KR20020035754A - 산 부식 저항성이 개선된 코팅 조성물 - Google Patents
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- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 50
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 41
- -1 C1-12 alkyl methacrylate Chemical compound 0.000 claims abstract description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 19
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 16
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 10
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 10
- 239000013638 trimer Substances 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 claims description 7
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 6
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 6
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 claims description 5
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 claims description 4
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical group OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BJSBGAIKEORPFG-UHFFFAOYSA-N [[6-amino-1,2,3,4-tetramethoxy-4-(methoxyamino)-1,3,5-triazin-2-yl]-methoxyamino]methanol Chemical compound CONC1(N(C(N(C(=N1)N)OC)(N(CO)OC)OC)OC)OC BJSBGAIKEORPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 8
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N aminomethyl propanol Chemical compound CC(C)(N)CO CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000326 ultraviolet stabilizing agent Substances 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound OCN(CO)C1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- IPZIVCLZBFDXTA-UHFFFAOYSA-N ethyl n-prop-2-enoylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC(=O)C=C IPZIVCLZBFDXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- APAUNQLFVGBQQW-UHFFFAOYSA-N (1,2,2-trimethylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C)CCCCC1(C)C APAUNQLFVGBQQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLHPBURJMZXHFZ-UHFFFAOYSA-N (1,2,2-trimethylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CCCCC1(C)OC(=O)C=C CLHPBURJMZXHFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPEMPJFPRCHICU-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C(C)(C)C)CCCCC1 XPEMPJFPRCHICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N (acetyloxy-ethenyl-methylsilyl) acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C=C)OC(C)=O IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWYODXLKONLEM-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NC(CC)CN=C=O WVWYODXLKONLEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDIQKXGPYOGDI-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC(N=C=O)=CC(N=C=O)=C1 PQDIQKXGPYOGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFXYYTWJETZVHG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NC(C)CCN=C=O UFXYYTWJETZVHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- KDLIYVDINLSKGR-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanatophenoxy)benzene Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1OC1=CC=C(N=C=O)C=C1 KDLIYVDINLSKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSHIRTNKIXRXMI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-1,3-oxazolidine Chemical compound CC1(C)NCCO1 VSHIRTNKIXRXMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHEDBVUTTQXGSJ-UHFFFAOYSA-M 2-[bis(2-oxidoethyl)amino]ethanolate;titanium(4+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Ti+4].[O-]CCN(CC[O-])CC[O-] IHEDBVUTTQXGSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilane Chemical compound COCCO[SiH3] WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLTLLZLEJKRETK-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n-pentamethoxy-6-n-methyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CON(C)C1=NC(N(OC)OC)=NC(N(OC)OC)=N1 DLTLLZLEJKRETK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHRDMNILWGIFBI-UHFFFAOYSA-N 6-diazenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC(N)=NC(N=N)=N1 JHRDMNILWGIFBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N SnO2 Inorganic materials O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis(hydroxymethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound OCNC1=NC(NCO)=NC(NCO)=N1 USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGZKEKMWBGTIB-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(propyl)silyl] acetate Chemical compound CCC[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O DKGZKEKMWBGTIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000809 air pollutant Substances 0.000 description 1
- 231100001243 air pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- ZAFAJHDHPYDVCN-UHFFFAOYSA-N butanoic acid;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.CCCC(O)=O ZAFAJHDHPYDVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMUNBMVPYRPETG-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;styrene Chemical compound CCCCOC(C)=O.C=CC1=CC=CC=C1 SMUNBMVPYRPETG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;methanol Chemical compound OC.OC.C1CCCCC1 VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- QSHZUFRQHSINTB-UHFFFAOYSA-L dibutyltin(2+);dibromide Chemical compound CCCC[Sn](Br)(Br)CCCC QSHZUFRQHSINTB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical class O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000398 iron phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K iron(3+) phosphate Chemical compound [Fe+3].[O-]P([O-])([O-])=O WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDYPDLBFDATSCF-UHFFFAOYSA-N nonyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C=C MDYPDLBFDATSCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- MOVRCMBPGBESLI-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxysilicon Chemical compound [Si]OC(=O)C=C MOVRCMBPGBESLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- AJMJSPWGPLXRSJ-UHFFFAOYSA-N silyl but-3-enoate Chemical class [SiH3]OC(=O)CC=C AJMJSPWGPLXRSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical class [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N tetraisopropyl titanate Substances CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical compound C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
본 발명은 착색된 기초 코팅상에 도포하는 투명한 코팅으로서 특히 유용한 코팅 조성물에 관한 것으로서, 상기 투명한 코팅은 자연적인 기후 조건에 노출되었을때 흠집 및 산에 의한 부식에 대해 개선된 저항성을 나타낸다. 상기 투명 코팅은 자동차의 OEM 투명 코팅 또는 재손질 마무리 투명 코팅으로 특히 유용하다. 상기 투명 코팅은 두 성분을 포함한다. 코팅 조성물의 성분 A는 멜라민 및 중합된 단량체 혼합물의 아크릴로실란 중합체를 포함하며, 상기 혼합물에는 알킬 메타크릴레이트, 알킬 아크릴레이트, 시클로지방족 알킬 메타크릴레이트, 시클로지방족 알킬 아크릴레이트, 스티렌 또는 이 단량체들의 임의의 혼합물; 히드록시 알킬 메타크릴레이트, 히드록시 알킬 알크릴레이트 또는 이 단량체들의 임의의 혼합물; 및 모노-에틸렌계 불포화 실란 단량체들이 포함된다. 조성물의 성분 B는 가교제로서 유기 폴리이소시아네이트를 포함한다.
Description
본 발명은 코팅 조성물, 특히 차량의 기초 코팅상에 도포하는 투명 코팅으로 사용되는, 고형분 함량이 높은 투명 코팅 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 경화된 투명 코팅은 현재 사용되는 통상적인 투명 코팅에 비해 개선된 산 부식 저항성을 갖는다.
현재 자동차 및 트럭의 외관에 사용되는 종류의 마무리칠은 착색된 기초 코팅상에 도포하는 투명 코팅을 포함한다. 상기 투명 코팅은 착색된 기초 코팅을 보호하며, 광택을 제공하고 상을 뚜렷하게 하는 것과 같이 전체적인 마무리 외관을 향상시킨다. 통상적인 투명 코팅은 낮은 산 부식 저항성을 갖는 경향이 있다. 투명 코팅이 산성비 및 기타 공기 오염 물질에 노출되었을때 산 부식이 발생한다.
전형적으로, 통상적인 투명 코팅 조성물의 바인더는 EP 0 708 159 A2, EP 0 135 741 및 DE 195 29 124 C1에 개시된 바와 같은 멜라민 성분과 같은 가교제를 함유한다. 멜라민 성분의 양을 증가시키면 일반적으로 산 부식 저항성이 감소하나 투명 코팅의 중요한 성질 중 하나인 흠집에 대한 저항성이 증가한다. 흠집 및 산부식 저항성을 개선하기 위해 사용되어온 아크릴로실란 중합체를 함유하는 투명 코팅 조성물들은 1991. 11. 19자로 허여된 미국특허 제5,066,698호(Hazan et al.), 1996. 7. 2자로 허여된 미국특허 제5,532,027호(Nordstrom et al.) 및 1997. 11. 4자로 허여된 미국특허 제5,684,084호(Lewin et al.)에 개시되어 있다. 그러나 아크릴로실란 중합체류는 투명 코팅 조성물들의 비용을 상당히 증가시킨다. 오늘날까지, 일반적으로 사용되는 투명 코팅 조성물들 중 어느 것도 자동차 OEM(original equipment manufacturing) 투명 코팅 조성물에 요구되는 낮은 비용과 물리적 성질, 특히 산 부식 저항성과의 균형을 갖추지 못했다.
