KR20010060131A - 반도체 노광장비의 수평유지장치 - Google Patents

반도체 노광장비의 수평유지장치 Download PDF

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KR20010060131A
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김용래
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박종섭
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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    • G03F9/7034Leveling

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치는 본체(11)의 하측에 설치되는 수개의 댐퍼(12) 내부에 각각 압력감지용센서(20)를 설치하여, 1차로 공급된 에어의 양을 지속적으로 미세조정하여 외부로 부터의 진동을 감소시키는데 따른 장치 본체의 고정도 레벨링을 유지시키게 되어 노광작업시 오버레이 및 포커스의 최적조건을 유지하는 효과가 있다.

Description

반도체 노광장비의 수평유지장치{LEVELING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR EXPOSURE EQUIPMENT}
본 발명은 반도체 노광장비의 수평유지장치에 관한 것으로, 특히 에어 감지센서를 내장하여 댐퍼의 수평유지 동작을 지속적으로 실시할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 노광장비의 수평유지장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼 제조공정 중 노광공정에서 많이 사용되는 일명 "스테퍼(STEPPER)"라고 불리우는 노광장비가 도 1에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 노광장비의 구조를 보인 사시도로서, 도시된 바와 같이, 종래의 노광장비는 본체(1)의 하부에 4개의 댐퍼(2)로 이루어지는 마운트 시스템이 설치되어 있고, 그와 같이 4개의 댐퍼(2)로 구성된 마운트 시스템은 바닥진동 등의 외부진동의 차단 및 XY 스테이지의 스텝에 의하여 본체(1)에 전해지는 진동을 감시켜서 본체(1)의 수평을 단시간에 고정도로 보정하도록 되어 있다.
즉, 1차적으로 에어 압력 콘트롤러에 의해 에어를 본체(1)에 공급하여 본체(1)를 고정도로 레벨링할 수 있도록 되어 있다.
상기와 같이 구성되어 있는 종래의 노광장비에서는 전원의 공급에 의하여 구동되어 지는 댐퍼(2)는 공기 탱크 내의 리니어 모터의 힘을 능동적으로 제어하는 것에 의하여 바닥진동에 대해 높은 진동성능을 발휘한다.
또한, 스테이지의 이동에 의하여 발생하는 본체(1) 자세의 변화를 최소화시키며 수평, 수직방향의 액튜에이터에 의해 구성된 기구는 공기 탱크에 의해 작동되는 공압 액튜에이터와 리니어 모터에 의하여 작동되는 액튜에이터이다.
공기 탱크는 각각 서보 펌프가 있어 공기 탱크의 압력을 제어하고, 리니어 모터는 코일과 마그넷에 의해 코일에 흐르는 전류를 제어함으로써 힘을 조정한다.
그러나, 종래 노광장비의 마운트 시스템에서 리니어 모터의 코일과 마그넷의 전류를 제어하는 것에 의하여 힘을 조정하였으나, 에어에 의한 공압 액튜에이터는 에어의 차이에 의한 미세보정이 불가능한 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 목적은 댐퍼의 수평을 더욱 미세하게 조정하여 장비의 오버레이 및 포커스를 최적의 조건으로 유지하는데 적합한 반도체 노광장비의 수평유지장치를 제공함에 있다.
도 1은 종래 노광장비의 구조를 보인 사시도.
도 2는 종래 노광장비의 수평유지시스템을 보인 구성도.
도 3은 종래 노광장비의 수평유지시스템의 동작을 보인 계통도.
도 4는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치를 보인 구성도.
도 5는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치의 작용설명을 위한 계통도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
11 : 본체 12 : 댐퍼
20 : 압력감지용센서
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본체의 하측에 수개의 댐퍼가 구비되어 있는 반도체 웨이퍼 노광장비에 있어서, 상기 댐퍼의 내부에 고정도를 유지하기 위한 압력감지용 센서가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 수평유지장치가 제공된다.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치를 보인 구성도이고, 도 5는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치의 작용설명을 위한 계통도로서, 반도체 노광장비의 마운트 시스템의 기본 구조는 본체(1)의 하측 4 모서리 부분에 댐퍼(2)가 설치되어 있는 도 1의 기본 구조와 유사하다.
그와 같은 노광장비에는 도 4에서와 같이, 웨이퍼를 스텝으로 움직이는 스테이지(13)가 설치되어 있고, 그 스테이지(13)의 주변에는 위치감지센서(14)가 구비되어 있으며, 그 위치감지센서(14)는 에어 압력 콘트롤러(15)에 의하여 에어를 스테이지본체에 공급함과 아울러 리니어 모터 콘트롤러(16)에 의하여 리니어 모터(17)를 동작시켜서 진동을 제어한다.
여기서, 본 발명은 공기 탱크내의 압력과 리니어 모터(17)의 힘을 능동적으로 제어하는 액티브 댐퍼를 구비하되, 그 액티브 댐퍼의 내부에는 정도를 감지할 수 있는 압력감지용센서(20)가 구비되어 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치는 전원의 공급에 의하여 구동되어 지는 댐퍼(2)는 공기 탱크 내의 리니어 모터의 힘을 능동적으로 제어하는 것에 의하여 바닥진동에 대해 높은 진동성능을 발휘한다.
또한, 본 발명에서는 댐퍼(2)의 내부에 설치된 압력감지용센서(20)에서 감지된 값에 의하여 1차공급된 에어의 양을 계속으로 미세조정하여, 외부로 부터의 진동을 감소시켜서 장치 본체의 고정도 레벨링을 유지시킨다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명 반도체 노광장비의 수평유지장치는 본체의 하측에 설치되는 수개의 댐퍼 내부에 각각 압력감지용센서를 설치하여, 1차로 공급된 에어의 양을 지속적으로 미세조정하여 외부로 부터의 진동을 감소시키는데 따른 장치 본체의 고정도 레벨링을 유지시키게 되어 노광작업시 오버레이 및 포커스의 최적조건을 유지하는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 본체의 하측에 수개의 댐퍼가 구비되어 있는 반도체 웨이퍼 노광장비에 있어서, 상기 댐퍼의 내부에 고정도를 유지하기 위한 압력감지용 센서가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 수평유지장치.
KR1019990068254A 1999-12-31 1999-12-31 반도체 노광장비의 수평유지장치 KR20010060131A (ko)

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