very large and the precision is lowered.

이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 복합재료 수지의 등가저항은 대개 수 MΩ이상이므로 저항의 측정범위를 무한대에서 MΩ사이로 축소하여 측정의 정밀도를 향상시킬 수 있는 유전회로와, 200℃이상의 온도에서 기저의 변화를 일으키지 않고 전기적인 특성이 우수한 유전센서 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve the problems of the prior art, the equivalent resistance of the composite resin is usually a few MΩ or more, so that the resistance range of the resistance can be reduced from infinity to MΩ, and the dielectric circuit can improve the measurement accuracy, 200 ℃ It is an object of the present invention to provide a dielectric sensor having excellent electrical characteristics and a method of manufacturing the same without causing a change in base at the above temperature.

이러한 목적 달성을 위해 본 발명은 유리재질의 베이스 기판을 제작하는 베이스 기판 제작 공정과, 센서패턴을 제작하기 위한 금속금형 제작 공정과, 상기 금속금형을 이용한 센서패턴 제작공정과; 제작된 센서패턴의 연마 공정과, 완성된 고온용 유전센서의 크롬도금 공정으로 고온용 유전센서를 제작하고, 고온용 유전센서를 부착한 휘스톤 브리지식 회로와, 미분 증폭회로와, 다수의 버퍼를 연결하고, 위상차 보상기와 전압 보상기와, 위상차()를 측정하기 위해서 두 개의 비교측정기와, 상기 두 개의 비교측정기에 병렬접속된 변환기와, 배타적 논리합 게이트와, 상기 배타적 논리합 게이트에 병렬접속된 변환기를 포함하여 구성함으로써 달성하였다.In order to achieve the above object, the present invention provides a base substrate manufacturing process for manufacturing a base substrate of a glass material, a metal mold manufacturing process for manufacturing a sensor pattern, and a sensor pattern manufacturing process using the metal mold; The high temperature dielectric sensor is manufactured by the polishing process of the fabricated sensor pattern, and the chrome plating process of the completed high temperature dielectric sensor, the Wheatstone bridge circuit equipped with the high temperature dielectric sensor, the differential amplifier circuit, and the multiple buffers. , Phase difference compensator and voltage compensator, 2 comparator, a converter connected in parallel to the two comparator, an exclusive OR gate, and a converter connected in parallel to the exclusive OR gate.

도 1은 종래의 유전센서를 220℃분위기하에서 장시간 방치하여 센서자체의 소산계수를 측정한 그래프,1 is a graph measuring the dissipation factor of a sensor by leaving a conventional dielectric sensor at 220 ° C. for a long time;

도 2는 종래의 유전센서를 이용하여 BMI(CIBA-GEIGY사의 Matrimid 5292)수지의 소산 계수를 측정한 그래프,2 is a graph measuring the dissipation factor of BMI (Matrimid 5292, CIBA-GEIGY) resin using a conventional dielectric sensor,

도 3은 본 발명의 고온용 유전센서의 제조방법을 도시한 공정도,3 is a process chart showing the manufacturing method of the high temperature dielectric sensor of the present invention;

도 4는 본 발명의 고온용 유전센서의 패턴을 제작하기 위해 제조된 금속금형을 나타낸 사진,Figure 4 is a photograph showing a metal mold manufactured to manufacture a pattern of the high temperature dielectric sensor of the present invention,

도 5는 본 발명의 고온용 유전센서의 모습을 나타낸 사진,5 is a photograph showing a state of the high-temperature dielectric sensor of the present invention,

도 6은 본 발명의 고온용 유전센서주위의 열 잔류응력을 해석하기 위한 유한요소모델을 도시한 사시도,Figure 6 is a perspective view showing a finite element model for analyzing the thermal residual stress around the high temperature dielectric sensor of the present invention,

도 7은 센서패턴의 높이에 따른 기저 부분과 센서패턴 부분에 작용하는 최대응력값을 나타낸 그래프,7 is a graph showing the maximum stress value acting on the base portion and the sensor pattern portion according to the height of the sensor pattern;

도 8은 BMI수지의 경화실험 후 센서가 파괴된 모습을 나타낸 사진,8 is a photograph showing a state that the sensor is destroyed after the curing test of the BMI resin,

도 9는 센서표면에 전기적 특성이 우수한 크롬 도금층을 형성하기 위한 실험장치를 도시한 간략도,9 is a simplified diagram showing an experimental apparatus for forming a chromium plating layer having excellent electrical properties on the sensor surface;

도 10은 본 발명의 크롬 도금층을 형성한 후의 고온용 유전센서를 나타낸 사진,10 is a photograph showing a high temperature dielectric sensor after forming a chromium plating layer of the present invention;

도 11은 본 발명의 고온용 유전센서를 250℃분위기 하에서 장시간 방치한 결과를 나타낸 그래프,Figure 11 is a graph showing the result of leaving the high-temperature dielectric sensor of the present invention for a long time in 250 ℃ atmosphere,

