KR20010060133A

KR20010060133A - Apparatus for keeping mask of semiconductor manufacturing

Info

Publication number: KR20010060133A
Application number: KR1019990068256A
Authority: KR
Inventors: 권기용
Original assignee: 박종섭; 주식회사 하이닉스반도체
Priority date: 1999-12-31
Filing date: 1999-12-31
Publication date: 2001-07-06

Abstract

PURPOSE: A mask custody device is to prevent any foreign matters from presenting on a mask used in an exposure process. CONSTITUTION: A mask support(30) is formed by bending a plate of an area into a U shape and engaging a supporting member to a bottom of the plate. The supporting member is engaged to bottom surface of the mask support to support four corners of a mask(M). A mask cover(40) is formed in a hexahedral shape to cover the mask support with its bottom and one side being opened. The mask cover is engaged to cover the mask support. A detecting sensor is mounted to one side of the mask cover to sense the presence of the mask. A fan motor(60) is mounted to the mask cover. If presence of the mask is detected by a detecting sensor, the fan motor starts to operate whereas if the mask is not present, operation of the fan motor is stopped. A guide tube(71) is engaged with top surface of the mask cover and is connected to a fan. A through hole(42) is formed at one side of the mask cover.

Description

Mask storage device for semiconductor manufacturing {APPARATUS FOR KEEPING MASK OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING}

본 발명은 반도체 제조용 마스크 보관장치에 관한 것으로, 특히 제조 공정 중 패턴을 형성하는 노광 공정에 사용되는 마스크를 보관시 마스크에 이물이 존재하지 않게 할 보관할 수 있도록 한 반도체 제조용 마스크 보관장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask storage apparatus for semiconductor manufacturing, and more particularly, to a mask storage apparatus for semiconductor manufacturing, which allows the mask used in the exposure process for forming a pattern during the manufacturing process to be free from foreign substances in the mask during storage.

일반적으로 반도체 제조 공정 중 노광 공정시에 원하는 모양의 패턴을 형성하기 위해 원하는 모양이 형성되어 있는 마스크를 사용하게 된다. 이러한 마스크는 빛의 조사를 받아 패턴 모양대로 웨이퍼에 전사되므로 만일 마스크 표면에 이물이 존재하게 되면 그 이물의 모양이 그대로 웨이퍼에 전사되어 치명적인 불량을 초래하게 된다. 따라서, 상기 마스크는 이물이 존재하지 않도록 보관되어야 하며 그 마스크를 이물이 존재하지 않도록 보관하기 위해 보관시 마스크 보관장치에 보관하게 된다.In general, a mask having a desired shape is used to form a pattern of a desired shape during an exposure process of a semiconductor manufacturing process. Since the mask is transferred to the wafer in the pattern shape by irradiation of light, if a foreign material is present on the surface of the mask, the foreign material is transferred to the wafer as it is, resulting in a fatal defect. Therefore, the mask should be stored so that no foreign matter exists, and the mask is stored in the mask storage device during storage in order to store the mask so that no foreign matter exists.

도 1은 종래 반도체 제조용 마스크의 보관장치를 도시한 것으로, 이에 도시한 바와 같이, 소정의 면적을 갖는 판이 디귿자 형태로 절곡 형성됨과 아울러 그 저면에 마스크(M)가 앉혀지는 다수개의 받침편(1)이 결합된 마스크 받침대(10)와, 상기 마스크 받침대(10)를 복개할 수 있도록 일측이 개구된 육각 형태의 마스크 덮개(20)로 구성되어 있다.1 illustrates a conventional storage device for a mask for manufacturing a semiconductor, and as shown in FIG. 1, a plurality of support pieces 1 having a plate having a predetermined area bent in the form of a recess and having a mask M seated on a bottom thereof. ) Is composed of a mask pedestal 10 is coupled to, and a mask cover 20 of the hexagonal shape is opened on one side so as to cover the mask pedestal 10.

상기 받침편(1)은 소정의 폭을 갖는 니은자 형태로 형성되며 그 니은자 형태의 받침편(1)은 마스크(M)의 네모서리를 지지할 수 있도록 마스크 받침대(10)의 저면에 결합되어 있다. 상기 양측면에 손잡이(21)가 형성되어 있다.The support piece 1 is formed in the shape of a needle-shaped silver having a predetermined width, and the needle-shaped support piece 1 is coupled to the bottom surface of the mask pedestal 10 so as to support the four corners of the mask M. FIG. It is. The handle 21 is formed on both sides.

상기 보관장치에 마스크(M)가 보관된 구조는, 도 2에 도시한 바와 같이, 마스크 받침대(10)의 받침편에 마스크(M)가 놓여지고 그 마스크(M)가 놓여진 마스크 받침대(10)에 마스크 덮개(20)가 복개된다.In the structure in which the mask M is stored in the storage device, as shown in FIG. 2, the mask pedestal 10 on which the mask M is placed on the support piece of the mask pedestal 10 is placed. The mask cover 20 is covered.

상기 보관장치에 마스크(M)가 보관되는 과정은 먼저 마스크 덮개를 마스크 받침대(10)에서 오픈시킨 다음 마스크 받침대(10)의 받침편에 마스크(M)를 올려 놓고 이어 마스크 덮개(20)로 마스크 받침대(10)를 복개하게 된다.In the process of storing the mask M in the storage device, first, the mask cover is opened from the mask pedestal 10, and then the mask M is placed on the support piece of the mask pedestal 10, and then the mask is masked with the mask cover 20. The pedestal 10 is covered.

상기와 같은 과정으로 마스크(M)가 마스크 보관장치에 보관되므로 마스크(M)가 보관장치에 넣어지기 전에 마스크(M) 표면에 부착된 이물을 제거하기 위한 아무런 조치없이 마스크(M)를 그대로 보관장치에 보관하게 되고 또한 다음에 마스크(M)를 사용하게 될 경우 그대로 그 보관된 마스크(M)를 꺼내어 사용하게 되므로 노광 공정 중 마스크(M)에 이물이 끼게 되면 패턴 형성에 지속적으로 치명적인 불량을 발생시킬 뿐만 아니라 마스크(M)에 이물이 누적될 우려가 크게 된다.As the mask M is stored in the mask storage device as described above, the mask M is stored as it is without any action to remove foreign substances attached to the surface of the mask M before the mask M is put into the storage device. If the mask M is stored in the device and the next time the mask M is used, the stored mask M is taken out and used as it is. Not only that but also foreign matters accumulate in the mask M is greatly increased.

이러한 문제점을 해결하기 위한 종래 방법으로 노광 공정 전에 수동으로 사람이 마스크(M)를 하나씩 검사하여 이물의 유무를 판단한 후 이물이 발생될 경우 공기를 불어 이물을 제거한 후 그 이물이 제거된 마스크(M)를 사용하게 되었다.In order to solve this problem, a person manually inspects the mask M one by one before the exposure process to determine whether there is a foreign material, and if foreign matter occurs, blows air to remove the foreign material and then removes the foreign matter mask M Has been used.

그러나 상기한 바와 같은 방법은 노광 공정을 진행할 때마다 보관장치에 보관된 마스크(M)를 하나씩 수작업으로 검사하여 이물을 제거하게 되므로 마스크(M)의 이물을 제거하는 작업이 번거로울 뿐만 아니라 작업이 복잡하게 되는 단점이 있다.However, the above-described method removes foreign materials by manually inspecting the mask M stored in the storage device one by one each time the exposure process is performed, which is not only cumbersome but also complicated. There is a drawback to this.

상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 목적은 반도체 제조공정 중 패턴을 형성하는 노광 공정에 사용되는 마스크를 보관시 이물이 존재하지 않게 할 보관할 수 있도록 한 반도체 제조용 마스크 보관장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention devised in view of the above problems is to provide a mask storage device for semiconductor manufacturing, which allows the foreign matter to be stored so that the mask used in the exposure process for forming a pattern during the semiconductor manufacturing process does not exist. have.

도 1는 종래 반도체 제조용 마스크 보관장치의 일례를 도시한 사시도,1 is a perspective view showing an example of a conventional mask storage device for semiconductor manufacturing;

도 2는 종래 반도체 제조용 마스크 보관장치를 도시한 정단면도,2 is a front sectional view showing a mask storage apparatus for manufacturing a conventional semiconductor;

도 3,4는 본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치를 도시한 사시도 및 정단면도,3 and 4 are a perspective view and a front sectional view showing a mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention;

도 5는 본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치의 작동상태를 도시한 정단면도.Figure 5 is a front sectional view showing an operating state of the mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols on the main parts of drawing

30 ; 마스크 받침대 31 ; 받침편30; Mask holder 31; Saucer

40 ; 마스크 덮개 50 ; 감지센서40; Mask cover 50; Sensor

60 ; 팬 모터 70 ; 안내유로60; Fan motor 70; Guide

M ; 마스크M; Mask

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 소정의 형상으로 형성되며 그 내부에 마스크가 안착되는 다수개의 받침편이 구비된 마스크 받침대와, 상기 마스크 받침대를 복개하도록 형성되는 마스크 덮개와, 상기 마스크 덮개 또는 마스크 받침대에 결합되어 마스크의 유무를 감지하는 감지센서와, 상기 감지센서의 감지 신호에 의해 작동하는 팬 모터와, 상기 팬 모터에 의해 발생되는 유동을 마스크로 흐르도록 안내하는 안내유로를 포함하여 구성함을 특징으로 하는 반도체 제조용 마스크 보관장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, a mask pedestal is formed in a predetermined shape and provided with a plurality of support pieces on which the mask is seated, a mask cover formed to cover the mask pedestal, and the mask cover Or a sensing sensor coupled to the mask pedestal for detecting the presence or absence of a mask, a fan motor operated by a sensing signal of the sensing sensor, and a guide channel for guiding the flow generated by the fan motor to the mask. Provided is a mask storage device for manufacturing a semiconductor, characterized in that the configuration.

이하, 본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치를 첨부도면에 도시한 실시례에 따라 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention will be described according to the embodiment shown in the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치를 분해하여 도시한 것이고, 도 4는 본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치의 결합된 상태를 도시한 정면도이다.3 is an exploded view illustrating a mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention, and FIG. 4 is a front view illustrating a combined state of the mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention.

상기 도면을 참조하여 설명하면, 먼저 상기 마스크 받침대(30)는 소정의 면적을 갖는 판이 디귿자 형태로 절곡 형성됨과 아울러 그 저면에 마스크(M)가 앉혀지는 다수개의 받침편(31)이 결합되어 이루어진다. 상기 받침편(31)은 소정의 폭을 갖는 니은자 형태로 형성되며 그 니은자 형태의 받침편(31)은 마스크(M)의 네모서리를 지지할 수 있도록 마스크 받침대(30)의 저면에 결합되어 있다.Referring to the drawings, first, the mask pedestal 30 is formed of a plate having a predetermined area bent in the form of a depression and a plurality of support pieces 31 on which a mask M is seated on the bottom thereof is coupled. . The support piece 31 is formed in the shape of a needle-shaped silver having a predetermined width, and the needle-shaped support piece 31 is coupled to the bottom surface of the mask pedestal 30 so as to support the four corners of the mask M. FIG. It is.

상기 마스크 덮개(40)는 상기 마스크 받침대(30)를 복개할 수 있도록 육면체로 형성되며 그 육면체의 하면과 일측면이 개구된 형태로 형성되며 그 일측에 손잡이(41)가 형성된다. 상기 마스크 덮개(40)는 마스크 받침대(30)를 복개하도록 결합된다.The mask cover 40 is formed of a hexahedron so as to cover the mask pedestal 30, a bottom surface and one side of the hexahedron are formed in an open shape, and a handle 41 is formed at one side thereof. The mask cover 40 is coupled to cover the mask pedestal 30.

상기 감지센서(50)는 상기 마스크 덮개(40)의 일측에 장착됨이 바람직하고 그 감지센서(50)는 마스크(M)의 유무를 감지하게 된다.The detection sensor 50 is preferably mounted on one side of the mask cover 40, the detection sensor 50 is to detect the presence of the mask (M).

그리고 상기 팬 모터(60)는 마스크 덮개(40)에 장착됨이 바람직하고 상기 감지센서(50)의 감지에 의해 마스크(M)가 존재하게 되면 팬 모터(60)가 작동하게 되고 마스크(M)가 존재하지 않게 되면 팬 모터(60)의 작동이 정지된다.In addition, the fan motor 60 is preferably mounted on the mask cover 40. When the mask M exists by the detection of the detection sensor 50, the fan motor 60 is operated and the mask M If there is no presence of the fan motor 60 is stopped.

상기 안내유로(70)의 일례로 상기 마스크 덮개(40)의 상면에 안내관(71)이 결합되고 그 안내관(71)은 팬(60)과 연통된다. 그리고 마스크 덮개(40)의 일측면에 소정의 크기를 갖는 관통구멍(42)이 형성되고 소정의 형상을 갖는 연결관(72)이 상기 안내관(71)과 마스크 덮개(40)의 관통구멍(42)을 연통시키도록 결합된다. 상기 관통구멍(42)이 형성되는 면은 개구된 면과 대면되는 면에 해당된다.As an example of the guide passage 70, a guide tube 71 is coupled to an upper surface of the mask cover 40, and the guide tube 71 communicates with the fan 60. In addition, a through hole 42 having a predetermined size is formed on one side of the mask cover 40, and a connection tube 72 having a predetermined shape is provided with a through hole of the guide tube 71 and the mask cover 40. 42) to communicate. The surface on which the through hole 42 is formed corresponds to the surface facing the opened surface.