따라서, 산성비에 의한 산 부식 및 물 얼룩에 대한 저항성을 가지며 비용면에서 바람직한 마무리칠을 형성하는 자동차 및 트럭용 OEM 투명 코팅 조성물이 요구된다.
코팅 조성물은 필름 형성 바인더 40 중량% 내지 75 중량% 및 바인더용 휘발성 액체 캐리어 25 중량% 내지 60 중량%를 포함하고(여기에서 모든 중량%는 조성물의 전체 중량을 기준으로 한 것임), 상기 바인더는
a. 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 12인 알킬 메타크릴레이트, 알킬 아크릴레이트, 시클로지방족 알킬 메타크릴레이트, 시클로지방족 알킬 아크릴레이트, 스티렌 또는 이 단량체들의 임의의 혼합물; 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트, 히드록시 알킬 아크릴레이트 또는 이 단량체들의 임의의 혼합물로부터 유래한 히드록시기 함유 단량체들; 및 모노- 에틸렌계 불포화 실란 단량체를 포함하는 단량체 혼합물로부터 유래한 중합된 단량체의 아크릴로실란 중합체 20 중량% 내지 70 중량%(여기에서, 상기 중량%는 바인더 고형분의 중량을 기준으로 한 것이고, 겔 투과 크로마토그래피로 측정한 상기 중합체의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 15,000임),
b. 유기 폴리이소시아네이트 10 중량% 내지 60 중량%(바인더 고형분의 중량을 기준으로 함), 및
c. 멜라민 성분 5 중량% 내지 40 중량%(바인더 고형분의 중량을 기준으로 함)를 포함한다.
전형적인 자동차 또는 트럭의 본체는 강철판 또는 프라스틱 또는 복합재 기재로 제조한다. 강철을 사용하는 경우, 우선 아연 또는 철 인산염과 같은 녹방지 무기 화합물로 처리한 후, 전착법으로 프라이머 코팅을 도포한다. 통상적으로, 이러한 전착 프라이머들은 폴리이소시아네이트로 가교 결합시킨 에폭시 개질 수지들이다. 이같은 전착 프라이머들은 캐쏘드 전착 방법으로 도포한다. 임의로, 프라이머를 일반적으로 스프레이법으로 상기 전착 프라이머상에 도포하여 보다 우수한 외관 및(또는) 프라이머에 대한 기초 코팅의 개선된 접착성을 제공할 수 있다. 이어서 착색 기초 코팅을 도포한다.
전형적인 착색 기초 코팅 조성물은 안료, 폴리우레탄일 수 있는 필름 형성 바인더, 아크릴로우레탄, 아크릴계 중합체 또는 실란 중합체, 및 가교제, 예컨대 아미노플라스트, 알킬화 멜라민 포름알데히드 가교제 또는 폴리이소시아네이트 가교제를 포함한다. 기초 코팅 조성물은 용매 또는 물을 함유하며, 분산액 또는 용액 형태일 수 있다. 일반적으로 기초 코팅에 사용되는 안료에는 알루미늄 플레이크와 같은 금속 플레이크 안료류 또는 펄 플레이크 안료류가 포함된다.
전형적으로는 기초 코팅이 완전히 경화되기 전에 투명 코팅을 기초 코팅 위에 도포하고(소위 wet on wet 프로세스), 이어서 기초 코팅과 투명 코팅을 대개 100℃ 내지 150℃ 에서 45 내지 15분간 베이킹(baking)하여 완전히 경화 시킨다. 기초 코팅 및 투명 코팅의 건조 코팅 두께는 각각 바람직하게는 2.5 내지 75 마이크론 및 25 내지 100 마이크론 범위이다.
본 발명의 투명 코팅 조성물은 조성물의 총 중량을 기준으로 40 중량% 내지 75 중량%의 필름 형성 바인더 및 25 중량% 내지 60 중량%의 휘발성 유기 액체 캐리어를 포함하며, 상기 휘발성 유기 액체 캐리어는 바인더의 용제로서, 대개 35℃ 이상에서 휘발한다. 또한 투명 코팅은 분산액 형태일 수 있다. 투명 코팅 조성물의 필름 형성 바인더는 반응성 실란 및 히드록실기를 갖는 아크릴로실란 중합체를 20 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 30 중량%내지 60 중량%, 가장 바람직하게는 35 중량%내지 50 중량%; 유기 폴리이소시아네이트 가교제를 10 중량% 내지 60 중량%, 바람직하게는 15 중량% 내지 40중량%, 가장 바람직하게는 25 중량% 내지 35 중량%; 멜라민 성분을 5 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 10 중량% 내지 35 중량%, 가장 바람직하게는 15 중량% 내지 30 중량% 함유한다. 상기 언급된 모든 중량%는 바인더 고형분의 총 중량을 기준으로 한 것이다. 바람직하게는, 유기 폴리이소시아네이트의 이소시아네이트기 대 아크릴로실란 중합체의히드록시기의 비율은 0.4:1 내지 1.3:1 범위이다.
상기 아크릴로실란 중합체는 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 12인 알킬 메타크릴레이트, 알킬 아크릴레이트, 시클로지방족 알킬 메타크릴레이트, 시클로지방족 알킬 아크릴레이트, 스티렌 및 상기 단량체들의 임의의 혼합물과 같은, 실란을 함유하지 않는 단량체들을 포함한다. 또한 상기 아크릴로실란 중합체는 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트, 히드록시 알킬 아크릴레이트 또는 이 단량체들의 임의의 혼합물과 같은 히드록시기를 함유하는 중합된 단량체 및 1종 이상의 중합된 모노 에틸렌계 불포화 실란 단량체들을 포함한다. 상기 아크릴로실란 중합체의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 15,000, 바람직하게는 3,000 내지 12,000이다.
본 명세서에서 언급되는 모든 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 것이다.
바람직한 아크릴로실란 중합체 중 하나는 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 8인 알킬 메타크릴레이트, 알킬 아크릴레이트, 스티렌 또는 이들의 혼합물과 같은, 실란을 함유하지 않는 단량체 35 중량% 내지 75 중량%; 알킬기 중의 탄소 원자수가 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트 20 중량% 내지 40 중량%; 및 모노-에틸렌계 불포화 실란 함유 단량체 5 중량% 내지 25 중량%의 중합 생성물이다.
전형적으로 유용한, 실란을 함유하지 않는 에틸렌계 불포화 단량체들은 알킬기의 탄소 원자수가 각각 1 내지 12인 알킬 아크릴레이트류, 알킬 메타크릴레이트류, 예컨대 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 프로필 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 펜틸 메타크릴레이트, 헥실 메타크릴레이트, 옥틸 메타크릴레이트, 노닐 메타크릴레이트, 라우릴 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 펜틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 노닐 아크릴레이트 및 라우릴 메타크릴레이트이다. 예컨대 시클로헥실 메타크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 트리메틸시클로헥실 메타크릴레이트, 트리메틸시클로헥실 아크릴레이트, 이소부틸 시클로헥실 메타크릴레이트, t-부틸 시클로헥실 아크릴레이트, t-부틸 시클로헥실 메타크릴레이트, 이소보르닐 메타크릴레이트 및 이소보르닐 아크릴레이트와 같은 시클로지방족 알킬 메타크릴레이트류 및 아크릴레이트류도 사용될 수 있다. 예컨대 벤질 아크릴레이트 및 벤질 메타크릴레이트와 같은 아릴 아크릴레이트 및 아릴 메타크릴레이트도 사용될 수 있다. 상술한 단량체들 중 2종 이상의 혼합물은 목적하는 성질을 갖는 중합체를 제조하는데 유용하다.