도 12는 본 발명의 고온용 유전센서를 이용하여 BMI수지의 경화 모니터링을 한 결과를 나타낸 그래프,12 is a graph showing the results of monitoring the curing of the BMI resin using the high temperature dielectric sensor of the present invention;

도 13은 직렬방식 회로도,13 is a series circuit diagram,

도 14는 휘스톤 브리지식 회로도,14 is a Wheatstone bridge circuit diagram,

도 15는 본 발명의 휘스톤 브리지식 유전회로를 도시한 회로 구성도,15 is a circuit diagram showing a Wheatstone bridge dielectric circuit of the present invention;

도 16은 본 발명의 휘스톤 브리지식 회로를 나타낸 사진,16 is a photograph showing a Wheatstone bridge circuit of the present invention;

도 17은 직력방식 회로와 휘스톤 브리지식 회로의 저항의 오차를 비교한 그래프,17 is a graph comparing the error of the resistance of the series circuit and the Wheatstone bridge circuit,

도 18은 직력방식 회로와 휘스톤 브리지식 회로의 콘덴서의 오차를 비교한 그래프이다.Fig. 18 is a graph comparing errors of a capacitor of a series power circuit and a Wheatstone bridge circuit.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

8 : 고온용 유전센서9, 10, 12, 14 : 버퍼8: high temperature dielectric sensor 9, 10, 12, 14: buffer

11 : 미분 증폭회로13 : 전압 보상기11: differential amplifier circuit 13: voltage compensator

15 : 위상차 보상기17, 18 : 비교 측정기15: phase difference compensator 17, 18: comparator

16, 19, 21 : 변환기 20 : 배타적 논리합 게이트16, 19, 21: converter 20: exclusive OR gate

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 구성을 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a configuration according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서의 제작방법은 유리재질의 베이스 기판을 제작하는 베이스 기판 제작 공정 (S1)과; 센서패턴을 제작하기 위한 금속금형 제작 공정(S2)과; 상기 금속금형을 이용한 센서패턴 제작공정(S3)과; 제작된 센서패턴의 연마 공정(S4)와; 완성된 고온용 유전센서의 크롬도금 공정(S5)을 포함하여 구성된다.As shown in Figure 3, the manufacturing method of the high-temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of the composite material of the present invention includes a base substrate manufacturing process (S1) for manufacturing a glass base substrate; A metal mold fabrication process (S2) for fabricating the sensor pattern; A sensor pattern manufacturing process (S3) using the metal mold; Polishing process (S4) of the produced sensor pattern; It is configured to include a chrome plating process (S5) of the completed high-temperature dielectric sensor.

이하, 본 발명의 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서의 제작방법을 공정별로 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a high temperature dielectric sensor for measuring the degree of curing of the composite material of the present invention will be described in detail for each process.

제 1공정 : 베이스 기판 제작 공정(S1)First step: base substrate manufacturing process (S1)

유전센서는 센서패턴을 이루고 있는 구리박판과 구리박판을 지지하는 베이스 기판으로 나눌 수 있고, 유전센서를 고온에서 사용하려면 베이스 기판의 재료를 고온용으로 교체하여야 한다.The dielectric sensor may be divided into a copper foil and a base substrate supporting the copper foil, which form the sensor pattern. To use the dielectric sensor at a high temperature, the material of the base substrate should be replaced for a high temperature.

이런 고온용 베이스 기판의 재료로는 열팽창계수가 적고, 고온에서 안정된 구조를 가지며, 전기적 부도체인 고온용 열경화성수지, 유리, 세라믹 등을 사용할수 있고, 그 중에서 생산단가를 낮출 수 있고, 기저의 변화를 일으키지 않으며, 용이하게 얻을 수 있는 유리와 같은 세라믹계 제품을 베이스 기판의 재료로 사용한다.The material of such a high temperature base substrate has a low coefficient of thermal expansion, has a stable structure at high temperatures, and can use high temperature thermosetting resins, glass and ceramics, which are electrical insulators. Ceramic-based products, such as glass, which are not easily produced and are easily obtained, are used as the base substrate material.

제 2공정 : 금속금형 제작 공정(S2)Second Process: Metal Mold Manufacturing Process (S2)

유리재질의 베이스 기판위에 구리박판을 접합하기는 거의 불가능하므로 에폭시와 미세한 구리입자의 혼합제로 구성된 구리페이스트를 구리막판 대신 사용한다.Since it is almost impossible to bond a copper foil on a glass base substrate, a copper paste composed of a mixture of epoxy and fine copper particles is used instead of the copper film.

상기 구리페이스트는 ASAHI사의 ACP-060으로, 유리재질의 베이스 기판위에 도포한 후에 150℃의 온도로 약 1시간정도 경화시키면 전도성을 갖는 특성이 있고, 그외의 물성치들은 다음 표 1과 같다.The copper paste is ACP-060, ASAHI Co., Ltd., coated on a glass base substrate, and then cured at a temperature of 150 ° C. for about 1 hour to have conductivity, and other properties are shown in Table 1 below.

점도(25℃에서 ps)Viscosity (ps at 25 ° C) 400 ~ 600400-600 비중(25℃에서 g/cc)Specific gravity (g / cc at 25 ° C) 3.23.2 경화조건Curing condition 150℃ x 30min150 ℃ x 30min 경도(H)Hardness (H) 33 습도(%)Humidity(%) ±30± 30 결합 저항(%)Coupling Resistance (%) ±30± 30

상기 구리페이스트를 센서패턴에 도포하기 위해서는 금속금형을 이용하는 방법을 적용한다.In order to apply the copper paste to the sensor pattern, a method using a metal mold is applied.

여기서, 금속금형은 센서패턴의 정밀도를 위해 방전와이어컷팅 방법을 이용하여 도 4와 같이 같이 제작되었다.Here, the metal mold was manufactured as shown in FIG. 4 using the discharge wire cutting method for the accuracy of the sensor pattern.

제 3공정 : 센서패턴 제작 공정(S3)Third process: sensor pattern manufacturing process (S3)

가공된 금속금형은 이형처리를 한 후에, 구리페이스트를 센서패턴의 표면에 도포하고 120℃에서 2시간 정도로 경화시킨다.The processed metal mold is subjected to a release treatment, and then copper paste is applied to the surface of the sensor pattern and cured at 120 ° C. for about 2 hours.

상기 구리페이스트는 150℃에서 완전한 경화가 일어나므로 금속금형에 의해 제작된 센서패턴은 완전히 경화되지 않아 다시 약 30분간 150℃에서 경화시킨다.Since the copper paste is completely cured at 150 ° C., the sensor pattern manufactured by the metal mold is not completely cured and then cured at 150 ° C. for about 30 minutes.

제 4공정 : 센서패턴의 연마 공정(S4)Fourth Step: Polishing Sensor Pattern (S4)

도 5에 도시된 금속금형으로부터 분리된 센서패턴은 불균일한 표면을 갖으므로 그대로 사용할 수 없고, 불균일한 면을 균일한 면이 되어 적합한 높이를 갖도록 연삭가공한다.The sensor pattern separated from the metal mold shown in FIG. 5 cannot be used as it is because it has an uneven surface, and the non-uniform surface becomes a uniform surface and is ground to have a suitable height.

유리재질의 베이스 기판위에 묻어있는 이형재는 센서에 나쁜 영향을 미치므로 아세톤등으로 잘 닦아낸다.The release material on the glass base substrate has a bad effect on the sensor, so wipe it off with acetone.

센서패턴의 높이는 높을수록 감도가 좋지만, 과도한 센서패턴의 높이는 수지의 경화에 의한 열 잔류응력때문에 수지와 접촉하는 유리재질의 베이스 기판을 파괴하여 센서로써의 역할을 할 수가 없으므로 가장 적합한 센서패턴의 높이를 결정하여야 한다.The higher the height of the sensor pattern, the better the sensitivity. However, the excessive height of the sensor pattern is the most suitable sensor pattern because it cannot act as a sensor by destroying the glass base substrate in contact with the resin due to thermal residual stress caused by curing of the resin. Should be determined.

다음과 같은 실시예를 통해 센서패턴의 높이를 결정하였다.The height of the sensor pattern was determined through the following examples.

실시예Example

본 발명은 최적의 센서패턴의 높이를 결정하기 위해서는 유한요소 프로그램인 Ansys를 이용한 열응력 해석을 하였다.In the present invention, thermal stress analysis using an finite element program, Ansys, was performed to determine the optimal height of the sensor pattern.

도 6은 센서주위의 열 잔류응력을 계산하기 위한 유한요소모델을 도시한 도면으로 3차원 고체요소를 사용하였다. 경화전후의 온도차를 180℃로 가정하였으며, 센서패턴의 높이를 35m, 100m, 150m, 200m, 250m로 변화시켜 센서주위의 열 잔류 응력을 해석하였다. 도 7은 센서패턴의 높이에 따른 기저 부분과 센서패턴 부분에 작용하는 최대응력값을 나타내었다. 실험에 사용한 구리 페이스트 패턴의 전단강도는 약 15MPa로, 도 7에 도시된 바와 같이 파괴강도값 이하로 나타났다. 그러나, 기저인 유리에 작용하는 응력은 센서패턴의 높이가 250m가 되면 유리의 파괴강도인 35MPa로 되어 유리가 파괴되는 것으로 나타났다. 이상과 같은 유한요소해석의 결과를 검증하기 위하여 센서패턴의 높이를 변화시켜가며 센서패턴 위에서 BMI 수지를 경화시켰다. 이때 BMI 수지의 경화온도는 220℃로 선정하였다. 실험결과 센서패턴의 높이가 250m이상이 되면 센서패턴의 파괴가 일어나는 것을 관찰할 수 있었다. 도 8은 BMI 수지의 경화실험 후 센서가 파괴된 모습을 나타낸 사진으로, 유리로 되어있는 기저 부분이 파괴되었음을 볼 수 있다.FIG. 6 illustrates a finite element model for calculating thermal residual stress around a sensor. The temperature difference before and after curing was assumed to be 180 ℃, and the height of the sensor pattern was 35 m, 100 m, 150 m, 200 m, 250 The thermal residual stress around the sensor was analyzed by changing to m. 7 shows the maximum stress values acting on the base portion and the sensor pattern portion according to the height of the sensor pattern. The shear strength of the copper paste pattern used in the experiment was about 15 MPa, which was lower than the fracture strength value as shown in FIG. 7. However, the stress acting on the underlying glass has a height of 250 When m was reached, the glass had a breaking strength of 35 MPa, indicating that the glass was broken. In order to verify the results of the finite element analysis described above, the BMI resin was cured on the sensor pattern by changing the height of the sensor pattern. At this time, the curing temperature of the BMI resin was selected as 220 ℃. Experimental Results The sensor pattern height is 250 Above m, it was observed that the breakage of the sensor pattern occurred. FIG. 8 is a photograph showing a state in which the sensor is broken after the curing test of the BMI resin, and it can be seen that the base portion made of glass is broken.

이상의 결과로부터, 열 잔류응력으로 인한 센서의 파괴를 방지하기 위하여 센서패턴의 높이는 약 200m이하이어야 한다는 결론을 내릴 수 있었다.From the above results, the height of the sensor pattern is about 200 to prevent breakage of the sensor due to thermal residual stress. We could conclude that it should be less than m.

제 5공정 : 고온용 유전센서의 크롬도금 공정(S5)5th process: chrome plating process of high temperature dielectric sensor (S5)

이상과 같이 금속금형에 의해 제작된 고온용 유전센서는 센서패턴이 구리 페이스트로 형성되어 있으므로, 센서 표면이 전기적으로 불균일할 수 있다.As described above, in the high temperature dielectric sensor manufactured by the metal mold, since the sensor pattern is formed of copper paste, the surface of the sensor may be electrically uneven.

이렇게 전기적으로 불균일한 센서 표면을 안정화시키기 위하여 전기 도금법을 이용하여 센서 표면을 금속 코팅하였다.In order to stabilize this electrically non-uniform sensor surface, the sensor surface was metal-coated using the electroplating method.

센서 표면에 전기적 특성이 우수한 크롬 도금층을 형성하기 위한 최적의 조건을 구하기 위해 도 9와 같은 실험 장치를 구성하였다. 사용된 도금액은 표준 도금액으로 조성은 물 1l당 6가 크롬 분말 250g, 크롬 질량의 1%인 황산으로 되어있다. 황산 1g의 부피가 1.84ml 이므로 황산은 질량에 상당하는 부피를 계산하여 스포이드로 첨가해주었다. 사용된 직류 전원 장치로 0∼100V, 0∼20A까지 사용할 수 있다. (+)전극은 불용성인 납을 사용하였으며, (-)전극은 전도성이 높은 구리를 사용하였으며, (-)전극은 전극에 크롬이 석출되지 않도록 도금 부분을 제외하고는 도금액에 닿지 않도록 하였다. 도금액의 온도는 상온 (25℃)이고, 사용 전류를 0.2, 0.4, 0.6, 0.8, 1.0 A로 변화시켜가며 실험하였다. 표 2는 사용 전류에 따른 센서패턴의 저항변화를 실험한 결과를 나타낸 표이다.The experimental apparatus as shown in FIG. 9 was configured to obtain optimum conditions for forming a chromium plating layer having excellent electrical characteristics on the sensor surface. The plating solution used is a standard plating solution, consisting of 250 g of hexavalent chromium powder per liter of water and sulfuric acid with 1% of chromium mass. Since 1 g of sulfuric acid had a volume of 1.84 ml, sulfuric acid was added to the dropper by calculating the volume corresponding to the mass. The DC power supply used can be used from 0 to 100V and 0 to 20A. Insoluble lead was used for the positive electrode, copper was used for the high conductivity, and the negative electrode was not touched with the plating solution except for the plating part so that chromium did not precipitate on the electrode. The temperature of the plating liquid was room temperature (25 ° C.), and the experiment was performed while changing the operating current to 0.2, 0.4, 0.6, 0.8, 1.0 A. Table 2 is a table showing the results of experiments in the resistance change of the sensor pattern according to the current used.

사용전류 (A)Current (A) 센서의 저항Resistance of the sensor 도금전(M Ω)Before plating (M Ω) 도금후(M Ω )After plating (M Ω) 0.20.2 3434 00 0.40.4 3434 20×10-620 × 10-6 0.60.6 3434 42.7542.75 0.80.8 3434 -- 1.01.0 3434 --

표 2에서 보는 바와 같이 사용 전류가 0.2A일 때 전기저항값이 거의 영(Zero)이 되어 전기적 특성이 우수한 것으로 나타났다. 또한 사용전류가 0.8A이상일 경우에는 센서패턴의 균열 발생으로 인해 도금층이 형성되지 않음을 관찰할 수 있었다.As shown in Table 2, when the operating current is 0.2A, the electrical resistance is almost zero, and the electrical characteristics are excellent. In addition, when the use current is more than 0.8A, it could be observed that the plating layer was not formed due to cracking of the sensor pattern.

도 10는 크롬 도금층이 형성된 고온 유전센서의 모습을 나타낸 사진이다.10 is a photograph showing a state of the high temperature dielectric sensor in which the chromium plating layer is formed.

본 발명의 복합재료의 경화도를 측정하기위한 고온용 유전센서의 특성과 효과를 확인하기 위해 다음과 같이 실험예를 통해 평가하였다.In order to confirm the properties and effects of the high temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of the composite material of the present invention was evaluated through the following experimental example.

실험예 1Experimental Example 1

기존의 저온용 유전센서와 본 발명의 고온용 유전센서의 성능을 비교하기 위해 각 실험에 다음과 같은 동일한 조건을 사용하였다.In order to compare the performance of the existing low-temperature dielectric sensor with the high-temperature dielectric sensor of the present invention, the following conditions were used in each experiment.

초기 온도 : 상온(25℃)Initial temperature: Room temperature (25 ℃)

측정회로 : 휘스톤 브리지식 유전회로Measuring circuit: Wheatstone bridge dielectric circuit

유전센서 : 저온용 센서, 고온용 센서, 크롬도금한 고온용 센서Dielectric Sensor: Low Temperature Sensor, High Temperature Sensor, High Temperature Sensor with Chrome Plating

실험용 수지 : BMI수지 0.08g(CIBA-GEIGY사의 Matrimid 5292)Experimental resin: 0.08g of BMI resin (Matrimid 5292 of CIBA-GEIGY)

실험 온도 : 10℃/min 상승시 200℃유지Experiment temperature: 200 ℃ at 10 ℃ / min

실험 시간 : 약 120분Experiment time: about 120 minutes

도 2은 저온 유전센서를 이용하여 BMI(CIBA-GEIGY사의 Matrimid 5292)수지의 소산계수를 측정한 그래프로서, BMI수지의 경화온도는 220℃이다. 측정된 결과에서 볼 수 있듯이 BMI수지는 220℃분위기 하에서 약 3분 후 소산계수가 3.6이상이 되며 약 10분 후 하강함을 볼 수 있다. 하지만 약 10분이 지난 후부터는 소산계수 값이다시 증가되며 불안정한 특성을 나타냄을 볼 수 있다.Figure 2 is a graph measuring the dissipation coefficient of BMI (Matrimid 5292, CIBA-GEIGY) using a low temperature dielectric sensor, the curing temperature of the BMI resin is 220 ℃. As can be seen from the measured results, the BMI resin has a dissipation factor of 3.6 or more after about 3 minutes in a 220 ° C atmosphere and drops after about 10 minutes. However, after about 10 minutes, the dissipation factor is increased again, indicating unstable characteristics.

제작된 고온용 유전센서의 특성을 살펴보기 위하여 고온 분위기하에서 장시간 방치하여 센서 자체의 특성을 고찰하였다. 도11은 고온 유전센서를 250℃분위기 하에서 장시간 방치한 결과를 나타낸 그림으로, 소산계수가 거의 영으로 일정한 값을 가짐을 볼 수 있다.In order to investigate the characteristics of the fabricated high temperature dielectric sensor, the characteristics of the sensor itself were investigated by leaving it in a high temperature atmosphere for a long time. 11 is a diagram showing the result of leaving the high temperature dielectric sensor in a 250 ° C. atmosphere for a long time, and it can be seen that the dissipation coefficient has a constant value of almost zero.

고온용 수지인 BMI 수지의 경화모니터링을 수행하여 고온 유전센서의 적용 가능성을 검토해 보았다. 경화온도는 저온 유전센서의 실험과 동일한 200℃로 장시간 유지하였다. 도 12는 BMI 수지의 경화모니터링 결과를 나타낸 그림으로, 약 3분 후에 소산계수값이 최대에 도달함을 볼 수 있다. 또한 약 10분 후부터는 소산계수값이 일정한 값을 가지므로 경화가 완료되었음을 볼 수 있다. 이상의 결과로부터, 제작된 고온 유전센서는 고온 복합재료의 경화모니터링에 적용될 수 있음을 확인할 수 있었다.Curing monitoring of high temperature resin, BMI resin, was carried out to examine the applicability of high temperature dielectric sensor. Curing temperature was maintained for a long time at 200 ℃ same as the experiment of low temperature dielectric sensor. 12 is a diagram showing the results of curing monitoring of the BMI resin, it can be seen that the dissipation factor value reaches a maximum after about 3 minutes. Also, after about 10 minutes, the dissipation coefficient value has a constant value, so it can be seen that the curing is completed. From the above results, it was confirmed that the fabricated high temperature dielectric sensor can be applied to the curing monitoring of the high temperature composite material.

이상의 실험 결과에서 고온용 유전센서는 고온에서 경화되는 수지의 경화모니터링에 전혀 영향을 미치지 않아 기타 수지의 특성연구나 복합재료의 성형제품 제조에 유용하게 쓰일 수 있다.As a result of the above experiment, the high temperature dielectric sensor has no influence on the curing monitoring of the resin cured at high temperature, so it can be useful for the study of the properties of other resins and the manufacture of molded products of composite materials.

이상과 같이 제조된 유전센서로부터 나온 신호를 정밀하게 측정하기 위해 본 발명은 휘스톤 브리지식 측정회로를 구성하여 종래의 측정회로와 그 성능을 비교ㆍ평가하였다.In order to precisely measure the signal from the dielectric sensor manufactured as described above, the present invention configures a Wheatstone bridge type measurement circuit, and compares and evaluates the performance of the conventional measurement circuit.

먼저, 등가 저항 Rm의 측정 범위를 무한대에서 MΩ사이로 축소하여 측정의 정밀도를 향상시키기 위해 도 14와 같은 휘스톤 브리지식 회로를 구성하였다. 브리지식 회로는 크게 평형 브리지 방법과 불평형 브리지 방법으로 나누어지고, 본 발명은 시간에 따라 변화되는 센서부분의 저항과 콘덴서값을 측정해야 되므로 불평형 브리지 회로를 사용하였다.First, in order to improve the accuracy of the measurement by reducing the measurement range of the equivalent resistance R m from infinity to MΩ, a Wheatstone bridge type circuit as shown in FIG. 14 was constructed. The bridge circuit is largely divided into a balanced bridge method and an unbalanced bridge method, and the present invention uses an unbalanced bridge circuit because it is necessary to measure the resistance and capacitor values of the sensor portion that change over time.

미리 정해진 저항 R2, R3, R4의 임피이던스 Z2, Z3, Z4와 복합재인 수지의 임피이던스 Zm을 구하면,Predetermined resistance R 2, R 3, R 4 impedance Z 2, Z 3, Z 4 ask the impedance Z m of the resin and the composite of,

(3) (3)

이다. 수지에 걸리는 전압은 다음과 같이 표현된다.to be. The voltage applied to the resin is expressed as follows.

(4) (4)

여기서,here,

(5) (5)

로 센서부분의 출력전압에서 반대쪽의 출력전압을 뺀 전압의 차이이다. 위 식을 정리하면 다음과 같다.This is the difference between the output voltage of the sensor part minus the output voltage on the opposite side. The above equation can be summarized as follows.

(6) (6)

식 (6)에서 Vi와 Vm의 전압비와 위상차를 구하면Voltage ratio between V i and V m in equation (6) And phase difference If you find

(7) (7)

(8) (8)

이다. 이때, R = R2= R4라 놓고, 식 (7)과 (8)를 식 (6)에 대입하여 정리하면 다음과 같다.to be. At this time, if R = R 2 = R 4 , and substituted by the formula (7) and (8) in the formula (6) as follows.

(9) (9)

A= A =

B = B =

C = C =

따라서, 위 식 (9)를 풀이하면 수지의 등가저항 Rm과 등가 콘덴서 Cm값은 다음과 같다.Therefore, solving equation (9) above, the equivalent resistance R m and equivalent capacitor C m values of the resin are as follows.

(10) 10

(11) (11)

수지의 소산계수 D_f는 정의에 의해The dissipation factor D_f of the resin is defined by

(12) (12)

이다. 따라서 위 식(10)과 (11)을 식 (12)에 대입하면 복합재료 수지의 소산계수를 측정할 수 있다.to be. Therefore, by substituting Equations (10) and (11) into Equation (12), the dissipation coefficient of the composite resin can be measured.

이상과 같은 휘스톤 브리지식 회로에서 측정의 정밀도를 향상시키기 위해 저항 R과 R3을 적절히 선정하여야 한다. 본 발명에서는R = R2= R4= 10MΩ로, R3= 1M Ω으로 선정하여 회로를 구성하였다.In the Wheatstone bridge circuit as described above, the resistors R and R 3 should be selected properly to improve the accuracy of the measurement. In the present invention, the circuit was configured by selecting R = R 2 = R 4 = 10 MΩ and R 3 = 1 MΩ.

다음으로, 복합재료의 소산계수를 측정하기 위해서는 식 (10)과(11)에서 보는 바와 같이 전압비Vr과 위상차를 측정하여야 한다.Next, in order to measure the dissipation coefficient of the composite material, as shown in equations (10) and (11), the voltage ratio V r and the phase difference Should be measured.

도 15은 전압비Vr과 위상차를 측정하기 위한 회로 구성도이다.15 is a voltage difference V r and a phase difference A circuit configuration diagram for measuring.

