KR20010049231A - Method for conveying substrate receiving jig and automatic conveying system - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 포토레티클(reticle: 회로원판)용 기판, 액정 모니터 패널용 기판이나 플라즈마 디스플레이 패널용 기판 등의 표시 패널 기판, 하드 디스크용 기판, 반도체 장치 등의 전자 디바이스용 웨이퍼 등의 기판을 수납, 운반 및 보관하는 차세대 기판 수납 지그인 FOUP(Front Open Unified pod; 프론트·오프닝·유니파이드·포드) 기술에 관한 것으로, 특히 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법 및 자동 반송 시스템에 관한 것이다.The present invention accommodates substrates such as substrates for photoreticles, display panel substrates such as liquid crystal monitor panel substrates and substrates for plasma display panels, substrates for electronic devices such as hard disk substrates, semiconductor devices, and the like. FOUP (Front Open Unified pod) technology, which is a next-generation substrate storage jig for transporting and storing, in particular, it is possible to reduce the generation of foreign substances due to conveyance at a low level and to shorten the transportation time. A substrate storage jig conveyance method and an automatic conveyance system.
차세대의 기판 수납 지그인 FOUP(프론트·오프닝·유니파이드·포드)시스템을 반송할 때, 반도체 제조 라인의 효율을 높이기 위해 가능한 한 반송 시간을 짧게 할 필요가 있다. 또, 반송에 의한 웨이퍼에의 이물(예를 들면, 입자나 먼지 등)의 부착을 될 수 있는 한 낮게 할 필요가 있다. 한편, 반송 시간을 짧게 하기 위해서는 반송 속도를 높일 필요가 있으며, 그 때문에 FOUP(20)에 관한 가속도를 크게 할 필요가 있다. 그러나, 가속도를 크게 하면 웨이퍼에의 이물의 부착이 증가하는 경향이 있다. 이 때문에, 가능한 한 이물의 발생을 억제하는 등의 반송 방법이 요구되고 있었다.When conveying the FOUP (front opening unit pod) system which is a next-generation board | substrate storage jig, it is necessary to make conveyance time as short as possible in order to improve the efficiency of a semiconductor manufacturing line. Moreover, it is necessary to make it as low as possible to adhere | attach the foreign material (for example, particle | grains, dust, etc.) to the wafer by conveyance. On the other hand, in order to shorten the conveyance time, it is necessary to increase the conveyance speed, and therefore, it is necessary to increase the acceleration with respect to the FOUP 20. However, increasing the acceleration tends to increase the adhesion of foreign matter to the wafer. For this reason, the conveyance method, such as suppressing generation | occurrence | production of a foreign material as much as possible, was calculated | required.
이러한 기술배경에 있어서, 종래, FOUP를 자동 반송 시스템(AMHS:Automated Material Handling System) 등으로 반송할 때의 반송 방향으로 대한 FOUP의 방향에 대한 제안은 없었다.In this technical background, there is no proposal about the direction of the FOUP in the conveying direction when conveying the FOUP to an automated material handling system (AMHS).
이 때문에, 웨이퍼상의 이물 발생을 저레벨로 억제한 채 보다 큰 가감 속도를 실현하기 위해서, 반송 기기상의 FOUP의 방향을 규정하는 일이 없었다.For this reason, in order to realize a larger acceleration / deceleration rate while suppressing foreign matter generation on the wafer at a low level, the direction of the FOUP on the conveying device has not been defined.
우선, 차세대의 기판 수납 지그인 FOUP의 구조에 관해서 설명한다.First, the structure of the FOUP, which is the next-generation substrate storage jig, will be described.
FOUP 셸은 웨이퍼를 유지하는 부분이다. FOUP 셸, FOUP 도어의 양자를 맞춘 전체를 FOUP라고 부른다.The FOUP shell is the part that holds the wafer. The whole of the FOUP shell and the FOUP door is called FOUP.
치수 등의 정보는 SEMI Standards E57, E 47.1 등에 기재되어 있다. 이 웨이퍼 캐리어는, 종래 사용되어 온 오픈 카세트(SEMI Standards E1. 9 또는 8 인치 이전)와 달리, 밀폐 공간중에 웨이퍼를 유지함으로써, 대기중의 이물이나 화학적인 오염으로부터 웨이퍼를 방어하는 것이다. 밀폐성을 유지하기 위해서 FOUP 도어에 시일재(패킹)을 갖고, FOUP 도어를 FOUP 셸에 고정하기 위해, FOUP 도어측에는 클램핑 기구(스토퍼 기구)를 갖고, FOUP 셸 측에도 FOUP 도어의 고정용의 상대하는 클램프되는 구멍을 갖는다. 또한, 리테이너라고 불리는 것으로 FOUP 도어를 FOUP 셸에 고정한 때, 웨이퍼를 눌러 고정한다. 또한, FOUP 셸측의 웨이퍼를 안착시키는 가로 보를 웨이퍼 티스라고 부른다.Information such as dimensions is described in SEMI Standards E57, E 47.1 and the like. This wafer carrier, unlike the conventionally used open cassette (SEMI Standards E 1.9 or 8 inches or earlier), holds the wafer in a sealed space to protect the wafer from foreign matter and chemical contamination in the atmosphere. In order to maintain the sealing property, the sealing material (packing) is provided on the FOUP door, and the clamping mechanism (stopper mechanism) is provided on the FOUP door side to fix the FOUP door to the FOUP shell. It has a hole to become. In addition, what is called a retainer, when the FOUP door is fixed to the FOUP shell, the wafer is pressed and fixed. In addition, the horizontal beam which mounts the wafer on the FOUP shell side is called a wafer tooth.
다음에, FOUP를 이용한 자동 반송 시스템(AMHS)에 대해서, OHT(Overhead Hoist Transfer:오버 헤드·호이스트·트랜스퍼)를 예로서 설명한다.Next, an automatic hoist transfer system (AMHS) using FOUP will be described as an example of an overhead hoist transfer (OHT).
반도체 공장 내에서는 처리를 받는 웨이퍼는 FOUP에 넣어져서 처리 장치 사이를 이동한다. 300㎜ 웨이퍼를 수납한 FOUP는 약 8kg의 중량으로, 안전상 수동 반송은 생각하기 어렵고, OHT 등의 자동 반송 시스템을 사용하게 된다. 이하, 반도체 공장 내에서의 0HT 동작의 일례로서, 처리 되는 웨이퍼가 들어 간 FOUP가 있는 처리 장치에 공급되고, 거기서 처리되고, 회수되는 일련의 동작을 설명한다.Within the semiconductor factory, the wafers to be processed are placed in a FOUP and move between the processing devices. The FOUP containing the 300 mm wafer is about 8 kg in weight, so it is difficult to think of manual conveyance for safety reasons, and an automatic conveyance system such as OHT is used. Hereinafter, as an example of the 0HT operation in the semiconductor factory, a series of operations that are supplied to the processing apparatus with the FOUP in which the wafer to be processed is entered, processed therein and recovered are described.
처리 되는 웨이퍼가 들어 간 FOUP는, 맨 처음, 공정 내에 설치된 스토커에 보관되어 있다. 처리 장치(예를 들면 에칭 장치)에의 웨이퍼 공급을 상위 시스템으로부터 지시받으면, 스토커는 상위로부터 지정된 FOUP를 OHT에의 전달 위치(스토커측의 로드 포트)까지 반송한다.The FOUP containing the wafer to be processed is first stored in a stocker installed in the process. When the wafer supply to the processing apparatus (for example, the etching apparatus) is instructed by the host system, the stocker conveys the designated FOUP from the host to the delivery position (load port on the stocker side) to the OHT.
OHT는 스토커측의 로드 포트 위까지 와서 정지하고, 승강 기구(Hoist 기구)에 의해 로보트 핸드가 FOUP의 머쉬룸을 붙잡고, FOUP를 인상한다. 인상이 완료되면, OHT는 공급할 처리 장치 측의 로드 포트 상까지 FOUP를 반송한다.The OHT comes to the load port on the stocker side and stops, and the robot hand holds the FOUP's mushroom by the lifting mechanism (Hoist mechanism), and raises the FOUP. When the pulling is completed, the OHT returns the FOUP to the load port on the side of the processing apparatus to be supplied.
FOUP는 승강 기구로 내려진다. 승강 기구는, 머쉬룸을 벗겨 상승하고, FOUP는 처리 장치 측의 로드 포트 상에 남겨진다. 그 후 처리 장치 측의 로드 포트는 FOUP의 클램핑 기구를 벗겨 FOUP 도어를 FOUP 셸로부터 제거한다.The FOUP is lowered by the lifting mechanism. The lifting mechanism lifts off the mushroom and the FOUP is left on the load port on the processing apparatus side. The load port on the processing device side then removes the clamping mechanism of the FOUP to remove the FOUP door from the FOUP shell.
FOUP 도어가 벗겨진 상태에서는 FOUP의 전방면으로부터 웨이퍼를 취출할 수 있고, 처리 장치 안의 웨이퍼 반송 로보트에 의해 웨이퍼를 처리 장치 내부의 처리부로 운반하여 필요한 처리를 행한다. 처리가 종료된 후, 웨이퍼 반송 로보트에 의해 처리 완료된 웨이퍼를 상기 FOUP에 복귀한다.In the state where the FOUP door is removed, the wafer can be taken out from the front surface of the FOUP, and the wafer is transported to the processing unit inside the processing apparatus by a wafer transfer robot in the processing apparatus to perform the necessary processing. After the process is completed, the wafer processed by the wafer transfer robot is returned to the FOUP.
FOUP 내에 존재하는 웨이퍼에 필요한 처리를 행한 후, 처리 장치 측의 로드 포트는, FOUP 도어를 FOUP 셸과 도킹시켜 클램핑 기구를 작용시키고 FOUP 도어를 FOUP 셸에 고정한다. 그 후 FOUP를 후퇴시켜 이동 탑재 포지션에 위치시킨다.After performing the necessary processing on the wafer present in the FOUP, the load port on the processing apparatus side docks the FOUP door with the FOUP shell to act the clamping mechanism and fixes the FOUP door to the FOUP shell. The FOUP is then retracted and placed in the mobile payload position.