경도, 외관 및 흠집 저항성과 같은 목적하는 물리적 성질을 얻기 위해, 알킬 아크릴레이트류 또는 메타크릴레이트류 이외에, 실란을 함유하지 않는 기타 중합가능한 단량체들을 실란 중합체 중에 중합체의 50 중량% 이하의 양으로 사용할 수 있다. 상기 기타 단량체들의 예로는 스티렌, 메틸 스티렌, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴이 있다. 스티렌은 중합체의 중량을 기준으로 0 중량% 내지 50 중량% 범위로 사용할 수 있다.
히드록시 관능성 단량체들을 실란 중합체내로 도입시켜 히드록시 수(hydroxy number)가 20 내지 200, 바람직하게는 80 내지 160, 더욱 바람직하게는 120 내지 150인 중합체를 제조할 수 있다. 전형적으로 유용한 히드록시 관능성 단량체들은 히드록시 알킬 메타크릴레이트류 및 아크릴레이트류, 예컨대 히드록시 에틸 메타크릴레이트, 히드록시 프로필 메타크릴레이트, 히드록시 부틸 메타크릴레이트, 히드록시 이소부틸 메타크릴레이트, 히드록시 에틸 아크릴레이트, 히드록시 프로필 아크릴레이트 및 히드록시 부틸 아크릴레이트이다.
전형적인 통상적인 히드록시 관능성 단량체들은 아크릴산 또는 메타크릴산을 1 중량% 이하로 함유할 수 있다. 중합 반응 동안, 상기 산은 실란 단량체들과 연관된 부반응을 일으켜 아크릴 중합체의 분자량 분포를 넓게 할 수 있고, 이는 코팅 조성물의 고형분 함량, 코팅 조성물의 안정성에 해로운 영향을 미치게 되며 심지어는 공중합 제조과정 동안 겔화를 유발하게 된다. 상기 히드록시 단량체들의 산 함량은 약 0.1 중량%로 제한되는 것이 바람직하다.
아크릴로실란 중합체를 제조하는데 유용하고 적절한 실란 함유 단량체는 하기 구조식을 갖는 실란이다.
상기 식에서, R은 CH3, CH3CH2, CH3O 또는 CH3CH2O이고, R1및 R2는 CH3또는CH3CH2이며, R3은 H, CH3또는 CH3CH2이고, n은 0 또는 1 내지 10의 정수이다. 바람직하게는, R은 CH3O 또는 CH3CH2O이고 n은 1이다.
상기 실란의 전형적인 예로는 아크릴레이트 알콕시 실란류, 예컨대 감마 아크릴옥시프로필트리메톡시 실란 및 메타크릴아토알콕시 실란류, 예컨대 감마-메타크릴옥시프로필트리메톡시 실란 또는 감마 트리메톡시 실릴 프로필 메타크릴레이트, 및 감마 트리메톡시 실릴 프로필 아크릴레이트, 및 감마-메타크릴옥시프로필트리스(2-메톡시에톡시)실란이 있다.
기타 적절한 실란 단량체들은 하기 구조식을 갖는 것들이다.
상기 식에서, R, R1및 R2는 상기 정의한 바와 같고 n은 0 또는 1 내지 10의 정수이다.
상기 실란류의 예로는 비닐알콕시 실란류, 예컨대 비닐트리메톡시 실란, 비닐트리에톡시 실란 및 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란이 있다.
기타 유용한 실란 함유 단량체들로는 아크릴아톡시 실란, 메타크릴아톡시 실란을 포함하는 아크릴옥시실란류 및 비닐아세트옥시 실란류, 예컨대 비닐메틸 디아세트옥시 실란, 아크릴아토프로필 트리아세트옥시 실란, 및 메타크릴아토프로필트리아세트옥시 실란이 있다. 상술한 실란 함유 단량체들의 혼합물 또한 적합하다.
상술한 아크릴로실란 중합체의 성분들에 따라, 본 발명의 코팅 조성물에 유용한 아크릴로실란 중합체의 일 예로서 스티렌 15 중량% 내지 30 중량%, 이소부틸 메타크릴레이트 30 중량% 내지 50 중량%, 히드록시 에틸 메타크릴레이트 15 중량% 내지 30 중량% 및 메타크릴옥시프로필 트리메톡시 실란 15 중량% 내지 30 중량%의 성분들을 함유하는 중합체를 들 수 있다. 상기 모든 퍼센트는 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 한 것이다.
아크릴로실란 중합체를 제조하는데 사용하는 전형적인 중합반응 촉매는 아조 유형 촉매류, 예컨대 아조-비스-이소부티로니트릴, 아세테이트 촉매류, 예컨대 t-부틸 퍼아세테이트, 퍼옥사이드 촉매류, 예컨대 디-t-부틸 퍼옥사이드, 벤조에이트 촉매류, 예컨대 t-부틸 퍼벤조에이트 및 옥토에이트 촉매류, 예컨대 t-부틸 퍼옥토에이트가 있다.
단량체들을 중합하고 코팅 조성물을 제조하는데 사용될 수 있는 전형적인 용매로는 케톤류, 예컨대 메틸 아밀 케톤, 이소부틸 케톤, 메틸 에틸 케톤, 방향족 탄화수소류 용매, 예컨대 톨루엔, 자일렌, Solvesso(등록상표) 100 방향족 용매, 에테르류, 에스테르류, 알코올류, 아세테이트류 및 이들의 임의의 혼합물이 있다.
코팅 조성물은 바인더 고형분의 중량을 기준으로 1 중량% 내지 20 중량%의 폴리에스테르 수지를 포함할 수 있으며, 상기 폴리에스테르 수지는 디카르복실산 또는 무수물, 3개 이상의 반응성 히드록실기를 갖는 폴리올, 디올, 및 시클릭 알코올의 에스테르화 생성물이며 수 평균 분자량은 500 내지 4,000 범위이다. 바람직한 폴리에스테르 수지 중 하나는 아디프산, 트리메틸올 프로판, 헥산디올, 헥사히드로파탈산 무수물 및 시클로헥산 디메탄올의 에스테르화 생성물이다. 또한, 코팅 조성물은 바인더 고형분의 중량을 기준으로 1 중량% 내지 20 중량%의 히드록시 관능성 아크릴계 수지(실란 작용기는 없음)를 함유할 수 있다. 이와 같은 수지는 앞서 언급한 아크릴로실란 수지와 유사하나, 실란 작용기를 갖지 않는다.
통상적인 방향족, 지방족, 시클로지방족, 폴리이소시아네이트류, 3작용성 이소시아네이트 및 폴리올과 디이소시아네이트의 이소시아네이트 관능성 부가물 중 어떠한 것도 본 발명의 신규 코팅 조성물에 사용될 수 있다. 전형적으로 유용한 디이소시아네이트는 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 4,4'-비스페닐렌 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 비스시클로헥실 디이소시아네이트, 테트라메틸렌 자일렌 디이소시아네이트, 에틸 에틸렌 디이소시아네이트, 2,3-디메틸 에틸렌 디이소시아네이트, 1-메틸트리메틸렌 디이소시아네이트, 1,3-시클로펜틸렌 디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 비스-(4-이소시아네이토시클로헥실)-메탄 및 4,4'-디이소시아네이토디페닐 에테르 등이다.
