KR20010067286A - 기어에서의 액체용 클리닝 매트 - Google Patents

Abstract

본 발명은 회전식 기어 요소들을 수용하고 액체의 작용에 직접 노출되는 하우징(3)의 큰 표면(4) 상에 배치되는 액체용 클리닝 매트에 관한 것이다. 클리닝 매트(5)는 주로 섬유 특성을 갖는다는 점에서 특징이 있다. 클리닝 매트(5)는 유리하게도 미세 메쉬 하부층(6) 및 카페트형 상부층(7)을 포함하고, 카페트형 상부층을 니들링, 터프팅 또는 루핑에 의해 다양한 공지된 방식으로 제조할 수 있다. 클리닝 매트(5)는 기어가 조작될 때 및 고정될 때 액체로부터 불순물을 제거하는 이점이 있다.

Description

기어에서의 액체용 클리닝 매트 {CLEANING MAT FOR LIQUIDS IN GEARS}

본 발명은 액체용 클리닝 매트에 관한 것으로서, 특히 청구범위 제1항의 전제부에서 설명된 형태의 기어에서의 액체용 클리닝 매트에 관한 것이다.

독일 특허 공개 제40 03 900 A1호는 회전식 기계 요소들에 의해 순환되는 액체 내의 불순물을 수용 및 보유하기 위한 필터가 배열되고 상부 입구 개구 및 출구를 갖고 오일 레벨 위로 배치된 오일 수집 용기를 갖는 기어박스를 개시하고 있다.

이러한 공지된 장치는 회전식 기어휠에 의해 순환되는 액체(이 경우에 윤활유)의 소량만이 오일 수집 용기를 통과하고, 특히 동적 재순환 모드에서 그러한 단점이 있다.

대체로 상대적으로 긴 휴지 기간 중에, 액체 내의 불순물들은 하우징의 하부에 침전되고, 그 다음에 재순환이 발생될 때 그 불순물들이 교란되어 하부면을 따라 존재할 때 불순물들은 베어링 내로 침투되어 베어링에 파괴적인 영향을 미친다.

일본 특허 공개 제59 062 797 A1호는 회전식 기계 요소들을 수용하는 하우징 내에서 액체 내의 불순물들을 수용하고 보유하기 위한 장치를 개시하고, 그 하우징의 하부의 작은 영역에서, 메쉬의 보호 하에서 불순물들은 메쉬 아래에 배치된 다공성 클리닝 매트 내로 낙하될 수 있고, 여기서 불순물들은 추가적인 순환으로부터 보유 및 제거된다.

공지된 장치는 전술한 장치와 동일한 단점을 갖고, 즉 불순물들을 수용하고 보유하는 하우징 내에 제공된 영역이 너무 작아서 불순물들의 대부분이 휴지시 재유입 순환 상태에서 침전되는 결과를 야기한다.

마지막으로, 미국 특허 제4790038호는 하우징의 하부 상의 큰 영역에 걸쳐 배치된 필터 매트에 의해 하우징 내에서 순환하는 액체를 클리닝하는 것에 관해 개시하고 있다. 필터는 복수의 복잡한 필터 채널을 갖는 다공성 및 가요성 재료를 포함하고, 필터 채널들은 필터 매트의 상부면으로부터 증가된 거리로 점진적으로 더 좁게 형성되어 있다. 입자들로 오염된 액체가 필터 매트에 걸쳐 유동되면, 필터 매트는 액체의 입사 유동으로부터 야기된 마찰력보다 복원력이 더 큰 지점에서 그 가요성에 의해 액체 유동으로 변형된다. 내재된 어떤 불순물 및 액체의 소량은 필터 채널 내로 유동된다. 필터 매트의 상부면 상의 액체 유동에서 변화가 발생되는 필터 채널을 통한 이러한 유동으로 인해, 불순물들은 필터 채널들로 더 깊게 세척되고 깊게 파고들어서 최종적으로 좁은 필터 채널들 내에 빠르게 포집 또는 보유된다.

이러한 실시예들의 단점은 다공성 필터 매트를 통한 유동이 액체의 입사 유동에서 변화가 있을 때에만 발생되는 것이다. 일정한 입사 유동 상태 하에서 그리고 액체가 고정적일 때 필터 매트는 액체 밖으로 불순물을 여과할 수 없다.

본 발명의 목적은 불순물을 수용하고 보유하는 클리닝 매트가 단순한 방식으로 가능한 한 하우징의 하부 영역 만큼 배치될 수 있고 클리닝 매트가 동작 및 정지시에 액체를 세척하는 방식으로 특히 기어용 클리닝 매트를 개선시키는 것이다.

도1은 본 발명에 따른 클리닝 매트를 갖는 모터 차량의 변속 기어를 통한 개략 단면도.

도2는 도1의 선 II-II를 따라 도시한 단면도.

도3은 도1의 화살표 방향으로 변속 기어의 하부면의 개략도.

도4, 도5 및 도6은 하우징 벽으로부터 소정 거리로 배치된 클리닝 매트를 도시하는 대응 단면도.

도7은 쐐기 형상으로 돌출된 모서리를 갖는 클리닝 매트를 포함하는 변속 기어의 수직 절단도.

도8은 파동형으로 배치된 클리닝 매트를 포함하는 변속 기어의 수직 절단도.

도9는 액체를 세척하기 위한 포켓을 갖는 클리닝 매트를 포함하는 변속 기어를 통한 단면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 하우징

2 : 클러치 하우징

3 : 기어 하우징

4 : 수평 하부 영역

5, 5' : 클리닝 매트

6' : 미세 메쉬 하부층

7' : 카페트형 상부층

8 : 스페이서

본 발명에 따르면, 상기 목적은 클리닝 매트가 청구범위 제1항의 특징을 갖는 점에 의해 달성된다.

클리닝 매트가 섬유 조성을 갖는 점에 의해, 액체는 동작 및 정지 중에 세척되고, 클리닝 매트는 여과 및 침강에 의해 액체로부터 불순물을 제거한다. 그러한 단순한 구성의 섬유 클리닝 매트는 용이하게 제조된 섬유 매트의 사용을 허용하고 절단 및 형상 가공에 의해 소정의 바람직한 형상으로 될 수 있다. 이러한 종류의 클리닝 매트는 기어 하우징의 적절한 영역 내의 큰 영역에 걸쳐 부착된다.

조작 중에, 액체는 변속 샤프트의 회전 및 관성력에 의해 연속적으로 이동된다. 클리닝 매트를 통과하는 액체는 클리닝 매트 내의 여과 섬유들의 느슨한 구성에 의해 아래로 천천히 진행된다. 클리닝 매트 내의 액체의 유속은 감소되고, 필터의 상부면으로부터 더 멀어진다. 그러한 유속의 느림 때문에, 액체 내의 불순물들은 클리닝 매트 내의 섬유의 얽힘 속에 남게 되고 클리닝 매트의 기부에 낙하된다.

또한, 클리닝 매트 위의 액체 내의 불순물들은 정지시에 클리닝 매트 내로 낙하된다. 기어가 조작으로 후퇴될 때, 침전된 불순물들은 클리닝 매트의 섬유들에 의해 방면된다. 액체가 클리닝 매트의 상부면에 걸쳐 유동하면, 섬유들은 유동 방향으로 기울어질 수 있고 불순물들이 기어 하우징 내로 복귀되는 것을 방지한다. 동시에, 클리닝 매트 내의 액체의 약간 또는 그 현재의 유동 이동에 의해 불순물들은 깊게 세척되어 클리닝 매트 내로 깊이 들어간다. 클리닝 매트의 기부에서, 불순물들은 최종적으로 포집되는 데, 그 이유는 유동 속도가 너무 느려서 불순물들이 클리닝 매트 밖으로부터 세척될 수 없기 때문이다.

본 발명의 또 다른 이점은 클리닝 매트의 섬유들이 변속 샤프트의 신속한 회전에 의해 야기되는 액체의 기포 형성을 방지한다는 것이다. 클리닝 매트가 액체 비산 구역 내에 배치되면, 클리닝 매트는 비산 액체를 흡수하고 기포 형성 없이 그 액체를 떨어뜨려 유지한다.

본 발명의 또 다른 이점은 클리닝 매트가 사용되는 큰 영역의 라이닝을 통해 추가적인 소음 방지 효과가 달성된다.

유리한 개선으로서, 클리닝 매트는 미세 메쉬 하부층과 카페트형 상부층을 포함하고, 카페트형 상부층은 니들링(needling), 터프팅(tufting) 또는 루핑(looping)에 의한 다양한 공지된 방식으로 제조될 수 있다. 이러한 종류의 클리닝 매트는 제조장 제품으로부터 절단함으로써 단순한 방식으로 제조될 수 있다. 형상 가공 후에, 클리닝 매트는 하우징에 부합되도록 형성되고 높은 치수 안정성을 가질 수 있다.

또 다른 실시예에서, 클리닝 매트는 미세 메쉬 하부층과 카페트형 상부층을 포함하고, 카페트형 상부층은 니들링, 터프팅 또는 루핑에 의한 다양한 공지된 방식으로 제조될 수 있다. 이러한 것은 클리닝 매트가 양 측면으로부터 불순물들을 수용할 수 있게 한다. 이러한 능력은 클리닝 매트가 하우징 벽으로부터 소정 거리로 장착되면 도움이 되고, 이러한 점에서 클리닝 매트는 하우징 내에서 수직 및 수평으로 배치될 수 있다.

클리닝 매트의 섬유들의 양호한 재료는 폴리아미드 또는 폴리에스테르와 같은 합성 섬유이다. 미세 메쉬 하부층은 클리닝 매트의 한 측면에 고무 코팅을 부착함으로써 형성되고, 그 고무 코팅은 양호하게는 스티렌-부타디엔 고무 또는 아크릴 고무로 구성된다. 기본적으로, 온도 및 윤활제에 충분히 안정된 영향을 미치는 모든 재료들이 적합하다.

불순물들을 보유하는 클리닝 매트의 성능은 클리닝 매트가 상부면에서 저밀도 및 하부면에서 고밀도를 갖는 경우 더욱 향상된다. 불순물들은 섬유들이 느슨하게 배치된 상부면에서 포집되고, 섬유들이 보다 조밀하게 패킹된 하부면의 방향으로 세척됨으로써, 불순물들이 클리닝 매트에 의해 보다 효과적으로 보유되는 것을 보장한다.

클리닝 매트는 접착 결합에 의해 하우징에 고정될 수 있다. 클리닝 매트는 섬유에 의해 또는 그 하부층에 의해 하우징에 직접 결합될 수 있다. 또한, 섬유들은 플록(flock) 코팅 등에 의해 섬유층을 하우징 내의 접착층에 부착시킴으로써 접착될 수 있다. 이 때 섬유 클리닝 매트는 하우징 자체 내에서만 형성된다.

또 다른 가능한 고정 방법은 클리닝 매트를 클램프 또는 스크류 조인트에 의해 하우징에 부착하는 것이다. 이것은 소정 주기의 조작 후에 클리닝 매트를 교환하는 가능성에 관해 특히 요구된다. 스크류 및 클램프 조인트에 의해, 클리닝 매트는 유지 보수 기간 중에 하우징으로부터 분리될 수 있고 새로운 클리닝 매트로 교체될 수 있다.

클리닝 매트의 유리한 실시예는 스페이서의 제공에 있다. 클리닝 매트는 스페이서 상에 배치되고 하우징의 열 분산 용량을 유지시킨다. 이러한 방식으로, 클리닝 매트는 하우징을 통해 그리고 하우징 후방에서 유동을 허용하는 방식으로 하우징에 대해서 배치되고, 액체로부터의 열은 하우징에 직접 전달될 수 있다.

또 다른 실시예에서, 클리닝 매트는 파동 설계이다. 그 파동 골은 기어 하우징에 견고하게 연결되고 파동 정점은 클리닝 매트 아래에 액체 채널을 형성한다. 이러한 점은 클리닝 매트 후방에서 유동이 발생될 수 있게 보장한다. 이러한 점은 클리닝 매트의 하부면 상에서 하우징을 통해 액체로부터 열 소산을 증가시키고, 또한 클리닝 매트의 유효 영역은 액체 채널들 내에 사용 가능한 클리닝 매트의 하부면 상의 영역에 의해 증가된다.

또 다른 실시예에서, 클리닝 매트의 모서리들은 기어 하우징으로부터 낮은 쐐기 형상으로 적어도 부분적으로 돌출하도록 배치된다. 이러한 모서리들 아래에서 형성되는 액체의 낮은 쐐기 형상에서, 섬유들에 의해 보유되지 않는 큰 입자들은 특히 효과적인 방식으로 보유되고 액체 유동으로부터 제거된다.

평평한 하부면에 인접한 하우징의 영역에서, 유리하게도 클리닝 매트는 액체가 재순환될 때 액체의 작용에 직접 노출되는 영역에서 완전하게 또는 부분적으로 배치된다. 특히, 이러한 것은 액체를 클리닝함과 동시에 액체의 기포 발생을 방지한다.

클리닝 매트의 유리한 또 다른 실시예는 클리닝 매트가 기어 하우징 내에 배치될 때 적어도 하나의 포켓에 형성되고, 상기 포켓은 하우징의 내부를 향해 적어도 하나의 개구를 갖고, 이로써 액체가 이동할 때 액체의 일부가 포켓 내로 유입되는 것이다. 그러한 포켓은 리세스의 모서리들이 하우징 상에 보유되고 가장 높은 지점에 개구를 갖는 리세스를 포함하는 클리닝 매트에 의해 하우징의 한 영역 상에 제공된다. 이러한 방식으로, 그러한 포켓으로 유입되는 액체는 여과 및 침강에 의해 클리닝된다.

유리하게도 포켓을 갖는 클리닝 매트는 액체 불투과성 층을 갖는다. 포켓 내로 유입된 액체 내에 포함된 불순물들은 포켓 내의 클리닝 매트의 섬유들 내에 포집된다. 그 다음에, 액체는 하우징의 이동 또는 액체의 비산으로 인해 포켓 내의 개구를 통해 교환되고 이러한 방식으로 클리닝된 액체는 하우징 내로 재유입되고 포켓 내로 유입된 오염된 액체는 포켓 내에서 클리닝된다.

또 다른 유리한 실시예로서, 불순물들 중에 자화 가능한 금속 입자들을 위한 클리닝 매트 내의 섬유들의 보유 성능을 더욱 증가시키기 위해 소정의 자성 특성이 추가적으로 제공된 클리닝 매트가 제공된다. 이러한 목적으로, 클리닝 매트는 자성 섬유들을 가질 수 있고, 즉 클리닝 매트는 자성 섬유로 완전하게 또는 부분적으로 구성될 수 있다. 클리닝 매트의 섬유가 자성 입자들을 포함하면 동일한 효과가 달성된다.

또 다른 실시예는 하우징에 대면하는 클리닝 매트의 하부면 상에 자성층을배치하는 것이다. 클리닝 매트는 공지된 방식으로 클리닝 매트의 섬유들에 직접 연결된 자성 포일을 포함할 수 있다. 이 경우에, 클리닝 매트의 일부를 형성하는 자성 포일은 한 측면, 하부면 또는 클리닝 매트의 중간부에 배치될 수 있다. 이 때 섬유들은 자성 포일을 완전하게 둘러싼다.

하우징의 표면에 관한 섬유 클리닝 매트의 또 다른 편리한 구성은 다른 청구항들에 기재되어 있다.

본 발명은 첨부된 도면들에 도시된 실시예들과 관련하여 보다 상세히 설명된다.

도1 내지 도9에서, 대응 부품들은 동일한 참조 부호로 표시된다.

본 실시예에서, 하우징(1)은 대응 롤링 접촉 베어링에서 지지되는 공지된 방식의 변속 샤프트(I, II, III)에서 수용되는 클러치 하우징(2) 및 기어 하우징(3)을 포함한다.

하우징(1)의 내부는 윤활유를 이용하여 공지된 방식으로 일점쇄선(N)으로 표시된 정상 수준으로 채워진다.

기어 하우징(3)의 기본적인 수평 하부 영역(4)에는 섬유 클리닝 매트(5)가 배치되고, 섬유 클리닝 매트는 미세 메쉬 또는 미세 셀 하부층(6) 및 카페트형 상부층(7)을 포함한다.

도2 및 도3에서 알 수 있는 바와 같이, 섬유 클리닝 매트(5)는 기어 하우징(3)의 수평 하부면(4)의 상당한 영역에 걸쳐 연장되고, 특히 휴지 상태 중에 침전 공정에 대해 상당히 긴 시간에 걸쳐 작용하는 침전 불순물들을 수용하고 보유하기 위한 매우 큰 수용면을 제공한다.

섬유 클리닝 매트(5)는 상당히 다양한 기술적 방법에 의해 배치될 수 있는 데, 특히 적절한 접착제를 이용하여 클리닝 매트를 고정시킬 가능성이 있고, 또한 적절한 클램핑 또는 보유 텅 또는 다른 체결 장치들에 의해 기어 하우징(3) 내에서 클리닝 매트를 제위치에 고정시킬 가능성도 있다.

큰 체적의 제품에서, 특히 재순환 모드에서 열 소산이 상당히 요구되는 차량에서 사용되는 변속 기어에서 열 소산을 개선시키기 위해, 도4, 도5 및 도6에 따른 실시예가 주목된다. 미세 메쉬 또는 미세 셀 하부층(6') 및 카페트형 상부층(7')을 포함하는 섬유 클리닝 매트(5')는 기어 하우징(3)의 본질적인 수평 하부면(4) 상에 배치된다. 여기서, 하부층(6')에는 스페이서(8)가 제공되는 데, 그 스페이서는 적절한 지점에 배치되고 그 스페이서에 의해 섬유 클리닝 매트(5')가 하우징 벽(4)으로부터 소정 거리로 보유될 수 있고 액체가 후방에서 유동될 수 있으므로 기어 하우징의 가용 냉각 용량을 유지할 수 있다.

또, 섬유 클리닝 매트(5')는 접착제의 스폿에 의해 대응 스페이서(8) 상에 고정될 수 있다. 한편, 이러한 스페이서들은 기어 하우징 내의 대응 클램핑 또는 보유 장치들과 상호 작용할 수 있다. 본 기술 분야의 당업자에게서 그러한 고정 방법은 액체가 재순환될 때 클리닝 매트가 견고하게 제위치에 보유되는 것을 보장하는 한 어떠한 제한도 없다.

클리닝 매트(5, 5')는 기본적으로 액체 내의 불순물을 수용하고 보유하기 위해 본 기술 분야의 당업자에게 익숙한 어떤 섬유 재료를 포함할 수 있고, 특히 고온의 윤활제 등에 의해 야기되는 대응 응력에 견딜 수 있는 통상의 합성 섬유 재료일 수 있다. 그러나, 본 발명의 따른 실질적인 일면은 액체의 작용에 의해 직접 노출되는 카페트형 상부층(7, 7')과 상기 상부층을 지지하는 미세 메쉬 또는 미세 셀 하부층(6, 6')을 포함하는 것이다. 이러한 것은 섬유가 얽혀서 형성된 섬유 클리닝 매트(5, 5')의 내부가 종래의 필터 팩킹에 요구되는 외장 없이도 직접 접근할 수 있게 하며, 도4 내지 도6의 실시예에 따른 유동을 허용할 수 있다.

도7은 쐐기 형상으로 돌출된 모서리(9)를 갖는 클리닝 매트(5")을 도시한다. 클리닝 매트(5")는 하부면(4) 상에 큰 영역에 걸쳐 고정된다. 클리닝 매트(5")의 모서리(9)들은 하부면(4)으로부터 낮은 각도로 벗어나므로 쐐기 형상으로 돌출된 모서리(9)들을 형성한다. 액체 내의 불순물들 중 더 큰 입자들은 그러한 모서리(9)들 아래에서 세척되고 쐐기 형상에 의해 모서리(9)들 아래에서 포집된다. 클리닝 매트(5")의 평균적인 섬유 공간보다 더 큰 고른 입자들은 클리닝 매트에 의해 액체로부터 영구적으로 제거될 수 있는 데, 그 이유는 섬유들이 쐐기 형상 내에 포획된 입자들을 무한정으로 포집하기 때문이다.

도8에 도시된 클리닝 매트(5''')는 파동 형상을 갖는다. 파동 골(10)에서, 클리닝 매트는 하부면(4)에 연결된다. 파동 정점(11)은 클리닝 매트(5''') 및 하부면(4) 사이에 액체 채널(12)을 형성하고, 그 채널들을 통해 액체는 클리닝 매트(5''') 후방에서 유동할 수 있으므로 액체로부터 하부면(4)을 통해 열 소산을 증가시킨다. 액체 채널을 통한 유동을 개선시키기 위해, 파동 정점(11)에 추가의 개구(13)들이 제공된다.

도9는 포켓을 갖는 클리닝 매트의 다양한 구성들을 도시한다. 이러한 목적으로, 클리닝 매트(14)는 2개의 리세스(15)를 구비하고, 2개의 리세스는 하우징(3)과 함께 포켓(16)을 형성한다. 스페이서(18)의 모서리(17)들의 지지부에 의해, 포켓(16)들은 하우징의 내부(19)를 향해 개방되고, 포켓들 중 하나는 변속 기어의 설치 위치가 어디이든 간에 상방으로 대향된 개구를 갖는다. 대향 개구를 갖는 포켓 내에 포집된 액체는 포켓 밖으로 유동할 수 없다. 그 액체 내의 불순물들은 클리닝 매트(14)의 섬유 들 내에 포집된다. 새로 오염된 액체가 포켓으로 들어가자마자, 오래되고 세척된 액체는 하우징의 내부(19)의 액체로 재공급된다.

포켓(21)이 리세스(22)에 의해 형성되는 클리닝 매트(20)는 동일한 방식으로 작용한다. 리세스(22)의 모서리(23)들에서, 클리닝 매트(20)는 하우징에 견고하게 연결된다. 액체 교환은 클리닝 매트(20) 내에 직접 형성된 개구들을 통해 전술한 방식으로 발생된다.

동일한 방식으로, 클리닝 매트(25)는 단지 비산 액체에 노출되는 위치에 장착될 수 있다. 액체를 저장하는 포켓(26)의 용량은 클리닝 매트(25)의 세척 효과를 그러한 위치에 간단하게 보장한다.

본 발명은 재료 소비가 거의 없고 조립시 비용이 낮은, 회전식 기계 요소를 포함하는 하우징 내에 액체 내의 불순물을 수용하고 보유하기 위한 장치를 개시한다. 본 장치는 특히 장시간의 휴지 기간 중에 순수하게 그 침전 거동을 통한 비금속 초미세 불순물들을 수용하고 보유함으로써 그러한 하우징 내에서 재순환 액체의 성질을 개선시키기 위해 그러한 종류의 거의 모든 통상의 하우징 내에 미리 설치되거나 개조될 수 있다.

본 발명의 클리닝 매트에 따르면, 회전식 기계 요소를 포함하는 하우징 내에서 액체 내의 불순물을 수용하고 보유하는데 있어서 재료 소비가 거의 없고 조립시 비용이 낮은 이점을 있다.

Claims (18)

1. 회전식 기어 요소들을 수용하고 액체의 작용에 직접 노출되는 하우징(3)의 큰 표면(4) 상에 배치된 액체용 클리닝 매트(5)에 있어서,

   상기 클리닝 매트(5)는 주로 섬유 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 액체용 클리닝 매트.
2. 제1항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 미세 메쉬 하부층(6)과 니들링(needling), 터프팅(tufting) 또는 루핑(looping)에 의한 다양한 공지된 방식으로 제조될 수 있는 카페트형 상부층(7)을 포함하는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
3. 제1항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 미세 메쉬 상호층과 니들링, 터프팅 또는 루핑에 의한 다양한 공지된 방식으로 제조될 수 있는 카페트형 상부층 및 하부층을 포함하는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 합성 수지로, 양호하게는 폴리아미드 또는 폴리에스테르로 구성되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 폐쇄 메쉬 하부층(6)은 클리닝 매트(5)의 한 측면에 고무 코팅을 부착시켜 형성되고, 상기 고무 코팅은 양호하게는 스티렌-부타디엔 또는 아크릴 고무로 구성되는 것을 특징으로 하는 액체용 클리닝 매트.
6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 그 상부면이 밀도가 낮고 그 하부면이 밀도가 높은 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
7. 제1항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 접착 결합에 의해 하우징(3)에 고정되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
8. 제2항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 접착 결합에 의해 그 하부층(6)이 하우징(3)에 고정되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(5)는 클램프 조인트 또는 스크류 조인트에 의해 하우징(3)에 고정되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하우징(3)의 열 소산 용량을 유지하기 위해, 클리닝 매트(5')에는 스페이서(8)가 제공되고, 그 스페이서에 의해클리닝 매트를 통해 그리고 클리닝 매트의 후방에서 유동이 허용되는 방식으로 클리닝 매트가 하우징(3)으로부터 소정 거리로 배치되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
11. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(5'')의 모서리(9)들은 기어 하우징으로부터 낮은 쐐기 형상으로 적어도 부분적으로 돌출하는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
12. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(5''')는 파동형이고, 파동 골(10)은 하우징(3)에 견고하게 연결되며 파동 정점(11)은 클리닝 매트(5''')의 아래에서 액체 채널(12)을 형성하는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
13. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서, 평평한 하부면(4)에 인접한 하우징(3)의 영역에서, 클리닝 매트(14)는 액체가 재순환될 때 액체의 작용에 의해 직접 노출되는 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
14. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(14, 20, 25)는 기어 하우징 내에 배치될 때 적어도 하나의 포켓(17, 21, 26)을 형성하고, 상기 포켓은 하우징의 내부(19)를 향한 적어도 하나의 개구를 갖고, 이로써 액체가 이동할 때액체의 일부가 포켓(17, 21, 26) 내로 유입되도록 구성된 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
15. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트(20, 25)는 액체 불투과성 층을 갖는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
16. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트는 자성 섬유를 갖는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
17. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 클리닝 매트는 자성 입자들을 갖는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.
18. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하우징에 대면하는 클리닝 매트의 하부면에는 자성 층이 배치되는 것을 특징으로 하는 클리닝 매트.