KR20010085173A - Thermal conductive material - Google Patents

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KR20010085173A
KR20010085173A KR1020000025237A KR20000025237A KR20010085173A KR 20010085173 A KR20010085173 A KR 20010085173A KR 1020000025237 A KR1020000025237 A KR 1020000025237A KR 20000025237 A KR20000025237 A KR 20000025237A KR 20010085173 A KR20010085173 A KR 20010085173A
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다나하시히데아키
가미타니기요아키
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미야타 아키라
도카이 고무 고교 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: To provide a heat conductive member capable of achieving space saving and miniaturization, capable of efficiently transmitting the heat of a heated pressure bonding plate to an object to be bonded under pressure and having antistatic properties. CONSTITUTION: The heat conductive member consists of a sheet layer 21 comprising a heat conductive sheet and the release layer formed on at least one surface of the sheet layer 21 and at least one of the sheet layer 21 and the release layer 22 has antistatic properties.

Description

열전도성 부재{THERMAL CONDUCTIVE MATERIAL}Thermally Conductive Member {THERMAL CONDUCTIVE MATERIAL}

본 발명은 전자·전기기기부품의 압착접합에 사용되고 가열압착판의 열을 피압착체에 전달하는 열전도성 부재에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a thermally conductive member that is used for crimping joining of electronic and electrical equipment parts and transfers heat from a hot press plate to the compact.

전자·전기기기 등에 많이 사용되고 있는 반도체 칩이나 반도체 리드부품의 접합에는 접합부를 금속의 가는 선으로 열압착에 의해 접합하는 와이어 본딩법, 캐리어 테입상에 형성한 접속용 리드의 내측에 반도체 베어칩을 접속하는 TAB(테입 캐리어)법, 플립칩법이 있다.In the bonding of semiconductor chips and semiconductor lead parts, which are widely used in electronic and electrical equipment, a semiconductor bare chip is used inside the connection lead formed on the carrier tape, and the wire bonding method of joining the junction part by thermal compression with a thin metal wire. There are a TAB (tape carrier) method and a flip chip method to be connected.

이 중, 자동화, 고속화 조립이 가능한 것으로부터 TAB법이 퍼스널 컴퓨터나 워크 스테이션의 실장에 많이 사용되고 있다.Among these, the TAB method is widely used for mounting a personal computer or a workstation because automation and high speed assembly are possible.

액정 디스플레이 구동 LSI용 TAB의 아우터리드와 액정패널의 화소전극간의 접합에는 좁은 피치의 접합에 대응가능한 이방성 도전필름이 사용되고 있다. 이방성 도전필름은 금속도금한 수지입자 등의 도전성 입자를 열경화성 에폭시 수지 등에 분산시킨 것으로, 압착됨으로써 입자를 통하여 도통이 얻어지므로 좁은 피치의 디스플레이의 접속에 적합하다.An anisotropic conductive film capable of coping with a narrow pitch is used for bonding between an outer of a TAB for a liquid crystal display driving LSI and a pixel electrode of a liquid crystal panel. The anisotropic conductive film is obtained by dispersing conductive particles such as metal-plated resin particles in a thermosetting epoxy resin or the like, and is suitable for connection of a narrow pitch display because conductive is obtained through the particles by being compressed.

그리고, 필름 캐리어(전자부품부착 테입 캐리어)와 액정패널의 접합은 예를 들어 도 4에 도시한 방법에 의해 이루어진다. 즉, 하부판(1)의 위에 이방성 도전필름(2)을 부착한 액정패널(3)을 배치하고, 이방성 도전필름(2)의 위에 필름 캐리어(4)를 얹고 이형용 내열필름(5) 및 열전도성 고무 시트(6)를 통하여, 가열압착판(7)을 눌러 부착시킴으로써 가열압착판(7)의 열이 열전도성 고무 시트(6)를 통과하여 필름 캐리어(4), 이방성 도전필름(2)에 전달하고 이방성 도전필름(2) 중의 도전성 입자를 압착하여, 이방성 도전필름(2)과 필름 캐리어(4)를 접합한다.And bonding of a film carrier (tape carrier with an electronic component) and a liquid crystal panel is performed by the method shown in FIG. 4, for example. That is, the liquid crystal panel 3 having the anisotropic conductive film 2 attached thereto is disposed on the lower plate 1, the film carrier 4 is placed on the anisotropic conductive film 2, and the release heat-resistant film 5 and the thermal conductivity are formed. By pressing and attaching the hot pressing plate 7 through the rubber sheet 6, the heat of the hot pressing plate 7 passes through the thermal conductive rubber sheet 6 to the film carrier 4 and the anisotropic conductive film 2. It transfers and compresses the electroconductive particle in the anisotropic conductive film 2, and joins the anisotropic conductive film 2 and the film carrier 4 together.

그러나, 도 4에 도시한 방법은 열전도성 고무 시트(6)와 이형용 내열필름(5)을 겹치게 설정할 필요가 있으므로 열전도성 고무시트(6)와 이형용 내열필름(5)의 각각에 대해서 공급용 및 감기용 장치를 필요로 하고 제조설비가 커지는 문제가 있다. 또한, 이형용 내열필름(5)은 얇을수록 열전도성이 양호하지만, 설정시에 주름이 발생하므로 작업상으로부터는 그다지 얇게 할 수 없다는 문제가 있다. 또한, 이형용 내열필름(5)을 얇게 할 수 없다는 것은 열효율의 면에서도 불리하다.However, since the method shown in FIG. 4 needs to set the thermally conductive rubber sheet 6 and the release heat-resistant film 5 so as to overlap each other, for the supply of the heat-conductive rubber sheet 6 and the release heat-resistant film 5, respectively. There is a problem in that a device for winding and a manufacturing facility are enlarged. In addition, the thinner the heat-resistant film 5 has better thermal conductivity, but there is a problem in that wrinkles are generated at the time of setting so that the heat-resistant film 5 cannot be made very thin from the work. In addition, it is disadvantageous in terms of thermal efficiency that the release heat-resistant film 5 cannot be made thin.

이 대책으로서, 본 출원인은 열전도성 고무 시트의 한쪽면 또는 양쪽면에 불소계 수지층이 적층 일체화되어 이루어진 열전도성 고무부재를 제공하고 있다(일본 특개평7-214728호 공보). 이것에 의해, 공간절약화, 소형화가 도모되고, 가열압착판(7)의 열을 효율적으로 피압착체에 전달할 수 있고 전자·전기기기부품의 압착접합을 양호하게 실시할 수 있다.As a countermeasure, the present applicant provides a thermally conductive rubber member formed by laminating and integrating a fluorine-based resin layer on one or both surfaces of a thermally conductive rubber sheet (Japanese Patent Laid-Open No. 7-214728). As a result, space saving and miniaturization can be achieved, and the heat of the heat-compression bonding plate 7 can be efficiently transferred to the to-be-compressed body, and the crimping of the electronic and electrical equipment parts can be performed satisfactorily.

그러나, 상기 열전도성 고무부재는 절연체이므로 반복하여 사용하면 정전기가 발생하고 열전도성 고무부재를 떼어낼 때 실장하는 액정패널(3)이 어긋나거나 불꽃이 발생하여 IC가 파괴되는 등의 문제가 발생할 우려가 있어 한층 더한 개량이 요구되고 있다.However, since the thermally conductive rubber member is an insulator, if it is used repeatedly, there may be a problem that static electricity is generated and the liquid crystal panel 3, which is mounted when the thermally conductive rubber member is removed, may be displaced or a spark may be generated, causing the IC to be destroyed. There is a further improvement required.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로 공간절약화, 소형화가 도모되고 가열압착판의 열을 효율적으로 피압착체에 전달할 수 있음과 동시에 대전방지성을 구비한 열전도성 부재의 제공을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and aims to provide a thermally conductive member having an antistatic property while being able to reduce space and size and to efficiently transfer heat from a hot press plate to a press body. It is done.

도 1은 본 발명의 열전도성 부재의 사용태양의 한 예를 설명하기 위한 모식적인 설명도,BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic explanatory drawing for demonstrating an example of the use aspect of the heat conductive member of this invention,

도 2는 본 발명의 열전도성 부재의 한 실시예를 모식적으로 도시한 단면도,2 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the thermally conductive member of the present invention;

도 3은 본 발명의 열전도성 부재의 다른 실시예를 모식적으로 도시한 단면도,3 is a cross-sectional view schematically showing another embodiment of the thermally conductive member of the present invention;

도 4는 종래의 필름 캐리어의 부착방법을 설명하기 위한 모식적인 설명도이다.It is typical explanatory drawing for demonstrating the attachment method of the conventional film carrier.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

21: 시트층 22: 이형층21: sheet layer 22: release layer

상기의 목적을 달성하기 위해 본 발명의 열전도성 부재는 열전도성 시트로 이루어진 시트층과, 상기 시트층 중 적어도 한면에 형성된 이형층을 구비한 열전도성 부재로서, 상기 시트층 및 이형층 중 적어도 한층이 대전방지성을 갖는 구성을 갖는다.In order to achieve the above object, the thermally conductive member of the present invention is a thermally conductive member having a sheet layer made of a thermally conductive sheet and a release layer formed on at least one surface of the sheet layer, and at least one of the sheet layer and the release layer. It has a structure having this antistatic property.

즉, 본 발명의 열전도성 부재는 열전도성 시트로 이루어진 시트층과, 상기 시트층 중 적어도 한면에 형성된 이형층을 구비한 것이므로, IC회로를 구비한 물품의 제조에 있어서, 열전도성 고무 시트와 이형용 내열필름의 2장을 필요로 하지 않고 1장으로 가능하게 할 수 있으므로, 제조설비의 공간절약화, 소형화를 실현할 수 있다. 또한, 시트층 및 이형층 중 적어도 한층이 대전방지성을 갖는 것으로부터 열전도성 부재의 반복 사용에 의해 정전기가 발생하지 않고, 실장하는 액정패널이 어긋나거나 불꽃이 발생하여 IC가 파괴되는 등의 문제가 발생하지 않는다. 그리고, 시트층의 한쪽면에 이형층이 설치되어 있는 경우에는 피압착체에 열전도성 시트가 직접 접촉하지 않고 피압착체에 대한 가열압착을 양호하게 실시할 수 있고, 시트층의 양면에 이형층이 설치되어 있는 경우에는 가열압착판에도 열전도성 시트가 직접 접촉되지 않고 피압착체에 대한 가열압착을 한층 양호하게 실시할 수 있다.That is, since the thermally conductive member of the present invention has a sheet layer made of a thermally conductive sheet and a release layer formed on at least one surface of the sheet layer, the thermally conductive rubber sheet and the mold release agent are used in the manufacture of an article having an IC circuit. Since two sheets of heat resistant film are not required, it can be made possible by one sheet, so that space saving and miniaturization of manufacturing equipment can be realized. In addition, since at least one of the sheet layer and the release layer has antistatic properties, static electricity is not generated by repeated use of the thermally conductive member, the liquid crystal panel to be mounted is displaced, or sparks are generated, resulting in damage to the IC. Does not occur. And when a release layer is provided in one side of a sheet layer, heat-compression with respect to a to-be-adhered body can be performed favorably, without a thermally conductive sheet contacting a to-be-adhered body, and a release layer is formed on both surfaces of a sheet layer. In this case, the thermally conductive sheet is not in direct contact with the hot press plate, but the heat press can be performed even more favorably with respect to the adherend.

특히, 상기 대전방지성을 갖는 층의 표면저항이 1010Ω 이하로 설정되고 또는 상기 이형층이 실리콘계 수지층 또는 불소 수지층인 것이 IC 회로를 구비한 물품의제조에 사용하는 열전도성 부재로서 특히 바람직하다.In particular, the surface resistance of the antistatic layer is set to 10 10 Ω or less, or the release layer is a silicone-based resin layer or a fluororesin layer, particularly as a thermally conductive member for use in the manufacture of an article having an IC circuit. desirable.

다음에, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다.Next, embodiment of this invention is described.

본 발명의 열전도성 부재는 열전도성 시트로 이루어진 시트층과, 이 시트층 중 적어도 한면에 형성된 이형층을 구비한 것으로서, 이 층 중 적어도 한층이 대전 방지성을 갖는 것이다.The heat conductive member of this invention is equipped with the sheet layer which consists of a heat conductive sheet, and the release layer formed in at least one surface of this sheet layer, At least one of these layers has antistatic property.

본 발명의 열전도성 부재의 시트층을 구성하는 열전도성 시트는 열전도성 재료를 종래 공지의 방법에 의해 시트형으로 성형한 것이다. 열전도성 재료라는 것은 통상, 열전도성 충전제가 첨가된 고무, 수지 등을 말하지만 고무, 수지자체가 열전도성을 나타내는 것이어도 좋다. 열전도성 재료로서는 예를 들어 실리콘 폴리머와 열전도성 충전제를 함유하는 조성물 등을 들 수 있다.The thermally conductive sheet constituting the sheet layer of the thermally conductive member of the present invention is formed by molding a thermally conductive material into a sheet by a conventionally known method. Although a thermally conductive material generally means rubber | gum, resin, etc. which the thermally conductive filler was added, rubber | gum and resin itself may show thermal conductivity. As a thermally conductive material, the composition containing a silicone polymer and a thermally conductive filler, etc. are mentioned, for example.

상기 실리콘 폴리머로서는 열전도성 시트로 이루어진 시트층에 탄성을 부여할 수 있는 것이 바람직하고, 예를 들어 실리콘 고무, 실리콘 수지 등을 들 수 있고 단독 또는 2종 이상 병용하여 사용할 수 있다. 그 중에서도 시트층에 뛰어난 탄성을 부여할 수 있다는 점에서 실리콘 고무가 바람직하다.As said silicone polymer, what can provide elasticity to the sheet layer which consists of a thermally conductive sheet is preferable, For example, silicone rubber, a silicone resin, etc. are mentioned, It can be used individually or in combination of 2 or more types. Especially, silicone rubber is preferable at the point which can provide outstanding elasticity to a sheet layer.

상기 열전도성 충전제로서는 열전도성 시트로 이루어진 시트층에 열전도성을 부여할 수 있는 것이면 특별히 한정은 없고 예를 들어 산화알루미늄(알루미나), 질화붕소, 질화알루미늄, 산화아연, 산화마그네슘, 탄화규소, 석영, 수산화알루미늄, 금속분말 등을 들 수 있고 단독 또는 2종류 이상 병용하여 사용할 수 있다. 그 중에서도 시트층에서의 분산성의 점에서 산화알루미늄이 바람직하다.The thermally conductive filler is not particularly limited as long as it can impart thermal conductivity to a sheet layer made of a thermally conductive sheet. For example, aluminum oxide (alumina), boron nitride, aluminum nitride, zinc oxide, magnesium oxide, silicon carbide, quartz And aluminum hydroxide, metal powder, and the like, and can be used alone or in combination of two or more. Especially, aluminum oxide is preferable at the point of the dispersibility in a sheet layer.

상기 실리콘폴리머와 열전도성 충전제를 함유하는 조성물에는 경화제, 안료,반응조정제, 연화제, 충전제, 표면처리제 등을 적절하게 함유시키는 것도 가능하게 한다.The composition containing the silicone polymer and the thermally conductive filler can also be suitably contained a curing agent, a pigment, a reaction regulator, a softener, a filler, a surface treatment agent and the like.

상기 경화제로서는 특별히 한정은 없고 사용하는 실리콘 폴리머의 종류, 가황방법 등에 따라 적절하게 선택된다. 예를 들어 열풍가황에서는 아실계 퍼옥사이드가 사용되고 그 이외의 가황에서는 알킬계 퍼옥사이드가 사용된다. 경화제의 함유비율은 실리콘 폴리머 100중량부(이하 「부」라고 약칭함)에 대해서 0.5∼3부의 범위로 설정하는 것이 바람직하다.There is no limitation in particular as said hardening | curing agent, According to the kind of silicone polymer to be used, a vulcanization method, etc., it selects suitably. For example, acyl peroxide is used in hot air vulcanization and alkyl peroxide is used in other vulcanizations. It is preferable to set the content rate of a hardening | curing agent in the range of 0.5-3 parts with respect to 100 weight part of silicone polymers (it abbreviates as "part" hereafter).

본 발명의 열전도성 부재를 구성하는 이형층은 예를 들어 실리콘계 수지, 불소계 수지 등의 이형성을 부여할 수 있는 재료를 사용하여 형성된다. 실리콘계 수지로서는 특별히 제한은 없고 예를 들어 메틸실리콘 수지, 메틸페닐실리콘 수지 등을 들 수 있다. 또한, 불소계 수지로서는 특별히 제한은 없고 예를 들어 폴리사불화 에틸렌(PTFE), 폴리삼불화 에틸렌(PTFCE), 폴리불화비닐리덴(PVDF) 등을 들 수 있다. 또한, 이형층의 형성재료 중에는 필요에 따라서 에폭시 수지 등의 바인더, 우레탄 수지 등을 배합해도 좋다.The release layer which comprises the heat conductive member of this invention is formed using the material which can give mold release property, such as silicone resin and fluorine resin, for example. There is no restriction | limiting in particular as silicone type resin, For example, methyl silicone resin, methylphenyl silicone resin, etc. are mentioned. Moreover, there is no restriction | limiting in particular as fluorine resin, For example, polyethylene fluoride (PTFE), poly ethylene trifluoride (PTFCE), polyvinylidene fluoride (PVDF), etc. are mentioned. Moreover, you may mix | blend binders, such as an epoxy resin, a urethane resin, etc. in the formation material of a mold release layer as needed.

그리고, 상기 이형층의 형성방법으로서는 특별히 한정은 없고 예를 들어 실리콘계 수지를 사용하는 경우, 실리콘계 수지를 용제에 용해한 것을 열전도성 시트에 도포한 후 건조·경화시켜 실리콘계 수지도막(실리콘계 수지층)을 형성하는 방법 등이 채용된다. 또한, 불소계 수지를 사용하는 경우에는 불소계 수지를 용제에 용해한 것을 열전도성 시트에 도포한 후 건조·경화시켜 불소계 수지도막(불소계 수지층)을 형성하는 방법, 접착제, 점착제에 의해 열전도성 시트와 불소계 수지시트를 접착시키는 방법 등이 채용된다.And there is no limitation in particular as a formation method of the said release layer, For example, when using silicone resin, what melt | dissolved silicone resin in the solvent is apply | coated to a thermally conductive sheet, and it dries and hardens a silicone resin film (silicone resin layer) The formation method etc. are employ | adopted. In the case of using a fluorine-based resin, a method of forming a fluorine-based resin film (fluorine-based resin layer) by applying a melted fluorine-based resin in a solvent to a thermally conductive sheet and then drying and curing to form a fluorine-based resin film (fluorine-based resin layer). The method of adhering a resin sheet, etc. are employ | adopted.

본 발명의 열전도성 부재는 상술한 바와 같이 시트층 및 이형층 중 적어도 한층이 대전방지성을 갖는 것이다.In the thermally conductive member of the present invention, at least one of the sheet layer and the release layer has antistatic property as described above.

대전방지성을 갖는 층의 표면저항은 1010Ω 이하로 설정되어 있는 것이 바람직하고 특히 바람직한 것은 108Ω 이하이다. 즉, 1010Ω을 초과하면, 정전기의 발생을 방지할 수 없고, 실장하는 액정패널이 어긋나거나 불꽃이 발생하여 IC가 파괴하는 등의 문제를 해소할 수 없다는 우려가 있기 때문이다.The surface resistance of the layer having antistatic property is preferably set to 10 10 Ω or less, particularly preferably 10 8 Ω or less. In other words, if it exceeds 10 10 Ω, the generation of static electricity cannot be prevented, and there is a fear that problems such as disassembly of the liquid crystal panel to be mounted or generation of sparks can not be solved.

상기 시트층, 이형층에 대전방지성을 부여하는 방법으로서는 예를 들어 시트층, 이형층의 형성재료 중에 도전제, 도전성 도료, 도전성 잉크 등을 1종 또는 2종 이상 배합하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of providing antistatic property to the said sheet layer and a mold release layer, the method of mix | blending 1 type, or 2 or more types of a electrically conductive agent, an electroconductive paint, a conductive ink, etc. in the formation material of a sheet layer and a release layer is mentioned, for example. have.

상기 도전제로서는 알루미늄, 구리, 니켈, 놋쇠, 은 등의 금속분말이나 카본 블랙 등을 들 수 있고, 단독으로 또는 2종 이상 병용하여 사용된다.As said electrically conductive agent, metal powders, such as aluminum, copper, nickel, brass, silver, carbon black, etc. are mentioned, It is used individually or in combination of 2 or more types.

그 중에서도 뛰어난 전기전도성과 함께 열전도성을 가지고, 또한 경량인 점에서 알루미늄 분말이 바람직하다. 도전제 중 금속분말의 평균입자직경은 3∼100㎛의 범위로 설정하는 것이 바람직하고, 특히 바람직한 것은 10∼50㎛의 범위이다. 즉, 금속분말의 평균입자직경이 3㎛미만이면 시트층 중에 분산시킨 경우에는 시트층이 너무 단단해져 열전도성 부재 전체의 탄력성이 떨어지고 이형층 중에 분산시킨 경우에는 소망의 전기전도성을 얻기 위해 다량배합하면 이형성이 떨어지는 경향이 있기 때문이다. 또한, 금속분말의 평균입자직경이 100㎛을 초과하여 시트층 중에 분산시킨 경우에는 전기전도성과 열전도성의 균형이 무너지고 이형층 중에 분산시킨 경우에는 이형층 표면에 편차가 발생하여 IC회로를 구비한 물품의 제조에 적합하지 않게 되는 경향이 있기 때문이다.Among them, aluminum powder is preferred because it has excellent electrical conductivity and thermal conductivity and is lightweight. The average particle diameter of the metal powder in the conductive agent is preferably set in the range of 3 to 100 µm, particularly preferably in the range of 10 to 50 µm. In other words, when the average particle diameter of the metal powder is less than 3 µm, the sheet layer becomes too hard when dispersed in the sheet layer, and the elasticity of the entire thermally conductive member is inferior. When dispersed in the release layer, when it is mixed in large amounts to obtain the desired electrical conductivity, This is because the release property tends to fall. In addition, when the average particle diameter of the metal powder is dispersed in the sheet layer exceeding 100 μm, the balance between electrical conductivity and thermal conductivity is broken, and when dispersed in the release layer, deviation occurs on the surface of the release layer, thereby providing an IC circuit. This is because it tends to be unsuitable for the manufacture of articles.

상기 도전성 도료는 도전성을 갖는 도료로서, 예를 들어 도전성 부여제(은분말, 산화은, 질산은, 은의 유기화합물, 구리분말, 니켈분말, 카본블랙 등)과, 점결제(에틸셀룰로스, 페놀수지, 아크릴 수지 등의 합성수지, 저융점 유리분말, 붕산아연, 규산아연, 식물기름 등)과, 용제(아세톤, 셀로솔브 유도체, 초산에틸, 케톤산류, 벤젠, 톨루엔, 염화에틸렌 등)과 섞은 것을 들 수 잇다.The conductive paint is a conductive paint, for example, conductivity-imparting agents (silver powder, silver oxide, silver nitrate, organic compounds of silver, copper powder, nickel powder, carbon black, etc.), and binders (ethyl cellulose, phenol resin, acrylic). Synthetic resins such as resins, low melting glass powders, zinc borate, zinc silicate, vegetable oils, etc. .

상기 도전성 잉크는 인쇄를 목적으로 인자성(印字性)이 뛰어난 것을 말한다.The said conductive ink means what is excellent in printability for the purpose of printing.

또한, 본 발명의 열전도성 부재를 구성하는 시트층의 두께는 통상, 0.1∼5㎜의 범위로 설정된다. 그리고, 시트층의 열전도율은 열효율의 면에서 0.40W/m·K 이상으로 설정되어 있는 것이 바람직하고, 특히 바람직한 것은 1.00W/m·K 이상이다.In addition, the thickness of the sheet layer which comprises the heat conductive member of this invention is normally set in the range of 0.1-5 mm. The thermal conductivity of the sheet layer is preferably set to 0.40 W / m · K or more in terms of thermal efficiency, and particularly preferably 1.00 W / m · K or more.

또한, 본 발명의 열전도성 부재를 구성하는 이형층의 두께는 3∼50㎛의 범위로 설정되어 있는 것이 바람직하고, 특히 바람직한 것은 10∼30㎛의 범위이다. 이형층의 두께가 3㎛ 미만이면 이형성에 문제가 발생하는 경향이 있고, 50㎛를 초과하면 열효율면에서 문제가 발생하는 경향이 있기 때문이다.Moreover, it is preferable that the thickness of the mold release layer which comprises the heat conductive member of this invention is set in the range of 3-50 micrometers, Especially preferably, it is the range of 10-30 micrometers. This is because, if the thickness of the release layer is less than 3 µm, problems tend to occur in mold release properties, and if the thickness of the release layer exceeds 50 µm, problems tend to occur in terms of thermal efficiency.

본 발명의 열전도성 부재는 액정표시장치, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 등의 IC회로를 구비한 물품의 제조에 사용된다. 예를 들어, 다음과 같이 하여 본 발명의 열전도성 부재를 사용할 수 있다. 즉, 도 1에 도시한 바와 같이 하부판(1)의 위에, 이방성 도전필름(2)이 부착된 액정패널(3)을 얹고, 또한 이방성 도전필름(2) 상에 필름캐리어(4)를 얹는다. 한편, 공급용 롤(11)로부터 열전도성 부재(12)를 간헐적으로 투입하고, 이 열전도성 부재(12)의 이형층(13)이 아래가 되도록 필름 캐리어(4)와 가열압착판(7)과의 사이에 위치시킨 후, 가열 압착판(7)을 위에서부터 눌러 부착시킴으로써 이방성 도전필름(2)과 필름 캐리어(4)를 접합한다. 계속해서 열전도성 부재(12)를 주행시켜 감기용 롤(14)에 감아서 열전도성 부재(12)의 제거를 실시한다. 이와 같이 하여 본 발명의 열전도성 부재를 사용할 수 있다.The thermally conductive member of the present invention is used for the manufacture of articles having IC circuits such as liquid crystal display devices and plasma display panels (PDPs). For example, the thermally conductive member of the present invention can be used as follows. That is, as shown in FIG. 1, the liquid crystal panel 3 with the anisotropic conductive film 2 is mounted on the lower plate 1, and the film carrier 4 is placed on the anisotropic conductive film 2. On the other hand, the heat conductive member 12 is intermittently thrown in from the supply roll 11, and the film carrier 4 and the heat-compression-bonding plate 7 are made so that the release layer 13 of this heat conductive member 12 may become downward. After positioning between and, the anisotropic conductive film 2 and the film carrier 4 are bonded together by pressing the hot pressing plate 7 from above. Subsequently, the thermal conductive member 12 is driven and wound around the winding roll 14 to remove the thermal conductive member 12. In this way, the thermally conductive member of the present invention can be used.

이와 같이 본 발명의 열전도성 부재를 사용하면 종래와 같이 열전도성 시트와 이형용 내열필름의 각각에 대해서 공급용 및 감기용 장치를 필요로 하지 않으므로, 제조설비의 공간 절약화, 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 대전방지성을 갖는 시트층, 이형층에 의해 정전기가 발생하지 않으므로 실장하는 액정패널이 어긋나거나 불꽃이 발생하여 IC가 파괴되거나 하는 등의 문제가 발생하는 일도 없다.In this way, the use of the thermally conductive member of the present invention eliminates the need for supplying and winding devices for each of the thermally conductive sheet and the release-resistant heat-resistant film as in the prior art, thus making it possible to save space and reduce the size of manufacturing equipment. . In addition, since static electricity is not generated by the sheet layer and the release layer having antistatic property, there is no problem that the mounted liquid crystal panel is displaced or a spark is generated, such that the IC is destroyed.

또한, 상기 예(도 1 참조)에서는 열전도성 시트로 이루어진 시트층의 한쪽면에 이형층이 형성된 경우를 설명했지만, 이에 한정되는 것은 아니고 시트층의 양면에 이형층이 형성된 경우에도 동일하게 하여 본 발명의 열전도성 부재를 사용할 수 있다. 이 경우에는 가열압착판에도 시트층이 직접 접촉되지 않고, 가열압착을 한층 양호하게 실시할 수 있다는 이점을 갖는다.In addition, although the case where the release layer was formed in one side of the sheet layer which consists of a thermally conductive sheet was demonstrated in the said example (refer FIG. 1), it is not limited to this, The same holds true even when the release layer is formed in both surfaces of the sheet layer. The thermally conductive member of the invention can be used. In this case, the sheet layer is not directly in contact with the hot pressing plate, but it has the advantage that the hot pressing can be performed even better.

다음에, 실시예 및 비교예에 대해서 설명한다.Next, an Example and a comparative example are demonstrated.

(실시예 1)(Example 1)

실시예 1의 열전도성 부재는 도 2에 도시한 바와 같이 열전도성 시트로 이루어진 시트층(21)의 한쪽에 실리콘계 수지층(이형층)(22)이 적층 일체화된 것이고, 시트층(21)이 대전방지성을 갖는 것이며, 다음과 같이 하여 제작했다.As shown in FIG. 2, the heat conductive member of Example 1 is formed by laminating and integrating a silicone resin layer (release layer) 22 on one side of a sheet layer 21 made of a thermally conductive sheet. It has antistatic property and was produced as follows.

즉, 우선 실리콘 고무(도시바 실리콘샤 제조, TSE-221-3u) 100부에 열전도성 충전제 및 도전제로서 사용하는 평균입자직경 25㎛의 알루미늄 분말(도요 알루미샤 제조, AC2500) 250부와, 경화제(도시바 실리콘샤 제조, TC-8) 1부를 배합한 조성물을 준비하고, 이것을 시트형상으로 성형하여 가교함으로써 두께 0.2㎜이고 열전도율이 1.3W/m·K인 열전도성 시트를 제작했다.That is, firstly, 250 parts of aluminum powder (Toyo Alumina, AC2500, manufactured by Toyo Alumina, AC2500) having an average particle size of 25 µm used as a thermally conductive filler and a conductive agent in 100 parts of a silicone rubber (TSE-221-3u manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) (Toshiba Silicone Co., TC-8) A composition containing one part was prepared, and molded into a sheet shape and crosslinked to prepare a thermal conductive sheet having a thickness of 0.2 mm and a thermal conductivity of 1.3 W / m · K.

다음에, 상기 열전도성 시트의 한쪽면에 실리콘계 수지도료(도레 다우실리콘샤 제조, SR 2316)을 도포한 후, 100℃에서 30분간 가열건조시킴으로써 두께 10㎛의 실리콘계 수지층(22)을 형성했다. 이와 같이 하여 열전도성 시트로 이루어진 시트층(21)의 한쪽면에 실리콘계 수지층(22)이 형성된 열전도성 부재를 얻었다.Next, after apply | coating silicone resin resin (Dore Dow Silicone Co., SR 2316) to one surface of the said heat conductive sheet, the silicone resin layer 22 of thickness 10micrometer was formed by heat-drying at 100 degreeC for 30 minutes. . Thus, the heat conductive member in which the silicone resin layer 22 was formed in one side of the sheet layer 21 which consists of heat conductive sheets was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 2의 열전도성 부재는 도 2에 도시한 실리콘계 수지층(22)이 대전방지성을 갖도록 하고, 시트층(21)에 대해서는 대전방지성을 갖지 않도록 한 것이며, 다음과 같이 하여 제작했다.The heat conductive member of Example 2 was made so that the silicone resin layer 22 shown in FIG. 2 might have antistatic property, and it did not have antistatic property with respect to the sheet layer 21, It was produced as follows.

즉, 우선 실리콘 고무(도시바 실리콘샤 제조, TSE-221-3u) 100부에 열전도성 충전제인 산화알루미늄(쇼와덴코샤 제조, AS-30) 400부와, 경화제(도시바 실리콘샤 제조, TC-8) 1부를 배합한 조성물을 준비하여 이것을 시트형상으로 성형하여 가교함으로써 두께 0.2㎜이고 열전도율이 1.2W/m·K인 열전도성 시트를 제작했다.First, 400 parts of aluminum oxide (Showa Denkosha, AS-30), which is a thermally conductive filler, and 100 parts of silicone rubber (manufactured by Toshiba Silicone Co., TSE-221-3u), and a curing agent (manufactured by Toshiba Silicone Co., TC- 8) The composition which mix | blended 1 part was prepared, this was shape | molded in the sheet form, and it bridge | crosslinked, and the thermal conductive sheet which is thickness 0.2mm and heat conductivity 1.2W / m * K was produced.

다음에, 상기 열전도성 시트의 한쪽면에 도전제로서 도전성 카본블랙(미츠비시 가가쿠샤 제조, 다이아블랙 #3150, 평균입자직경 26mμ(=㎚)) 2중량(전체중의 배합비율)을 첨가한 실리콘계 수지도료(도레 다우실리콘샤 제조, SR2316)를 도포한 후, 100℃에서 30분간 가열건조시킴으로써 두께 10㎛의 실리콘계 수지층(22)을 형성했다. 이와 같이 하여 열전도성 시트로 이루어진 시트층(21)의 한쪽면에 실리콘계 수지층(22)이 형성된 열전도성 부재를 얻었다.Next, a silicon-based compound containing 2 weights (mixing ratio in total) of conductive carbon black (made by Mitsubishi Chemical Corporation, Diamond Black # 3150, average particle diameter 26mμ (= nm)) added as a conductive agent to one surface of the thermally conductive sheet. After apply | coating resin resin (SR2316 by Toray Dow Silicone Co., Ltd.), the silicone resin layer 22 of thickness 10micrometer was formed by heat-drying at 100 degreeC for 30 minutes. Thus, the heat conductive member in which the silicone resin layer 22 was formed in one side of the sheet layer 21 which consists of heat conductive sheets was obtained.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 3의 열전도성 부재는 도 3에 도시한 바와 같이 열전도성 시트로 이루어진 시트층(21)의 양면에 실리콘계 수지층(이형층)(22,22')이 적층 일체화된 것이고 실리콘계 수지층(22,22')이 대전방지성을 갖는 것이며, 다음과 같이 하여 제작했다.As shown in FIG. 3, the heat conductive member of Example 3 is formed by laminating and integrating silicone resin layers (release layers) 22 and 22 'on both sides of a sheet layer 21 made of a thermal conductive sheet. 22,22 ') has antistatic property and was produced as follows.

즉, 우선, 실시예 2와 동일하게 하여 열전도성 시트를 제작했다.That is, the thermal conductive sheet was produced like Example 2 first.

다음에, 상기 열 전도성 시트의 양면에 도전제로서 도전성 카본블랙(미츠비시 가가쿠샤 제조, 다이아블랙 #3150, 평균입자직경 26mμ(=㎚)) 2중량(전체중의 배합비율)을 첨가한 실리콘계 수지도료(도레 다우실리콘샤 제조, SR2316)를 도포한 후, 100℃에서 30분간 가열건조시킴으로써 두께 10㎛의 실리콘계 수지층(22,22')을 형성했다. 이와 같이 하여 열전도성 시트로 이루어진 시트층(21)의 양면에 실리콘계 수지층(22,22')이 형성된 열전도성 부재를 얻었다.Next, silicone-based resin in which conductive carbon black (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., diamond black # 3150, average particle diameter 26mμ (= nm)) 2 weights (mixing ratio in total) was added to both surfaces of the thermally conductive sheet as a conductive agent. After apply | coating paint (SR2316 by Toray Dow Silicone Co., Ltd.), the silicone resin layers 22 and 22 'of thickness 10micrometer were formed by heat-drying at 100 degreeC for 30 minutes. Thus, the thermally conductive member in which the silicone resin layers 22 and 22 'were formed in both surfaces of the sheet layer 21 which consists of thermally conductive sheets was obtained.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1의 열전도성 부재에서 실리콘계 수지층(22)이 대전방지성을 갖도록한 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다. 또한, 실리콘계 수지층(22)의 형성재료로서 도전제로서 도전성 카본블랙(미츠비시 가가쿠샤 제조, 다이아블랙 #3150, 평균입자직경 26mμ(=㎚)) 2중량(전제중의 배합비율)을 첨가한 실리콘계 수지도료(도레 다우실리콘샤 제조, SR2316)를 사용했다.In the thermally conductive member of Example 1, a thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the silicone resin layer 22 had antistatic properties. In addition, as the material for forming the silicone resin layer 22, 2 wt% of the conductive carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Diamond Black # 3150, average particle diameter of 26 mμ (= nm)) was added as a conductive agent. Silicone resin coating material (SR2316 by Toray Dow Silicone Co., Ltd.) was used.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1의 열전도성 부재에서 실리콘계 수지층(22)의 형성재료인 실리콘계 수지도료를 불소계 수지도료(도요 도라이루브샤 제조, FN 코팅제) 대신 사용한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다.A thermally conductive member was fabricated in the same manner as in Example 1 except that a silicone resin coating material, which is a material for forming the silicone resin layer 22, was used in place of the fluorine resin coating material (manufactured by Toyo Rubber Co., Ltd., FN coating agent). did.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 2의 열전도성 부재에 있어서 실리콘계 수지층(22)의 형성재료인 실리콘계 수지도료를 불소계 수지도료 대신 사용한 이외에는 실시예 2과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다.In the thermally conductive member of Example 2, a thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the silicone resin, which is the material for forming the silicone resin layer 22, was used instead of the fluorine resin.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 3의 열전도성 부재에서 실리콘계 수지층(22,22')의 형성재료인 실리콘계 수지도료를 불소수지도료 대신 사용한 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다.A thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 3 except that the silicone-based resin, which is a material for forming the silicone resin layers 22 and 22 ', was used in place of the fluorine resin in the thermally conductive member of Example 3.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 4의 열전도성 부재에서 실리콘계 수지층(22)의 형성재료인 실리콘계 수지도료를 불소계 수지도료 대신 사용한 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다.A thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 4 except that the silicone-based resin, which is a material for forming the silicone-based resin layer 22, was used in place of the fluorine-based resin in the thermally conductive member of Example 4.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1의 열전도성 부재에서 실리콘계 수지층(22)을 형성하지 않은 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다. 즉, 열전도성 시트(도전제 함유)만을 열전도성 부재로 했다.A thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the silicone resin layer 22 was not formed from the thermally conductive member of Example 1. That is, only the thermally conductive sheet (containing the conductive agent) was used as the thermally conductive member.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1의 열전도성 부재에 있어서, 시트층(21)이 대전방지성을 가지 않도록 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 열전도성 부재를 제작했다. 즉, 시트층(21) 및 실리콘계 수지층(22)의 양쪽이 대전방지성을 갖지 않는 것을 열전도성 부재로 했다.In the thermally conductive member of Example 1, a thermally conductive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the sheet layer 21 did not have antistatic properties. That is, it was set as the heat conductive member that neither the sheet layer 21 nor the silicone resin layer 22 has antistatic property.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1의 열전도성 부재에 있어서, 시트층(21)이 대전방지성을 가지 않도록 하고, 실리콘계 수지층(22)의 형성재료인 실리콘계 수지도료를 불소계 수지도료 대신 사용한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 열도전성 부재를 제작했다.In the thermal conductive member of Example 1, the sheet layer 21 was prevented from having antistatic properties, and the same as in Example 1 except that a silicone resin was used instead of the fluorine resin as a material for forming the silicone resin layer 22. To produce a thermally conductive member.

즉, 시트층(21) 및 불소계 수지층(이형층)(22)의 양쪽이 대전방지성을 갖지 않는 것을 열전도성 부재로 했다.That is, the both of the sheet layer 21 and the fluorine-type resin layer (release layer) 22 did not have antistatic property as the heat conductive member.

이와 같이 하여 얻어진 실시예 및 비교예의 열전도성 부재에 대해서 하기에 도시한 바와 같이 표면저항, 작업성을 측정평가했다. 그 결과를, 후기의 표 1∼표 3에 나타냈다.Thus, as shown below, the surface resistance and workability were measured and evaluated for the thermally conductive members of the obtained examples and the comparative examples. The result was shown to the following Table 1-Table 3.

〔표면저항〕(Surface resistance)

JIS K 6911에 준거하여 측정했다. 즉, 열전도성 부재의 대전방지성을 갖는층표면에 2개의 전극을 설치하고, 전극간에 직류전압 500V를 인가하여 JIS C 1302에 규정한 절연저항계를 사용함으로써 표면저항을 측정했다.It measured based on JISK6911. That is, surface resistance was measured by providing two electrodes on the layer surface which has antistatic property of a thermally conductive member, and applying the DC voltage 500V between electrodes and using the insulation resistance meter prescribed | regulated to JIS C 1302.

〔작업성〕〔Workability〕

열전도성 부재를 10회 반복하여 사용하고, IC회로를 구비한 물품(액정표시장치)의 제조를 실시했다. 또한, 평가기준은 이하와 같이 설정했다.The thermal conductive member was repeatedly used 10 times to manufacture an article (liquid crystal display device) having an IC circuit. In addition, evaluation criteria were set as follows.

○: 액정패널이 어긋나거나 불꽃이 발생하지 않고 양호한 상태에서 제조를 실시할 수 있었다.(Circle): A liquid crystal panel could shift and it could manufacture in a favorable state without a spark.

△: 액정패널이 어긋나거나 불꽃이 발생하거나 하여 양호한 상태에서 제조를 실시할 수 없었다.(Triangle | delta): A liquid crystal panel shift | deviated or the spark generate | occur | produced, and manufacture was not able to be performed in a favorable state.

실시예Example 1One 22 33 44 시트층Sheet layer 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 있음Antistatic 이형층 *1Release layer * 1 한쪽면 형성One side formation 한쪽면 형성One side formation 양면 형성Double sided formation 한쪽면 형성One side formation 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 있음Antistatic 표면저항(Ω)Surface resistance (Ω) 108 10 8 107 10 7 107(양이형층 모두)10 7 (both cats) 108*2107*310 8 * 210 7 * 3 작업성Workability

*1: 한쪽면 형성이라는 것은 이형층이 시트층의 한쪽면에 형성되어 있는 것을 의미하고 양면형성이라는 것은 이형층이 시트층의 양면에 형성되어 있는 것을 의미한다.* 1: One side formation means that a release layer is formed in one side of a sheet layer, and double side formation means that a release layer is formed in both surfaces of a sheet layer.

*2: 시트층측의 표면저항* 2: Surface resistance on the sheet layer side

*3: 이형층측의 표면저항* 3: Surface resistance on the release layer side

(*1∼*3은 이하의 표에서 동일)(* 1 to * 3 are the same in the table below)

실시예Example 55 66 77 88 시트층Sheet layer 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 있음Antistatic 이형층 *1Release layer * 1 한쪽면 형성One side formation 한쪽면 형성One side formation 양면 형성Double sided formation 한쪽면 형성One side formation 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 있음Antistatic 대전방지성 있음Antistatic 표면저항(Ω)Surface resistance (Ω) 108 10 8 107 10 7 107(양이형층 모두)10 7 (both cats) 108*2107*310 8 * 210 7 * 3 작업성Workability

비교예Comparative example 1One 22 33 시트층Sheet layer 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 없음No antistatic property 이형층 *1Release layer * 1 형성하지 않음Not forming 한쪽면 형성One side formation 한쪽면 형성One side formation 대전방지성 없음No antistatic property 대전방지성 없음No antistatic property 표면저항(Ω)Surface resistance (Ω) 101310 13 101310 13 101310 13 작업성Workability

상기 표 1∼표 3의 결과로부터 실시예품은 대전방지성을 갖는 층이 형성되어 있으므로, IC회로를 구비한 물품의 제조를 양호한 상태에서 실시하는 것을 알 수 있다. 이에 대해서, 비교예 1품은 이형층이 없고 또한 대전방지성을 갖는 층이 형성되어 있지 않으므로, 또한 비교예 2품, 3품은 대전방지성을 갖는 층이 형성되어 있지 않으므로, 모두 IC회로를 구비한 물품의 제조를 양호한 상태에서 실시할 수 없었다는 것을 알 수 있다.The results of the above Tables 1 to 3 show that the Examples have a layer having antistatic properties, so that the article having the IC circuit is manufactured in a good state. On the other hand, since the comparative example 1 product does not have a release layer and the layer which has antistatic property is not formed, and the comparative example 2 product and 3 product do not form the layer which has an antistatic property, all have the IC circuit. It can be seen that the production of the article could not be carried out in good condition.

이상과 같이 본 발명의 열전도성 부재는 열전도성 시트로 이루어진 시트층의 적어도 한면에 이형층이 형성되고 시트층 및 이형층 중 적어도 한층이 대전방지성을 갖는 것이다. 그 때문에, 열전도성 부재의 반복 사용에 의해 정전기가 발생하지 않고, 실장하는 액정패널 등이 어긋나거나 불꽃이 발생하여 IC가 파괴되는 등의 문제가 발생하지 않는다. 또한, 본 발명의 열전도성 부재이면 IC회로를 구비한 물품을 제조하는 데에 있어서, 열전도성 고무시트와 이형용 내열필름의 2장을 필요로 하지 않고 1장으로 가능하게 할 수 있으므로 제조설비의 공간 절약화, 소형화를 실현할 수 있다. 또한, 실리콘계 수지층, 불소 수지계 수지 등의 이형층이 피압착체에 직접 접촉하고, 열전도성 시트가 피압착체에 직접 접촉하지 않도록 할 수 있으므로, 피압착체에 대한 가열압착을 양호하게 실시할 수 있었다.As described above, in the thermally conductive member of the present invention, a release layer is formed on at least one surface of a sheet layer made of a thermally conductive sheet, and at least one of the sheet layer and the release layer has antistatic property. Therefore, static electricity is not generated by repeated use of the thermally conductive member, and there is no problem that the mounted liquid crystal panel or the like is displaced or a spark is generated and the IC is destroyed. In addition, in the case of the thermally conductive member of the present invention, in manufacturing an article having an IC circuit, two sheets of a thermally conductive rubber sheet and a release heat-resistant film can be used without requiring two sheets. Savings and downsizing can be realized. In addition, since a release layer such as a silicone-based resin layer or a fluororesin-based resin can directly contact the adherend, and the thermal conductive sheet does not directly contact the adherend, it is possible to perform heat compression on the adherend satisfactorily. Could.

Claims (5)

열전도성 시트로 이루어진 시트층과, 이 시트층 중 적어도 한면에 형성된 이형층을 구비한 열전도성 부재에 있어서,In the heat conductive member provided with the sheet layer which consists of a thermally conductive sheet, and the mold release layer formed in at least one surface of this sheet layer, 상기 시트층 및 이형층 중 적어도 한층이 대전방지성을 갖는 것을 특징으로 하는 열전도성 부재.At least one of the said sheet layer and a release layer has antistatic property, The heat conductive member characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 대전방지성을 갖는 층의 표면저항이 1010Ω 이하로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 열전도성 부재.The surface resistance of the layer which has antistatic property is set to 10 <10> ohms or less, The heat conductive member characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 이형층이 실리콘계 수지층인 것을 특징으로 하는 열전도성 부재.A release layer is a silicone resin layer, The heat conductive member characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 이형층이 불소계 수지층인 것을 특징으로 하는 열전도성 부재.The mold release layer is a fluorine-type resin layer, The heat conductive member characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, IC회로를 구비한 물품의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는 열전도성 부재.A thermally conductive member, which is used for producing an article having an IC circuit.
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