KR20020040962A - 수용성 실리콘 이형지의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 수용성 실리콘 이형지의 제조방법에 관한 것으로, 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물(C)을 바드(110)에 투입하는 투입단계(100)와, 상기 바드(110)로 권취축(210)에 감겨진 기재지류(600)를 이송시키는 이송단계(200)와, 상기 기재지류(600)가 바드(110)에 보관중인 혼합물(C)을 균일한 두께로 도포하여 피막층을 형성하는 피막층 형성단계(300)와, 상기 피막층이 형성된 기재지류(600)를 80℃∼90℃의 온도의 건조로(410)를 통과시키면서 10초∼20초 동안 건조시키는 건조단계(400)와, 상기 건조단계(400)에서 이형층(610)이 형성된 기재지류(600)를 권취로울러(510)에 권취시키는 배출단계(500)를 거쳐 이형지가 제조됨으로서, 상기 기재지류(600)의 외측면에 이형층(610)을 갖는 이형지를 제조시, 수용성 실리콘의 건조온도가 80℃∼90℃로 충분한 가열경화가 이루어지게 됨으로서, 실리콘 수지와 에멀젼 촉매인 유기 금속계 화합물(ORGAND METALLIC)의 다부가반응(POLADDITON), 가교제(CROSS-LINK)에 의한 가교화 탄성체의 코팅층을 형성하여 완전한 이형층(610)을 형성하게 된다.
Description
본 발명은 수용성 실리콘 이형지의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 더 상세하게는 이형지의 기재가 되는 지류의 일면 또는 양면에 수용성 실리콘계 수용액이 균일하게 도포되도록 하는 수용성 실리콘 이형지의 제조방법에 관한 것이다.
종래 실리콘 이형지의 제조방법은 이형지의 기재가 되는 지류의 일측 표면에 폴리에틸렌(PE)수지를 코팅하고, 상기 폴리에틸렌(PE)수지층의 상부에는 용제성 실리콘층을 코팅처리하고 있다.
그러나 이러한 종래 실리콘 이형지의 제조방법은 다음과 같은 여러 가지 문제점이 있었다.
첫째, 고열을 요구하는 폴리에틸렌(PE)코팅층과 용제성 실리콘코팅층이 적층되게 지류의 일측표면에 형성시켜야 함으로서, 지류의 표면에 코팅층을 형성시 많은 에너지가 필요하였음은 물론 고가의 압출설비를 필요로 하므로 시설투자비가 많이 소요되었다.
둘째, 폴리에틸렌(PE)을 지류의 일측면에 코팅시 고열로 용융 살포하여 도포하게 됨으로서, 작업설비나 공정이 까다로워 생산성이 저하되어 생산원가가 상승되는 원인으로 작용되었다.
셋째, 사용하고 난 이형지를 폐기시 기재지류와 코팅층을 서로 분리하거나 분해시킬 수 없는 관계로 공해성 폐기물이 양산되었다.
따라서 이를 처리하기 위해서는 별도의 소각로 등과 같은 처리설비를 필요로 하게 됨으로서, 사용하고 난 이형지를 그대로 방치한 상태로 폐기시키는 실정이므로 환경을 오염시키게 되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은 상기 종래와 같은 문제점을 해결하기 위해, 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물을 바드에 투입하는 투입단계와, 상기 바드로 권취축에 감겨진 기재지류를 이송시키는 이송단계와, 상기 기재지류가 바드에 보관중인 혼합물을 균일한 두께로 도포하여 피막층을 형성하는 피막층 형성단계와, 상기 피막층이 형성된 기재지류를 80℃∼90℃의 온도의 건조로를 통과시키면서 10초∼20초 동안 건조시키는 건조단계와, 상기 건조단계에서 이형층이 형성된 기재지류를 권취로울러에 건취시키는 배출단계를 거쳐 수용성 실리콘 이형지를 제조함으로서, 기재지류의 표면에 이형층을 형성시에도 별도의 압출라인을 필요로 하지 않게 되어 작업설비나 공정이 단순화됨으로서, 생산성이 향상되고 상기와 같이 제조되어 사용된 이형지를 폐기시, 상기 기재지류에 코팅된 수용성 실리콘의 수지층을 물에 접촉시키는 것에 의해 상기 코팅층이 기재지류로부터 분해 및 분리됨으로서, 상기 기재지류를 재사용할 수 있게 되어 산업폐기물의 발생이 억제되도록 하는 수용성 실리콘 이형지의 제조방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명의 제조방법을 나타낸 단계도