사용 가능한 전형적인 3작용성 이소시아네이트로는 트리페닐메탄 트리이소시아네이트, 1,3,5-벤젠 트리이소시아네이트 및 2,4,6-톨루엔 트리이소시아네이트가 있다. 디이소시아네이트의 3량체 또한 사용될 수 있다. 이들 3량체들은 비우렛류(biurets) 또는 이소시아누레이트류일 수 있다. 이들의 예로는 Desmodur(등록상표) N3300 또는 Tolonate(등록상표) HDT(펜실베니아주 피츠버그에 소재한 바이엘 코포레이션사 제품)라는 상표명으로 판매되고 있는 것들이 있다. 상기 3량체는 또한 이들 3량체를 제조하는 과정에서 생성되는 5량체류, 7량체류 등 고급 올리고머류를 포함한다.
특히 유용한 이소시아누레이트 중 하나는 이소포론 디이소시아네이트의 이소시아누레이트이다.
유기 폴리이소시아네이트와 폴리올로부터 형성된 이소시아네이트 관능성 부가물류도 사용할 수 있다. 앞서 언급한 폴리이소시아네이트류 중 어떠한 것도 폴리올과 함께 사용하여 부가물을 제조할 수 있다. 트리메틸올 알칸류, 특히 트리메틸올 프로판 또는 에탄과 같은 폴리올류를 사용할 수 있다. 유용한 부가물 중 하나는 테트라메틸자일리덴 디이소시아네이트와 트리메틸올 프로판의 반응 생성물이며, 이는 뉴저지주 웨스트 패터슨에 소재한 사이텍 인더스트리스(Cytec Industries Inc.)사에서 Cythane(등록상표) 3160라는 제품명으로 판매하고 있다.
본 발명의 신규한 코팅 조성물에 사용되는 멜라민 성분은 적절한 단량체성 및 중합체성 멜라민류 또는 이들의 혼합물을 포함한다.
사용할 수 있는 단량체성 알콕시 멜라민류는 메탄올, 프로판올, n-부탄올 및 이소부탄올과 같은 1 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 1가 알콜과 반응하는 평균 3개 이상의 메틸올기를 함유하는 저분자량의 멜라민류이고, 이들의 평균 축합도는 2 미만, 바람직하게는 1.1 내지 1.8 범위이다. 축합도가 2 이상인 중합체성 알콕시 멜라민류 또한 적합하다.
적절한 단량체성 멜라민류에는 메틸화, 부틸화, 이소부틸화 멜라민류 및 이들의 혼합물과 같은 고급 알킬화 멜라민류가 포함된다. 보다 구체적으로는, 헥사메틸올 멜라민, 트리메틸올 멜라민, 부분적으로 메틸화된 헥사메틸올 멜라민 및 펜타메톡실 메틸 멜라민이 바람직하다. 부분적으로 메틸화 및 부틸화된 멜라민류들이 더욱 바람직하다.
많은 적절한 멜라민류는 상업적으로 공급된다. 예를 들면, 뉴저지주 웨스트 패터슨에 소재한 사이텍 인더스트리스사는 Cymel (등록상표) 301, Cymel (등록상표) 303, 325, 327, 350 및 370과 같은 메틸화 멜라민류를 공급한다. Cymel (등록상표) 1168과 같은 부분적으로 메틸화 및 부틸화된 멜라민 수지류가 특히 유용하다. 사용할 수 있는 중합체성 멜라민으로는 미저리주 세인트루이스에 소재한 솔루샤 인크(Solutia Inc.)사에서 공급하는 Resimine(등록상표)BMP 5503 또는 사이텍 인더스트리스사에서 공급하는 Cymel(등록상표)1158, 1130 또는 1133과 같은 고급 이미노 멜라민류가 포함된다.
일반적으로 경화 촉매는 바인더의 중량을 기준으로 하여 0.1 중량% 내지 5 중량%의 양으로 코팅 조성물에 사용하며, 아크릴로실란 중합체와 폴리이소시아네이트의 이소시아네이트 모핵 및 멜라민 성분간의 가교 반응에 촉매 작용한다. 블록화 술폰산 촉매 및 알킬 또는 아릴산 인산염 촉매(예컨대, 부틸산 인산염 또는 페닐산 인산염)의 혼합물이 바람직하다. 전형적인 블록화 산 촉매는 아민, 예컨대 아미노 메틸 프로판올 또는 디메틸 옥사졸리딘으로 블록화된 도데실 벤젠 술폰산이다. 블록화 톨루엔 술폰산 또한 사용할 수 있다.
코팅 조성물은 2성분 조성물로서 제공된다. 전형적인 2성분 조성물에서, 아크릴로실란 중합체, 멜라민 성분 및 블록화 산 촉매를 함유하는 성분 A는 코팅 조성물을 도포하기 직전에 폴리이소시아네이트 가교제 및 산 인산염 촉매를 함유하는 성분 B와 혼합한다. 성분 A 및 성분 B의 혼합물은 일반적으로 통상적인 스프레이법 또는 정전기 분사법으로 도포한다.
상기 조성물의 경화 속도를 개선시키는데 사용될 수 있는 기타 촉매들에는 디부틸 틴 디라우레이트, 디부틸 틴 디아세테이트, 디부틸 틴 디클로라이드, 디부틸 틴 디브로마이드, 트리페닐 보론, 테트라이소프로필 티타네이트, 트리에탄올아민 티타네이트 킬레이트, 디부틸 틴 디옥사이드, 디부틸 틴 디옥토에이트, 틴 옥토에이트, 알루미늄 티타네이트, 알루미늄 킬레이트류, 지르코늄 킬레이트 및 당업자에게 알려진 기타 촉매 또는 이들의 혼합물이 포함된다. 3차 아민류 및 산류 또는 이들의 조합 또한 실란 결합을 촉매하는데 유용하다. 미국특허 제4,923,945호 컬럼 15 내지 컬럼 17에 개시된 기타 실란 경화 촉매들은 본 명세서에 참고로 포함된다.
투명 코팅의 내후성을 개선시키기 위하여, 자외선 안정화제 또는 자외선 안정화제의 조합을 바인더의 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 10 중량%의 양으로 투명 코팅 조성물에 첨가할 수 있다. 이러한 안정화제에는 자외선 흡수제, 차단제, 퀀칭제(quenchers) 및 특정 입체장애 아민 광안정화제가 포함된다. 또한, 산화방지제를 바인더의 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 5 중량%의 양으로 첨가할 수 있다.
전형적인 유용한 자외선 안정화제에는 벤조페논류, 트리아졸류, 트리아진류, 벤조에이트류, 입체장애 아민류 및 이들의 혼합물이 포함된다. 자외선 안정화제의특정 예들은 미국특허 제4,591,533호에 개시되어 있으며, 상기 특허의 전체 개시 내용은 본 명세서에 참고로 도입한다. 우수한 내구성을 위하여, Tinuvin(등록상표) 1130, 384 및 123(입체장애 아민 광안정화제)의 블렌드가 바람직하며, 이들 모두는 뉴욕주 테리타운에 소재한 시바 스페셜티 케미컬스사로부터 상업적으로 입수 가능하다.