반송 요구에 의해 빈 OHT가 스토커측의 로드 포트 상에 정지하여, 승강 기구에 의해 로보트 핸드가 머쉬룸을 붙잡고, 인상한다. 그 후 OHT는 FOUP를 스토커에 반송하여, FOUP는 거기서 일시 보관된 후, 다음 처리 공정으로 운반된다. 반도체 공장에서는, 상기와 같은 동작 플로우를 반복하여 필요한 회로를 웨이퍼에 형성해 간다.The empty OHT stops on the stocker side load port by the transfer request, and the robot hand holds the mushroom by the lifting mechanism and pulls it up. The OHT then returns the FOUP to the stocker, where the FOUP is temporarily stored there and then transported to the next processing step. In a semiconductor factory, the above-described operation flow is repeated to form a necessary circuit on a wafer.
그러나, 상기한 동작 플로우에서 알 수 있는 바와 같이, 자동 반송 시스템(AMHS)의 반송 능력(=단위 시간당 반송 가능한 FOUP 수의 상한)이 충분하지 않은 경우 자동 반송 시스템(AMHS)은, 처리 장치의 가동율을 저하시켜 버린다. 이 때문에, 반송 능력은 처리 장치의 처리 능력에 어울릴 만큼 준비할 필요가 있다는 문제점이 있었다.However, as can be seen from the above-mentioned operation flow, when the conveyance capacity (= upper limit of the number of FOUPs that can be conveyed per unit time) of the automatic conveyance system AMHS is not sufficient, the automatic conveyance system AMHS is operated at the operation rate of the processing apparatus. Will lower. For this reason, there existed a problem that a conveyance capacity needs to be prepared enough to match the process capability of a processing apparatus.
이러한 문제점을 해결하는 것을 목적으로 하는 종래 기술로서는, 자동 반송 시스템(AMHS)의 대차의 수를 늘리는 기술과, 각각의 자동 반송 시스템(AMHS)의 대차의 반송 속도를 높이는 기술의 2가지가 개시되어 있다. 이 중, 대차수를 늘리는 것은 비용 증대를 야기하기 때문에, 대차의 반송 속도를 높이는 기술 쪽이 바람직하다고 생각되고 있다. 그러나, 반송 속도를 높이면 가속도도 높아지게 되며, 동시에 FOUP에 관한 가속도도 증대한다. 그 결과, 웨이퍼상의 이물의 발생 증대의 요인이 된다는 문제점이 있었다.As a prior art aiming at solving such a problem, the technique of increasing the number of trolley | bogies of an automatic conveyance system (AMHS), and the technique of raising the conveyance speed of the trolley | bogie of each automatic conveyance system (AMHS) are disclosed. have. Among these, increasing the balance causes an increase in cost, and therefore, it is considered that a technique of increasing the transfer speed of the balance is preferable. However, if the conveyance speed is increased, the acceleration is also increased, and at the same time, the acceleration with respect to the FOUP is also increased. As a result, there has been a problem that it becomes a factor of increasing the generation of foreign matter on the wafer.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 이루어진 것으로, 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법 및 자동 반송 시스템을 얻는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in order to solve the above problems, It aims at obtaining the board | substrate accommodation jig conveyance method and automatic conveyance system which suppress the generation | occurrence | production of the foreign material by conveyance at low level, and realize shortening of conveyance time.
본 발명의 청구항 1에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그를, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향으로 대략 수직이 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지한 상태로 반송하는 공정을 갖는 것이다.The board | substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 1 of the present invention is a board | substrate accommodation jig conveyance method which suppresses the generation | occurrence | production of the foreign material by board | substrate conveyance, and realizes shortening of a board | substrate conveyance time, Comprising: It has a process of conveying the board | substrate accommodation jig | tool to hold | maintain in the state which hold | maintained the said board | substrate accommodation jig so that the bilateral data surface of the said board | substrate accommodation jig may be substantially perpendicular to a conveyance direction.
청구항 2에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그를, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내로 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지한 상태로 반송하는 공정을 갖는 것이다.The board | substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 2 is a board | substrate accommodation jig conveyance method which suppresses the generation | occurrence | production of the foreign material by board | substrate conveyance, and realizes shortening of a board | substrate conveyance time, The board | substrate which accommodates, conveys, and stores a board | substrate. It has a process of conveying an accommodating jig in the state which hold | maintained the said substrate accommodating jig so that the lateral data surface of the said substrate accommodating jig exists in the range of a predetermined angle with respect to a conveyance direction.
청구항 3에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그를, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향으로 대략 ±30°이내가 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지한 상태로 반송하는 공정을 갖는 것이다.The board | substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 3 is a board | substrate accommodation jig conveyance method which suppresses the generation | occurrence | production of the foreign material by board | substrate conveyance, and realizes shortening of a board | substrate conveyance time, The board | substrate which accommodates, conveys, and stores a board | substrate. It has a process of conveying an accommodating jig | tool in the state which hold | maintained the said substrate accommodating jig so that the lateral data surface of the said board | substrate accommodating jig may be within +/- 30 degrees in a conveyance direction.
청구항 4에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법으로서, 반도체 장치 제조시에 상기 기판으로서의 웨이퍼를 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그로서의 웨이퍼 캐리어를, 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향으로 대략 수직이 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지한 상태로 반송하는 공정을 갖는 것이다.The board | substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 4 is a board | substrate accommodation jig conveyance method which suppresses the generation | occurrence | production of the foreign material by board | substrate conveyance, and realizes shortening of a board | substrate conveyance time, The wafer as said board | substrate at the time of semiconductor device manufacture. And a step of conveying the wafer carrier as a substrate storage jig for storing, transporting, and storing the substrate in a state in which the substrate storage jig is held so that the viral data surface of the wafer carrier is substantially perpendicular to the transport direction.
청구항 5에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 기판 수납 지그 반송 방법으로서, 반도체 장치 제조시에 상기 기판으로서의 웨이퍼를 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그로서의 웨이퍼 캐리어를, 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향으로 대략 ±30° 이내가 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지한 상태로 반송하는 공정을 갖는 것이다.The board | substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 5 is a board | substrate accommodation jig conveyance method which suppresses the generation | occurrence | production of the foreign material by board | substrate conveyance, and realizes shortening of a board | substrate conveyance time, The wafer as said board | substrate at the time of semiconductor device manufacture. And a wafer carrier serving as a substrate storage jig for storing, transporting, and storing the substrate in a state in which the substrate storage jig is held so that the viral data surface of the wafer carrier is within approximately ± 30 ° in the transport direction.
청구항 6에 기재된 발명에 관한 기판 수납 지그 반송 방법은, 상기 청구항 4또는 5에 기재된 발명에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어가 프론트·오프닝·유니파이드·포드인 것이다.In the substrate storage jig conveyance method which concerns on invention of Claim 6, in the invention of Claim 4 or 5, the said wafer carrier is a front opening unit pod.
청구항 7에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그와, 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 기판 수납 지그를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 구비하고, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향과 대략 수직이 되도록 유지하고, 계속해서 상기 승강 기구가 상기 머쉬룸을 파지한 상태에서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 기판 수납 지그를 고정하고, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치 관계를 조정하여 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향과 대략 수직이 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.An automatic conveyance system according to the invention according to claim 7 is an automatic conveyance system that suppresses foreign matter generation due to substrate conveyance at a low level and realizes shortening of substrate conveyance time, comprising: a substrate accommodating jig for accommodating, transporting, and storing a substrate; A lifting mechanism for moving the substrate storage jig in a state of holding the mushroom of the substrate storage jig, and the substrate storage jig being held by the lifting mechanism to hold the substrate of the substrate storage jig to hold the substrate storage jig. And an overhead hoist transferr for holding the viral data surface of the storage jig substantially perpendicular to the conveying direction, wherein the overhead hoist transferr holds the mushroom of the substrate storage jig by the lifting mechanism. When holding the storage jig, the substrate storage jig is the substrate storage jig The bilateral data surface of the substrate is held to be substantially perpendicular to the conveying direction, and the substrate holding jig is fixed to the overhead hoist transfer body while the elevating mechanism grips the mushroom. The board hoist transferer rotates the lifting mechanism to adjust the positional relationship between the lifting mechanism and the overhead hoist transfer body so that the lateral data surface of the substrate storage jig is approximately perpendicular to the conveying direction. It is configured to hold the jig.
청구항 8에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그와, 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 기판 수납 지그를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내로 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 갖춰, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 소정 각도의 범위 내로 되도록 유지하고, 계속해서 상기 승강 기구가 상기 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 기판 수납 지그를 고정하여, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치 관계를 조정하여 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 소정 각도의 범위 내로 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.An automatic conveyance system according to the invention according to claim 8 is an automatic conveyance system that suppresses foreign matter generation due to substrate conveyance at a low level and realizes a reduction in substrate conveyance time, comprising: a substrate storage jig for storing, transporting, and storing a substrate; A lifting mechanism for moving the substrate storage jig in a state of holding the mushroom of the substrate storage jig, and the substrate storage jig being held by the lifting mechanism to hold the substrate of the substrate storage jig to hold the substrate storage jig. It is equipped with the overhead hoist transfer which keeps the bilateral data surface of a storage jig in the range of a predetermined angle with respect to a conveyance direction, and the said overhead hoist transferr grasps the mushroom of the said board | substrate storage jig by the said lifting mechanism. When holding the substrate storage jig, the substrate storage jig is The bilateral data surface of the plate storage jig is kept within the range of the conveying direction and the predetermined angle, and the substrate storage jig is fixed to the overhead hoist transfer body while the lifting mechanism grips the mushroom. Subsequently, the overhead hoist transferr rotates the elevating mechanism to adjust the positional relationship between the elevating mechanism and the overhead hoist transfer body to move the viral data surface of the substrate accommodating jig in the conveying direction and the It is comprised so that the said board | substrate accommodation jig may be kept in the range of a predetermined angle.
청구항 9에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 기판 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그와, 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 기판 수납 지그를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향에 대하여 대략 ±30°이내가 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 구비하고, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 기판 수납 지그의 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 유지할 때, 상기 기판 수납 지그를 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 대략 ±30°이내가 되도록 유지하고, 계속해서 상기 승강 기구가 상기 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 기판 수납 지그를 고정하여, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치 관계를 조정하여 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 대략 ±30°이내가 되도록 상기 기판 수납 지그를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.An automatic conveyance system according to the invention according to claim 9 is an automatic conveyance system that suppresses foreign matter generation due to substrate conveyance at a low level and realizes a shortening of substrate conveyance time, comprising: a substrate storage jig for storing, transporting, and storing a substrate; A lifting mechanism for moving the substrate storage jig in a state of holding the mushroom of the substrate storage jig, and the substrate storage jig being held by the lifting mechanism to hold the substrate of the substrate storage jig to hold the substrate storage jig. An overhead hoist transferr which maintains the bilateral data surface of the storage jig within approximately ± 30 ° with respect to the conveying direction, and the overhead hoist transferr is a mushroom of the substrate storage jig by the lifting mechanism. When holding the substrate holding jig to hold the substrate holding jig, The bilateral data surface of the storage jig is kept within the transport direction and approximately ± 30 °, and the substrate storage jig is fixed to the overhead hoist transfer body while the lifting mechanism grips the mushroom. Subsequently, the overhead hoist transferr rotates the elevating mechanism to adjust the positional relationship between the elevating mechanism and the overhead hoist transfer body to move the viral data surface of the substrate accommodating jig in the conveying direction and the It is comprised so that the said board | substrate accommodation jig may be within about +/- 30 degrees.
청구항 10에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 반도체 장치 제조시에 기판으로서의 웨이퍼 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 웨이퍼를 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그로서의 웨이퍼 캐리어와, 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 웨이퍼 캐리어를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡아 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내로 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 구비하고, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡고 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 소정 각도의 범위 내로 되도록 유지하고, 계속해서 상기 승강 기구가 상기 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 웨이퍼 캐리어를 고정하여, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치관계를 조정하여 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 소정 각도의 범위 내로 되도록 상기 웨이퍼 캐리어를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.The automatic conveyance system according to the invention according to claim 10 is an automatic conveyance system that suppresses the generation of foreign substances due to wafer conveyance as a substrate at the time of semiconductor device manufacture and realizes a shortening of the substrate conveyance time. A wafer carrier serving as a substrate storage jig to be stored, a lifting mechanism for moving the wafer carrier in a state of holding the mushroom of the wafer carrier, and the holding mechanism of the wafer carrier by the lifting mechanism to hold the wafer carrier; An overhead hoist transferr for holding a wafer carrier such that the viral data surface of the wafer carrier is within a range of a predetermined angle with respect to a conveying direction, wherein the overhead hoist transferr is configured to move the wafer carrier by the lifting mechanism. Grab a mushroom When the wafer carrier is held, the wafer carrier is held so that the lateral data surface of the wafer carrier is within a range of a conveying direction and the predetermined angle, and then the overhead mechanism is held by the lifting mechanism holding the mushroom. The wafer carrier is fixed to the hoist transfer body, and then the overhead hoist transferer rotates the lifting mechanism to adjust the positional relationship between the lifting mechanism and the overhead hoist transfer body to adjust the position of the wafer carrier. The wafer carrier is configured to hold the bilateral data surface within a range of a conveying direction and the predetermined angle.
청구항 11에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 반도체 장치 제조시에 기판으로서의 웨이퍼 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 웨이퍼를 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그로서의 웨이퍼 캐리어와, 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 파지한 상태에서 상기 웨이퍼 캐리어를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡아 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 구비하고, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡고 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 유지하여, 계속해서 상기 승강기가 상기 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 웨이퍼 캐리어를 고정하여, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치관계를 조정하여 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 상기 웨이퍼 캐리어를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.The automatic conveying system according to the invention according to claim 11 is an automatic conveying system which suppresses the generation of foreign matter due to wafer conveyance as a substrate at the time of semiconductor device manufacture and realizes a shortening of the conveyance time of the wafer. A wafer carrier serving as a substrate storage jig to be stored, a lifting mechanism for moving the wafer carrier in a state in which the mushroom of the wafer carrier is held, and the mushroom holder of the wafer carrier is held by the lifting mechanism to hold the wafer carrier. An overhead hoist transferr for holding the wafer carrier so that the lateral data surface of the wafer carrier is substantially perpendicular to the conveying direction, wherein the overhead hoist transferer is configured to move the mushroom of the wafer carrier by the lifting mechanism. Hold the wafer carry When holding the wafer, the wafer carrier is held so that the lateral data surface of the wafer carrier is substantially perpendicular to the conveying direction, and then, the lifter grips the mushroom to the overhead hoist transfer body. The wafer carrier is fixed, and the overhead hoist transferr then rotates the lifting mechanism to adjust the positional relationship between the lifting mechanism and the overhead hoist transfer body to convey the viral data surface of the wafer carrier. The wafer carrier is configured to be substantially perpendicular to the direction.
청구항 12에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 반도체 장치 제조시에 기판으로서의 웨이퍼 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고 또한 기판 반송 시간의 단축을 실현하는 자동 반송 시스템으로서, 웨이퍼를 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그로서의 웨이퍼 캐리어와, 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 웨이퍼 캐리어를 이동하는 승강 기구와, 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡아 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면이 반송 방향에 대하여 대략 ±30°이내가 되도록 유지하는 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼를 갖춰, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구에 의해서 상기 웨이퍼 캐리어의 머쉬룸을 잡고 상기 웨이퍼 캐리어를 유지할 때, 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 대략 ±30°이내가 되도록 유지하여, 계속해서 상기 승강 기구가 상기 머쉬룸을 파지한 상태로 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체에 상기 웨이퍼 캐리어를 고정하여, 계속해서 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼가 상기 승강 기구를 회전하여 상기 승강 기구와 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼 본체의 위치관계를 조정하여 상기 웨이퍼 캐리어의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 상기 대략 ±30°이내가 되도록 상기 웨이퍼 캐리어를 유지하도록 구성되어 있는 것이다.The automatic transfer system according to the invention according to claim 12 is an automatic transfer system that suppresses foreign matter generation due to wafer transfer as a substrate at the time of semiconductor device manufacture and realizes a shortening of the substrate transfer time. A wafer carrier serving as a substrate storage jig to be stored, a lifting mechanism for moving the wafer carrier in a state of holding the mushroom of the wafer carrier, and the holding mechanism of the wafer carrier by the lifting mechanism to hold the wafer carrier; An overhead hoist transferr for holding the wafer carrier so that the lateral data surface of the wafer carrier is within approximately ± 30 ° with respect to the conveying direction, and the overhead hoist transferr is moved by the lifting mechanism to the wafer carrier. Hold the mushroom in the wafer When holding the carrier, the wafer carrier is held so that the lateral data surface of the wafer carrier is within approximately ± 30 ° of the conveying direction, and subsequently the overhead hoist with the lifting mechanism holding the mushroom. The wafer carrier is fixed to the transfer body, and then the overhead hoist transferer rotates the lifting mechanism to adjust the positional relationship between the lifting mechanism and the overhead hoist transfer body to bypass the wafer carrier. It is configured to hold the wafer carrier so that the lateral data surface is within the direction of conveyance and approximately ± 30 °.
청구항 13에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 상기 청구항 10 내지 12 중 어느 한 항에 기재된 발명에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어가 프론트·오프닝·유니파이드·포드인 것이다.In the automatic transfer system according to the invention according to claim 13, in the invention according to any one of claims 10 to 12, the wafer carrier is a front opening unit pod.
청구항 14에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 상기 청구항 11 또는 13에 기재된 발명에 있어서, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼는, 상기 승강 기구에 설치되는 로보트 핸드가 상기 기판 수납 지그의 상기 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 인상하는 작업을 완료했을 때, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면에 대략 수직방향을 상기 머쉬룸의 방향으로부터 검지하는 동시에, 상기 검지한 머쉬룸의 방향에 따라서 상기 승강 기구를 회전시킴으로써 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 하는 수단을 갖고, 공급할 처리 장치 측의 로드 포트 상까지 상기 기판 수납 지그를 반송할 때 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향에 대략 수직으로 유지하도록 구성되어 있는 것이다.In the automatic conveyance system according to the invention according to claim 14, in the invention according to claim 11 or 13, the overhead hoist transfer device includes a robot hand provided in the lifting mechanism to hold the mushroom of the substrate storage jig. When the work for pulling up the substrate storage jig is completed, a direction substantially perpendicular to the viral data surface of the substrate storage jig is detected from the direction of the mushroom, and the lifting mechanism is rotated in accordance with the direction of the detected mushroom. Means for conveying the viral data surface of the substrate storage jig substantially perpendicular to the conveying direction, and conveying the viral data surface of the substrate storage jig when conveying the substrate storage jig up onto the load port on the processing apparatus side to be supplied. It is configured to keep approximately perpendicular to the direction.
청구항 15에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 상기 청구항 11 또는 13에 기재된 발명에 있어서, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼는, 반송요구에 의해 빔의 자신이 스토커측의 상기 로드 포트 상에 정지하여 상기 승강 기구에 의해 로보트 핸드가 상기 머쉬룸을 파지하여 상기 기판 수납 지그를 인상하는 작업이 완료했을 때, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면에 대략 수직인 방향을 상기 머쉬룸의 방향으로부터 검지하는 동시에, 상기 검지한 머쉬룸의 방향에 따라서 상기 승강 기구를 회전시킴으로써 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향과 대략 수직이 되도록 하는 수단을 갖고, 스토커측의 상기 로드 포트 상까지 상기 기판 수납 지그를 반송할 때에 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향에 대략 수직으로 유지하도록 구성되어 있는 것이다.As for the automatic conveyance system which concerns on invention of Claim 15, in the invention of Claim 11 or 13, the said overhead hoist transfer machine stops itself on the said load port by the side of a stocker by conveyance request, When the robot hand grips the mushroom and lifts the substrate storage jig by the lifting mechanism, the direction substantially perpendicular to the viral data surface of the substrate storage jig is detected from the direction of the mushroom. And a means for rotating the lifting mechanism in the direction of the detected mushroom so that the viral data surface of the substrate storing jig is substantially perpendicular to the conveying direction, and conveying the substrate storing jig up to the load port on the stocker side. The bilateral data surface of the substrate storage jig against the conveyance direction. It is configured to keep it vertical.
청구항 16에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 상기 청구항 10 또는 13에 기재된 발명에 있어서, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼는, 상기 승강 기구에 설치되는 로보트 핸드가 상기 기판 수납 지그의 상기 머쉬룸을 잡아 상기 기판 수납 지그를 인상하는 작업을 완료했을 때, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면에 대하여 소정 각도의 방향을 상기 머쉬룸의 방향으로부터 검지하는 동시에, 상기 검지한 머쉬룸의 방향에 따라서 상기 승강 기구를 회전시킴으로써 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내가 되도록 하는 수단을 갖고, 공급하여야 할 처리 장치 측의 로드 포트 상까지 상기 기판 수납 지그를 반송할 때에 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면은 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내에 유지하도록 구성되어 있는 것이다.As for the automatic conveyance system which concerns on invention of Claim 16, the invention of Claim 10 or 13 WHEREIN: The overhead hoist transfer apparatus is a robot hand provided in the said lifting mechanism grasping the said mushroom of the said board | substrate accommodation jig | tool. When the work for pulling up the substrate storage jig is completed, a direction of a predetermined angle with respect to the viral data surface of the substrate storage jig is detected from the direction of the mushroom, and the lifting mechanism is moved along the direction of the detected mushroom. Means for rotating the viral data surface of the substrate accommodating jig within a range of a predetermined angle with respect to the conveying direction, and when conveying the substrate accommodating jig up to the load port on the processing apparatus side to be supplied, the substrate accommodating jig The bilateral data plane of is given in relation to the conveying direction. It is comprised so that it may remain in the range of an angle.
청구항 17에 기재된 발명에 관한 자동 반송 시스템은, 상기 청구항 10 또는 13에 기재된 발명에 있어서, 상기 오버 헤드·호이스트·트랜스퍼는, 반송요구에 의해 빔의 자신이 스토커측의 상기 로드 포트 상에 정지하여 상기 승강 기구에 의해 로보트 핸드가 상기 머쉬룸을 파지하여 상기 기판 수납 지그를 인상하는 작업이 완료했을 때, 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면에 대하여 소정 각도의 방향을 상기 머쉬룸의 방향으로부터 검지하는 동시에, 상기 검지한 머쉬룸의 방향에 따라서 상기 승강 기구를 회전시킴으로써 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면을 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위가 되도록 하는 수단을 갖고, 스토커측의 상기 로드 포트 상까지 상기 기판 수납 지그를 반송할 때에 상기 기판 수납 지그의 바이래터럴 데이타면은 반송 방향에 대하여 소정 각도의 범위 내에 유지하도록 구성되어 있는 것이다.As for the automatic conveyance system which concerns on invention of Claim 17, in the invention of Claim 10 or 13, the said overhead hoist transfer machine stops itself on the said load port by the side of a stocker by conveyance request, When the robot hand grips the mushroom and lifts the substrate storage jig by the lifting mechanism, the direction of a predetermined angle with respect to the viral data surface of the substrate storage jig is detected from the direction of the mushroom. And means for rotating the lifting mechanism in accordance with the detected mushroom direction so that the bilateral data surface of the substrate accommodating jig is in a range of a predetermined angle with respect to a conveying direction, and up to the load port on the stocker side. Viral day of the substrate storage jig when transporting the storage jig The other surface is comprised so that it may remain in the range of a predetermined angle with respect to a conveyance direction.
도1은 본 발명의 일실시의 형태에 관한 FOUP(Front Opening Unified Pod)의 방향과 반송 방향의 관계를 설명하기 위한 평면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a plan view for explaining a relationship between a direction and a conveying direction of a front opening unified pod (FOUP) according to one embodiment of the present invention;
도2는 본 발명의 일실시의 형태에 관한 FOUP의 외관 구성을 설명하기 위한 사시도.2 is a perspective view for explaining an appearance configuration of a FOUP according to one embodiment of the present invention;
도3은 도1의 FOUP의 FOUP 도어의 내측의 구성을 설명하기 위한 사시도.Fig. 3 is a perspective view for explaining the constitution of the inside of the FOUP door of the FOUP of Fig. 1;
도4는 도1의 FOUP의 내측에 설치되는 웨이퍼 티스와 웨이퍼의 위치 관계를 설명하기 위한 FOUP의 정면도.Fig. 4 is a front view of the FOUP for explaining the positional relationship between a wafer tooth and a wafer provided inside the FOUP of Fig. 1;
도5는 웨이퍼와 웨이퍼 티스와 리테이너의 위치 관계를 설명하기 위한 FOUP의 평면도.5 is a plan view of a FOUP for explaining the positional relationship between a wafer, a wafer tooth, and a retainer;
도6은 FD 면(페이셜 데이터 플레인)에 수직 방향인 정현파 진동을 가한 경우의 이물 증가의 실험 결과를 설명하기 위한 그래프.Fig. 6 is a graph for explaining an experimental result of foreign matter increase when sine wave vibration perpendicular to the FD plane (face data plane) is applied.
도7은 BD 면(바이래터럴 데이터 플레인)에 수직 방향의 정현파 진동을 가한 경우의 이물 증가의 실험 결과를 설명하기 위한 그래프.Fig. 7 is a graph for explaining an experimental result of foreign matter increase when a sinusoidal vibration in the vertical direction is applied to the BD plane (bilateral data plane).
도8은 OHT(Overhead Ho1st Transfer)를 이용한 FOUP의 자동 반송 시스템의 시스템 구성 개략도.8 is a system configuration schematic diagram of an automatic conveyance system of FOUP using OHT (Overhead Ho1st Transfer).
도9는 도8의 OHT의 일실시의 형태를 설명하기 위한 사시도.FIG. 9 is a perspective view for explaining an embodiment of the OHT in FIG. 8; FIG.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>
1 : FOUP 셸1: FOUP shell
2 : FOUP 도어2: FOUP door
3 : 머쉬룸3: Mushroom
4 : 클램핑 기구4: Clamping Mechanism
5 : 리테이너5: retainer
6 : 시일재6: seal material
7 : 웨이퍼7: wafer
8 : 웨이퍼 티스8: wafer tooth
9 : 처리 장치9: processing unit
10 : OHT10: OHT
11 : 스토커측의 로드 포트11: Load port of stocker side
12 : 승강 기구12 lifting mechanism
13 : 스토커13: stalker
14 : 처리 장치 측의 로드 포트14: load port on processing unit side
20 : FOUP20: FOUP
차세대 기판 수납 지그인 FOUP(Front Opening Unifled Pod: 프론트·오프닝·유니파이드·포드) 시스템을 반송할 때, 반도체 제조 라인의 효율을 높이기 위해 반송 시간을 짧게 할 필요가 있다. 또, 반송에 의한 웨이퍼에의 이물(예를 들면, 입자, 먼지 등)의 부착을 될 수 있는 한 낮출 필요가 있다. 한편, 반송 시간을 짧게 하기 위해서는 반송 속도를 높일 필요가 있고, 그 때문에 FOUP에 관한 가속도를 크게 할 필요가 있다. 그러나, 가속도를 크게 하면 웨이퍼에의 이물의 부착이 증가하는 경향이 있다. 이 때문에, 가능하면 이물의 발생을 억제하는 반송 방법이 요망되고 있었다.When transporting a front opening unified pod (FOUP) system, which is a next-generation substrate storage jig, it is necessary to shorten the transport time in order to increase the efficiency of the semiconductor manufacturing line. In addition, it is necessary to lower the foreign matter (for example, particles, dust, etc.) to the wafer by conveyance as much as possible. On the other hand, in order to shorten a conveyance time, it is necessary to raise conveyance speed, and therefore, it is necessary to enlarge acceleration regarding FOUP. However, increasing the acceleration tends to increase the adhesion of foreign matter to the wafer. For this reason, the conveyance method which suppresses generation | occurrence | production of a foreign material as much as possible was desired.
이러한 기술 배경을 근거로 하여 본 발명의 발명자는, FOUP에 걸리는 가속도의 방향, 크기와 이물 발생의 관계를 조사한 결과, 가속도가 어느 일정치(임계치)이상으로 되면 이물의 발생수가 극단적으로 증가하는 임계치가 어떤 방향으로 가속도를 가한 경우에도 존재하고, 또한 상기 임계치는 가속도의 방향이 BD 면에 수직 방향인 경우가 가장 높다고 하는 신규한 지견을 얻었다.Based on this technical background, the inventor of the present invention examines the relationship between the direction, magnitude, and foreign matter generation of the acceleration applied to the FOUP. As a result, when the acceleration reaches a certain value (threshold value), the threshold value at which the number of foreign matters is extremely increased. Is present even in the case where acceleration is applied in any direction, and the threshold is obtained with the new knowledge that the acceleration is most likely in the direction perpendicular to the BD plane.
본 발명은 상기 신규한 지견을 기초로 이루어진 것이며, FOUP를 반송할 때, FOUP의 바이래터럴 데이터 플레인이 반송 방향에 수직으로 되도록 FOUP(20)를 유지하여 반송함으로써, 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고, 또한 반송 시간의 단축을 실현하는 점에 특징을 갖고 있다. 이하, 도면을 기초로 하여 본 발명의 실시의 형태를 설명한다.The present invention has been made on the basis of the above-mentioned novel knowledge. When carrying a FOUP, the FOUP 20 is held and conveyed so that the bilateral data plane of the FOUP is perpendicular to the conveying direction, whereby foreign matter generation due to conveyance is brought to a low level. It is characteristic in that it suppresses and shortens a conveyance time. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described based on drawing.
우선, 차세대의 기판 수납 지그인 FOUP(Front Opening Unified Pod)의 구조에 관해서, 도1, 도2, 도3, 도4, 도5를 이용하여 설명한다.First, the structure of FOUP (Front Opening Unified Pod), which is a next-generation substrate storage jig, will be described with reference to FIGS. 1, 2, 3, 4, and 5.
도1은 본 발명의 일실시의 형태에 관한 FOUP(20)의 방향과 반송 방향의 관계를 설명하기 위한 평면도, 도2는 도1의 FOUP(20)의 외관 구성을 설명하기 위한 사시도, 도3은 도1의 FOUP(20)의 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)의 내측의 구성을 설명하기 위한 사시도, 도4는 도1의 FOUP(20)의 내측에 설치되는 웨이퍼 티스(8)와 웨이퍼(7)의 위치 관계를 설명하기 위한 FOUP(20)의 정면도, 그리고 도5는 웨이퍼(7)와 웨이퍼 티스(8)와 리테이너(5)의 위치 관계를 설명하기 위한 FOUP(20)의 평면도이다.1 is a plan view for explaining the relationship between the direction of the FOUP 20 and the conveying direction according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view for explaining the appearance configuration of the FOUP 20 of Figure 1, Figure 3 Is a perspective view for explaining the configuration of the inside of the FOUP door 2 (substrate storage jig door) of the FOUP 20 of FIG. 1, and FIG. 4 is a wafer tooth 8 provided inside the FOUP 20 of FIG. And a front view of the FOUP 20 for explaining the positional relationship between the wafer 7 and FIG. 5 is a FOUP 20 for explaining the positional relationship between the wafer 7, the wafer teeth 8, and the retainer 5. Top view of the.
도1, 2에 있어서, 1은 FOUP 셸(기판 수납 지그 본체), 2는 FOUP 도어, 3는 머쉬룸, 20은 FOUP, FD 면은 페이셜 데이터 플레인이라고 불리우는 가상 기준면, BD 면은 바이래터럴 데이터 플레인이라고 불리는 가상 기준면을 가리키고, 도3에 있어서, 4는 클램핑 기구, 5는 리테이너, 6은 시일재를 가리키고, 도4에 있어서, 7은 웨이퍼, 8은 웨이퍼 티스를 도시하고 있다.1 and 2, 1 is a FOUP shell (substrate storage jig main body), 2 is a FOUP door, 3 is a mushroom, 20 is a FOUP, and an FD plane is a virtual reference plane called a facial data plane, and a BD plane is a bilateral data plane. In Fig. 3, 4 is a clamping mechanism, 5 is a retainer, 6 is a sealing material, and in Fig. 4, 7 is a wafer and 8 is a wafer tooth.
도1, 2에 도시한 본실시의 형태의 FOUP(20)에 있어서, FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)은 웨이퍼(7)(도4 참조)를 유지하는 부분이다. FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체), FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)의 양자를 합하여 전체를 FOUP(20)이라고 부른다.In the FOUP 20 of the present embodiment shown in Figs. 1 and 2, the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body) is a portion holding the wafer 7 (see Fig. 4). The whole of the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body) and the FOUP door 2 (substrate storage jig door) is called the FOUP 20.
또한, 이하의 설명에서, BD면, FD 면이라는 용어를 사용하지만, BD 면은 FOUP(20)를 좌우로 2등분하는 평면, FD 면은 캐리어 전방면에 평행한 평면이다(도2참조). 이들이 정확한 정의에 관하여는, SEMI Standard E47.1에 기재되어 있다.In addition, in the following description, although the term BD surface and FD surface is used, the BD surface is a plane which bisects the FOUP 20 to the left and right, and the FD surface is a plane parallel to the carrier front surface (see Fig. 2). A precise definition of these is given in SEMI Standard E47.1.
치수 등의 정보는 SEMI Standards E57, E47.1 등에 기재되어 있다. 이 FOUP(20)라고 불리는 웨이퍼 캐리어는, 종래 사용되어 온 오픈 카세트(SEMI Standards E1.9 등에 기재되어 있는 8인치 이전용 오픈 카세트)와 달리, 밀폐 공간 중에 웨이퍼(7)를 유지함으로써 대기중의 이물이나 화학적인 오염으로부터 웨이퍼(7)를 방어하는 것이다. 또한, 도3에 도시한 바와 같이, 밀폐성을 유지하기 위해서 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)에 시일재(패킹)(6)가 주위에 설치되고, FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)를 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)에 고정하기 위해 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어) 측에 도3에 도시한 바와 같은 클램핑 기구(4)(바꾸어 말하면, 스토퍼기구)가 설치되고, 게다가, FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체) 측에는 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)의 고정용 구멍이 클램핑 기구(4)와 상관한 위치에 설치된다.Information such as dimensions is described in SEMI Standards E57, E47.1 and the like. The wafer carrier called the FOUP 20 is different from the conventionally used open cassette (an 8-inch open cassette described in the SEC Standards E1.9, etc.). This is to protect the wafer 7 from foreign matter and chemical contamination. In addition, as shown in Fig. 3, in order to maintain hermeticity, a sealing material (packing) 6 is provided around the FOUP door 2 (substrate storage jig door), and the FOUP door 2 (substrate storage jig) is provided. Clamping mechanism 4 (in other words, stopper mechanism) as shown in Fig. 3 on the side of the FOUP door 2 (substrate storage jig door) to fix the door to the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body). In addition, the fixing hole of the FOUP door 2 (substrate storage jig door) is provided at the position correlated with the clamping mechanism 4 on the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body) side.
또한, 리테이너(5)(도3, 도5참조)라고 불리는 것으로 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)를 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)에 고정한 때에 도5에 도시한 바와 같이 웨이퍼(7)를 눌러 고정한다. 또한, FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)측의 웨이퍼(7)를 안착시키는 가로 보를 웨이퍼 티스(8)(도4, 도5참조)라고 부른다.Also referred to as retainer 5 (see FIGS. 3 and 5), when the FOUP door 2 (substrate storage jig door) is fixed to the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body) as shown in FIG. The wafer 7 is pressed and fixed. In addition, the horizontal beam which mounts the wafer 7 by the side of the FOUP shell 1 (substrate accommodation jig main body) is called the wafer tooth 8 (refer FIG. 4, FIG. 5).
본 발명의 발명자는, FOUP(20)에 걸리는 가속도의 방향, 크기와 이물 발생의 관계를 조사한 결과, 가속도가 있는 일정치(임계치) 이상으로 되면 이물의 발생수가 극단적으로 증가하는 임계치가 어떤 방향으로 가속도를 가한 경우에도 존재하고, 또한 상기 임계치는 가속도의 방향이 BD 면에 수직 방향인 경우가 가장 높다고 하는 사실을 밝혀내었다. 그래서 본 실시 형태는 상기 신규한 지견을 기초로 하여, FOUP(20)를 반송할 때, FOUP(20)의 바이래터럴 데이타 플레인이 반송 방향에 수직으로 되도록 FOUP(20)를 유지하여 반송하고 있다.As a result of investigating the relationship between the direction, magnitude of the acceleration applied to the FOUP 20 and the occurrence of foreign matters, the inventors of the present invention show that the threshold value at which the number of occurrences of foreign matters increases in a certain direction is greater than a certain value (threshold value) with acceleration. It is also found that the acceleration is applied, and the threshold is found to be the highest when the direction of acceleration is perpendicular to the BD plane. Therefore, on the basis of the novel knowledge, the present embodiment holds and conveys the FOUP 20 so that the bilateral data plane of the FOUP 20 is perpendicular to the conveying direction when conveying the FOUP 20.
즉, 본 실시의 형태에서는, OHT(Overhead Hoist Transfer:오버 헤드·호이스트·트랜스퍼)(10)는 승강 기구(12)에 의해서 FOUP(20)의 머쉬룸(3)을 잡아 FOUP(20)를 유지할 때, 상기 FOUP(20)를 도1에 도시한 바와 같이 FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향에 수직으로 되도록 유지하고 있다. 승강 기구(12)는 머쉬룸(3)을 파지한 상태로 OHT10본체에 FOUP(20)를 고정 하고 있기 때문에, OHT(10)가 승강 기구(12)를 회전하여 승강 기구(12)와 OHT(10) 본체의 위치 관계를 조정함으로써, 어떠한 경우라도 FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되도록 FOUP(20)를 유지할 수 있게 구성되어 있다.That is, in the present embodiment, the OHT (Overhead Hoist Transfer) 10 holds the mushroom 3 of the FOUP 20 by the lifting mechanism 12 to hold the FOUP 20. As shown in Fig. 1, the FOUP 20 is held such that the BD surface of the FOUP 20 is perpendicular to the conveying direction. Since the lifting mechanism 12 fixes the FOUP 20 to the OHT 10 main body while holding the mushroom 3, the OHT 10 rotates the lifting mechanism 12 to lift the lifting mechanism 12 and the OHT 10. By adjusting the positional relationship of the main body, the FOUP 20 can be held so that the BD surface of the FOUP 20 is perpendicular to the conveying direction in any case.
다음에 도6, 도7을 이용하여, 가속도와 이물 증가수의 관계를 설명한다. 도6은 FD 면(페이셜 데이터 플레인)에 수직 방향의 정현파 진동을 가한 경우의 이물 증가의 실험 결과를 설명하기 위한 그래프이고, 도7은 BD 면(바이래터럴 데이터 플레인)에 수직 방향의 정현파 진동을 가한 경우의 이물 증가의 실험 결과를 설명하기 위한 그래프이다. 도6, 7의 그래프에 있어서, 횡축은 가속도(단위는 10-2 ㎨), 종축은 이물 증가수(단위는 개)이다. 또한, 종축의 이물 증가수는 대수 표시로 하고 있다.Next, the relationship between the acceleration and the number of foreign matter increase will be described with reference to FIGS. 6 and 7. Fig. 6 is a graph for explaining the experimental results of the foreign matter increase when the sinusoidal vibration in the vertical direction is applied to the FD plane (the facial data plane), and Fig. 7 shows the sinusoidal vibration in the vertical direction to the BD plane (the bilateral data plane). It is a graph for demonstrating the experimental result of the foreign material increase at the time of addition. In the graphs of Figs. 6 and 7, the horizontal axis represents acceleration (unit: 10-2 kPa), and the vertical axis represents foreign matter increase (unit). In addition, the foreign material increase number of a vertical axis | shaft is made into the logarithm display.
FD 면에 수직으로 가속도를 가한 경우는, 도6의 그래프에 도시한 바와 같이, 가속도가 커지면, 이물 발생량이 급격히 증가함을 알 수 있다. 한편, BD 면에 수직으로 가속도를 가한 경우는, 도7의 그래프에 도시한 바와 같이, 가속도가 커지더라도 이물은 그만큼 증가하지 않음을 알 수 있다.In the case where acceleration is applied perpendicularly to the FD plane, as shown in the graph of Fig. 6, it can be seen that as the acceleration increases, the foreign matter generation amount increases rapidly. On the other hand, when the acceleration is applied to the BD plane vertically, as shown in the graph of Fig. 7, it can be seen that the foreign matter does not increase that much even if the acceleration increases.
즉, 본 실시의 형태에서는, 자동 반송 시스템(AMHS)이 FOUP(20)를 유지할 때, FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되도록 유지함으로써, 가속도의 허용할 수 있는 상한을 최대로 할 수 있게 된다.That is, in the present embodiment, when the automatic conveying system AMHS holds the FOUP 20, the allowable upper limit of acceleration is maximized by keeping the BD surface of the FOUP 20 perpendicular to the conveying direction. You can do it.
다음에 반송 방향을 BD 면에 수직으로 한 쪽이 반송 방향을 FD 면에 수직으로 하는 것 보다 바람직한 이유를 도5를 참조하여 설명한다. 도5는 웨이퍼(7)와 웨이퍼 티스(8)와 리테이너(5)의 위치 관계를 설명하기 위한 FOUP(20)의 평면도이다.Next, referring to FIG. 5, the reason why the conveyance direction is perpendicular to the BD plane is more preferable than the conveyance direction is perpendicular to the FD plane. 5 is a plan view of the FOUP 20 for explaining the positional relationship between the wafer 7, the wafer teeth 8, and the retainer 5.
도1, 5를 참조하면, 일반적으로, FOUP(20)는 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)와 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)이 분리되어 있기 때문에, FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)의 폐쇄시에 웨이퍼(7)를 확실하게 유지하기 위해서, FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)에 설치한 리테이너(5)에 탄력(탄성)을 갖게 하고, FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)의 폐쇄시에 웨이퍼(7)를 누르도록 리테이너(5)의 형상이 설계되어 있다. 이와 같이 리테이너(5)가 탄력(탄성)을 가지고 있기 때문에, FOUP(20)의 FD 면에 수직의 방향에 어느 일정치 이상의 가속도가 걸리면, 웨이퍼(7)가 그 방향(FD 면에 수직인 방향)으로 진동하여 웨이퍼(7)와 웨이퍼 티스(8) 사이에서 마찰되고, 그 결과, 이물이 발생한다는 것을 알게 되었다.1 and 5, in general, the FOUP 20 has a FOUP door 2 because the FOUP door 2 (substrate storage jig door) and the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body) are separated. In order to reliably hold the wafer 7 when the substrate storage jig door is closed, the retainer 5 provided in the FOUP door 2 (substrate storage jig door) has elasticity (elasticity), and the FOUP door (2) The shape of the retainer 5 is designed to press the wafer 7 at the time of closing (substrate storage jig door). Since the retainer 5 has elasticity (elasticity) in this manner, if an acceleration of a certain value or more is applied in the direction perpendicular to the FD plane of the FOUP 20, the wafer 7 is in the direction perpendicular to the FD plane. And vibrated between the wafer 7 and the wafer tooth 8, and as a result, it was found that foreign matters were generated.
이에 대하여 FOUP(20)의 BD 면에 수직 방향으로 가속도를 건 경우, 그 방향(BD 면에 수직의 방향)에서의 웨이퍼(7)의 유지는 웨이퍼 티스(8)에 의해서 행해지고 있으며, 웨이퍼 티스(8)는 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)에 고정 되어 있기 때문에 웨이퍼(7)와 웨이퍼 티스(8)가 마찰되지 않고, 이물이 발생하지 않는다.On the other hand, when the acceleration is applied to the BD plane of the FOUP 20 in the vertical direction, the wafer 7 is held by the wafer tooth 8 in the direction (the direction perpendicular to the BD plane). 8) is fixed to the FOUP shell 1 (substrate housing jig main body), so that the wafer 7 and the wafer tooth 8 do not rub, and no foreign matter is generated.
물론 BD 면에 수직방향의 가속도라도, 너무 큰 가속도를 걸면 웨이퍼(7)가 웨이퍼 티스(8)로부터 벗겨지고, 그 결과, 웨이퍼(7)의 마찰이가 발생하여, 이물이 발생한다.Of course, even if the acceleration in the vertical direction to the BD plane is too large, the wafer 7 is peeled off from the wafer tooth 8, and as a result, friction of the wafer 7 occurs, and foreign matter is generated.
그래서, 본 실시 형태에서는, 자동 반송 시스템(AMHS)이 FOUP(20)를 유지할 때, FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되도록 유지하도록 구성되어 있다. 이에 따라, 가속도의 허용할 수 있는 상한을 최대로 할 수 있고, 이에 의해서 반송 속도를 향상시키고, 효율이 좋은 반도체 제조 라인을 구성할 수 있게 된다는 효과를 발휘한다.Therefore, in this embodiment, when the automatic conveyance system AMHS holds the FOUP 20, it is comprised so that the BD surface of the FOUP 20 may be perpendicular to a conveyance direction. As a result, the allowable upper limit of acceleration can be maximized, whereby the transfer speed can be improved, and an efficient semiconductor manufacturing line can be formed.
다음에 FOUP(20)를 이용한 자동 반송 시스템(AMHS)에 관해서, OHT(Overhead Hoist Transfer)를 예로서 도8을 이용하여 설명한다.Next, an automatic transfer system (AMHS) using the FOUP 20 will be described with reference to FIG. 8 as an example of the overhead hoist transfer (OHT).
도8는 OHT(10)를 이용한 FOUP(20)의 자동 반송 시스템의 시스템 구성 개략도이고, 도9는 도8의 OHT(10)의 일실시의 형태를 설명하기 위한 사시도이다. 도8, 도9에 있어서, 3은 머쉬룸, 9는 처리 장치, 10은 OHT, 11은 스토커측의 로드 포트, 12는 승강 기구, 13은 스토커, 14는 처리 장치 측의 로드 포트, 20은 FOUP를 도시하고 있다.8 is a system configuration schematic diagram of an automatic conveyance system of the FOUP 20 using the OHT 10, and FIG. 9 is a perspective view for explaining an embodiment of the OHT 10 of FIG. 8 and 9, 3 is a mushroom, 9 is a processing apparatus, 10 is an OHT, 11 is a load port on the stocker side, 12 is a lifting mechanism, 13 is a stocker, 14 is a load port on the processing apparatus side, and 20 is a FOUP. Is shown.
반도체 공장 내에서는 처리를 받는 웨이퍼(7)는 FOUP(20)에 넣어져 처리 장치(9) 사이를 이동한다. 300㎜ 사이즈의 웨이퍼(7)를 수납한 FOUP(20)는 약 8kg의 중량을 갖기 때문에, 안전상 수동 반송은 생각하기 어렵고, OHT(10) 등의 자동 반송 시스템을 사용게 된다. 이하, 반도체 공장 내에서의 OHT(10)동작의 일례로서, 처리되는 웨이퍼(7)가 들어간 FOUP(20)가 있는 처리 장치(9)에 공급되고, 거기서 처리되고, 회수되는 일련의 동작을 설명한다.In the semiconductor factory, the wafer 7 subjected to processing is placed in the FOUP 20 and moves between the processing apparatuses 9. Since the FOUP 20 containing the wafer 7 having a 300 mm size has a weight of about 8 kg, manual conveyance is difficult to consider for safety reasons, and an automatic conveyance system such as the OHT 10 is used. Hereinafter, as an example of the operation of the OHT 10 in the semiconductor factory, a series of operations to be supplied to the processing apparatus 9 with the FOUP 20 containing the wafer 7 to be processed and processed therein will be described. do.
처리되는 웨이퍼(7)가 수납 배치된 FOUP(20)는 맨처음, 공정 내에 설치된 스토커(13)에 보관되어 있다. 처리 장치(9)(예를 들면 에칭 장치)로의 웨이퍼 공급을 상위 시스템으로부터 지시받으면, 스토커(13)는 상위로부터 지정된 FOUP(20)를 OHT(10)에의 교환 위치(스토커(13)측의 로드 포트(11)까지 반송한다. OHT(10)는 스토커(13)측의 로드 포트(11)의 위까지와서 정지하고, 계속해서, 승강 기구(Hoist 기구)(12)에 설치되는 로보트 핸드가 FOUP(20)의 머쉬룸(3)을 잡아 FOUP(20)를 인상한다.The FOUP 20 in which the wafer 7 to be processed is stored is first stored in the stocker 13 provided in the process. When the wafer supply to the processing apparatus 9 (for example, an etching apparatus) is instructed by the host system, the stocker 13 exchanges the designated FOUP 20 from the upper apparatus to the OHT 10 (load on the stocker 13 side). The OHT 10 stops when the OHT 10 comes to the top of the load port 11 on the stocker 13 side, and then the robot hand installed on the lifting mechanism (Hoist mechanism) 12 is FOUP. Hold the mushroom 3 of 20 to raise the FOUP 20.
인상이 완료되면, OHT(10)는 FOUP(20)의 BD 면에 수직 방향임을 머쉬룸(3)의 방향으로부터 검지하고, 필요하면 승강 기구(12)를 회전시킴으로써, FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되게 한다.When the pulling is completed, the OHT 10 detects the direction perpendicular to the BD plane of the FOUP 20 from the direction of the mushroom 3, and if necessary, rotates the lifting mechanism 12 to rotate the BD plane of the FOUP 20. Perpendicular to the conveying direction.
OHT(10)는 공급할 처리 장치(9)측의 로드 포트(14) 상까지 FOUP(20)를 반송한다. 이 반송시에, FOUP(20)의 BD 면은 반송 방향에 수직으로 유지되고 있다.The OHT 10 conveys the FOUP 20 onto the load port 14 on the processing apparatus 9 side to be supplied. At the time of this conveyance, the BD surface of the FOUP 20 is maintained perpendicular to the conveyance direction.
그 후, FOUP(20)는 승강 기구(12)로 내려진다. 승강 기구(12)는 머쉬룸(3)을 벗어나 상승하고, FOUP(20)는 로드 포트(14) 상에 남겨진다.Thereafter, the FOUP 20 is lowered to the lifting mechanism 12. The lifting mechanism 12 rises out of the mushroom 3, and the FOUP 20 is left on the load port 14.
그 후, 로드 포트(14)의 도어를 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)부터 벗기고, 처리 장치(9)는 FOUP(20)의 전방면으로부터 웨이퍼(7)를 취출하여 필요한 처리를 행한다. 처리가 종료된 후, 처리 장치(9)는 처리가 완료된 웨이퍼(7)를 상기 FOUP(20)에 복귀한다.Thereafter, the door of the load port 14 is removed from the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body), and the processing apparatus 9 takes out the wafer 7 from the front surface of the FOUP 20 and performs necessary processing. . After the processing is completed, the processing apparatus 9 returns the wafer 7 on which the processing is completed, to the FOUP 20.
로드 포트(14)는 FOUP 도어(2)(기판 수납 지그 도어)를 FOUP 셸(1)(기판 수납 지그 본체)에 고정한다. 반송 요구에 의해 빔의 OHT(10)가 스토커(13) 측의 로드 포트(11) 상에 정지하고, 승강 기구(12)에 의해 로보트 핸드가 머쉬룸(3)을 파지하여 FOUP(20)를 인상한다.The load port 14 fixes the FOUP door 2 (substrate storage jig door) to the FOUP shell 1 (substrate storage jig main body). The OHT 10 of the beam stops on the load port 11 on the stocker 13 side by the transfer request, and the robot hand grasps the mushroom 3 by the lifting mechanism 12 to lift the FOUP 20. do.
상기 인상이 완료되면, OHT(10)는 FOUP(20)의 BD 면에 수직 방향을 머쉬룸(3)의 방향으로부터 검지하고, 필요하면 승강 기구(12)를 회전시킴으로써, FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되게 한다.When the pulling is completed, the OHT 10 detects the direction perpendicular to the BD surface of the FOUP 20 from the direction of the mushroom 3, and if necessary, rotates the lifting mechanism 12 to thereby rotate the BD surface of the FOUP 20. Is perpendicular to the conveying direction.
그 후, OHT(10)는 FOUP(20)를 스토커(13) 측의 로드 포트(11) 상까지 FOUP(20)를 반송한다. 이 반송시, FOUP(20)의 BD 면은 반송 방향에 수직으로 유지되고 있다.Thereafter, the OHT 10 carries the FOUP 20 up to the load port 11 on the stocker 13 side. During this conveyance, the BD surface of the FOUP 20 is held perpendicular to the conveyance direction.
그 후, FOUP(20)는 승강 기구(12)로 내려진다. 그 후, 승강 기구(12)는, 머쉬룸(3)을 벗어나 상승하고, FOUP(20)는 스토커(13) 측의 로드 포트(11) 상에 남겨진다.Thereafter, the FOUP 20 is lowered to the lifting mechanism 12. Thereafter, the elevating mechanism 12 rises out of the mushroom 3, and the FOUP 20 is left on the load port 11 on the stocker 13 side.
계속해서, 스토커(13) 측의 로드 포트(11)는 FOUP(20)를 스토커(13) 내로 반송하고, 스토커(13)는 FOUP(20)를 보관한다. FOUP(20)는 거기서 일시 보관된 후, 베이 사이 반송으로 다음 처리 공정의 스토커(13)로 운반되고, 거기서 보관된다. 반도체 공장에서는, 상기와 같은 동작 플로우를 반복하여 필요한 회로를 웨이퍼(7)에 형성하여 간다.Subsequently, the load port 11 on the stocker 13 side conveys the FOUP 20 into the stocker 13, and the stocker 13 stores the FOUP 20. After the FOUP 20 is temporarily stored there, it is transported to the stocker 13 of the next treatment step by conveyance between bays and stored there. In a semiconductor factory, the above-mentioned operation flow is repeated to form necessary circuits on the wafer 7.
이상 설명한 바와 같이 본 실시 형태에서는, OHT(10)는 항상 FOUP(20)의 BD 면과 반송 방향이 수직으로 되도록 FOUP(20)를 유지하기 때문에, 반송시의 가감속에 의한 이물 발생을 억제할 수 있다.As described above, in the present embodiment, since the OHT 10 always holds the FOUP 20 so that the BD surface of the FOUP 20 and the conveying direction are perpendicular to each other, foreign matters caused by acceleration and deceleration during conveyance can be suppressed. have.
또, 상기 실시 형태에서는 자동 반송으로서 OHT(10)를 이용하는 예를 설명했지만, 이에 특히 한정되지 않고, AGV(Automatic Guided Vehicle), RGV(Rail Guided Vehicle), OHS(Over Head Shuttle)를 이용해도 좋다. AGV, RGV 및 OHS에 관해서는, 예를 들면, 「차세대 퍼브에 있어서의 CIM/FA의 전망과 스탠다드의 최적화」(SEMI 재팬 SEMICON KANSAI' 99 June # 1999)에 기재되어 있다.In the above embodiment, an example in which the OHT 10 is used as the automatic conveyance has been described. However, the present invention is not limited thereto, and an AGV (Automatic Guided Vehicle), a RGV (Rail Guided Vehicle), or an OHS (Over Head Shuttle) may be used. . AGV, RGV, and OHS are described, for example, in "Optimization of CIM / FA in Next-Gen Pub and Optimization of Standard" (SEMI Japan SEMICON KANSAI '99 June # 1999).
마지막으로, 본 실시 형태와 종래의 FOUP를 이용한 자동 반송 시스템(AMHS)을 대비하여 그 기술적 차이에 관해서 설명한다. 도8은 종래의 FOUP를 이용한 자동 반송 시스템(AMHS)의 일례인 OHT(Overhead Hoist Transfer)이다. 또, 이해를 돕기 위해서 본 실시예의 괄호를 붙인 부호 및 명칭을 원용하지만, 본 발명은 종래의 FOUP를 이용한 자동 반송 시스템(AMHS)에 한정되는 것이 아니다.Finally, the technical difference will be described in comparison with the present embodiment and the automatic conveyance system (AMHS) using the conventional FOUP. 8 is an overhead hoist transfer (OHT) which is an example of an automatic transfer system (AMHS) using a conventional FOUP. In addition, although the code | symbol in parentheses of this embodiment is used for the sake of understanding, this invention is not limited to the automatic conveyance system (AMHS) using the conventional FOUP.
종래, 반도체 공장 내에서는 처리를 받는 웨이퍼(7)는 FOUP(20)에 넣어져 처리 장치(9) 사이를 이동한다. 300㎜ 사이즈의 웨이퍼(7)를 수납한 FOUP(20)는 약 8kg의 중량을 갖기 때문에, 안전상 수동 반송은 생각하기 어렵고, OHT(10) 등의 자동 반송 시스템을 사용하게 된다. 이하, 반도체 공장 내에서의 OHT(10) 동작의 일례로서, 처리되는 웨이퍼(7)가 들어간 FOUP(20)가 있는 처리 장치(9)에 공급되고, 거기서 처리되고, 회수되는 일련의 동작을 설명한다.Conventionally, in a semiconductor factory, a wafer 7 subjected to processing is placed in a FOUP 20 and moves between the processing apparatuses 9. Since the FOUP 20 containing the wafer 7 having a 300 mm size has a weight of about 8 kg, manual conveyance is difficult to consider for safety reasons, and an automatic conveyance system such as the OHT 10 is used. Hereinafter, as an example of the operation of the OHT 10 in the semiconductor factory, a series of operations to be supplied to the processing apparatus 9 with the FOUP 20 containing the wafer 7 to be processed and processed therein will be described. do.
처리되는 웨이퍼(7)가 수납 배치된 FOUP(20)는 맨처음, 공정 내에 설치된 스토커(13)에 보관되어 있다. 처리 장치(9)(예를 들면 에칭 장치)에의 웨이퍼 공급을 상위 시스템으로부터 지시받으면, 스토커(13)는 상위로부터 지정된 FOUP(20)를 OHT(10)에의 교환 위치(스토커(13)측의 로드 포트(11) 까지 반송한다. OHT(10)는 스토커(13) 측의 로드 포트(11)의 위까지 와서 정지하고, 계속해서, 승강 기구(Hoist 기구)(12)에 설치되는 로보트 핸드가 FOUP(20)의 머쉬룸(3)을 잡아 FOUP(20)를 인상한다.The FOUP 20 in which the wafer 7 to be processed is stored is first stored in the stocker 13 provided in the process. When the wafer supply to the processing apparatus 9 (for example, an etching apparatus) is instructed from the host system, the stocker 13 exchanges the designated FOUP 20 from the upper apparatus to the OHT 10 (load on the stocker 13 side). The OHT 10 comes to the top of the load port 11 on the stocker 13 side and stops. Then, the robot hand installed in the lifting mechanism (Hoist mechanism) 12 FOUPs. Hold the mushroom 3 of 20 to raise the FOUP 20.
인상이 완료하면, OHT(10)는 공급할 처리 장치(9) 측의 로드 포트(14) 위까지 FOUP(20)를 반송한다. 그 후, FOUP(20)는 승강 기구(12)로 내려진다. 승강 기구(12)는 머쉬룸(3)을 벗어나 상승하고, 이에 따라, FOUP(20)는 처리 장치(9) 측의 로드 포트(14) 상에 남겨진다.When the pulling is completed, the OHT 10 conveys the FOUP 20 up to the load port 14 on the processing apparatus 9 side to be supplied. Thereafter, the FOUP 20 is lowered to the lifting mechanism 12. The elevating mechanism 12 rises out of the mushroom 3, whereby the FOUP 20 is left on the load port 14 on the processing apparatus 9 side.
그 후 처리 장치(9) 측의 로드 포트(14)는 FOUP(20)의 클램핑 기구(4)를 벗겨 FOUP 도어(2)를 FOUP 셸(1)부터 제거한다. FOUP 도어(2)가 벗겨진 상태에서는 FOUP(20)의 전방면으로부터 웨이퍼(7)를 취출할 수 있고, 처리 장치(9) 안의 웨이퍼 반송 로보트를 조작하여 웨이퍼(7)를 처리 장치(9) 내부의 처리부로 운반하여 필요한 처리를 행한다. 상기 처리가 종료된 후, 웨이퍼 반송 로보트에 의해 처리가 완료된 웨이퍼(7)를 상기 FOUP(20)에 복귀한다.The load port 14 on the processing apparatus 9 side then removes the clamping mechanism 4 of the FOUP 20 and removes the FOUP door 2 from the FOUP shell 1. In the state in which the FOUP door 2 is peeled off, the wafer 7 can be taken out from the front surface of the FOUP 20, and the wafer transfer robot in the processing apparatus 9 is operated to move the wafer 7 into the processing apparatus 9. It carries to the processing part of and performs necessary process. After the processing is completed, the wafer 7 whose processing has been completed by the wafer transfer robot is returned to the FOUP 20.
FOUP(20) 내에 존재하는 웨이퍼(7)에 필요한 처리를 행한 후, 처리 장치(9)측의 로드 포트(14)는, FOUP 도어(2)를 FOUP 셸(1)과 도킹시켜 클램핑 기구(4)를 움직이게 하고 FOUP 도어(2)를 FOUP 셸(1)에 고정한다.After performing the necessary processing on the wafer 7 present in the FOUP 20, the load port 14 on the processing apparatus 9 side docks the FOUP door 2 with the FOUP shell 1 to clamp the clamping mechanism 4. ) And secure the FOUP door (2) to the FOUP shell (1).
그 후, FOUP를 후퇴시켜 이동 탑재 포지션에 위치시킨다. 반송 요구에 따라서 빔의 OHT(10)가 스토커(13)측의 로드 포트(11)상에 정지하고, 승강 기구(12)에 의해 로보트 핸드가 머쉬룸(3)을 잡아 인상한다.Thereafter, the FOUP is retracted and positioned at the mobile payload position. The OHT 10 of the beam stops on the load port 11 on the stocker 13 side in accordance with the transfer request, and the robot hand grasps the mushroom 3 by the lifting mechanism 12.
그 후, OHT(10)는 FOUP(20)를 스토커(13)로 반송하고, FOUP(20)는 거기서 일시 보관된 후,다음 처리 공정으로 운반된다. 반도체 공장에서는, 상기와 같은 동작 플로우를 반복하여 필요한 회로를 웨이퍼(7)에 형성하여 간다.Thereafter, the OHT 10 returns the FOUP 20 to the stocker 13, and the FOUP 20 is temporarily stored there and then transferred to the next processing step. In a semiconductor factory, the above-mentioned operation flow is repeated to form necessary circuits on the wafer 7.
그러나, 상술한 바와 같이, 종래, FOUP(20)를 자동 반송 시스템(AMHS: Automated Material Handling System) 등으로 반송할 때의, 반송 방향으로 대한 FOUP(20)의 방향에 관한 제안은 없었다. 이 때문에, 웨이퍼(7) 상의 이물 발생을 저레벨로 억제한 채로, 보다 큰 가감 속도를 실현하는 방법으로서, 반송 기기 상의 FOUP(20)의 방향을 규정하는 일이 없었다.As described above, however, there has been no proposal regarding the direction of the FOUP 20 in the conveying direction when conveying the FOUP 20 in an automated conveying system (AMHS). For this reason, the direction of the FOUP 20 on the conveying apparatus has not been defined as a method of realizing a larger acceleration / deceleration while suppressing foreign matter generation on the wafer 7 at a low level.
또, 상기한 동작 플로우에서 알 수 있는 바와 같이, 자동 반송 시스템(AMHS)의 반송 능력(=단위 시간당 반송 가능한 FOUP수의 상한)이 충분치 않은 경우 자동 반송 시스템(AMHS)은, 처리 장치(9)의 가동율을 저하시켜 버린다는 문제점이 있었다. 이 때문에, 반송 능력은 처리 장치(9)의 처리 능력에 어울릴 만큼 준비할 필요가 있다. 이를 위한 방책으로서는, 자동 반송 시스템(AMHS) 대차의 수를 늘리는 방책과, 각각의 자동 반송 시스템(AMHS) 대차의 반송 속도를 높이는 방책의 2가지가 있다. 이 중, 대차수를 늘리는 것은 비용 증대를 야기하기 때문에, 대차의 반송 속도를 높이는 방책 쪽이 바람직하다. 그러나, 반송 속도를 높이면, 가속도도 높아지게 되고, 동시에 FOUP(20)에 관한 가속도도 증대한다. 이것은, 웨이퍼(7) 상의 이물의 발생 증대의 요인이 된다는 문제점이 있었다.In addition, as can be seen from the above-mentioned operation flow, when the conveyance capacity (= upper limit of the number of FOUPs that can be conveyed per unit time) of the automatic conveyance system AMHS is not sufficient, the automatic conveyance system AMHS is the processing apparatus 9. There was a problem that the operation rate of the product was lowered. For this reason, the conveyance capacity needs to be prepared so as to match the process capacity of the processing apparatus 9. There are two measures for this purpose: a measure of increasing the number of AMHS trolleys and a measure of increasing the conveyance speed of each AMHS trolley. Among these, increasing the balance causes an increase in cost, and therefore, a method of increasing the conveyance speed of the balance is preferable. However, if the conveyance speed is increased, the acceleration also increases, and at the same time, the acceleration with respect to the FOUP 20 also increases. This has a problem that it becomes a factor of increasing the generation of foreign matter on the wafer 7.
이에 대하여, 본 실시 형태에서는, FOUP(20)에 걸리는 가속도의 방향, 크기와 이물 발생의 관계를 조사한 결과, 가속도가 있는 일정치(임계치)이상으로 되면 이물의 발생수가 극단적으로 증가하는 임계치가 어떤 방향으로 가속도를 가한 경우에도 존재하고, 또한 상기 임계치는 가속도의 방향이 BD 면에 수직 방향인 경우가 가장 높다고 하는 신규한 지견을 기초로하여, FOUP(20)를 반송할 때, FOUP(20)의 바이래터럴 데이타 플레인이 반송 방향으로 수직으로 되도록 FOUP(20)를 유지하고 반송함으로써, 반송에 의한 이물 발생을 저레벨으로 억제하고, 또한 반송 시간의 단축을 실현하고 있다. 이에 따라, 자동 반송 시스템(AMHS)이 FOUP(20)를 유지할 때, FOUP(20)의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되도록 유지함으로써, 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고, 또 반송 시간의 단축을 실현하여, 고 효율인 반도체 생산 라인을 구성할 수 있게 되는 효과를 발휘한다.On the other hand, in the present embodiment, as a result of examining the relationship between the direction, magnitude of the acceleration applied to the FOUP 20 and the foreign matter generation, when the threshold value (acceleration value) with the acceleration is equal to or greater than the threshold value at which the number of occurrence of the foreign matter is extremely increased, When the FOUP 20 is conveyed when the FOUP 20 is conveyed on the basis of the novel knowledge that the acceleration direction in the direction is also present and the threshold value is highest when the direction of acceleration is perpendicular to the BD plane. By holding and conveying the FOUP 20 so that the bilateral data plane is perpendicular to the conveying direction, foreign matters caused by conveyance are suppressed to a low level, and the conveyance time is shortened. Accordingly, when the automatic conveying system AMHS holds the FOUP 20, the BD surface of the FOUP 20 is kept perpendicular to the conveying direction, thereby suppressing foreign matters generated by conveying at a low level and further reducing the conveyance time. It has the effect of realizing a shortening and making it possible to comprise a highly efficient semiconductor production line.
또, 상기 실시 형태는, 반도체 장치에 이용되는 웨이퍼에 특히 한정되지 않고, 포트 레티클(reticle; 회로 원판)용 기판, 액정 모니터 패널용 기판이나 플라즈마 디스플레이 패널용 기판 등의 표시 패널 기판, 하드 디스크용 기판, 반도체 장치 등의 전자 디바이스용 기판 등의 각종의 기판을 수납, 운반 및 보관하는 기판 수납 지그, 이러한 기판 수납 지그에 관한 평가 조정 지그 및 지그 교정 방법에 적용 가능하다. 또, 본 발명이 상기 실시의 형태에 한정되지 않고, 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서, 실시의 형태는 적절하게 변경될 수 있음은 분명하다. 또한 상기 구성 부재의 수, 위치, 형상 등은 상기 실시 형태에 한정되지 않고, 본 발명을 실시하는 데에 있어서 적합한 수, 위치, 형상 등으로 할 수 있다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하고 있다.Moreover, the said embodiment is not specifically limited to the wafer used for a semiconductor device, For display panel board | substrates, such as boards for port reticles, boards for liquid crystal monitor panels, boards for plasma display panels, and hard disks It is applicable to the board | substrate accommodation jig which accommodates, conveys, and stores various board | substrates, such as a board | substrate and board | substrates for electronic devices, such as a semiconductor device, and an evaluation adjustment jig and jig correction method regarding this board | substrate accommodation jig. In addition, it is clear that this invention is not limited to the said embodiment, and embodiment can be changed suitably within the range of the technical idea of this invention. In addition, the number, position, shape, etc. of the said structural member are not limited to the said embodiment, It can be set as the suitable number, position, shape, etc. in implementing this invention. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected to the same component.
본 발명은, 자동 반송 시스템이 FOUP를 유지할 때에 FOUP의 BD 면을 반송 방향과 수직으로 되도록 유지함으로써, 반송에 의한 이물 발생을 저레벨로 억제하고, 또한 반송 시간의 단축을 실현하여, 고 효율인 반도체 생산 라인을 구성할 수 있게 되는 효과를 발휘한다. 종래, FOUP를 자동 반송 시스템 등으로 반송할 때의, 반송 방향에 대한 FOUP의 방향에 관한 제안은 없었다. 이 때문에, 웨이퍼 상의 이물 발생을 저레벨로 억제한 채로, 보다 큰 가감속도를 실현하는 방법으로서, 반송 기기 상의 FOUP의 방향을 규정하는 일이 없었다.The present invention maintains the BD surface of the FOUP so as to be perpendicular to the conveying direction when the automatic conveying system holds the FOUP, thereby suppressing foreign matters caused by conveyance at a low level, realizing a shortening of the conveying time, and a highly efficient semiconductor. It has the effect of being able to construct a production line. Conventionally, there has been no proposal regarding the direction of the FOUP with respect to the conveyance direction when conveying the FOUP with an automatic conveyance system or the like. For this reason, the direction of FOUP on a conveying apparatus was not prescribed | regulated as a method of realizing a larger acceleration / deceleration while suppressing generation | occurrence | production of the foreign material on a wafer at low level.
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