도 2는 본 발명의 구성을 보인 개략도
도 3은 본 발명의 이형지를 보인 확대도
도 4는 본 발명의 다른 실시예를 보인 개략도
도 5는 기재지류의 양면에 이형층이 형성된 상태의 확대도
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 투입단계110 : 바드
210 : 권취축200 : 이송단계
300 : 피막층 형성단계310 : 매쉬도포로울러
320 : 옵셋고무로울러330 : 압동로울러
400 : 건조단계410 : 건조로
500 : 배출단계510 : 권취로울러
600 : 기재지류610 : 이형층
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 그 기술적 구성을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 수용성 실리콘 이형지의 제조방법은 도 1 내지 도 3에 도시하고 있는 바와 같이, 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물(C)을 바드(110)에 투입하는 투입단계(100)와,
상기 바드(110)로 권취축(210)에 감겨진 기재지류(600)를 이송시키는 이송단계(200)와,
상기 기재지류(600)가 바드(110)에 보관중인 혼합물(C)을 균일한 두께로 도포하여 피막층을 형성하는 피막층 형성단계(300)와,
상기 피막층이 형성된 기재지류(600)를 80℃∼90℃의 온도의 건조로(410)를 통과시키면서 10초∼20초 동안 건조시키는 건조단계(400)와,
상기 건조단계(400)에서 이형층(610)이 형성된 기재지류(600)를 권취로울러(510)로 권취시키는 배출단계(500)를 거쳐 제조됨을 그 기술적 구성상의 기본 특징으로 한다.
이때, 상기 혼합물(C)에 혼합된 수용성 실리콘 유효성분의 함량이 20% 이하이면 박리성이 저하되어 제대로 이형이 이루어지지 않게 되고, 상기 수용성 실리콘 유효성분의 함량이 40% 이상인 경우에는 고가인 원액의 사용량이 증가되어 생산원가가 상승하게 된다.
이와 같이 구성되는 본 발명은, 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물(C)이 바드(110)의 내부로 투입단계(100)에 투입되고, 상기 바드(110)의 내부로는 권취축(210)에 감겨진 기재지류(600)가 이송단계(200) 및 피막층 형성단계(300)를 거치면서 외측면에 혼합물이 도포되어 상기 기재지류(600)의 표면에 균일한 두께의 피막층이 도포된다.
상기 혼합물에 백금계 촉매를 투입하는 이유는 혼합물이 수용성인데도 낮은 온도에서 건조를 촉진시켜 건조에 따른 온도를 최대한 낮춤과 동시에 건조시간을 단축시키기 위함이다.
상기 피막층 형성단계(300)를 본 발명의 일 실시예로 도시한 도 2는 기재지류(600)가 메쉬로울러(310) 및 옵셋고무로울러(320)와 압동로울러(330)를 통과하면서 바드(110)에 담겨진 혼합물(C)이 기재지류(600)의 표면에 도포되는 그라비아 옵셋코트방식을 나타내었으나, 코마 코트(COMMA COAT)방식, 리버스 코트방식, 에어 나이프 코트방식, 메이어 바 코트방식, 나이프 코트방식 등 기타 공지된 여러 가지 방식에 의해 기재지류(600)의 표면에 피막층을 형성할 수 있으므로 피막층 형성단계의 방식을 한정하지 않는다.
한편, 상기 피막층 형성단계(300)를 거치면서 외측면에 피막층이 형성된 기재지류(600)는 80℃∼90℃ 온도인 건조로(410)를 10초∼20초 동안 통과시키는 건조단계(400)를 거치면서 완전 건조 경화가 이루어짐으로서 기재지류(600)의 일측면에이형층(610)이 형성된다.
상기 건조단계(400)에서 이형층(610)이 형성된 기재지류(600)는 배출단계(500)를 거쳐 권취로울러(510)에 권취된다.
한편, 도 4는 본 발명의 다른 실시예를 도시하고 있는 것으로서, 기재지류(600)가 바드(110)에 담겨진 혼합물(C)에 함침된 상태에서 이송되도록 한 다음 스케이징 로울러(340)를 통과되도록 하여 기재지류(600)의 양면에 도 5와 같이 이형층(610)이 각각 형성되도록 할 수 있게 됨을 밝혀 둔다.
따라서 이러한 본 발명은 기재지류(600)의 외측면에 이형층(610)을 갖는 이형지를 제조시, 수용성 실리콘의 건조온도가 100℃∼150℃로 충분한 가열경화가 이루어지게 됨으로서, 실리콘 수지와 백금계 촉매의 다부가반응(POLADDITON), 가교제(CROSS-LINK)에 의한 가교화 탄성체의 코팅층을 형성하여 완전한 이형층(610)을 형성하게 된다.
또한 본 발명은 기재지류(600)의 표면에 이형층(610)을 형성시에도 별도의 압출라인을 필요로 하지 않게 되어 작업설비나 공정이 단순화됨으로서, 생산성이 향상되도록 하는 효과가 있다.
한편, 상기와 같이 제조되어 사용된 이형지를 폐기시, 상기 기재지류에 코팅된 수지용 실리콘의 수지층을 물에 접촉시키는 것에 의해 상기 코팅층이 기재지류로부터 분해 및 분리됨으로서, 상기 기재지류를 재사용할 수 있게 되어 산업폐기물의 발생이 억제되도록 하는 효과도 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물을 바드에 투입하는 투입단계와, 상기 바드로 권취축에 감겨진 기재지류를 이송시키는 이송단계와, 상기 기재지류가 바드에 보관중인 혼합물을 균일한 두께로 도포하여 피막층을 형성하는 피막층 형성단계와, 상기 피막층이 형성된 기재지류를 80℃∼90℃의 온도의 건조로를 통과시키면서 10초∼20초 동안 건조시키는 건조단계와, 상기 건조단계에서 이형층이 형성된 기재지류를 권취로울러에 건취시키는 배출단계를 거쳐 수지형 실리콘 이형지를 제조함으로서, 기재지류의 표면에 이형층을 형성시에도 별도의 압출라인을 필요로 하지 않게 되어 작업설비나 공정이 단순화됨으로서, 생산성이 향상되고, 상기와 같이 제조되어 사용된 이형지를 폐기시, 상기 기재지류에 코팅된 수지용 실리콘의 수지층을 물에 접촉시키는 것에 의해 상기 코팅층이 기재지류로부터 분해 및 분리됨으로서, 상기 기재지류를 재사용할 수 있게 되어 산업폐기물의 발생이 억제되도록 하는 매우 유용한 발명이다.
Claims (2)
- 물 800∼900중량%에 수용성 실리콘 유효성분 20∼40%인 원액을 5∼10중량% 혼합한 다음 여기에 백금계 촉매 0.8∼1.5중량%와 폴리디메칠실리콘 8∼10중량%를 혼합한 혼합물(C)을 바드(110)에 투입하는 투입단계(100)와, 상기 바드(110)로 권취축(210)에 감겨진 기재지류(600)를 이송시키는 이송단계(200)와, 상기 기재지류(600)가 바드(110)에 보관중인 혼합물(C)을 균일한 두께로 도포하여 피막층을 형성하는 피막층 형성단계(300)와, 상기 피막층이 형성된 기재지류(600)를 80℃∼90℃의 온도의 건조로(410)를 통과시키면서 10초∼20초 동안 건조시키는 건조단계(400)와, 상기 건조단계(400)에서 이형층(610)이 형성된 기재지류(600)를 권취로울러(510)에 권취시키는 배출단계(500)를 거쳐 제조됨을 특징으로 하는 수용성 실리콘 이형지의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 기재지류(600)가 바드(110)의 내부에 투입되어 있는 혼합물에 완전히 함침된 상태로 이송됨을 특징으로 하는 수용성 실리콘 이형지의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2000-0070667A KR100412245B1 (ko) | 2000-11-25 | 2000-11-25 | 수용성 실리콘 이형지의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2000-0070667A KR100412245B1 (ko) | 2000-11-25 | 2000-11-25 | 수용성 실리콘 이형지의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020040962A true KR20020040962A (ko) | 2002-05-31 |
KR100412245B1 KR100412245B1 (ko) | 2003-12-31 |
Family
ID=19701460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2000-0070667A KR100412245B1 (ko) | 2000-11-25 | 2000-11-25 | 수용성 실리콘 이형지의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100412245B1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102487448B1 (ko) | 2022-11-15 | 2023-01-11 | (주)오성기업 | 이형지 엣지 코팅액 스크래퍼 장치를 구비하는 이형지 제조장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2000
- 2000-11-25 KR KR10-2000-0070667A patent/KR100412245B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100412245B1 (ko) | 2003-12-31 |
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