또한 투명 코팅 조성물은 유동 조절제, 예컨대 Resiflow(등록상표)S(폴리부틸아크릴레이트), BYK(등록상표)320 및 325(고분자량 폴리아크릴레이트류) 및 레올로지 조절제(예컨대 훈증 실리카)와 같은 기타 통상적인 조성물 첨가제들을 포함할 수 있다.
상술한 통상적인 용매 및 희석제들은 상술한 투명 코팅 조성물의 중합체를 분산 또는 희석시키는데 사용된다.
상기 투명 코팅 조성물과 함께 사용되는 전형적인 기초 코팅 조성물은 필름 형성 바인더로서, 폴리우레탄, 아크릴로우레탄, 실란 수지, 아크릴계 수지 또는 폴리에스테르 수지 또는 앞서 언급한 성분들의 혼합물 및 가교제, 예컨대 폴리이소시아네이트 또는 알킬화 멜라민 수지를 포함한다. 상기 기초 코팅 조성물은 물 또는 용매를 기재로 하는 용액 또는 분산액일 수 있다. 기초 코팅 조성물은 예컨대 알루미늄 플레이크와 같은 금속 플레이크 안료를 포함하는 통상적인 안료를 함유할 수 있다.
기초 코팅 조성물 및 투명 코팅 조성물 모두는 스프레이, 정전기 스프레이, 디핑, 브러싱 및 플로우 코팅과 같은 통상적인 기술로 도포할 수 있다.
실시예에서 사용된 시험 절차
20°광택도- ASTM D523 시험 방법 - 적어도 80 등급이 허용되는 최소값이다.
DOI-상 명확도- ASTM D5767 시험 방법 - 적어도 80 등급이 허용되는 최소값이다.
경도- 투콘(Tukon) 경도 - ASTM D1474 시험 방법.
크록미터(Crockmeter) - 건조 흠집 저항성
패널의 투명 코팅은 미저리주 캔자스 시티에 소재한 파울트레스 스타치/본 아미 코포레이션(Faultless Startch/Bon Ami Corporation)사에서 공급하는 본 아미(Bon Ami) 연마제의 얇은 층으로 코팅하였다. 이어서 상기 패널들을 녹색 펠트로 감싼 A.A.T.C.C. Crockmeter( 모델 CM-1, 일리노이주 시카고에 소재한 아틀라스 일렉트릭 디바이스 코포레이션사 제품)의 핑거팁(fingertip)에 대해 10회 2중으로 마찰시켜 흠집 손상에 대한 시험을 수행하였다. 건조 흠집 저항성은 코팅된 패널의 손상된 영역 대 손상되지 않은 영역의 20°광택도를 측정하여 광택도 유지의 백분율로 기록하였다.
크록미터(Crockmeter) - 습윤 흠집 저항성
본 아미(Bon Ami) 연마제 대신 습윤 알루미나 슬러리를 사용한 점을 제외하고는 상기와 동일한 방법을 사용하였다. 알루미나 슬러리는 탈이온수 294부, ASE-60(등록상표) 농후제 21부, 아미노 메틸 프로판올의 AMP 95% 수용액 25부 및 산화 알루미늄(120# grit) 7부로 이루어져 있었다.
산 부식 저항성 시험
흑색 수성 폴리에스테르 개질 아크릴계 멜라민 기초 코팅으로 코팅된 10.16 × 30.48 ㎝ (4×12 인치) 크기의 전처리 강철 패널에 실시예에서 제조한 투명 코팅 조성물을 분사하고 140℃에서 30분간 경화시켰다. 결과로 얻은 패널을 그래디언트의 최저점이 40℃이고 그래디언트의 정점이 90℃인 온도 그래디언트로 프로그램된 비크 그래디언트(Byk Gradient) 오븐에서 시험하였다. 0.1N 황산 용액 방울을 5℃ 간격으로 패널위에 떨어뜨렸다. 상기 패널을 그래디언트 오븐에 30분간 두었다가, 물로 세척하였다. 산 용액이 떨어진 각 지점에서의 손상 정도를 대조용 투명 코팅 조성물에 대비하여 측정하였다. 대조용 투명 코팅 조성물은 상업적으로 입수 가능한 2성분 아크릴계 폴리우레탄이다. 시험에서 투명 코팅의 성능은 전체 그래디언트에 걸쳐 발생한 손상 정도의 누적에 의해 판정하였다. 손상 단위는 0 내지 10이고, 여기에서 10은 가장 손상이 심한 경우이다. 상업적인 투명 코팅 조성물의 손상 정도는 6이고, 임의의 허용 가능한 투명 코팅 조성물의 손상 정도는 6 이하이어야 한다.
하기의 실시예들은 본 발명을 예시한다. 모든 부 및 퍼센트는 달리 표시하지 않는 한 중량을 기준으로 한 것이다. 분자량은 표준 물질로서 폴리메틸 메타크릴레이트를 사용하여 GPC(겔 투과 크로마토그래피)로 측정하였다.
실시예 1
우선 아크릴로실란 중합체 용액을 제조하여 코팅 조성물(I)을 제조하는데 사용하였다.
Solvesso(등록상표) 100 방향족 용매/부탄올 2/1 혼합물의 존재하에서, 스티렌(S) 20 중량부, 히드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA) 31.5 중량부, 메타크릴로옥시프로필 트리메톡시 실란(MAPTS) 10 중량부, 이소부틸 메타크릴레이트(IBMA) 25.9 중량부, 및 2-에틸헥실 아크릴레이트(2EHA) 12.6 중량부를 Vazo(등록상표) 67(E. I. du Pont de Nemours and Company사 제품) 8 중량부 존재하에서 공중합시켜 아크릴로실란 중합체 용액을 제조하였다. 결과로 얻은 중합체 용액의 고형분 함량은 62%였고, 25℃에서 측정한 가드너 홀트(Gardner Holdt) 스케일 상의 X-Y 점도를 가졌다. 중합체 조성물은 20% S/31.5% HEMA/10% MAPTS/25.9% IBMA/12.6% 2EHA이고 중량 평균 분자량은 4800이었다.
코팅 조성물(I)은 다음의 성분들을 함께 블렌딩하여 제조하였다.
성분 A | 중량부 |
아크릴로실란 중합체 용액(상기한 바와 같이 제조) | 141 |
히드록시 관능성 아크릴계 수지 용액[Solvesso(등록상표)100 방향족 용매/부틸 아세테이트 90/10 중의스티렌/부틸 메타크릴레이트/2-히드록시 에틸 아크릴레이트의 아크릴 수지(중량 평균 분자량 5500), 고형분 66%] | 40 |
Cymel(등록상표)303 - 헥사메톡시 메틸올 멜라민 | 40 |
아크릴계 마이크로겔 수지(레올로지 조절제) | 6.5 |
UV 안정화제 및 입체 장애 아민 광안정화제(HALS)의 혼합물(44.8% Solvesso(등록상표)100 방향족 용매 중의Tinuvin(등록상표)1130 19.7%, Tinuvin(등록상표)384 16.7%,Tinuvin(등록상표)123 4.1% 및 Tinuvin(등록상표)079 14.7%) | 13.4 |
유동 조절 첨가제 Disparlon(등록상표)LC-955(방향족 용매 중의 고형분 함량 10%인,실리콘 첨가제를 포함하는 비닐 중합체,코네티컷주 노르워크 소재 킹 인더스트리사 제품) | 2.2 |
도데실벤젠 술폰산 용액(메탄올 중의 고형분 함량 33%, 아미노 메틸 프로판올로 블록화) | 6.9 |
부탄올 | 1.1 |
Solvesso(등록상표)100 방향족 용매 | 26 |
에틸 3-에톡시 프로피오네이트 | 20 |
합계 | 297.1 |
성분 A를 혼합 용기에 채우고, #2 피셔 컵(Fisher cup)에서 측정한 점도가 35초가 되도록 에틸 3-에톡시 프로피오네이트 용매로 희석시켰다.
성분 B는 헥사메틸렌 디이소시아네이트 3량체 용액(n-부탄올, 자일렌 및 방향족 탄화수소 용매의 50/35/15 중량비의 혼합물 중의 Desmodur(등록상표)3300, 72% 고형분) 100부와 페니산 인산염 1부를 혼합하여 제조하였다.
성분 A 3부와 성분 B 1부를 혼합하여 코팅 조성물(I)을 제조하고 #2 피셔 컵(Fisher cup)에서 측정한 점도가 35초가 되도록 에틸 3-에톡시 프로피오네이트 용매로 희석시켰다.
통상적인 프라이머를 전기코팅시킨 강철 패널을 흑색의 수성 폴리에스테르 개질 아크릴계 멜라민 기초 코팅 조성물로 스프레이 코팅하고, 10분 후 83℃에서 10분간 예비로 베이킹한 다음, 위에서 제조한 투명 코팅 조성물(I)을 그 위에 분사하여 경화시 두께가 50 미크론(건조 필름 두께)인 필름을 형성하고, 이어서 상기 패널을 140℃에서 30분간 베이킹하여 투콘(Tukon) 경도가 13.3 누프 단위(knoop unit)이고, 20°광택도가 89이며, DOI-상 명확도(distincness of image)가 96이고, 건조 조건 및 습윤 조건하에서의 크록미터 광택 보유도(Crockmeter gloss retention)가 각각 90%(100% 광택 보유도 - 시험에 의해 손상되지 않음)인 기초 피복/투명 피복 코팅을 형성하였다.
실시예 2
성분 A에서 100% 고형분에서 부분적으로 메틸화 및 부틸화된 멜라민 수지인 Cymel(등록상표)1168을 Cymel(등록상표)303 멜라민 수지로 대체한 점을 제외하고,코팅 조성물(I)에 관해 실시예 1에 기재된 방법에 따라 코팅 조성물(II)를 제조하였다.
실시예 1에 기재된 바와 같이 기초 코팅을 갖는 전기 코팅된 강철 패널을 스프레이 코팅하고 실시예 1에서와 같이 베이킹하여 투콘 경도가 14.8 누프 단위이고, 20°광택도가 90이며, DOI-상 명확도가 97이고, 건조 조건 및 습윤 조건하에서의 크록미터 광택 보유도가 각각 84% 및 80%인 기초 피복/투명 피복 코팅을 형성하였다.
비교예 3
이는 코팅 조성물에서 멜라민 보조 가교 수지를 제외시킨 비교예이다.
비교 코팅 조성물(III)은 아래의 성분들을 함께 블렌딩하여 제조하였다.
성분 A | 중량부 |
아크릴로실란 중합체 용액(실시예 1에서 제조) | 112.9 |
히드록시 관능성 아크릴계 수지 용액(실시예 1에 기재) | 44.8 |
아크릴계 마이크로겔 수지(레올로지 조절제) | 6.0 |
UV 안정화제 및 입체 장애 아민 광안정화제(HALS)의 혼합물(실시예 1에 기재) | 8.5 |
유동 조절 첨가제 Disparlon(등록상표)LC-955(실시예 1에 기재) | 1.8 |
도데실벤젠 술폰산 용액(실시예 1에 기재) | 4.2 |
Solvesso(등록상표)100 방향족 용매 | 25 |
에틸 3-에톡시 프로피오네이트 | 20 |
합계 | 223.2 |
성분 A를 혼합 용기에 채우고 #2 피셔 컵(Fisher cup)에서 측정한 점도가 35초가 되도록 에틸 3-에톡시 프로피오네이트 용매로 희석시켰다.
성분 B는 헥사메틸렌 디이소시아네이트 3량체 용액(n-부탄올, 자일렌 및 방향족 탄화수소 용매의 50/35/15 중량비의 혼합물 중의 Desmodur(등록상표)3300, 72% 고형분) 76부와 페닐 페니산 인산염 0.9부를 혼합하여 제조하였다.
성분 A와 성분 B를 혼합하여 비교 코팅 조성물(III)을 제조하고 #2 피셔 컵(Fisher cup)에서 측정한 스프레이 점도가 35초가 되도록 에틸 3-에톡시 프로피오네이트 용매로 희석시켰다.
통상적인 프라이머를 전기코팅시킨 강철 패널을 흑색의 수성 폴리에스테르 개질 아크릴계 멜라민 기초 코팅 조성물로 스프레이 코팅하고, 10분 후 83℃에서 10분간 예비 베이킹한 다음, 위에서 제조한 투명 비교 코팅 조성물(III)을 그 위에 분사하여 경화시 두께가 50 미크론(건조 필름 두께)인 필름을 형성하고, 이어서 상기 패널을 140℃에서 30분간 베이킹하여, 투콘 경도가 12 누프 단위(knoop unit)이고, 20°광택도가 90이며, DOI-상 명확도가 97이고, 건조 조건 및 습윤 조건하에서의 크록미터 광택 보유도가 각각 80% 및 75%(100% 광택 보유도 - 시험에 의해 손상되지 않음)인 기초 피복/투명 피복 코팅을 형성하였다.
멜라민 보조 가교 수지를 함유하지 않는 비교 코팅 조성물(III)의 광택 보유도는 80%(건조) 및 75%(습윤)로서 건조 및 습윤 시험 모두에서 90%의 크록미터 광택 보유도를 나타낸 (본 발명의)코팅 조성물(I) 보다 현저히 낮았다,
비교예 4
이는 코팅 조성물에서 아크릴로실란 중합체 용액을 제외시킨 비교예이다.
비교 코팅 조성물(IV)는 아래의 성분들을 함께 블렌딩하여 제조하였다.
성분 A | 중량부 |
Cymel(등록상표)303(실시예 1에 기재) | 40.0 |
아크릴계 마이크로겔 수지(레올로지 조절제) | 6.5 |
UV 안정화제 및 입체 장애 아민 광안정화제(HALS)의 혼합물(실시예 1에 기재) | 13.4 |
유동 조절 첨가제 Disparlon(등록상표)LC-955(실시예 1에 기재) | 2.2 |
부탄올 | 1.1 |
도데실벤젠 술폰산 용액(실시예 1에 기재) | 6.9 |
Solvesso(등록상표)100 방향족 용매 | 20.0 |
에틸 3-에톡시 프로피오네이트 | 10 |
성분 B | |
헥사메틸렌 디이소시아네이트 3량체 용액(실시예 1에 기재) | 90.0 |
페닐산 인산염 | 0.6 |
성분 A와 성분 B를 혼합하여 비교 코팅 조성물(IV)를 제조하고 #2 피셔 컵(Fisher cup)에서 측정한 스프레이 점도가 35초가 되도록 에틸 3-에톡시 프로피오네이트 용매로 희석시켰다.
