KR20020017490A - 구상형 미립 은 분말의 상온 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 상온에서 질산은으로부터 페이스트용 충전제인 구상형 미립 은분말을 제조하는 기술에 관한 것이다.
은 분말의 원료로 사용된 질산은 50∼500g을 상온에서 증류수에 완전히 용해시키고 암모니아수를 첨가하여 pH를 11로 맞춘다. 다른 용기에 환원제로 사용한 하이드로퀴논을 넣고 상온에서 증류수로 완전히 용해시킨다. 두 용액이 준비되면 테플론 반응기에 혼합한다. 반응이 종료되면 고/액을 분리하고 증류수를 이용해 여러번 세척한 다음 50℃로 24시간이상 건조하여 은 분말을 제조하였다.

Description

구상형 미립 은 분말의 상온 제조 방법{Synthesis of Spherical Fine Silver Powders at Room Temperature}
본 발명은 상온에서 질산은으로부터 페이스트용 충전제인 구상형 미립 은 분말을 제조하는 기술에 관한 것이다.
첨단산업과 산업기술의 발달에 따라 고기능성의 정밀소재에 대한 요구가 급증하게 되고, 이에 따라 강도, 경도, 내마모성, 중량 등을 개선하기 위한 고도로 제어된 물리·화학적 특성(입도, 형상, 분산성, 순도, 반응성 등)을 제공할 수 있는 미립의 원료분말(금속, 비금속, 세라믹)이 필요하게 되었다.
최근 재료개발동향 중 많은 발전을 이룬 초전도 재료, 비정질 합금, 기계적 합금(mechanical alloying), 나노-합성물 재료 등 우수한 물리적 특성과 기능성이 요구되는 재료에는 대부분 미립분말이 사용되고 있다. 특히 고밀도 집적회로를 채용하고 있는 전자기기의 보급이 급속도로 증가함에 따라 처리능력 향상을 위해 전자회로 소자는 미소화, 고기능화, 다양화 그리고 정밀화되고 있으며 아울러 전자파의 간섭을 방지하기 위한 고정밀의 차폐재료가 요구되고 있다. 이에 따라 고기능성 도전성 페이스트, 전도성 잉크, 전기재료 접착제 등이 전기소자나 전자부품 제조에 필수적으로 사용되고 있다.
특히 화학적으로 안정하고 도전성이 우수한 은 페이스트(silver paste)는 전도성 접착, 코팅 그리고 미세회로 형성을 위한 복합계 도전성 페이스트로 널리 사용되고 있으며 앞으로 응용 범위가 더욱 확대될 것으로 예측된다. 현재 국내에서 소비되는 은 페이스트는 대부분 Dupont, Engelhard, Acheson 등으로부터 완제품 상태로 수입하고 있으며 군소업체에서 귀금속 원료분말을 수입하여 유기성 결합제와 단순혼합하여 일부 시판하고 있는 실정이다. 따라서 페이스트용 충진제인 은분말 제조기술의 국산화가 절실히 필요한 시점이다.
일반적인 은 분말은 화학적 공정 (chemical process), 물리적 공정(physical process) 등을 들 수 있으나 제조방법에 따라 은 분말의 밀도, 표면적, 평균입도,형태 그리고 입도분포 등이 변하게 된다.
은 화합물을 수용액 또는 유기용매에서 환원성 가스나 유기환원제로 환원시켜 은 분말을 석출시키는 화학적 공정에서는 합성한 은 분말의 입자크기가 매우 작고, 입도분포가 좁으며, 순도가 높은 특징이 있다. 최근에는 다양한 종류의 구형 금속분말 제조에 적용할 수 있는 폴리올법이 개발되었으나 반응온도가 150℃ 이상으로 높은 문제점이 있고 환원성 가스로 수소를 사용하는 경우에는 고온·고압반응기(autoclave)를 필요로 하기 때문에 취급시 특별한 주의를 하여야 한다. 물리적 공정은 주로 인편상(flake type)의 은 분말을 제조하는데 사용되지만 미세한 입자를 얻기가 어렵고 입자형태가 불규칙한 단점이 있다.
따라서 고온공정을 피하여 에너지 소모를 줄임과 동시에 완전한 구형인 1∼2㎛ 크기의 입도분포가 균질한 은 분말을 제조하는 기술이 필요하다.
본 발명에서는 은 페이스트 제조시 충전제로 사용되고 있는 미립의 은분말 제조기술을 확립하고자 하였으며 이를 위하여 하이드로퀴논을 유기환원제로 이용하여 상온에서 구상형 미립 은 분말을 제조하였다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는 국내산 질산은을 원료로, 환원제로는 하이드로퀴논(Junsei, 일본)을 사용하였으며, 반응온도는 상온, 실험장치로는 테플론 재질의 비이커를 사용하였다.
도 1 은 실시예 1의 회절분석도
도 2 는 실시예 1의 주사 전자 현미경 확대사진
도 3 은 실시예 2의 회절분석도
도 4 는 실시예 2의 주사 전자 현미경 확대사진
도 5 은 실시예 3의 회절분석도
도 6 는 실시예 3의 주사 전자 현미경 확대사진
이하 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
우선 은 분말의 원료로 사용된 질산은 50∼500g을 상온에서 증류수에 완전히 용해시키고 암모니아수를 첨가하여 pH를 11로 맞춘다. 다른 용기에 환원제로 사용한 하이드로퀴논을 넣고 상온에서 증류수로 완전히 용해시킨다. 두 용액이 준비되면 테플론 반응기에 혼합한다. 반응은 상온으로 하고 반응시간은 10∼180분으로 하였다. 반응이 종료되면 고/액을 분리하고 증류수를 이용해 여러 번 세척한 다음 50℃로 24시간이상 건조하여 은 분말을 제조하였다.
본 발명에 따른 실시예를 설명하면 다음과 같다.
<실시예 1>
질산은 50g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시킨 후 마그네틱바로 교반시키면서 pH가 11이 되도록 암모니아수를 첨가한다. 하이드로퀴논 16.5g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시킨다. 각각의 용액을 테플론 비이커에 혼합한다. 혼합 후 10분이 지나면 여과하여 고/액 분리한다. 증류수로 수회 세척하고 전기오븐에서 건조한다. 건조된 은 분말은 X-선 회절분석기와 주사전자현미경을 통해 확인하였다.
<실시예 2>
질산은 50g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시키고 마그네틱바로 교반시키면서 pH가 11이 되도록 암모니아수를 첨가한다. 하이드로퀴논 16.5g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시킨다. 각각의 용액을 테플론 비이커에 혼합한다. 혼합 후 3시간이 지나면 여과하여 고/액 분리한다. 증류수로 수회 세척하고 전기오븐에서 건조한다. 건조된 은 분말은 X-선 회절분석기와 주사전자현미경을 통해 확인하였다.
<실시예 3>
질산은 500g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시키고 마그네틱바로 교반시키면서 pH가 11이 되도록 암모니아수를 첨가한다. 하이드로퀴논 165g을 500㎖의 증류수에 완전히 용해시킨다. 각각의 용액을 테플론 비이커에 혼합한다. 혼합 후 3시간이 지나면 여과하여 고/액 분리한다. 증류수로 수회 세척하고 전기오븐에서 건조한다. 건조된 은 분말은 X-선 회절분석기와 주사전자현미경을 통해 확인하였다.
본 발명은 질산은을 하이드로퀴논으로 환원시켜 구상형의 미립 은 분말(1∼2㎛)을 제조하는 기술로 상온에서 단시간내에 구상형 미립 은 분말을 제조할 수 있는 기술이다. 때문에 첨단 전자산업의 발달과 더불어 미립 금속분말의 수요가 증대되는 시점과 대부분의 금속분말을 수입에 전량 의존하는 현실에서 본 발명은 수입대체효과 및 공정의 단순화 등에 의해 경제성이 확보되는 효과가 있다.
(변형예, 응용예, 법적해석)
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.

Claims (1)

  1. 질산은을 하이드로퀴논으로 환원하여 1∼2㎛ 크기의 충진제용 구상형 은 분말을 제조하는 방법에 있어서 질산은 농도 : 50∼500g/ℓ, 하이드로퀴논 : 16.5∼165g, 반응온도 : 상온, 반응시간 : 10∼180분으로 부여하는 것을 특징으로 하는 구상형 미립 은 분말의 상온 제조 방법.
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