KR20010076831A - 반도체 제조용 약액 충전장치 - Google Patents

반도체 제조용 약액 충전장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조용 약액 충전장치에 관한 것으로써, 종래의 약액 충전장치는 약액 공급용 탱크에 약액을 펌프에 의해 충전시키는 방식이였으나, 펌프의 과부하가 발생되고, 펌프 차압에 의한 충전 불량 등의 문제점이 있었던 바, 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치는 다수개의 약액 공급용 탱크에 충전될 약액이 들어있는 약액 충전용 탱크와, 약액 공급용 탱크와 약액 충전용 탱크 사이의 배관에 설치되어 충전되는 약액을 필터링하는 필터부와, 약액 충전용 탱크에 배관으로 연결되어 고압의 질소가스를 공급하여 약액이 질소가스의 가압력에 의해 약액 공급용 탱크에 공급되도록 하는 가압수단과, 가압수단의 배관에 연결되어 가압수단에서 가압되는 질소가스의 가압력 이상 발생 또는 배기수단으로 약액 충전용 탱크에서 배기되는 질소가스의 배기압력이상을 감지하는 감지수단과, 가압수단의 배관에 연결되어 감지수단에서 질소가스의 가압력 이상을 감지하면 질소가스를 외부에 배기시키거나 또는 약액 공급탱크에 가압된 질소가스를 외부에 배기시켜 약액 충전용 탱크의 내부 압력을 일정하게 유지시키는 배기수단을 포함하여 이루어진다.

Description

반도체 제조용 약액 충전장치{Recharger for fabricating semiconductor}
본 발명은 반도체 제조용 약액 충전장치에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 반도체 제조공정에 사용되는 IPA(Isopropyl alcohol), 신너, HMDS(Hexa Methyl Di Silazane) 등의 약액이 반도체 장비로 공급하는 약액 공급장치에 가스 가압 방식으로 충전되도록 한 반도체 제조용 약액 충전장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 공정에는 많은 종류의 약액이 사용되고 있다.
대표적인 것으로는 웨이퍼 세정공정에 사용되는 IPA 용액 및 HF(불산)용액과 웨이퍼 회전도포공정에 사용되는 도포액 및 신너 등이 있으며, 그 외에도 HMDS 등이 있다.
이러한 약액을 반도체 장비에 안정적으로 공급하기 위해 종래에는 약액을 반도체 장비에 공급하는 약액 공급장치가 사용된다.
종래의 약액 공급장치는 복수개로 이루어진 약액 탱크에서 하나의 저장탱크에서 약액의 공급이 완료되면 나머지 저장탱크에서 약액이 공급되는 방식으로 반도체 장비에 연속적인 약액 공급이 가능하도록 되어 있으며, 약액 공급이 완료된 저장탱크는 약액 충전장치를 사용하여 약액을 충전한다.
도 1은 이러한 종래의 약액 공급장치에 약액을 충전하기 위한 반도체 제조용 약액 충전장치를 설명하기 위한 도면이다.
이를 참조하면, 반도체 제조용 약액 충전장치는 반도체 장비로 약액을 공급하는 다수개의 약액 공급용 탱크(16a,16b)에 충전될 약액이 들어 있는 약액 충전용 탱크(12)와, 약액 충전용 탱크와 약액 공급용 탱크 사이의 배관에 설치되어 펌핑력에 의해 약액 충전용 탱크의 약액을 약액 공급용 탱크에 충전시키는 다이아프램 펌프(diaphram pump)(13a,13b)와, 펌핑된 약액의 펌핑력을 일정하게 감압하는 댐퍼(14)와, 펌핑력이 감압된 약액의 이물질을 제거하여 약액 공급용 탱크에 공급하는 이물질 제거 필터(15a,15b)와, 약액 공급용 탱크 및 약액 충전용 탱크에 소정 압력의 질소가스를 공급시키는 레귤레이터(10a,10b)로 이루어진다.
상기의 약액 충전용 탱크(12)에 질소가스를 공급하는 배관에는 레귤레이터(10b)를 통해 0.2 ~ 0.24의 질소가스가 공급되어 약액 충전에 따른 탱크 내부의 진공현상을 방지하며, 레귤레이터의 오작동시 질소가스의 과다한 압력 상승을 제어하기 위해 릴리프 밸브(18)가 형성되고, 질소가스의 역류 방지를 위한 체크밸브(11)가 형성된다.
상기의 약액 공급용 탱크(16a,16b)는 2개의 탱크로 이루어지며, 각각의 탱크에는 수위 감지센서(미도시)가 부착되어 하나의 탱크에서 약액이 반도체 장비로 전부 공급되면 다른 탱크로 약액 공급이 이루어지는 방식으로 약액을 공급한다.
그리고, 약액 공급용 탱크(16a,16b)에는 레귤레이터(10a)와 연결된 배관이 형성되어 소정 압력의 질소가스가 공급되어 질소가스의 가압력에 의해 약액을 반도체 장비에 공급시키며, 외부의 배기장치에 연결된 배관이 형성되어 가압된 질소가스가 배기된다.
여기서, 레귤레이터(10a)는 질소가스를 대략 2 ~ 2.5로 약액 공급용 탱크(16a,16b)에 공급시킨다.
상기 이물질 제거 필터(15a,15b)와 약액 공급용 탱크(16a,16b) 사이의 배관에는 인터록 제어되는 수동개폐 밸브(17a,17b)가 형성되며, 약액 충전용 탱크(12)와 펌프(13a,13b) 사이의 배관에도 개폐 밸브(17c)가 형성된다.
이러한 구성으로 이루어진 반도체 제조용 약액 충전장치에 의해 약액 공급용 탱크로 약액을 공급하는 과정을 설명한다.
약액의 충전은 제 1 약액 공급용 탱크(16a)에 충전하는 것을 기준으로 설명한다.
제 1 약액 공급용 탱크(16a)의 약액 수위가 저수위 위치이면 수위 감지센서가 이를 감지하여 약액 공급이 중단됨과 동시에 제 2 약액 공급용 탱크(16b)의 약액이 반도체 장비로 공급된다.
이때, 제 1 약액 공급용 탱크(16a)에 연결된 배관의 개폐 밸브(17a)는 개방되고, 제 2 약액 공급용 탱크(16b)에 연결된 배관의 개폐 밸브(17b)는 닫힌다.
상기의 상태에서 펌프(13a,13b)가 작동하고, 약액 충전용 탱크(12)의 약액은 펌핑되어 댐퍼(14)에서 펌핑력이 감압되고, 이물질 제거필터(15a,15b)에서 이물질이 제거되어 제 1 약액 공급용 탱크(16a)에 약액이 충전된다.
이 과정에서 약액 충전용 탱크(12)에는 레귤레이터(10b)를 통해 0.2 ~ 0.24의 질소가스가 공급되어 탱크내의 진공현상을 방지한다.
이와 같이 약액이 계속적으로 충전되어 만수위 위치에 도달하면 수위 감지센서가 이를 감지하여 개폐 밸브(17a)를 닫아 약액의 충전을 중단하고, 약액이 충전된 제 1 약액 공급용 탱크(16a)는 약액 공급을 위해 대기한다.
이러한 상태에서 약액의 공급은 레귤레이터(10a)를 통해 제 1 약액 공급용 탱크(16a)에 2 ~ 2.5의 압력으로 질소가스가 가압되고, 약액이 질소가스의 압력에 의해 반도체 장비로 공급되어 이루어진다.
그러나, 종래의 반도체 제조용 약액 충전장치는 다이아프램 펌프의 펌핑력으로 약액이 충전되는 방식이므로 펌프의 과부하가 발생된다.
따라서, 과부하 발생시 약액의 충전이 중단되어 약액 충전에 시간이 많이 소요되며, 다이아프램 펌프의 고장 등이 발생된다.
또한, 다이아프램 펌프에 과부하가 발생되어 펌핑이 중단된 경우 이를 즉각 감지하지 못하고, 약액 공급의 중단이 발생된 경우에 펌핑 중단을 감지할 수 있으므로 약액 공급중단에 따른 불량이 발생된다.
이에 본 발명은 상기의 종래 기술이 안고 있는 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로써, 약액의 충전 불량 및 충전시간 단축 등이 해결된 반도체 제조용 약액 충전장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
따라서, 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치는 상기의 목적을 달성하고자, 다수개의 약액 공급용 탱크에 충전될 약액이 들어있는 약액 충전용 탱크와, 약액 공급용 탱크와 약액 충전용 탱크 사이의 배관에 설치되어 충전되는 약액을 필터링하는 필터부와, 약액 충전용 탱크에 배관으로 연결되어 고압의 질소가스를 공급하여 약액이 질소가스의 가압력에 의해 약액 공급용 탱크에 공급되도록 하는 가압수단과, 가압수단의 배관에 연결되어 가압수단에서 가압되는 질소가스의 가압력 이상 발생 또는 배기수단으로 약액 충전용 탱크에서 배기되는 질소가스의 배기압력이상을 감지하는 감지수단과, 가압수단의 배관에 연결되어 감지수단에서 질소가스의 가압력 이상을 감지하면 질소가스를 외부에 배기시키거나 또는 약액 공급탱크에 가압된 질소가스를 외부에 배기시켜 약액 충전용 탱크의 내부 압력을 일정하게 유지시키는 배기수단을 포함하여 이루어진다.
도 1 은 종래의 반도체 제조용 약액 충전장치를 설명하기 위한 구성도.
도 2 는 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치를 설명하기 위한 구성도.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ※
10,100 : 레귤레이터 11,101 : 체크 밸브
12,102 : 약액 공급탱크 13 : 펌프
14 : 댐퍼 15,103 : 필터
16,104 : 약액 탱크 17,105 : 밸브
18,106 : 릴리프 밸브 107 : 유량계
108 : 압력 감지센서
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치에 대한 바람직한 일실시예를 상세하게 설명한다.
제 2 도를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치는 다수개의 약액 공급용 탱크(104a,104b)에 충전될 약액이 들어있는 약액 충전용 탱크(102)와, 약액 공급용 탱크와 약액 충전용 탱크 사이의 배관에 설치되어 충전되는 약액을 필터링하는 필터부(103a,103b)와, 약액 충전용 탱크에 배관으로 연결되어 고압의 질소가스를 공급하여 약액 충전용 탱크의 약액이 질소가스의 가압력에 의해 약액 공급용 탱크에 공급되도록 하는 가압수단과, 가압수단의 배관에 연결되어 가압되는 질소가스의 가압력 이상 또는 배기수단으로 약액 충전용 탱크에서 배기되는 질소가스의 배기압력 이상을 감지하는 감지수단(108)과, 가압수단의 배관에 연결되어 감지수단에서 질소가스의 가압력 이상을 감지하면 질소가스를 외부에 배기시키거나 또는 약액 공급탱크에 가압된 질소가스를 외부에 배기시켜 약액 충전용 탱크의 내부 압력을 일정하게 유지시키는 배기수단을 포함한다.
상기 가압수단은 약액 공급용 탱크(104a,104b)에 레귤레이터(100a)를 통해 소정의 압력 상태에서 공급되는 질소가스의 일부가 공급되어 약액 충전용 탱크(102)에 일정한 압력 상태에서 공급되도록 압력을 조절하는 레귤레이터(100b)와, 압력이 조절된 질소가스의 유량을 계측하는 유량계(107)와, 질소가스의 공급을 제어하는 개폐 밸브(105d)와, 질소가스의 역류를 방지하는 체크 밸브(101a)로 이루어진다.
여기서, 레귤레이터(100b)와 유량계(107)사이에는 레귤레이터의 오작동에 의해 질소가스의 압력이 상승되면 이를 감지하여 질소가스를 외부에 배기시키는 릴리프 밸브(relief valve)(106)가 설치되며, 레귤레이터(100b)는 질소가스가 1.5 ~ 2.0정도의 압력으로 약액 충전용 탱크(102)에 공급되도록 한다.
상기 필터부(103a,103b)는 약액 충전용 탱크(102)와 약액 공급용 탱크(104a,104b)를 연결하는 배관에 설치되어 약액을 필터링하며, 필터부와 약액 공급용 탱크를 연결하는 배관에는 필터링된 약액을 약액 공급용 탱크에 공급하기 위한 개폐 밸브(105a,105b)가 각각 형성된다.
상기 배기수단은 약액 충전용 탱크(102)에 질소 가스를 공급하는 배관에 외부의 배기장치와 연결된 배관을 설치하고, 배관에 개폐 밸브(105e) 및 체크 밸브(101b)를 설치하여 개폐 밸브의 개폐에 따라 질소가스를 외부의 배기장치에 배기시키도록 한다.
여기서, 배기수단의 개폐 밸브(105e)와 가압수단의 개폐 밸브(105d)는 서로 인터록(interlock) 제어하여 질소가스의 공급과 질소가스의 배기가 서로 교대로 이루어지게 한다.
그리고, 상기 감지수단은 배기수단 및 가압수단의 배관에 설치된 압력 감지센서(108)로 하며, 질소가스의 압력 감지범위를 0.1~2.0로 한다.
여기서, 압력 감지센서(108)는 가압수단에서 가압되는 질소가스가 2.0이상으로 가압되면 배기수단의 개폐 밸브(105e)는 열고, 가압수단의 개폐 밸브(105d)는 닫아 가압력 상승을 방지한다.
또한, 배기되는 질소가스의 배기압력 또는 가압력이 0.1이하이면 배기수단의 개폐 밸브(105e)를 닫아 압력 저하를 방지하도록 한다.
그리고, 압력 감지센서(108)에는 알람수단(109)을 구비하여 질소가스가 0.1이하로 공급 및 배기되거나 2.0이상 공급되면 알람을 발생시키도록 한다.
이러한 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치를 통해 약액 공급용 탱크에 약액을 충전하는 과정을 설명한다.
여기서는 제 1 약액 공급용 탱크에 약액을 충전하는 과정을 기준으로 설명한다.
제 1 약액 공급용 탱크(104a)의 약액 수위가 저수위 위치이면 반도체 장비로 약액 공급이 중단됨과 동시에 제 2 약액 공급용 탱크(104b)의 약액이 반도체 장비로 공급된다.
이때, 제 1 약액 공급용 탱크(104a)와 약액 충전용 탱크(102)에 연결된 배관의 개폐 밸브(105a)는 개방되고, 제 2 약액 공급용 탱크(104b)에 연결된 배관의 개폐 밸브(105b)는 닫힌다.
이 상태에서 제 2 약액 공급용 탱크(104b)의 약액은 레귤레이터(100a)를 통해 2.0 ~2.5의 압력으로 공급된 질소가스의 가압력에 의해 가압되어 반도체 장비로 공급되고, 제 1 약액 공급용 탱크(104a) 내부는 외부의 배기장치에 의해 배기된다.
상기의 과정이 완료되면, 가압수단의 레귤레이터(100b)가 작동하여 1.5 ~2.0의 압력으로 질소가스가 유량계(107) 및 개폐 밸브(105d)를 통해 약액 충전용 탱크(102)에 공급되도록 한다.
따라서, 질소가스는 고압으로 약액 충전용 탱크(102)의 약액을 가압하며, 배기수단의 개폐 밸브(105e)는 인터록 제어되므로 배기를 진행시키지 않아 약액 충전용 탱크(102)내부는 고압 상태를 계속적으로 유지한다.
그리고, 질소가스의 가압력에 의해 약액은 필터부(103a,103b)를 거쳐 이물질이 제거되고, 개폐 밸브(105a)를 거쳐 제 1 약액 공급용 탱크(104a)에 충전된다.
그리고, 제 1 약액 공급용 탱크(104a)에 충전이 완료되면 가압수단의 개폐 밸브(105d)는 닫고, 배기수단의 개폐 밸브(105e)를 열어 약액 충전용 탱크(102)에 고압으로 가압된 질소가스를 외부에 배기시켜 다음 약액 충전을 위해 대기한다.
이와 같이, 약액 충전용 탱크(102)에 가압된 고압의 질소가스에 의해 약액이 공급되므로 별도의 펌프 없이 약액의 충전이 가능하게 된다.
그리고, 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치는 레귤레이터(100b)를 통해 공급되거나 외부의 배기장치에 의해 배기되는 질소가스의 압력을 압력 감지센서(108)가 계측하여 배기 및 가압 여부를 결정함과 동시에 알람을 발생시킨다.
즉, 질소가스를 가압하는 경우, 질소가스의 압력이 2.0이상되면 압력 감지센서(108)는 가압수단의 개폐 밸브(105d)는 닫고 배기수단의 개폐 밸브(105e)를 열어 과다한 압력 상승이 방지하고, 알람을 발생시킨다.
질소가스를 배기하는 경우, 질소가스의 압력이 0.1이하이면 개폐밸브가 질소가스의 가압과 반대의 경우로 작동하여 질소가스를 공급함으로써 약액 충전용 탱크(102) 내부가 진공상태가 되는 것을 방지한다.
상기에서 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액 충전장치는 펌프의 펌핑력에 의한 약액의 충전과는 달리 질소가스의 가압력에 의한 약액 충전 방식으로 작동됨으로써 펌프의 과부하 발생이 원천적으로 차단되어 약액 충전의 편리성이 향상된다.
또한, 압력 감지센서에 의해 질소가스의 압력이 계속적으로 측정되고, 질소가스 압력 이상 발생시 신속한 배기가 이루어져 안정적인 약액의 공급이 가능하게 된다.

Claims (6)

  1. 다수개의 약액 공급용 탱크에 충전될 약액이 들어있는 약액 충전용 탱크와;
    상기 약액 공급용 탱크와 약액 충전용 탱크 사이의 배관에 설치되어 충전되는 상기 약액을 필터링하는 필터부와;
    상기 약액 충전용 탱크에 배관으로 연결되어 고압의 질소가스를 공급하여 상기 약액이 상기 질소가스의 가압력에 의해 상기 약액 공급용 탱크에 공급되도록 하는 가압수단과;
    상기 가압수단의 배관에 연결되어 상기 가압수단에서 가압되는 상기 질소가스의 가압력 이상 발생 또는 배기수단으로 상기 약액 충전용 탱크에서 배기되는 상기 질소가스의 배기압력을 감지하는 감지수단과;
    상기 가압수단의 배관에 연결되어 상기 감지수단에서 상기 질소가스의 가압력 이상을 감지하면 상기 질소가스를 외부에 배기시키거나 또는 상기 약액 공급탱크에 가압된 상기 질소가스를 외부에 배기시켜 상기 약액 충전용 탱크의 내부 압력을 일정하게 유지시키는 배기수단을 포함하여 이루어진 반도체 제조용 약액 충전장치.
  2. 청구항 1 에 있어서,
    상기 가압수단은,
    상기 질소가스가 공급되는 배관에 설치된 레귤레이터와;
    상기 레귤레이터에 연결되어 질소가스의 양을 계측하는 유량계와;
    상기 유량계에 연결되어 상기 약액 충전탱크에 상기 질소가스가 공급되는 것을 제어하는 개폐 밸브와;
    상기 약액 공급탱크에 공급된 상기 질소가스의 역류를 방지하는 체크 밸브로 이루어진 것이 특징인 반도체 제조용 약액 충전장치.
  3. 청구항 1 또는 2 에 있어서,
    상기 약액 충전탱크에 공급되는 질소가스의 압력은 1.5 ~ 2.0인 것이 특징인 반도체 제조용 약액 충전장치.
  4. 청구항 1 에 있어서,
    상기 배기수단은,
    상기 약액 공급탱크와 외부 배기장치 사이의 배관에 설치되어 상기 감지수단에 의해 개폐가 제어되는 개폐 밸브인 것이 특징인 반도체 제조용 약액 충전장치.
  5. 청구항 1 에 있어서,
    상기 감지수단은 0.1 ~ 2.0의 압력 측정범위를 갖는 압력 감지 센서인 것이 특징인 반도체 제조용 약액 충전장치.
  6. 청구항 5 에 있어서,
    상기 압력 센서에는 알람 수단이 부착된 것이 특징인 반도체 제조용 약액 충전장치.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200449691Y1 (ko) * 2009-12-08 2010-08-02 주식회사 유일컴 여러 방향 지시용 이정표의 구조
KR20130058273A (ko) * 2011-11-25 2013-06-04 세메스 주식회사 약액 공급 장치
KR101327696B1 (ko) * 2012-06-04 2013-11-11 플러스이엔지 주식회사 반도체 공정용 약액 정량 공급 장치
KR101705352B1 (ko) 2015-12-15 2017-02-10 (주) 디바이스이엔지 반도체 제조용 약액 공급장치
KR20180063963A (ko) * 2016-12-02 2018-06-14 주식회사 엔씨에스 약액공급방법
KR20190008360A (ko) * 2016-09-27 2019-01-23 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 세정액 카트리지 및 그 세정액 카트리지를 사용한 세정 방법
WO2020013522A1 (ko) * 2018-07-13 2020-01-16 씨앤지하이테크 주식회사 액체 혼합 공급장치
CN114352949A (zh) * 2021-11-30 2022-04-15 上海华力集成电路制造有限公司 一种化学品供应装置及其报警方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200449691Y1 (ko) * 2009-12-08 2010-08-02 주식회사 유일컴 여러 방향 지시용 이정표의 구조
KR20130058273A (ko) * 2011-11-25 2013-06-04 세메스 주식회사 약액 공급 장치
KR101327696B1 (ko) * 2012-06-04 2013-11-11 플러스이엔지 주식회사 반도체 공정용 약액 정량 공급 장치
KR101705352B1 (ko) 2015-12-15 2017-02-10 (주) 디바이스이엔지 반도체 제조용 약액 공급장치
KR20190008360A (ko) * 2016-09-27 2019-01-23 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 세정액 카트리지 및 그 세정액 카트리지를 사용한 세정 방법
KR20180063963A (ko) * 2016-12-02 2018-06-14 주식회사 엔씨에스 약액공급방법
WO2020013522A1 (ko) * 2018-07-13 2020-01-16 씨앤지하이테크 주식회사 액체 혼합 공급장치
CN114352949A (zh) * 2021-11-30 2022-04-15 上海华力集成电路制造有限公司 一种化学品供应装置及其报警方法

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