통상적인 프라이머를 전기코팅시킨 3 세트의 강철 패널들을 흑색의 수성 폴리에스테르 개질 아크릴계 멜라민 기초 코팅 조성물로 스프레이 코팅하고, 10분 후 83℃에서 10분간 예비 베이킹한 다음, 위에서 제조한 투명 비교 코팅 조성물(IV)를 그 위에 분사하여 경화시 두께가 50 미크론(건조 필름 두께)인 필름을 형성하고, 이어서 상기 패널들을 140℃에서 30분간 베이킹하여 기초 피복/투명 피복 코팅을 형성하였다. 두 번째 세트의 패널들을 실시예 1의 코팅 조성물(I)로 스프레이 코팅하고 상기한 바와 같이 베이킹하고, 세 번째 세트의 패널들은 실시에 3의 비교 코팅 조성물(III)으로 스프레이 코팅하고 상기한 바와 같이 베이킹하였다. 각 패널들을 외관, 투콘 경도, 크록미터-습윤 흠집 저항성 및 산 부식 저항성을 시험하였다. 이 시험들의 결과는 아래 표에 나타내었다.
물성 | 실시예 1코팅 조성물(I) | 실시예 3비교 코팅 조성물(III) | 실시예 4비교 코팅 조성물(IV) |
외관 | 매끄러움, 광택 | 매끄러움, 광택 | 오렌지 필(Orange Peel)이 심함 |
투콘 경도 | 17 누프(knoop) 단위 | 14 누프(knoop) 단위 | 21 누프(knoop) 단위 |
크록미터-습윤 흠집 저항성% 광택 보유도 | 87 | 70 | 99 |
산 부식 저항성 | 3 | 3 | 6 |
(본 발명의) 코팅 조성물(I)은 세 가지 조성물 중에서 가장 우수한 물성 조화를 나타내었다. 코팅 조성물(I)은 외관이 뛰어나며, 흠집 및 산 부식 저항성이 우수하다. 보조 멜라민 가교 수지를 함유하지 않는, 시판되는 2성분 투명 코팅 조성물과 본질적으로 동일한 비교 코팅 조성물(III)은 흠집 저항성이 불충분하였다. 아크릴로실란 중합체를 함유하지 않는 비교 코팅 조성물(IV)는 외관 및 산 부식 저항성 면에서 결함이 있었다.
Claims (14)
- (a) 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 12인 알킬 메타크릴레이트, 알킬 아크릴레이트, 시클로지방족 알킬 메타크릴레이트, 시클로지방족 알킬 아크릴레이트, 스티렌 또는 이들의 임의의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 중합된 단량체들; 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트, 히드록시 알킬 아크릴레이트, 또는 이들의 임의의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 히드록시 함유 단량체들; 및 모노-에틸렌계 불포화 실란 단량체를 포함하는, 아크릴로실란 중합체 20 중량% 내지 70 중량%(여기에서 상기 중량%는 상기 바인더 고형분을 기준으로 한 것이고, 겔 투과 크로마토그래피로 측정한 상기 중합체의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 15,000임),(b) 유기 폴리이소시아네이트 10 중량% 내지 60 중량%(바인더 고형분의 중량을 기준으로 함) 및(c) 멜라민 성분 5 중량% 내지 40 중량%(바인더 고형분의 중량을 기준으로 함) 포함하는 필름 형성 바인더 40 중량% 내지 75 중량%, 및상기 바인더용 휘발성 액체 캐리어 25 중량% 내지 60 중량%를 포함하는 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 모노-에틸렌계 불포화 실란 단량체가 하기 구조식을갖는 것인 코팅 조성물.상기 식에서,R은 CH3, CH3CH2, CH3O 및 CH3CH2O로 이루어지는 군으로부터 선택되고,R1및 R2는 CH3및 CH3CH2로 이루어지는 군으로부터 서로 독립적으로 선택되며,R3은 H, CH3및 CH3CH2로 이루어지는 군으로부터 선택되고,n은 0 또는 1 내지 10의 정수이다.
- 제1항에 있어서, 상기 멜라민 성분이 알킬화 멜라민인 코팅 조성물.
- 제2항에 있어서, 상기 실란 단량체는 감마 트리메톡시 실릴 프로필 메타크릴레이트 및 감마 트리메톡시 실릴 프로필 아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되고, 상기 멜라민 성분은 단량체성 헥사메톡시 메틸올 멜라민인 코팅 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 아크릴로실란 중합체가 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 8인 알킬 아크릴레이트류, 알킬 메타크릴레이트류, 스티렌 및 이들의 임의의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 중합된 단량체 35 중량% 내지 75 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트류 및 히드록시 알킬 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 중합된 단량체 20 중량% 내지 40 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 및 모노 에틸렌계 불포화 실란 단량체 5 중량% 내지 25 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함)를 함유하는 것인 코팅 조성물.
- 제5항에 있어서, 상기 유기 폴리이소시아네이트가 헥사메틸렌 디이소시아네이트의 3량체 또는 이소포론 디이소시아네이트의 3량체인 코팅 조성물.
- 제6항에 있어서, 블록화 술폰산 촉매, 아릴 또는 알킬산 인산염의 혼합물을 상기 바인더의 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 5 중량% 포함하는 코팅 조성물.
- 제7항에 있어서, 상기 블록화 술폰산 촉매가 블록화 도데실 벤젠 술폰산이고 상기 아릴산 인산염이 페닐산 인산염인 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서, 자외선 흡수제 및 임의로 입체 장애 아민 광안정화제를 상기 바인더의 중량을 기준으로 약 0.1 중량% 내지 10 중량% 함유하는 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 아크릴로실란 중합체가 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 8인 알킬 아크릴레이트류, 알킬 메타크릴레이트류, 스티렌 및 이들의 임의의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 중합된 단량체 35 중량% 내지 75 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트류 및 히드록시 알킬 아크릴레이트류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 중합된 단량체 20 중량% 내지 40 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 및 모노 에틸렌계 불포화 실란 단량체 5 중량% 내지 25 중량%(상기 아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함)를 포함하고,상기 유기 폴리이소시아네이트가 헥사메틸렌 디이소시아네이트 또는 이소포론 디이소시아네이트의 3량체로 이루어진 군으로부터 선택된 3량체이며,상기 멜라민 성분이 헥사메톡시 메틸올 멜라민이고,상기 코팅 조성물이 블록화 술폰산 촉매 및 아릴 또는 알킬산 인산염 촉매의 혼합물을 상기 바인더 고형분의 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 5 중량% 함유하는 코팅 조성물.
- 기본적으로 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 8인 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트 및 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 중합된 단량체 35 중량% 내지 75 중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 알킬기 중의탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트 및 히드록시 알킬 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 중합된 단량체 20 중량% 내지 40 중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 및 모노 에틸렌계 불포화 실란 단량체 5 중량% 내지 25 중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함)를 포함하는 아크릴로실란 중합체; 단량체성 알킬화 멜라민 및 0.1 중량% 내지 2 중량%(성분 A의 중량을 기준으로 함)의 블록화 도데실 벤젠 술폰산을 포함하는 성분 A 및유기 폴리이소시아네이트 및 0.1 중량% 내지 2 중량%(성분 B의 중량을 기준으로 함)의 아릴산 인산염 촉매로 이루어지는 성분 B를 포함하는 2성분 코팅 조성물.
- 착색된 코팅 조성물의 기초 코팅을 가지며 제1항의 코팅 조성물로 마무리 코팅된 기재.
- 코팅 조성물을 도포하기 전에기본적으로 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 8인 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트 및 스티렌으로 이루어지는 군으로부터 선택된 중합된 단량체 35 중량% 내지 75 중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 알킬기 중의 탄소 원자수가 각각 1 내지 4인 히드록시 알킬 메타크릴레이트 및 히드록시 알킬 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 중합된 단량체 20 중량% 내지 40중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함), 및 모노 에틸렌계 불포화 실란 단량체 5 중량% 내지 25 중량%(아크릴로실란 중합체의 중량을 기준으로 함)를 포함하는 아크릴로실란 중합체; 단량체성 알킬화 멜라민 및 0.1 중량% 내지 2 중량%(성분 A의 중량을 기준으로 함)의 블록화 도데실 벤젠 술폰산을 포함하는 성분 A 및 유기 폴리이소시아네이트 및 0.1 중량% 내지 2 중량%(성분 B의 중량을 기준으로 함)의 아릴산 인산염 촉매로 이루어지는 성분 B를 함께 충분히 혼합하는 단계, 이어서 코팅 조성물을 기재에 도포하는 단계 및 코팅 조성물을 경화시키는 단계를 포함하는 코팅 조성물의 형성 방법.
- 제13항에 있어서, 상기 기재가 착색된 코팅 조성물의 기초 코팅을 갖는 것인 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/707,573 | 2000-11-07 | ||
US09/707,573 US6379807B1 (en) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | Coating composition having improved acid etch resistance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020035754A true KR20020035754A (ko) | 2002-05-15 |
KR100453304B1 KR100453304B1 (ko) | 2004-10-20 |
Family
ID=24842240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0068714A KR100453304B1 (ko) | 2000-11-07 | 2001-11-06 | 산 부식 저항성이 개선된 코팅 조성물 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6379807B1 (ko) |
EP (1) | EP1205503B1 (ko) |
JP (1) | JP3587813B2 (ko) |
KR (1) | KR100453304B1 (ko) |
AU (1) | AU764775B2 (ko) |
BR (1) | BR0105853A (ko) |
CA (1) | CA2358629C (ko) |
DE (1) | DE60105111T2 (ko) |
MX (1) | MXPA01011281A (ko) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040157980A1 (en) * | 2003-02-06 | 2004-08-12 | Fox Michael D. | Coating composition with improved hardness, mar and etch resistance |
RS20050280A (en) * | 2003-08-11 | 2007-08-03 | INDUSTRIA CHEMICA REGGIANA I.C.R.S.p.A., | Chemical composition and method of polymerisation thereof for use on vehicle bodywork repair |
US20050074617A1 (en) * | 2003-10-02 | 2005-04-07 | Jun Lin | Clearcoat composition having both windshield sealant and recoat adhesion |
US9051473B2 (en) * | 2006-06-14 | 2015-06-09 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Clear coating compositions comprising dispersed silica nono-particles and processes for using |
US20080021147A1 (en) * | 2006-06-14 | 2008-01-24 | Jun Lin | Process for forming a dispersion of silica nano-particles |
RU2467028C2 (ru) * | 2006-12-19 | 2012-11-20 | БАСФ Коатингс ГмбХ | Покровные средства с высокой стойкостью к царапанью и устойчивостью к атмосферным воздействиям |
DE102007061856A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
DE102007061855A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
DE102007061854A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
US20110071251A1 (en) * | 2008-05-12 | 2011-03-24 | Bogdan Hariton Dana | Siliconated polyesters and polyacrylates having a low voc |
DE102009024103A1 (de) * | 2009-06-06 | 2010-12-09 | Basf Coatings Gmbh | Beschichtungsmittel und daraus hergestellte Beschichtungen mit hoher Kratzfestigkeit und hoher Kocherstabilität |
US20110135832A1 (en) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Basf Coatings Ag | Method and composition for refinish coatings |
US8710138B2 (en) * | 2010-01-08 | 2014-04-29 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Etch resistant clearcoat |
US9587140B2 (en) * | 2012-02-21 | 2017-03-07 | Azalta Coating Systems Ip Co., Llc | Low foaming waterborne coating composition and use thereof |
EP2969252A4 (en) * | 2013-03-15 | 2016-12-21 | Nyloboard Llc | WOOD COATING PROCESS FOR A SUBSTRATE |
CN109943158B (zh) * | 2019-03-06 | 2021-05-18 | 湖南工程学院 | 螺纹钢防锈液、制备方法及螺纹钢表面处理方法 |
EP4148074A1 (en) * | 2021-09-08 | 2023-03-15 | Hexion Inc. | Two pack ambient cure crosslinkable paint compositions comprising copolymers of vinyl branched esters and vinyl silanes |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6035060A (ja) | 1983-08-05 | 1985-02-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | 塗料用樹脂組成物 |
US4632964A (en) | 1985-03-28 | 1986-12-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexible finishes from branched aliphatic polyester urethanes and a melamine crosslinker |
US4591533A (en) | 1985-06-03 | 1986-05-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating composition of an acrylic polymer, a dispersed acrylic polymer and an alkylated melamine crosslinking agent |
JPS63244486A (ja) | 1987-03-31 | 1988-10-11 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
US5066698A (en) | 1990-05-10 | 1991-11-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating composition of an acrylic polymer, a crosslinking agent and a silane oligomer |
MX9504227A (es) | 1994-10-17 | 1997-03-29 | Basf Corp | Composiciones de capa transparente que contienen melaminas con funcionalidad de imino. |
US5532027A (en) | 1994-12-21 | 1996-07-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | UV light treatment of clear coat to improve acid etch resistance |
DE69625900T2 (de) * | 1995-05-01 | 2003-09-18 | Ppg Ind Ohio Inc | Härtbare zusammensetzungen für verbundschichten sowie verfahren zur verbesserung der kratz- und abriebfestigkeit |
DE19529124C1 (de) | 1995-08-08 | 1996-11-21 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und deren Verwendung in Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtüberzügen |
US5684084A (en) | 1995-12-21 | 1997-11-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating containing acrylosilane polymer to improve mar and acid etch resistance |
US5985463A (en) * | 1998-06-24 | 1999-11-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Coating containing hydroxy containing acrylosilane polymer to improve mar and acid etch resistance |
ES2233354T3 (es) * | 1999-03-17 | 2005-06-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Composicion de revestimiento transparente resistente al ataque acido profundo, de elevados contenidos de solidos. |
EP1163306A1 (en) | 1999-03-17 | 2001-12-19 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | High solids clear coating composition |
-
2000
- 2000-11-07 US US09/707,573 patent/US6379807B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-10-03 AU AU77375/01A patent/AU764775B2/en not_active Ceased
- 2001-10-05 EP EP01123822A patent/EP1205503B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-05 DE DE60105111T patent/DE60105111T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-11 CA CA002358629A patent/CA2358629C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-11-06 MX MXPA01011281A patent/MXPA01011281A/es active IP Right Grant
- 2001-11-06 KR KR10-2001-0068714A patent/KR100453304B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-11-06 JP JP2001341073A patent/JP3587813B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-11-07 BR BR0105853-3A patent/BR0105853A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3587813B2 (ja) | 2004-11-10 |
MXPA01011281A (es) | 2004-05-21 |
DE60105111T2 (de) | 2005-09-01 |
AU764775B2 (en) | 2003-08-28 |
BR0105853A (pt) | 2002-06-25 |
CA2358629C (en) | 2006-06-06 |
JP2002146272A (ja) | 2002-05-22 |
EP1205503A1 (en) | 2002-05-15 |
US6379807B1 (en) | 2002-04-30 |
KR100453304B1 (ko) | 2004-10-20 |
DE60105111D1 (de) | 2004-09-30 |
CA2358629A1 (en) | 2002-05-07 |
EP1205503B1 (en) | 2004-08-25 |
AU7737501A (en) | 2002-05-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |