KR200193181Y1 - 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐에 관한 것으로, 그 목적은 간소화된 외형 구성에 따라 제품제작에 따른 재료비를 절감되도록하여 그 사용관계에 있어 경제성을 향상되도록 함과 동시에, 이와같은 간소화된 외형구성으로서 제품의 부피 또한 축소되게하여 그에 따른 취급효율을 상승되도록 한 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 제공함에 있는 것이며,

또 다른 목적으로는 가스배출공내에 각 크기를 달리하는 노즐을 사용자에 선택에 따라 탈,부착 가능한 형태로 장착 구성되도록 하여 제품의 정밀도를 향상되도록 함과 동시에 빈번한 사용관계에 따른 이상 발생시 노즐의 부분적인 교체사용을 가능케하여 향상된 구조적 변화로서 그 사용효율을 극히 상승시킬수 있도록 한 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 제공함에 있는 것이다.

이에, 상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 구체적인 수단으로는;

일측과 타측에 수평 대칭되는 유입구와 배출구를 구비하고, 그 상부 중앙에 직립구조를 취하는 흡입구를 일체로 형성하여, 가스배출공과 가스흡입공 의해 상호 관통된 연결구조를 이루도록 한 노즐본체에 있어서;

상기 가스배출공의 일측과 타측에 상호 대향된 구조를 이루는 한쌍의 체결부를 형성하여, 상기 일측 체결부에 장착유도구와 체결관을 갖는 유입노즐을 탈부착 구조로 장착시키고, 상기 타측체결부에 장착유도구와 체결관을 갖는 배출노즐을 탈부착 구조로 창착시키며, 상기 유입노즐의 크기를 상기 배출노즐의 크기와 대비하여 상대적으로 작게 구성시키므로서 달성된다.

Description

반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐{Nozzle for semiconduct or manufacture equpment}

본 고안은 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐에 관한 것으 로, 더욱 상세하게는 각종 반응성 가스를 이용한 작업형태에 의해 반도체 가공장치내로 잔류하게 되는 오염가스를 압축가스 분출에 따른 흡입작용에 의해 외부로 용이하게 배출되도록하여 반도체 웨이퍼 가공장치내의 청결상태를 항상 유지토록 하므로서 고순도의 공정작업을 요하는 반도체의 가공작업을 효율적으로 행할수 있도록 한 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐에 관한 것이다.

일반적으로 반도체의 전기적 기능과 수율은 불순물을 웨이퍼에 넣는 방법과 마스크의 형태를 그대로 웨이퍼 표면에 재생하는 능력에 달려 있는 것으로, 이러한 반도체의 가공작업은 마이크로 정도의 먼지에 의해서도 패턴크기에 영향을 줄 만큼 원치않은 오염에 미감하게 작용하는 것이다.

따라서, 반도체 웨이퍼는 그와 접촉하는 모든 것이 오염의 원인이 되는 것으로, 그 대표적인 오염원으로는 공기, 생산설비, 각종 약품 및 반응성 가스등을 들수 있으며, 특히 이와같은 오염원인중 반도체 가공작업에 이용되는 상기 반응성 가스는 공정변화 등에 의해 다른 가스나 탄화수소등에 오염될 경우 예기기 않은 반응을 일으키거나 반응속도를 변화되게 하는 것이다.

따라서, 반도체 가공장치내에서 반응성 가스에 의한 공정작업을 행한후, 반도체 웨이퍼의 또 다른 공정작업을 행하기 위해서는 반드시 반도체 가공장치내에 잔류하는 오염가스를 완전 배출토록 하여 반도체 가공장치 내부의 청결도를 항상 유지시켜야 하는 것이다.

이에, 전술한 바와같이 반도체 가공장치내에서 반응한 오염가스를 외부로 배출시키기 위하여는, 통상 오염가스 배출용 노즐을 이용하게 되는 것이었던 바, 이와같은 용도로 사용되고 있는 종래의 오염가스 배출용 노즐은 도 1로 도시된 바와같이 일체화된 몸체 구성으로서 일측에 체결볼트(b)를 결합시킨 유입구(10)를 형성하고, 이 유입구(10)와 대향되는 타측면에 베어링(B) 연결로서 체결너트(n)를 결합시킨 배출구(20)를 형성하며, 상기 유입구(10)와 배출구(20)를 형성한 노즐본체의 상부 일측으로 체결볼트(b)를 형성한 흡입구(30)를 구비되도록 하여, 각 유입구 (10)와 배출구(20)와, 흡입구(30)를 'ㅗ' 형상의 라인구조를 갖는 가스배출공 (40)과 가스흡입공(50)에 의해 연결되게하므로서 형성한 것이다.

하지만, 상기와 같은 구성을 갖는 종래 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐은, 유입구와, 배출구와, 흡입구에 개별 제작된 체결너트와 체결볼트를 결합구성 시키게 되는 것으로, 이는 체결너트 및 체결볼트의 별도제작에 따른 불필요한 재료낭비의 문제점을 주는 것이었을 뿐만 아니라 이러한 결합관계에 따라오염가스 배출용 노즐의 부피를 증대되게하여 취급효율을 저하시키게 되는 문제점 을 갖게 하는 것이었다.

한편, 또 다르게 전술한 바와같은 구성을 갖는 종래 오염가스 배출용 노즐은 가스배출공의 구성이 노즐몸체와 일체화된 형상으로 단순한 관통구조를 이루게되므로 빈번한 사용관계에 있어, 가스배출공에 이상(오염물질에 의한 막힘 또는 마모현상 등)이 발생될 경우, 이를 용이하게 수리하지 못한체 노즐몸체 전체를 폐기처분해야 하는 상당한 사용상의 문제점을 주는 것이었으며, 특히 단순한 관통구조에 따른 정밀성의 저하로 오염가스의 배출효율을 극히 저하시키게 되는 구조상의 문제점 또한 항상 상존시키는 것이었다.

따라서, 본 고안은 종래 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 제반적인 문제점을 해결하고자 창안된 것으로;

본 고안의 목적은 간소화된 외형 구성에 따라 제품제작에 따른 재료비를 절감되도록하여 그 사용관계에 있어 경제성을 향상되도록 함과 동시에, 이와같은 간소화된 외형구성으로서 제품의 부피 또한 축소되게하여 그에 따른 취급효율을 상승되도록 한 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 제공함에 있는 것이다.

한편, 본 고안의 또 다른 목적으로는 가스배출공내에 각 크기를 달리하는 노즐을 사용자에 선택에 따라 탈,부착 가능한 형태로 장착 구성되도록 하여 제품의 정밀도를 향상되도록 함과 동시에 빈번한 사용관계에 따른 이상 발생시 노즐의 부분적인 교체사용을 가능케하여 향상된 구조적 변화로서 그 사용효율을 극히 상승시킬수 있도록 한 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 제공함에 있는 것이다.

이상, 상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 구체적인 수단으로는;

일측과 타측에 수평 대칭되는 유입구와 배출구를 구비하고, 그 상부 중앙에 직립구조를 취하는 흡입구를 일체로 형성하여, 가스배출공과 가스흡입공 의해 상호 관통된 연결구조를 이루도록 한 노즐본체에 있어서;

상기 가스배출공의 일측과 타측에 상호 대향된 구조를 이루는 한쌍의 체결부를 형성하여, 상기 일측 체결부에 장착유도구와 체결관을 갖는 유입노즐을 탈부착 구조로 장착시키고, 상기 타측 체결부에 장착유도구와 체결관을 갖는 배출노즐을 탈부착 구조로 창착시키며, 상기 유입노즐의 크기를 상기 배출노즐의 크기와 대비하여 상대적으로 작게 구성시키므로서 달성된다.

도 1은 종래 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 단면도

도 2는 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의

분해사시도

도 3은 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의

결합단면 구성도

도 4는 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의

사용상태도

< 도면 주요부위에 대한 부호의 설명 >

1 : 노즐본체 2 : 유입구 3 : 배출구

4 : 흡입구 5 : 가스배출공 6 : 가스흡입공

7 : 유입노즐 8 : 배출노즐 21,31,41 : 배관연결부

51,51' : 체결부 71,81 : 장착유도부 72,82 : 체결관

P : 통공

이하, 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 바람직한 실시예를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명하기로 한다.

도 2는 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 분해사시도이고, 도 3은 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 결합단면 구성도이며, 도 4는 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 사용상태도로서 그 구성을 살펴보면;

노즐본체(1)에 유입구(2)와, 배출구(3)와, 흡입구(4)를 일체로 형성하여 가스배출공(5)과 가스흡입공(6)에 의한 연결관계를 갖도록 하고, 그 내부로 유입노즐 (7)과 배출노즐(8)을 장착시키므로서 구성된다.

이때, 상기 유입구(2)는 도 2 내지 도 3으로 도시된 바와같이 노즐몸체(1)의 일측에 봉상체로 돌출되는 구조를 취하게 되는 것인바, 이와같은 유입구(2)는 그 중앙부에 후술하는 가스배출공(5)이 연결되는 형태로서 그 외측면에 암나사 구조를 이루는 배관연결부(21)를 형성함이 바람직하다.

또한, 상기 배출구(3)는 전술한 유입구(2)와 수평 대칭구조를 이루며 노즐본체(1)의 타측에 봉상체로 돌출되는 구조를 취하게 되는 것인바, 이와같은 배출구 (3)는 도 2 내지 도 3으로 도시된 바와같이 그 중앙부에 후술하는 가스배출공(5)을 연결되도록하고, 그 외측면에 암사나 구조를 이루는 배관연결부(31)를 형성되게 하여 상기한 유입구(1)와 동일한 구조를 취하도록 구성함이 바람직하다.

또한, 상기 흡입구(4)는 도 2내지 도 3으로 도시된 바와같이 노즐본체(1) 상부 중앙에 일체화된 직립구조로 형성되어지는 것인바, 이와같은 흡입구(4)는 도 2 내지 도 3으로 도시된 바와같이 그 중앙부에 후술하는 가스흡입공(6)을 연결하는 형태로하여 그 외측면에 암나사 구조를 이루는 배관연결부(41)를 형성되게 함이 바람직하다.

또한, 상기 가스배출공(5)은 도 2 내지 도 3으로 도시된 바와같이 노즐본체 (1)의 중앙을 수평구조로 관통하며 전술한 유입구(2)와 배출구(3)를 상호 연결되게 하는 구성을 취하게 되는 것인바, 이러한 가스배출공(5)은 도 3으로 도시된 바와같이 상기 유입구(2)와 연결되는 일측부의 직경을 다소 작게 형성하고, 이와 대비하여 상기 배출구(3)와 연결되는 타측부의 직경을 다소 크게 형성한 후, 그 내부에 도 3으로 도시된 바와같이 각 암사나 형태를 취하는 체결부(51)(51')를 상호 대향되는 한쌍의 구조로 형성되게 하므로서 구성함이 바람직하다.

또한, 상기 가스흡입공(6)은 도 3으로 도시된 바와같이 전술한 가스배출공 (5)의 중앙부에 직립구조를 이루는 형태로서 관통연결되도록 함이 바람직하다.

한편, 상기 유입노즐(7)은 도 2 내지 도 3으로 도시된 바와같이 통공(P)을 갖는 관상체 구조를 취하는 것으로, 이와같은 유입노즐(7)은 그 일측 단부로 너트구조를 이루는 장착유도부(71)를 형성하고, 그 타측에 상기 장착유도부(71)와 일체화되 연장 구성으로서 외주면에 수나사를 형성한 체결관(72)을 형성하여 구성함이 바람직하다,

이때, 상기한 바와같은 유입노즐(7)은 후술하는 배출노즐(8)과 대비하여 그 구성 크기를 상대적으로 작게 형성함이 바람직하다.

또한, 상기 배출노즐(8)은 전술한 유입노즐(7)과 동일한 구성형태로서 통공 (P)을 갖는 관상체 구조를 이루게 것인바, 이와같은 배출노즐(8) 또한 그 일측 단부로 너트구조를 이루는 장착유도부(81)를 형성하고, 그 타측에 상기 장착유도부 (81)와 일체화되 연장구성으로서 외주면에 수나사를 형성한 체결관(82)을 형성하여 구성되도록 함이 바람직하다,

이때, 상기한 배출노즐(8)은 전술한 유입노즐(7)과 대비하여 그 구성 크기를 상대적으로 크게 형성함이 바람직하다.

따라서, 상기와 같은 구성을 갖는 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 상호 결합함에 있어서는, 유입구(2)와, 배출구(3)와, 흡입구(4)를 일체로 하여 형성한 노즐몸체(1)에 있어, 유입구(2)와 배출구(3)를 가스배출공(5)에 의해 관통연결하고, 가스배출공(7)과 흡입구(4)를 재차 가스흡입공(6)에 의해 관통연결되도록 한 후, 상기 유입구(2)와 연결되는 가스배출공(5)의 일측 체결부(51)로 유입노즐(7)을 장착시키고, 상기 배출구(3)와 연결되는 가스배출공(5)의 타측 체결부(51')로 배출노즐(8)을 장착시키므로서 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐을 형성하게 되는 것이다.

이에, 상기와 같은 결합구성을 갖는 오염가스 배출용 노즐은 반도체 가공장치내에 장착되어 그 사용관계를 갖는 것으로, 그에 따른 상호 작용을 함께 살펴보면 다음과 같다.

먼저, 노즐본체(1)를 반도체 가공장치내에 장착함에 있어서는, 도 4으로 도시된 바와같이 유입구(2)를 압축가스가 충친된 압축가스 용기(T)의 유입배관(L)과 연결시키고, 배출구(3)로는 외부 연결구성인 배출배관(L')과 체결되도록하며, 흡입구(4)는 반응성 가스에 의해 반도체 웨이퍼 가공작업을 행하는 반도체 가공장치(9)의 배출배관(L')과 연결관계를 이루도록 한다.(도면 미설명 부호 T'는 반응성 가스용기 이고, W 는 가공되는 반도체 웨이퍼 이다.)

따라서, 이와같은 연결상태하에 반도체 가공장치(9)내에서 반응한 오염가스를 외부로 배출시키고자 할 경우, 압축가스 용기(T)의 밸브를 개방시키게 되면, 높은 고압의 압축가스는 유입구(2)와 연결되는 가스배출공(5)의 유입노즐을 경유하며 배출노즐(8)을 통해 흐름작용되는 것인바. 이와같이 압축가스가 유입노즐(7)과 배출노즐(8)을 높은 고압으로 통과할 경우 베르누이의 원리에 의해 도 4로 도시된 바와같이 가스흡입공(6)과 가스배출관(5)이 연결되는 목부위는 상대적으로 압력이 하강되며 가스흡입공(6)을 통해 반도체 가공장치(9)내에 잔류하는 오염가스를 흡입되게 하므로서 도 4로 도시된 바와같은 형태로서 배출작용을 행하게 되는 것이다.

이때, 상기와 같은 배출작용을 행함에 있어 유입노즐과 배출노즐은 상대적으로 그 크기를 달리하며 압축가스의 압력변화를 유도하게 되므로 반도체 가공장치 (9)내의 오염가스 배출효율을 더욱 증대시키는 작용을 행하게 되는 것이며, 혹 오염가스 배출작업중 압축가스 흐름에 이상이 발생될 경우에는 탈,부착되는 유입노즐 (7)과 배출노즐(8)의 구조적 특성에 따라 선택적인 교환작업을 가능케 하여 효율적인 사용기능을 부여하게 되는 것이다.

한편, 도 5는 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐의 또 다른 실시예로서, 이는 전술한 일실시예의 전반적인 구성과 상이함이 없으나, 일부 구성요소인 배출구(3)의 형태를 도 5로 도시된 바와같이 일정길이로 연장시킨 관상체의 삽입연결구(3')로 형성하여, 반도체 가공장치(1)의 배출배관(L')과 연결시 단순 삽입 연결구조 또는 삽입된 형태로서 용접등에 의한 결합방법을 취하게 할수 있는 것으로, 이 또한 본 고안의 범주에서 벗어나는 것은 아니다.

이상, 본 고안에 따른 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐은 유입구와 배출구와 흡입구에 각 배관연결부를 일체화 형성되도록하여 그 구성을 간소화하고, 제품의 부피를 상대적으로 축소되게 하므로서, 제품제작에 따른 재료비절감효과와 함께 취급효율을 상승되도록 한 것일 뿐만 아니라;

특히, 가스배출공내에 압력변화 작용을 행하는 구조로서 각 크기를 달리하는 노즐을 사용자에 선택에 따라 탈,부착 가능한 형태로 장착 구성되도록 하여 제품의 정밀도를 향상되도록 함과 동시에 빈번한 사용관계에 따른 이상 발생시 노즐의 부분적인 교체사용을 가능케하여 향상된 구조적 변화로서 그 사용효율을 극히 상승되도록 한 것으로, 사용자에게 매우 괄목할 만한 기대 효과를 제공하게 되는 것이다.

Claims (3)

1. 일측과 타측에 수평 대칭되는 유입구(2)와 배출구(3)를 구비하고, 그 상부 중앙에 직립구조를 취하는 흡입구(4)를 일체로 형성하여, 가스배출공(5)과 가스흡입공(6) 의해 상호 관통된 연결구조를 이루도록 한 노즐본체(1)에 있어서;

   상기 가스배출공(5)의 일측과 타측에 상호 대향된 구조를 이루는 한쌍의 체결부(51)(51')를 형성하여, 상기 일측 체결부(51)에 장착유도구(71)와 체결관(72)을 갖는 유입노즐(7)을 탈,부착 구조로 장착시키고, 상기 타측 체결부(51')에 장착유도구(81)와 체결관(82)을 갖는 배출노즐(8)을 탈,부착 구조로 창착시키며, 상기 유입노즐(7)의 크기는 상기 배출노즐(8)의 크기와 대비하여 상대적으로 작게 구성함을 특징으로 하는 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐.
2. 제 1항에 있어서, 상기 유입구(2)와, 배출구(3)와, 흡입구(4)의 각 외측면은 암나사구조를 이루는 배관연결부(21)(31)(41)로 형성됨을 특징으로 하는 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐,
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 배출구(3)는 관상체를 이루는 삽입연결구(3')로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 가공장치에 설치되는 오염가스 배출용 노즐.