KR20010094191A - 화학용액 공조장치의 버블제거장치 - Google Patents

화학용액 공조장치의 버블제거장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화학용액 공조장치의 버블제거장치에 관한 것으로, 공조라인의 상면에 설치되어 공조라인으로 유입된 가스에 의해 발생된 버블이 자중에 의해 부유하도록 유도하는 버블 유도관과, 버블 유도관의 일측단에 설치되어 버블 유도관을 통해 유도되어 수집되는 버블을 일시 가두는 버블 수집관으로 구성하여 화학용액을 화학용액 공조장치에서 반도체 공정장치로 공급하는 공조라인에서 가스의 유입으로 발생된 버블로 인한 화학용액 공조장치와 반도체 공정장치의 가동 정지를 방지함으로써 화학용액 공조장치 및 반도체 공정장치의 가동률을 개선시키는 데 있다.

Description

화학용액 공조장치의 버블제거장치{Bubble remove device of chemical dispense apparatus}
본 발명은 화학용액 공조장치의 버블(bubble)제거장치에 관한 것으로, 화학용액 공조장치에서 공급되는 화학용액 속에 가스가 유입되어 발생된 버블이 반도체 공정장치로 공급되는 것을 방지하여 제거하기 위한 화학용액 공조장치의 버블제거장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해 각 공정별로 다양한 공정장치가 사용된다. 각 공정장치로는 반도체 소자를 제조하기 위한 화학 용액이 공급되며 화학용액의 공급은 공조장치를 통해 공급된다. 화학 용액을 공급하는 공조장치로는 용기공급장치와 펌핑(pumping)공급장치가 있다. 용기나 펌핑을 이용하여 화학용액을 반도체 공정장치로 공급하는 공조장치의 구성을 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 화학용 공조장치의 구성을 나타낸 배관도이다. 도시된 바와 같이, 제1용액저장용기(11), 제2용액저장용기(12), 제1 내지 제4공조 라인(line)(1,2,3,4) 및 복수의 밸브(valve)(21,22,24~29)로 구성된다. 제1용액저장용기(11)와 제2용액저장용기(12)에는 각각 저장된 화학용액의 양을 감지하기 위해 복수의 레벨 센서(level sensor)(11a~11d)(12a~12d)가 부착된다.
제1용액저장용기(11)와 제2용액저장용기(12)의 상측에는 제1공조라인(1)과 제2공조라인(2)이 설치된다. 제1공조라인(1)은 제1밸브(21) 및 제2밸브(22)가 설치되고, 제2공조라인(2)에는 제3밸브(24) 및 제4밸브(25)가 설치된다. 제3밸브(24)에는 솔레노이드 밸브(solenoid valve)(23)가 설치된다. 제3공조라인(3)에는 제5밸브(26) 및 제6밸브(27)가 설치되며 제4공조라인(4)에는 제7밸브(28) 및 제8밸브(29)가 각각 설치되어 화학용액이나 가스를 화살표 방향으로 흐르도록 개폐하게 된다.
전술한 화학용액의 공조장치에서 반도체 공정장치(도시 않음)로 화학용액을 공급하기 위해 제4공조라인(4)이 사용된다. 제4공조라인(4)을 첨부된 도면을 이용하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명에 의한 화학용액 공조장치의 버블제거장치의 단면도이다. 도시된 바와 같이, 반도체 공정장치로 화학용액을 공급하는 제4공조라인(4)에는 소정 간격으로 복수의 레벨센서(31)(32)가 설치된다. 레벨센서(31)(32)는 반도체 공정장치로 공급되는 화학용액의 공급 압력을 측정하게 된다. 화학용액이 반도체 공정장치로 공급되는 동안 화학용액속에 질소가스(N2)가 유입되는 경우 버블(bubble:B)이 발생되어 반도체 공정장치로 공급될 수 있다.
화학용액 속에 가스가 유입되어 발생된 버블이 반도체 공정장치로 공급되는 경우 반도체 소자를 제조하는 공정 불량이 발생되어 반도체 공정장치와 화학용액 공조장치의 가동을 정지시켜야 된다. 이 후 반도체 공정장치와 공조장치를 다시 보수한 후 재 가동시켜야 하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 반도체 공정장치에 사용되는 화학용액을 공급하는 화학용액 공조장치에서 화학용액을 공급하는 공조라인으로 유입되는 가스에 의해 발생된버블을 버블 수집관을 이용해 제거하는 화학용액 공조장치의 버블제거장치를 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 화학용액을 화학용액 공조장치에서 반도체 공정장치로 공급하는 공조라인에서 발생된 버블로 인한 화학용액 공조장치와 반도체 공정장치의 가동 정지를 방지하여 화학용액 공조장치 및 반도체 공정장치의 가동률을 개선시킴에 있다.
도 1은 화학용 공조장치의 구성을 나타낸 배관도,
도 2는 종래의 화학용액 공조장치의 버블제거장치의 단면도,
도 3은 본 발명에 의한 화학용액 공조장치의 버블제거장치의 단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호 설명 *
40: 공조라인 41: 3방향 조인트밸브
42: 2방향 조인트밸브 43: 버블 유도관
44: 버블 수집관 44a: 버블수집용기
44b: 덮개
본 발명의 화학용액 공조장치의 버블제거장치는 공조라인의 상면에 설치되어 공조라인으로 유입된 가스에 의해 발생된 버블이 자중에 의해 부유하도록 유도하는 버블 유도관과, 버블 유도관의 일측단에 설치되어 버블 유도관을 통해 유도되어 수집되는 버블을 일시 가두는 버블 수집관으로 구성됨을 특징으로 한다.
버블 유도관은 공조라인의 직경보다 작게 형성되며, 버블 수집관은 버블 유도관을 통해 유도되는 버블을 수집하여 일시 가두는 버블수집용기와 버블수집용기의 상면에 개폐가 가능하도록 설치되어 버블수집용기에 일시 가두어진 버블을 외부로 배출시키는 덮개로 구성됨을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명에 의한 화학용액 공조장치의 버블제거장치의 단면도이다. 도시된 바와 같이, 공조라인(40)의 상면에 설치되어 공조라인(40)으로 유입된 가스에 의해 발생된 버블(B)이 자중에 의해 부유하도록 유도하는 버블 유도관(43)과, 버블 유도관(43)의 일측단에 설치되어 버블 유도관(43)을 통해 유도되어 수집되는버블(B)을 일시 가두는 버블 수집관(44)으로 구성된다.
본 발명의 구성 및 작용을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1에 도시된 화학용액 공조장치로부터 반도체 공장창치(도시 않음)로 화학용액을 공급하게 된다. 화학용액은 화살표 방향으로 흘러 공조라인(40)을 통해 반도체 공정장치로 공급된다. 화학용액을 공급하는 공조라인(40)에 질소가스가 유입되면 화학용액 속에서 버블(B)을 발생시키게 된다. 버블(B)이 발생되면 반도체 소자 제조 공정에 치명적인 불량을 유발시킴으로 인해 이를 제거해야 한다.
공조라인(40)에 포함된 버블(B)을 제거하기 위해 버블 유도관(43)은 공조라인(40)의 직경보다 작게 형성한다. 버블 유도관(43)의 직경을 공조라인(40)의 직경보다 작게 형성함으로써 반도체 공정장치로 공급되는 화학용액이 역류되는 것을 방지한다. 공조라인(40)의 직경보다 작은 버블 유도관(43)을 공조라인(40)에 접속 연결시키기 위해 3방향 조인트 밸브(joint valve)(41)가 사용된다. 공조라인(40)의 일단은 2방향 조인트 밸브(42)로 연결된다.
3방향 조인트 밸브(41)를 이용해 공조라인(40)에 버블 유도관(43) 설치시 버블 유도관(43)이 공조라인(40)에 수직으로 접하도록 설치한다. 즉, 공조라인(40)의 위에 버블 유도관(43)을 설치한다. 버블 유도관(43)을 공조라인(40)의 상측에 설치함으로써 공조라인(40)으로 유입된 가스에 의해 버블(B)이 발생하는 경우 발생된 버블(B)은 화학용액의 비중보다 극히 작음으로 인해 위로 이동하여 버블 유도관(43)에 의해 유도된다.
유도관(43)에 의해 유도된 버블(B)은 버블 수집관(44)에 일시 가두게 된다.공조라인(40)을 통해 화학용액이 반도체 공정장치로 공급되는 동안 외부로 오염원이 화학용액에 침투되는 것을 방지하기 위해 버블(B)을 버블 수집관(44)에 일시 가두게 된다. 버블(B)을 일시 가두는 버블 수집관(44)은 버블수집용기(44a)와 덮개(44b)로 구성된다.
버블수집용기(44a)는 버블 유도관(43)에 의해 유도된 버블(B)을 일시 가두게 되며, 화학용액이 반도체 공정장치로 공급이 완료되면 버블수집용기(44a)에 일시 가두어진 버블(B)을 제거하게 된다. 버블수집용기(44a)에 가두어진 버블(B)을 제거하기 위해 버블수집용기(44a)의 상면에는 덮개(44b)가 형성된다. 덮개(44b)는 버블수집용기(44a)의 상면에 개폐가 가능하도록 설치되어 버블수집용기(44a)에 일시 가두어진 버블(B)을 외부로 배출시키게 된다.
이상과 같이 화학용액 공조장치에서 반도체 공장장치로 화학용액을 공급하는 공조라인에서 가스의 유입에 따라 버블이 발생되는 경우 버블 유도관 및 버블수집관을 이용해 제거함으로써 버블로 인한 반도체 공정장치의 가동정지를 방지할 수 있게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 화학용액을 화학용액 공조장치에서 반도체 공정장치로 공급하는 공조라인에서 가스의 유입으로 발생된 버블로 인한 화학용액 공조장치와 반도체 공정장치의 가동 정지를 방지함으로써 화학용액 공조장치 및 반도체 공정장치의 가동률을 개선시키는 효과를 제공한다.

Claims (3)

  1. 화학용액을 반도체 공정장치로 공조라인을 통해 공급하는 공조장치에 있어서,
    상기 공조라인의 상면에 설치되어 공조라인으로 유입된 가스에 의해 발생된 버블이 자중에 의해 부유하도록 유도하는 버블 유도관; 및
    상기 버블 유도관의 일측단에 설치되어 버블 유도관을 통해 유도되어 수집되는 버블을 일시 가두는 버블 수집관으로 구성됨을 특징으로 하는 화학용액 공조장치의 버블제거장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 버블 유도관은 상기 공조라인의 직경보다 작게 형성됨을 특징으로 하는 화학용액 공조장치의 버블제거장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 버블 수집관은 상기 버블 유도관을 통해 유도되는 버블을 수집하여 일시 가두는 버블수집용기; 및
    상기 버블수집용기의 상면에 개폐가 가능하도록 설치되어 버블수집용기에 일시 가두어진 버블을 외부로 배출시키는 덮개로 구성됨을 특징으로 하는 화학용액 공조장치의 버블제거장치.
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