도 15에 도시된 바와 같이, Vm, Vi의 값을 측정하기 위하여 본 발명의 고온용 유전센서(8)를 부착한 휘스톤 브리지식 회로와, 미분 증폭회로(11)와 다수의 버퍼(9, 10, 12, 14)를 연결하고, 위상차 보상기(15)와 전압 보상기(13)를 설치하였고, 위상차()를 측정하기 위해서 두 개의 비교측정기(17, 18)와, 상기 두 개의 비교측정기(17, 18)에 병렬접속된 변환기(16, 19)와, 배타적 논리합 게이트(20)와, 상기 배타적 논리합 게이트(20)에 병렬접속된 변환기(21)를 포함하여 구성하였다.As shown in FIG. 15, a Wheatstone bridge circuit with a high temperature dielectric sensor 8 of the present invention, a differential amplifier circuit 11, and a plurality of buffers for measuring the values of V m and V i 9, 10, 12, and 14, the phase difference compensator 15 and the voltage compensator 13 were installed, and the phase difference ( Two comparators 17 and 18, a transducer 16 and 19 connected in parallel to the two comparators 17 and 18, an exclusive OR gate 20 and the exclusive OR gate And a converter 21 connected in parallel with (20).

상기 비교측정기(17, 18)는 입력교류신호가 양의 전압일 때는 +5V로, 음의 전압일 때는 0 V로 츨력시켜 사각파형을 만들어주는 역할을 하고, 상기 두 개의 비교측정기(17, 18)를 거친 Vi와 Vm의 사각파형은 배타적 논리합 게이트(20)를 통과한다. 이 신호를 RMS값으로 변환시키면 측정하고자 하는 위상차를 구할 수 있다. RMS의 정의식은 다음과 같다.The comparators 17 and 18 output square signals by + 5V when the input AC signal is positive voltage and 0 V when the negative voltage is negative, and the two comparators 17 and 18 function. Square wave of V i and V m passes through the exclusive OR gate 20. If you convert this signal to an RMS value, the phase difference Can be obtained. The defining formula of RMS is as follows.

Vrms (13)V rms (13)

위 식(13)는 배타적 논리합 게이트(Exclusive OR gate)를 통과한 사각파형의 특성, 즉 위상차가 있는 부분만 사각파형으로 검출되는 특성때문에 다음식으로 변환된다.Equation (13) is converted to the following equation because of the characteristic of the square wave passing through the exclusive OR gate, that is, only the phase difference is detected as the square wave.

Vrms (14) 위 식(14)에서 위상차의 식을 유도해 내면V rms (14) Phase difference in equation (14) If we derive the equation

(15) (15)

가 된다.Becomes

도 16은 복합재료 수지의 소산계수를 측정하기 위하여 제작된 휘스톤 브리지식 회로를 나타낸 사진이다.FIG. 16 is a photograph showing a Wheatstone bridge type circuit manufactured to measure the dissipation coefficient of a composite resin.

본 발명의 복합재료의 경화도를 측정하기 위한 휘스톤 브리지식 유전회로의 특성과 효과를 확인하기 위해 다음과 같이 실험예를 통해 평가하였다.In order to confirm the characteristics and effects of the Wheatstone bridge dielectric circuit for measuring the degree of cure of the composite material of the present invention was evaluated through the following experimental example.

실험예 2Experimental Example 2

소산계수 측정회로에서 측정의 정밀도를 향상시킬수 있도록 최적의 입력 주파수와 입력전압을 선택하여야 한다.The optimum input frequency and input voltage should be selected to improve the accuracy of the measurement in the dissipation factor measurement circuit.

Direct Method식 회로는 주파수 1kHz, 전압 1V를 사용하였으며, 휘스톤 브리지식 회로는 실험을 통해 가장 적합한 값을 선택하였다.The frequency of 1kHz and the voltage of 1V were used for the direct method circuit, and the most suitable value was selected through the experiment for the Wheatstone bridge circuit.

본 발명은 입력주파수를 400Hz로, 입력 전압을 3V로 선택하였다. 미리 측정되어진 5개의 저항과 콘덴서를 사용하여 Direct Method식 회로와 휘스톤 브리지식 회로의 성능을 상호 비교 평가하였고, 도 17은 저항의 오차를 비교한 그래프로, Direct Method식 회로는 약 ±1%의 오차를 나타내는 반면, 휘스톤 브리지식 회로는 ±0.5%의 오차를 나타내었다.In the present invention, an input frequency of 400 Hz and an input voltage of 3 V are selected. The performance of the direct method circuit and the Wheatstone bridge circuit was compared and evaluated using five previously measured resistors and capacitors. FIG. 17 is a graph comparing the resistance error. The direct method circuit is about ± 1%. While the Wheatstone bridged circuit exhibited an error of ± 0.5%.

한편, 도 18은 콘덴서의 오차를 측정한 그래프로서, Direct Method식 회로의 오차는 ±2%, 휘스톤 브리지식 회로의 오차는 ±1%로 나타났다. 따라서 휘스톤 브리지식 회로는 최대 오차가 ±1%이하이므로, 기존의 Direct Method식 회로보다 우수한 정밀도를 가짐을 알 수 있었다.On the other hand, Figure 18 is a graph measuring the error of the capacitor, the error of the direct method circuit is ± 2%, the error of the Wheatstone bridge circuit is ± 1%. Therefore, the Wheatstone bridge circuit has a maximum error of ± 1% or less, and thus has better precision than the conventional direct method circuit.

이상의 실시예와 실험예를 통하여 확인한 바와 같이, 본 발명의 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서와 휘스톤 브리지식 회로는 고온에서도 안정적인 구조를 가지며, 전기적 부도체를 베이스 기판의 재료로 활용함으로써, 고온에서도 기저의 변화를 일으키지않고 전기적인 특성이 좋아 고온에서 경화되는 복합재료의 경화도를 측정하여 제품의 품질을 향상시키는 효과와, 센서의 표면에 크롬도금을 함으로써 소산계수의 값을 향상시켜 감도를 향상시키는 효과와, 측정오차를 최대 1%이하로 감소시켜 보다 정확한 측정을 할 수 있는 효과가 있으므로 유전센서 제조산업상 매우 유용한 발명인 것이다.As confirmed through the above examples and experimental examples, the high-temperature dielectric sensor and the Wheatstone bridge circuit for measuring the degree of cure of the composite material of the present invention have a stable structure even at high temperature, and the electrical insulator is used as the base substrate material. This improves the quality of the product by measuring the degree of cure of the composite material cured at high temperature without causing any change in the base even at high temperature, and improves the value of the dissipation coefficient by chromium plating on the surface of the sensor. This is a very useful invention in the field of dielectric sensor manufacturing because it has the effect of improving the sensitivity and the effect of reducing the measurement error to a maximum of 1% or less to make more accurate measurements.

Claims (5)

유리재질의 베이스 기판을 제작하는 베이스 기판 제작 공정(S1)과; 센서패턴을 제작하기 위한 금속금형 제작 공정(S2)과; 상기 금속금형을 이용한 센서패턴 제작공정(S3)과; 제작된 센서패턴의 연마 공정(S4)와; 완성된 고온용 유전센서의 크롬도금 공정(S5)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서의 제조방법.A base substrate fabrication process (S1) for fabricating a glass substrate base substrate; A metal mold fabrication process (S2) for fabricating the sensor pattern; A sensor pattern manufacturing process (S3) using the metal mold; Polishing process (S4) of the produced sensor pattern; Method for producing a high-temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of the composite material, characterized in that the chromium plating process (S5) of the completed high-temperature dielectric sensor. 유리재질의 베이스 기판과 상기 베이스 기판위에 고착된 구리페이스트로 구성된 것을 특징으로하는 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서.A high temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of a composite material, characterized in that consisting of a glass base substrate and a copper paste fixed on the base substrate. 제 2 항에 있어서, 상기 고온용 유전센서의 표면에 크롬도금처리한 것을 특징으로 하는 복합재료의 경화도 측정을 위한 고온용 유전센서.The high temperature dielectric sensor for measuring the degree of cure of a composite material according to claim 2, wherein the surface of the high temperature dielectric sensor is chromium plated. 고온용 유전센서(8)를 부착한 휘스톤 브리지식 회로와, 미분 증폭회로(11)와 다수의 버퍼(9, 10, 12, 14)를 연결하고, 위상차 보상기(15)와 전압 보상기(13)를 설치하고, 위상차()를 측정하기 위해서 두 개의 비교측정기(17, 18)와, 상기 두개의 비교측정기(17, 18)에 병렬접속된 변환기(16, 19)와, 배타적 논리합 게이트 (20)와, 상기 배타적 논리합 게이트(20)에 병렬접속된 변환기(21)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 복합재료의 경화도 측정을 위한 휘스톤 브리지식 유전회로.A Wheatstone bridge circuit with a high temperature dielectric sensor 8, a differential amplifier circuit 11 and a plurality of buffers 9, 10, 12, 14 are connected, and a phase difference compensator 15 and a voltage compensator 13 ), And the phase difference ( Two comparators 17 and 18, a transducer 16 and 19 connected in parallel to the two comparators 17 and 18, an exclusive OR gate 20 and the exclusive OR gate A Wheatstone bridge type dielectric circuit for measuring the degree of cure of a composite material, comprising a converter 21 connected in parallel to the 20. 제 4 항에 있어서, 상기 휘스톤 브리지식 회로는 R = R2= R4= 10 MΩ 으로, R3= 1 MΩ으로 선정하여 회로로 이루어진 것을 특징으로 하는 복합재료의 경화도 측정을 위한 휘스톤 브리지식 유전회로.5. The Wheatstone for measuring the degree of cure of the composite material according to claim 4, wherein the Wheatstone bridge circuit is composed of a circuit in which R = R 2 = R 4 = 10 MΩ and R 3 = 1 MΩ. Bridged dielectric circuit.
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