본 발명의 반도체 제조용 마스크 보관장치의 작용효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effect of the mask storage device for manufacturing a semiconductor of the present invention.

먼저, 상기 마스크(M)가 본 발명의 보관장치에 보관되는 과정은 마스크 받침대(30)의 받침편에 마스크(M)를 올려 놓게 된다. 그리고 마스크(M)가 놓여진 마스크 받침대(30)를 마스크 덮개(40)로 복개하게 된다. 상기 마스크 덮개(40)가 내부에 마스크(M)가 위치하도록 복개되면 감지센서(50)의 감지에 의해 마스크(M)가 내부에 위치된 것이 인식되어 팬 모터(60)가 작동하게 되고 상기 팬 모터(60)가 작동하게 되면, 도 5에 도시한 바와 같이, 팬에 의해 공기의 유동이 발생되면서 그 발생된 공기 유동이 안내유로(70)를 구성하는 안내관(71)과 연결관(72)을 통해 흐르면서 마스크 덮개(40)의 관통구멍(42)을 통해 마스크 받침대(30)와 마스크 덮개(40)에 의해 형성되는 내부 공간, 즉 마스크(M)가 위치하는 공간으로 유입된다. 그 내부 공간으로 유입된 공기 유동은 마스크(M)에 부착된 이물을 제거하면서 이물과 함께 마스크 받침대(30)와 마스크 덮개(40)의 개방된 부분으로 유출된다. 이와 같이 감지센서의 감지에 의해 자동으로 마스크(M)에 부착된 이물이 제거된다.First, in the process of storing the mask M in the storage device of the present invention, the mask M is placed on the support piece of the mask pedestal 30. The mask supporter 30 on which the mask M is placed is covered with the mask cover 40. When the mask cover 40 is covered so that the mask M is positioned therein, it is recognized that the mask M is positioned by the detection of the detection sensor 50 so that the fan motor 60 is operated and the fan is operated. When the motor 60 is operated, as shown in FIG. 5, the flow of air is generated by the fan, and the generated air flow forms the guide tube 71 and the connection tube 72 that constitute the guide flow path 70. Through the through hole 42 of the mask cover 40 is introduced into the internal space formed by the mask pedestal 30 and the mask cover 40, that is, the space in which the mask (M) is located. The air flow introduced into the inner space flows out to the open portions of the mask pedestal 30 and the mask cover 40 together with the foreign matter while removing the foreign matter attached to the mask M. In this way, the foreign matter attached to the mask (M) is automatically removed by the detection of the detection sensor.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 제조용 마스크 보관장치는 반도체 제조 공정 중 노광 공정에서 패턴을 형성하기 위해 사용되는 마스크를 보관시 이물이 부착되는 것을 방지하게 될 뿐만 아니라 보관 이전에 부착된 이물까지도 제거하면서 보관하는 것이 가능하게 됨으로써 항상 청결하고 깨끗한 상태로 마스크가 보관되어 패턴 형성시 불량 발생을 방지하게 되는 효과가 있고 아울러 이물을 제거하기 위한 수동작업이 배제되고 자동으로 이물 제거가 이루어지게 되어 마스크에 부착된 이물 제거가 수월하게 되는 효과가 있다.As described above, the mask storage apparatus for semiconductor manufacturing according to the present invention not only prevents foreign matters from adhering to the mask used for forming the pattern in the exposure process during the semiconductor manufacturing process, but also foreign matters that are attached before storage. As it can be stored while removing it, the mask is kept clean and clean at all times, thus preventing the occurrence of defects in pattern formation, and eliminating the manual work to remove the foreign matter and automatically removing the foreign matter. There is an effect that it is easy to remove the foreign matter attached to the mask.

Claims

A mask pedestal formed with a predetermined shape and having a plurality of support pieces on which a mask is seated, a mask cover formed to cover the mask pedestal, and coupled to the mask cover or mask pedestal to detect the presence or absence of a mask; And a sensing sensor, a fan motor operated by a sensing signal of the sensing sensor, and a guide channel for guiding a flow generated by the fan motor to the mask.