KR20020023901A - 석재 표면의 세척제 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 테라조와 같은 인조석재, 천연 대리석, 천연석재, 화강암등의 석재 표면에 오염된 물질을 제거하기 위한 액상 세척제 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 주성분으로 중불화암모늄(NH4F.HF)을 함유하며, 보조성분으로 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된 1종 이상과 물로 이루어진 세척제 조성물이다.
Description
본 발명은 주성분으로 중불화암모늄(NH4F.HF)을 함유하며, 보조성분으로 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된 1종 이상과 물로 이루어진 세척제 조성물이다.
본 발명은 테라조와 같은 인조석재, 천연 대리석, 천연석재, 화강암등 석재 표면의 처리제로 이용된다. 구체적으로 설명하면, 석제의 제조, 가공 또는 시공후 석재 표면에 오염된 물질을 제거하고, 신축 건축물 및 기존 건축물을 청결하게 유지 관리하기 위하여 사용된다. 또한, 본 발명에서 제공되는 세척제 조성물은 화장실의 변기, 욕실 또는 베란다등의 타일, 타일과 타일 사이 오염된 물질을 제거하는 곳에도 적용된다. 본 발명에서 제공되는 세척제 조성물은 욕실의 타일의 오염된 물질을 제거하기 위하여 사용시 바닥재의 표면에 눈에 보이지 않은 미세한 요철을 형성하여 습윤상태에서 미끄럼을 방지할 수 있다.
종래에는 고압세척, 스팀세척, 샌드브라스팅, 화학적 세척등의 방법으로 석재 표면을 청결하게 유지 관리하여 왔다. 고압세척은 고압의 물을 석재 표면에 분사해서 더러움을 제거하는 방법으로 고압에 의해 석재 표면에 회복할 수 없는 손상을 입힐 수 있기 때문에 고도로 숙련된 기술자만이 작업이 가능한 문제점이 있다. 스팀세척은 고온의 열을 이용하여 세척하는 방법으로 고온의 열에 의해 인체에 화상을 입힐 수 있고, 특히 여름에는 사용하기가 어려운 문제점이 있다. 샌드브라스팅은 연마 방법으로 석재의 손상이 크고, 많은 모래먼지를 발생시켜 주변 환경을 크게 해칠 수 있다. 화학적 세척은 본 발명에서 제공하는 방법과 동일하나, 세척제 조성물에는 크게 차이가 있다. 화학적 세척방법은 노동력을 줄일 수 있는 장점이 있다. 종래의 석재 표면의 오염물을 제거하기 위한 세척제의 조성물은 주성분으로 불산, 염산, 질산등을 사용함으로써 이러한 물질에서 발생되는 유해가스로 인하여 인체 및 주위 환경에 직·간접적으로 피해 입히고 있다. 또한, 사용자나 제조자가 취급시 화상을 입을 수 있어 사용을 꺼려하고 있다.
본 발명은 주성분으로 중불화암모늄(NH4F.HF)을 함유하며, 보조성분으로 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된 1종 이상과 물로 이루어진 세척제 조성물이다.
본 발명에서는 상온, 상압에서 인체에 유해한 산성의 유해가스 발생이 없는 성분을 사용하여, 특히 주성분인 불산을 사용하지 않고 취급이 편리한 고체의 중불화암모늄을 사용함으로써 인체나 주위 환경에 피해가 없을 뿐 아니라, 사용자나 제조자가 취급하기가 쉽다.
본 발명에서 제공하는 세척제 조성물은 석재 표면의 오염된 물질 쉽게 제거하여 석제의 제조, 가공 또는 시공후 석재 표면에 오염된 물질을 제거하고, 신축 건축물 및 기존 건축물을 청결하게 유지 관리하기 위하여 사용된다. 또한, 본 발명에서 제공되는 세척제 조성물은 화장실의 변기, 욕실 또는 베란다등의 타일, 타일과 타일 사이 오염된 물질을 제거하는 곳에도 적용된다. 욕실 타일의 오염된 물질을 제거하기 위하여 사용시 바닥재의 표면에 눈에 보이지 않은 미세한 요철을 형성하여 습윤 상태에서 미끄럼을 방지할 수 있다.
따라서, 본 발명의 세척제 조성물을 제공함으로써 사용자나 제조자가 안전하게 취급, 석재 표면의 오염물질를 쉽게 제거하여 인간이 살아가는 주위 환경을 청결하게 유지 관리하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 주성분으로 중불화암모늄(NH4F.HF)을 1～5중량%(이하, 중량%)를 함유하고, 보조성분으로 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된 1종 이상의 유 또는 무기산 3～9%와 물 90～96%로 이루어진 세척제 조성물이다.
석재는 탄산칸슘(CaCO3)이 주성분이며, 석제 표면의 세척, 즉 오염물질을 제거 하여 청결을 유지 한다는 것은 산에 의하여 석제 표면을 에칭(etching)하는 것이다. 구체적으로 원리를 설명하면, 석재 표면층의 탄산칼슘과 산과 반응하여 칼슘염, 물 및 이산화탄소가 생성되어 석재 표면에서 이들이 이탈된다. 따라서, 석재표면의 오염물질이 석재 표면층의 탄산칼슘과 산과 반응시 이탈하면서 제거된다.
본 발명에서 주성분으로 사용되는 중불화암모늄(NH4F.HF)은 1～5%, 바람직하게는 1.5～3.5%를 사용하는 것이 유리하다. 중불화암모늄이 1% 미만 함유할 경우 농도가 낮아 탄산칼슘과 반응하는 속도가 느리고, 5% 이상 함유할 경우 농도가 높아 탄산칼슘과 반응하는 속도가 빨라 불균일한 딥 에칭(deep etching), 마일드 에칭(mild etching)이 복합적으로 발생하여 외관이 불량하고, 취급시 산에 의한 화상을 입을 수 있다. 보조성분으로 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된1종 이상의 유 또는 무기산의 사용량은 3～9%, 바람직하게는 4～7%를 사용한다. 보조성분의 사용량이 본 범위를 벗어나면 상기에서 설명한 동일한 현상을 나타낸다. 본 발면에서 제공하는 세척제 조성물은 주성분과 보조성분의 총함량을 10% 이하로 제한한다. 보조성분을 상기 사용범위 내에서 사용할 경우 중불화암모늄 단독으로 사용하는 것 보다 에칭 반응이 촉진된다. 탄산칼슘과 산의 반응은 반응식 1로 표시된다.
[반응식 1]
(여기서, X는 보조성분이 물에 녹아 해리된 경우 (-)이온을 나타낸다)
상기 반응식에서 칼슘염(CaX)의 종류에 따라 백화현상이 발생된다. 즉, 세척시 물에 가용인 칼슘염(CaX)이 녹아 있다가 물이 증발하면서 칼슘염이 표면에 석출되어 백화현상을 나타낸다. 반대로, 물에 불용인 칼슘염은 눈에 보여 세척시 이를제거하여 백화현상이 나타나지 않는다. 따라서, 백화현상을 방지하기 위해서 상기 보조성분중 황산을 사용함으로써 가능하다. 황산은 탄산칼슘과 반응하여 물에 불용성인 황산칼슘 염을 생성하여 세척시 백화현상을 방지할 수 있다. 그러나, 상기 보조성분의 사용이 불가능 하다는 것을 표현하는 것은 아니다. 왜냐하면, 본 발명에서 제공하는 세척제 조성물은 산의 총함량이 10%를 초과하지 않고, 세척제 조성물을 물에 2～3배로 희석하여 사용함으로 탄산칼슘과 반응하는 산의 함량이 작아 백화현상이 육안으로 관찰이 되지 않는다.
이하, 본 발명을 실시예에 상세히 설명하였으며, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
1,000㎖ 비이커에 물 500㎖를 넣고, 주성분으로 중불화암모늄 25g을 계량하여 가하여 완전히 용해한다. 보조성분으로 인산 60g을 계량하여 천천히 적가하고 물 415g을 추가 혼합하여 세척제 조성물을 제조하였다.
[실시예 2 내지 6]
상기 실시예 1에서 보조성분의 종류와 함량을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 세척제 조성물을 제조하여 표 1에 나타내었다.
상기 실시예 1 내지 6에서 제조된 세척제 조성물을 물에 2배 희석하여 아파트 바닥을 대상으로 테스트한 결과를 표 2에 나타내었다.
상기 표 1과 표 2의 결과에서 알 수 있듯이 본 발명의 세척제 조성물을 제조시 유해가스 발생이 전혀 없고 세척력이 우수하고, 세척후에도 백화현상이 발생되지 않는 세척제 조성물로 확인 되었다.
본 발명의 세척제 조성물을 제공함으로써 사용자나 제조자가 안전하게 취급, 석재 표면의 오염물질를 쉽게 제거 할 수 있게 되어 안전과 품질을 한차원 높이는 계기가 되었다.
Claims (4)
- 중불화암모늄을 주성분으로, 인산, 황산, 붕산, 술팜산, 수산, 주석산, 구연산, 말산, 개미산등에서 선택된 1종 이상의 보조성분과 물로 이루어진 세척제 조성물
- 청구항 1에서 주성분의 함량을 1～5%, 바람직하게는 1.5～3.5%를 포함하는 세척제 조성물
- 청구항 1에 보조성분의 함량을 3～9%, 바람직하게는 4～7%를 포함하는 세척제 조성물
- 청구항 1에서 주성분과 보조성분의 총함량이 10% 이하로 제한하는 것을 포함하는 세척제 조성물
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