KR20010098675A - 유도 코일을 냉각하는 방법 - Google Patents
유도 코일을 냉각하는 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010098675A KR20010098675A KR1020010020613A KR20010020613A KR20010098675A KR 20010098675 A KR20010098675 A KR 20010098675A KR 1020010020613 A KR1020010020613 A KR 1020010020613A KR 20010020613 A KR20010020613 A KR 20010020613A KR 20010098675 A KR20010098675 A KR 20010098675A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- coil
- cooling
- coolant
- temperature
- valve
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Induction Heating (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
본 발명은 진공 처리 챔버에서 사용되는 이온화 코일과 같은, 침수 유도 코일을 냉각하는 방법에 관련된다. 상기 코일(10)은 감겨 있는 중공 관(11)을 포함하는데 펌프(13)에 의해 주입될 때 상기 관을 통하여 냉각제가 흐를 수 있다. 공기가 각 방향으로 관을 통과할 수 있도록 이 흐름 방향이 밸브(16)에 작용하는 제어기(19)에 의해 제어될 수 있도록 밸브(16)가 구비된다. 밸브(16)의 변환 속도는 하류 냉각제 및 코일의 온도를 모니터 하거나 공정 조건에 의해 결정될 수 있다.
Description
본 발명은 진공 처리 챔버에서 사용되는 이온화 코일과 같은 침수 유도 코일을 냉각하는 방법에 관련된다.
이온화 코일이 적절히 제어되지 않는다면 많은 문제점이 발생할 수 있는데 진공 처리 챔버 안쪽에 코일이 있을 때 특히 그러한데, 왜냐하면 이 경우에 코일에 용착된 재료의 부착은 불완전해서 처리 챔버 내부의 입자를 손상시킬 수 있기 때문이다. 종래에 상기 코일은 코일을 통과하여 뻗어있는 냉각 통로를 따라 액체 냉각제를 흘러보냄으로써 냉각되었다. 만일 물이 사용된다면 냉각은 어느 정도 효율적이고 코일은 처리 챔버의 주위 온도 이하로 유지되어서, 가공된 웨이퍼에 다량의 입자를 첨가한다. 반대로, 공기가 사용된다면 원칙적으로 옳지만, 여러 가지 길이의 코일에서 이것은 단일 코일을 포함하고, 열 구배는 코일의 길이를 따라 증가하여서 용착된 재료를 조각으로 가른다.
본 발명은, 제 1 방향으로 냉각 통로를 통과하여 냉각제를 흘러보낸 후 반대 방향으로 상기 통로를 통하여 냉각제를 흘러보내는 것을 포함해, 관통하여 뻗어있는 냉각 통로를 가지는 유도 코일을 냉각하는 방법에 관한 것이다.
이 방향은 주기적으로 전환될 수 있는데, 전환 주기는 처리 기간이 길수록 감소되고 감지된 코일 온도에 반응해 제어될 수 있다. 이 방법은, 온도가 기설정된 레벨을 초과할 때 방향을 바꾸고 냉각제 및 코일의 하류 온도를 모니터하는 것을 포함할 수도 있다.
특히 냉각제가 공기 또는 그 밖의 적합한 가스인 것이 유리하다.
비록 본 발명은 위에서 정의되었지만 하기 상세한 설명 또는 위의 상세한 설명에서 기술한 특징의 모든 결합을 포함한다는 것을 이해해야 한다. 또 본 발명은 이 방법을 수행하기 위한 장치를 포함한다.
본 발명은 다양한 방식으로 실시될 수 있고 특정 실시예는 첨부 도면을 참고로 기술될 것이다:
도 1 은 유도 코일과 관련된 냉각 시스템의 개략도;
도 2 는 다른 냉각 형태로 처리되는 다수의 웨이퍼와 첨가된 입자 사이의 관계를 나타낸 그래프;
도 3 은 다른 형태 하에서 시간의 흐름에 따른 냉각을 나타낸 그래프;
도 4 는 RF 코일이 가열될 때 도 3에 대응하는 그래프.
이온화 코일과 같은, 유도 코일은 일반적으로 10으로 나타내었다. 이것은 감겨있는 중공 관(11)을 포함하는데, 이것은 스테인레스 강으로 만들어진다는 것을알 수 있다. 상기 관(11)은 중심 통로(12)를 한정하는데 이 통로를 통하여 냉각제는 이동할 수 있다. 펌프(13)는 공기 유입구(14)와 배출구(15)를 가진다. 상기 배출구(15)는 양방향성 밸브(16)를 제공하는데 이것은 파이프(17,18)에 의해 열 교환기(19)를 통하여 코일(10)의 각 단부에 연결된다. 사용할 때, 밸브(16)의 배치에 따라, 공기는 실선 화살표 방향 또는 점선 화살표 방향으로 관(11)을 통과하여 이동할 수 있다. 밸브(16)의 세팅은 컨트롤러(20)에 의해 결정된다. 상기 컨트롤러(20)는 가동될 때 공정에 적합한 기설정된 프로파일에 따라 또는 공정이 이루어지는 기간 동안 결정된 속도로 전환하도록 밸브(16)를 간단히 제어할 수 있다. 그러나, 열전쌍(21,22)은 코일(10)의 단부에 구비되어서 코일의 "하류" 온도가 모니터 되거나 코일의 길이를 따라 열 구배가 모니터될 수 있는 것이 선호된다. 상기 컨트롤러(20)는 기설정된 열 구배 또는 결정된 하류 온도를 달성하도록 변환 속도를 조절할 수 있다.
상기 열전쌍(21,22)은 똑같이 파이프(17,18) 위에 있고 온도 판독이 비교적 덜 직접적일지라도, 실제적이 이유 때문에 이것은 보다 편리하다는 것을 이해할 것이다. 또는 냉각제 온도가 모니터 될 수 있다. 실험상 이유로 열 교환기로부터 가장 멀리 떨어진 지점에서 코일 위에 부가 열전쌍이 배치되었다.
상기 컨트롤러(20)는 흐름 속도를 조절하기 위해서 제어 펌프(13)일 수도 있다.
만일 탈이온화되지 않는다면 물은 RF로 이동하므로 실리콘 오일이 사용된다. 이것은 실제적으로 알려진 모든 조인트 밖으로 누수될 수 있고 PTFE 테이프를 용해하고, 바닥 위에 기름을 남긴다.
실험 결과:
티타늄 질화물을 용착할 때 200℃ 내지 300℃ 범위의 코일 온도는 실리콘 웨이퍼 위에서 측정된 첨가된 입자를 참고로 선호된다는 것이 실험에 의해 결정되었다-도 2를 참고하라. 코일이 빠르게 증가된 대기 온도 입자 레벨에서 물에 의해 냉각되는 곳에서, 본 발명에 따라 온도 제어된 코일은 저첨가 입자 레벨을 안정되게 한다.
도 3에서 열전쌍(21,22)에서 온도는 일방향 및 이방향 모드 작동으로 도시된다. 이방향 모드에서 코일을 따라 온도 구배는 일방향 냉각 모드에 대해 동일한 기간동안 105℃ 의 온도 구배와 비교해, 150초 실험동안 단지 10℃라는 것을 알 수 있다.
도 4에서 코일이 60℃ 이하의 열 주기로 220℃에서 안정화되는 공정 중에 열전쌍(21,22,23)에서 온도가 나타나 있다. 열전쌍(21,22)은 RF 진공 공급 탱크에서 유지되므로 진공 프로세스 챔버 내에서 코일의 온도를 나타내지 않는다는 것을 알 수 있다.
Claims (4)
- 제 1 방향으로 냉각 통로를 통과하여 냉각제를 이동시킨 후 제 2 방향으로 통로를 통과하여 냉각제를 이동시키는 과정을 포함한 관통하여 뻗어있는 냉각 통로를 가지는 유도 코일을 냉각하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 방향은 주기적으로 전환되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 냉각제 및 코일의 하류 온도를 모니터하고 온도가 기설정된 레벨을 초과했을 때 방향을 바꾸는 것을 특징으로 하는 방법.
- 상기 청구항에 있어서, 냉각제는 공기인 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB0009565.3 | 2000-04-19 | ||
GB0009565A GB2361587B (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Method of cooling an induction coil |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010098675A true KR20010098675A (ko) | 2001-11-08 |
Family
ID=9890157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020010020613A KR20010098675A (ko) | 2000-04-19 | 2001-04-18 | 유도 코일을 냉각하는 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6531942B2 (ko) |
JP (1) | JP2002015854A (ko) |
KR (1) | KR20010098675A (ko) |
CN (1) | CN1198294C (ko) |
DE (1) | DE10119041A1 (ko) |
GB (1) | GB2361587B (ko) |
TW (1) | TW512371B (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170112668A (ko) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | (주) 엔피홀딩스 | 유도가열을 이용한 스팀발생장치,이를 이용한 스팀 세정 시스템 |
KR20170114293A (ko) * | 2016-04-03 | 2017-10-16 | (주) 엔피홀딩스 | 유도가열을 이용한 스팀발생장치,이를 이용한 스팀 세정 시스템 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012034182A1 (en) * | 2010-09-16 | 2012-03-22 | William Arthur Clune | Bomb or mine deactivation or detonation device, method and system |
JP2014158366A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Fanuc Ltd | 回転電機の冷却システム及び冷却方法 |
CN103100830A (zh) * | 2013-02-25 | 2013-05-15 | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 | 一种盖板式区熔热场线圈的加工方法 |
DE102014214727A1 (de) * | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Zf Friedrichshafen Ag | Kühlung einer elektrischen Spule |
CN107567126B (zh) * | 2017-09-18 | 2020-09-15 | 佛山市高捷工业炉有限公司 | 一种带有自动冷却效果的电磁加热线圈 |
EP3553797B1 (en) * | 2018-04-13 | 2022-04-20 | Institute for Plasma Research | A method of manufacturing radio frequency (rf) coil multi-driver rf based ion source |
KR102080765B1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-02-24 | 고려정밀 (주) | 성형성이 향상된 프로그래시브 금형 |
US11380480B2 (en) | 2019-07-10 | 2022-07-05 | Lear Corporation | Strip induction coil for wireless charging of a vehicle battery |
US11007887B2 (en) | 2019-07-11 | 2021-05-18 | Lear Corporation | Tubular induction coil for wireless charging of a vehicle battery |
CN113481351B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-08-30 | 燕山大学 | 连铸机结晶器非圆齿轮加热设备的冷却方法及装置 |
CN116928948B (zh) * | 2023-06-28 | 2024-01-23 | 中国矿业大学 | 一种大推力电动振动台动圈自适应冷却系统及控制方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE791284A (fr) * | 1972-11-13 | 1973-05-14 | Elphiac Sa | Systeme d'ajustement de la position d'un inducteur. |
US4293755A (en) * | 1978-10-23 | 1981-10-06 | General Instrument Corporation | Method of cooling induction-heated vapor deposition apparatus and cooling apparatus therefor |
JPS62165307A (ja) * | 1986-01-16 | 1987-07-21 | Fuji Electric Co Ltd | 液冷式均一磁場コイル |
GB8629634D0 (en) * | 1986-12-11 | 1987-01-21 | Dobson C D | Reactive ion & sputter etching |
DE3927324A1 (de) * | 1989-08-18 | 1991-02-21 | Leybold Ag | Kuehlvorrichtung fuer elektrische schaltungsanordnungen |
JP3426382B2 (ja) * | 1995-01-24 | 2003-07-14 | アネルバ株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
2000
- 2000-04-19 GB GB0009565A patent/GB2361587B/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-04-16 US US09/834,880 patent/US6531942B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-18 KR KR1020010020613A patent/KR20010098675A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-04-18 DE DE10119041A patent/DE10119041A1/de not_active Ceased
- 2001-04-18 TW TW090109264A patent/TW512371B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-04-19 CN CNB011170212A patent/CN1198294C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-19 JP JP2001121016A patent/JP2002015854A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170112668A (ko) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | (주) 엔피홀딩스 | 유도가열을 이용한 스팀발생장치,이를 이용한 스팀 세정 시스템 |
KR20170114293A (ko) * | 2016-04-03 | 2017-10-16 | (주) 엔피홀딩스 | 유도가열을 이용한 스팀발생장치,이를 이용한 스팀 세정 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1198294C (zh) | 2005-04-20 |
GB0009565D0 (en) | 2000-06-07 |
TW512371B (en) | 2002-12-01 |
JP2002015854A (ja) | 2002-01-18 |
GB2361587A (en) | 2001-10-24 |
US20010033217A1 (en) | 2001-10-25 |
US6531942B2 (en) | 2003-03-11 |
CN1318850A (zh) | 2001-10-24 |
GB2361587B (en) | 2003-11-26 |
DE10119041A1 (de) | 2001-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20010098675A (ko) | 유도 코일을 냉각하는 방법 | |
TW201944529A (zh) | 具有整合加壓氦冷卻的陶瓷晶圓加熱器 | |
US20040129224A1 (en) | Cooling mechanism with coolant, and treatment device with cooling mechanism | |
KR20110071125A (ko) | 플라즈마 프로세싱 장치 내 신속 반응성 열 제어를 위한 방법 및 장치 | |
KR101326456B1 (ko) | 파이프 막힘 감소 장치 및 방법 | |
JP2008252102A (ja) | 基板熱管理システム | |
KR20090001091A (ko) | 외부발열부재가 구성된 반도체 제조장치 | |
TW202044338A (zh) | 熱處理裝置及熱處理方法 | |
WO2019204125A1 (en) | Ceramic wafer heater having cooling channels with minimum fluid drag | |
CN109427610B (zh) | 晶片温控系统、晶片温控方法及反应腔室 | |
JP2001297988A (ja) | 半導体製造装置の排気トラップ機構 | |
KR19990006704A (ko) | 오존 유량 제어 장치 | |
US20090188660A1 (en) | Heating apparatus for a household appliance for the care of laundry items and method for operating such a heating apparatus | |
CN112259472A (zh) | 半导体清洗设备及清洗介质温度控制方法 | |
KR100660797B1 (ko) | 가스 가열 장치 | |
JP2611039B2 (ja) | 磁気軸受タ−ボ分子ポンプ | |
JP3013070B2 (ja) | 加熱冷却装置 | |
CN220767245U (zh) | 一种冷屏控温装置及分子束外延设备 | |
JP3507841B2 (ja) | 蒸気または温水による加熱装置 | |
JP2009250509A (ja) | 廃熱の蓄熱方法及びその蓄熱装置 | |
KR200264228Y1 (ko) | 급속 열처리장치의 공정 챔버 | |
JP2995179B1 (ja) | 浸漬液恒温供給システム | |
JP2004165584A (ja) | 半導体製造設備 | |
KR20020080923A (ko) | 반도체장치 제조설비의 배기시스템 | |
JP2003278943A (ja) | 高温動作バルブ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |