KR20010065270A - 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 - Google Patents
플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010065270A KR20010065270A KR1019990065142A KR19990065142A KR20010065270A KR 20010065270 A KR20010065270 A KR 20010065270A KR 1019990065142 A KR1019990065142 A KR 1019990065142A KR 19990065142 A KR19990065142 A KR 19990065142A KR 20010065270 A KR20010065270 A KR 20010065270A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- voltage
- gate
- drain
- flash memory
- memory cell
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/12—Programming voltage switching circuits
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
본 발명은 게이트 및 드레인에 소정 전압을 인가하고 소오스 및 기판을 접지 전위로 유지시켜 실시하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법에 관한 것으로, 상기 게이트 또는 드레인중 어느 한 단자에 소정 전압을 인가한 상태에서 다른 단자에 2 단계 이상으로 전압을 변화시켜 인가함으로써 셀당 프로그램 전류를 대폭 줄일 수 있어 플래쉬 메모리 셀의 신뢰성 및 수율을 향상시킬 수 있는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법이 제시된다.
Description
본 발명은 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법에 관한 것으로, 특히 플래쉬 메모리 소자를 프로그램시킬 때 인가되는 게이트 또는 드레인 단자에 인가되는 전압중 어느 하나의 전압을 소정의 전위로 유지시키면서 다른 단자에 인가되는 전압을 2단계 이상으로 조절함으로써 셀당 프로그램 전류를 대폭 줄일 수 있어 플래쉬 메모리 셀의 신뢰성 및 수율을 향상시킬 수 있는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법에 관한 것이다.
일반적인 스택 게이트형 플래쉬 메모리 셀은 도 1에 도시된 단면도와 같이 반도체 기판(11) 상부의 선택된 영역에 터널 산화막(12)이 형성되고, 그 상부에 플로팅 게이트(13), 유전체막(14) 및 콘트롤 게이트(15)가 적층되어 있으며, 반도체 기판(11)의 소정 영역에는 소오스(16) 및 드레인(17)이 형성되어 있다.
상기와 같은 플래쉬 메모리 셀을 프로그램시키기 위해서는 핫 캐리어 인젝션을 통해 플로팅 게이트에 전자를 주입해야 한다. 이를 위해서는 드레인에 소정 문턱 전압 이상의 전압을 인가하고, 발생된 전자를 플로팅 게이트내로 유도하기 위해 콘트롤 게이트에 높은 전압을 인가해야 한다. 한편, 소오스 및 기판은 접지 전위를 유지하도록 한다.
그런데, 셀 사이즈의 축소로 인해 채널 길이가 작아지면서 프로그램을 실시할 때 채널 전류가 급격히 증가하게 된다. 이로 인하여 드레인 전압을 적정 값으로 유지시키는 드레인 펌프 회로의 설계가 아주 힘들어지게 된다. 즉, 펌프 회로내의 트랜지스터의 크기가 커져야 하고 공정상의 제어 가능한 정도도 떨어지게 된다.
도 2에는 종래의 플래쉬 메모리 셀의 프로그램시의 게이트 및 드레인 단자에 인가되는 펄스의 파형도이다. 도시된 바와 같이 처음부터 게이트에 높은 전압(약 9V)을 인가하여 프로그램시키게 되면 도 3에 도시된 바와 같이 프로그램 피크 전류가 커지기 때문에 드레인 전압이 그 전류를 이기지 못하고 도 4에 도시된 바와 같이 드레인 전압은 감소하게 된다. 이에 따라 프로그램 시간이 무제한으로 늘어나게 되고 프로그램은 실패하게 된다. 또한 이는 저전압용 플래쉬 메모리 셀이 주종을이루는 현재의 경향에 있어서는 더욱 심각한 문제로 대두된다.
따라서, 본 발명은 셀당 프로그램 전류를 줄일 수 있어 소자의 신뢰성 및 수율을 향상시킬 수 있는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 게이트 및 드레인에 소정 전압을 인가하고 소오스 및 기판을 접지 전위로 유지시켜 실시하는 플래쉬 메모리 소자의 프로그램 방법에 있어서, 게이트 또는 드레인중 어느 한 단자에 소정 전압을 인가한 상태에서 다른 단자에 2 단계 이상으로 전압을 변화시켜 인가하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 일반적인 스택 게이트형 플래쉬 메모리 셀의 단면도.
도 2는 종래의 플래쉬 메모리 셀의 프로그램시 게이트 및 드레인 단자에 인가되는 전압의 파형도.
도 3은 종래의 플래쉬 메모리 셀의 프로그램시의 드레인 전압에 따른 드레인 전류의 특성 그래프.
도 4는 종래의 플래쉬 메모리 셀의 프로그램시의 프로그램 전류에 따른 드레인 전압의 특성 그래프.
도 5는 본 발명에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법의 원리를 설명하기 위한 게이트 전압에 따른 프로그램 전류의 변화 그래프.
도 6은 본 발명에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위해 게이트 및 드레인에 인가되는 전압의 파형도.
도 7은 문턱 전압에 따른 프로그램 전류의 변화 그래프.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위한게이트 및 드레인에 인가되는 전압 파형도.
도 9는 본 발명의 또다른 실시 예에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위한 게이트 및 드레인에 인가되는 전압 파형도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
11 : 반도체 기판 12 : 터널 산화막
13 : 플로팅 게이트 14 : 유전체막
15 : 콘트롤 게이트 16 : 소오스
17 : 드레인
첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
도 5는 게이트 전압에 따른 프로그램 전류의 변화 그래프로서, 이를 이용하여 본 발명의 원리를 설명하면 다음과 같다. 즉, 플래쉬 메모리 셀을 프로그램시킬 때 게이트 전압이 낮을 경우 프로그램의 피크 전류가 감소하게 된다. 이러한 점을 이용하여 셀을 프로그램시킬 때 게이트와 드레인에 인가되는 전압의 형태를 변화시켜 프로그램 문턱 전압을 조절하면서 셀 전류를 감소시킨다.
도 6은 본 발명에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위한 게이트 및 드레인에 인가되는 전압을 나타낸 그래프로서, 게이트 전압을 두 단계 또는 그 이상으로 나누어 인가하여 처음 전압을 최종 목표 전압보다 낮게 조절하고, 드레인 전압을 인가하면 처음부터 전류의 소모가 커져 드레인 전압이 문턱 전압보다 작아져 프로그램 실패의 원인을 방지할 수 있다. 즉, 약 2㎲동안의 프로그램의 제 1 단계에서 게이트에 3∼7V를 인가하고, 그후 프로그램의 제 2 단계에서 게이트 전압을 8∼10V로 상승시켜 프로그램 동작을 수행한다. 이때 드레인 전압은 프로그램의 제 1 및 제 2 단계동안 4∼5V의 전압이 인가되도록 한다. 물론, 소오스 및 기판은 접지 전위를 유지하도록 한다.
이와 같이 하여 프로그램 전류를 낮추게 되면 드레인 전압이 적절히 유지되면서 프로그램이 순조롭게 진행된다. 그리고 프로그램이 제 1 단계에서 어느 정도 진행되면 도 7에 도시된 바와 같은 현상에 의해 제 2 단계의 높은 게이트 전압에도 불구하고 프로그램 전류는 현저하게 줄어들게 된다.
따라서, 프로그램시 소모되는 전류의 양을 아주 작은 값으로 유지시키면서도 프로그램 후의 문턱 전압 값을 안전하게 얻을 수 있다. 위와 같은 현상은 프로그램의 제 1 단계에서 드레인 전압이 제대로 형성되어 있으므로 제 1 게이트 전압에 의해 문턱 전압이 상승하게 되고 프로그램의 제 2 단계에서는 문턱 전압이 높아진 현상 때문에 게이트 전압이 낮아지는 것과 같은 효과를 이룰 수 있게 되기 때문이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위한 게이트 및 드레인에 인가되는 전압 파형도이다. 드레인 전압을 4∼5V로 인가하면서약 2㎲동안의 프로그램의 제 1 단계에서 게이트에 0V를 인가하고, 그후 프로그램의 제 2 단계에서 게이트 전압을 8∼10V로 상승시켜 프로그램 동작을 수행한다. 이때도 마찬가지로 소오스 및 기판은 접지 전위를 유지하도록 한다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시 예에 따른 플래쉬 메모리 셀의 프로그램을 위한 게이트 및 드레인에 인가되는 전압 파형도이다. 게이트 전압을 8∼10V로 유지한 상태에서 약 2㎲동안의 프로그램의 제 1 단계에서 드레인에 3∼4V를 인가하고, 그후 프로그램의 제 2 단계에서 드레인 전압을 4∼5V로 상승시켜 프로그램 동작을 수행한다. 이때도 마찬가지로 소오스 및 기판은 접지 전위를 유지하도록 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 프로그램시 발생하는 프로그램 전류를 줄임으로써 프로그램시 필요한 드레인 펌프 설계 회로의 부담을 줄이고 이에 따라 같은 펌프 회로를 사용할 경우 더 작은 채널 길이를 가지는 셀의 제조를 가능하게 하여 셀의 크기를 줄임으로써 소자의 수율을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명을 적용시킬 경우 채널 길이에 대한 마진을 넓혀줌으로써 공정 진행상 안정화를 도모할 수 있다.
Claims (4)
- 게이트 및 드레인에 소정 전압을 인가하고 소오스 및 기판을 접지 전위로 유지시켜 실시하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법에 있어서,게이트 또는 드레인중 어느 한 단자에 소정 전압을 인가한 상태에서 다른 단자에 2 단계 이상으로 전압을 변화시켜 인가하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 드레인에 4 내지 5V의 전압을 인가한 상태에서 게이트에 3 내지 7V를 인가하고, 소정 시간 후 상기 게이트에 8 내지 10V의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 드레인에 4 내지 5V의 전압을 인가한 상태에서 상기 게이트에 0V의 전압을 인가하고 소정 시간 후 상기 게이트에 8 내지 10V의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 게이트에 8 내지 10V의 전압을 인가한 상태에서 상기 드레인에 3 내지 4V를 인가하고, 소정 시간 후 상기 드레인에 4 내지 5V의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-1999-0065142A KR100383768B1 (ko) | 1999-12-29 | 1999-12-29 | 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 |
US09/721,935 US6392929B1 (en) | 1999-12-29 | 2000-11-27 | Method of programming a flash memory cell |
TW089127165A TW594761B (en) | 1999-12-29 | 2000-12-19 | Method of programming a flash memory cell |
JP2001000059A JP2001189084A (ja) | 1999-12-29 | 2001-01-04 | フラッシュメモリのプログラミング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-1999-0065142A KR100383768B1 (ko) | 1999-12-29 | 1999-12-29 | 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010065270A true KR20010065270A (ko) | 2001-07-11 |
KR100383768B1 KR100383768B1 (ko) | 2003-05-14 |
Family
ID=19632346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-1999-0065142A KR100383768B1 (ko) | 1999-12-29 | 1999-12-29 | 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6392929B1 (ko) |
JP (1) | JP2001189084A (ko) |
KR (1) | KR100383768B1 (ko) |
TW (1) | TW594761B (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4756803B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2011-08-24 | キヤノン株式会社 | 磁気メモリ装置の書き込み回路 |
DE10357777B3 (de) * | 2003-09-30 | 2005-05-12 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Betrieb eines Speicherzellenfeldes |
US7710786B2 (en) | 2006-08-28 | 2010-05-04 | Micron Technology, Inc. | NAND flash memory programming |
DE202014011009U1 (de) | 2013-07-26 | 2017-06-02 | Zephyros Inc. | Wärmehärtende Klebstofffolien mit einem Faserträger |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5555204A (en) * | 1993-06-29 | 1996-09-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device |
JP3159105B2 (ja) * | 1997-02-21 | 2001-04-23 | 日本電気株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及びその書込方法 |
-
1999
- 1999-12-29 KR KR10-1999-0065142A patent/KR100383768B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-11-27 US US09/721,935 patent/US6392929B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-19 TW TW089127165A patent/TW594761B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-01-04 JP JP2001000059A patent/JP2001189084A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6392929B1 (en) | 2002-05-21 |
KR100383768B1 (ko) | 2003-05-14 |
JP2001189084A (ja) | 2001-07-10 |
TW594761B (en) | 2004-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100650088B1 (ko) | 플래쉬 메모리 소거 방법 및 장치 | |
US5396459A (en) | Single transistor flash electrically programmable memory cell in which a negative voltage is applied to the nonselected word line | |
US6882575B2 (en) | Erasing method for non-volatile memory | |
US6654284B2 (en) | Channel write/erase flash memory cell and its manufacturing method | |
US4972371A (en) | Semiconductor memory device | |
KR100343110B1 (ko) | 조정가능한문턱전압변환회로 | |
KR100284218B1 (ko) | 저감된 소거 동작 회수를 갖는 멀티레벨 비휘발성 메모리 셀 프로그래밍 방법 | |
JPH0855487A (ja) | メモリセルが消去された後にフラッシュメモリアレイにおけるメモリセルのしきい値電圧を収束する方法、およびその方法に従ってメモリセルのしきい値電圧を収束するためのゲート電圧およびドレイン電圧を印加するよう電力源が制御されるフラッシュメモリアレイ | |
JP3914340B2 (ja) | フラッシュメモリ装置 | |
CN1782955A (zh) | 在休眠模式期间控制信号状态和漏电流 | |
KR100383768B1 (ko) | 플래쉬 메모리 셀의 프로그램 방법 | |
TWI697777B (zh) | 快閃記憶體的程式設計電路、程式設計方法及快閃記憶體 | |
US10008267B2 (en) | Method for operating flash memory | |
KR100383766B1 (ko) | 플래쉬 메모리 소자의 소거 방법 | |
KR100342903B1 (ko) | 불휘발성 반도체 메모리장치 및 불휘발성 반도체메모리장치에 기억된 데이터의 재기입 방법 | |
US7054196B2 (en) | Method for programming P-channel EEPROM | |
US6747900B1 (en) | Memory circuit arrangement for programming a memory cell | |
US6894925B1 (en) | Flash memory cell programming method and system | |
US6188604B1 (en) | Flash memory cell & array with improved pre-program and erase characteristics | |
KR930006722B1 (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR100449864B1 (ko) | 부스팅 회로 | |
US8097912B2 (en) | Systems and methods for self convergence during erase of a non-volatile memory device | |
JPH0652692A (ja) | フローティングゲート型メモリデバイスのプログラミング方法 | |
US5596531A (en) | Method for decreasing the discharge time of a flash EPROM cell | |
US20070064487A1 (en) | Program method and circuit of non-volatile memory |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120323 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |