KR20010014928A - Manufacturing plant for semiconductor products - Google Patents

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KR20010014928A
KR20010014928A KR1020000026619A KR20000026619A KR20010014928A KR 20010014928 A KR20010014928 A KR 20010014928A KR 1020000026619 A KR1020000026619 A KR 1020000026619A KR 20000026619 A KR20000026619 A KR 20000026619A KR 20010014928 A KR20010014928 A KR 20010014928A
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conveyor system
manufacturing unit
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KR1020000026619A
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위르겐 엘거
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칼 하인쯔 호르닝어
지멘스 악티엔게젤샤프트
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Abstract

PURPOSE: An equipment for producing semiconductor product is provided to transfer semiconductor products efficiently and economically by providing a transfer system provided with a supply system, which travels at the same height as a loading/unloading station in a clean room and which is positioned above the walking height of an operator. CONSTITUTION: A supply system includes a roller conveyor(4) travels above the walking height of an operator and at the same height of a loading/unloading station(6), so that the operator can move freely on a floor(7) of a clean room, under the roller conveyor(4). All loading/unloading stations(6) are positioned at the same height on the floor(7) of the clean room, and in this case the height is three meters in general. The roller conveyor(4) travels immediately in front of each loading/unloading station.

Description

반도체 제품의 제조를 위한 설비{MANUFACTURING PLANT FOR SEMICONDUCTOR PRODUCTS}Facility for Manufacturing Semiconductor Products {MANUFACTURING PLANT FOR SEMICONDUCTOR PRODUCTS}

본 발명은 청구항 제 1항의 전제부에 따른, 반도체 제품의 제조를 위한 설비에 관한 것이다.The invention relates to a plant for the manufacture of a semiconductor product, according to the preamble of claim 1.

상기 설비는 특히 웨이퍼의 처리를 위한 설비로서 형성될 수 있다. 상기 설비는 상이한 제조 공정에 의해 실행되는 다수의 제조 유닛을 포함한다. 상기 제조 공정에는 특히 에칭 공정, 습식 화학 처리 공정, 확산 공정 및 예컨대 CMP-공정(Chemical Mechanical Polishing)과 같은 다양한 세척 공정이 있다. 이러한 각 공정을 위해 하나 또는 다수의 제조 유닛이 제공되고, 상기 제조 유닛 내에서 제조 공정의 상이한 제조 단계들이 실시된다.The facility may in particular be formed as a facility for the processing of wafers. The facility includes a number of manufacturing units executed by different manufacturing processes. Such manufacturing processes include, among other things, etching processes, wet chemical treatment processes, diffusion processes and various cleaning processes such as, for example, chemical mechanical polishing (CMP-process). One or more manufacturing units are provided for each such process, and different manufacturing steps of the manufacturing process are carried out in the manufacturing unit.

또한 상기 제조 유닛 내에서는 제조 공정의 하나 또는 다수의 제조 단계의 처리 품질을 검사하기 위한 측정 공정이 실시된다.Also within the manufacturing unit is a measuring process for inspecting the quality of treatment of one or several manufacturing steps of the manufacturing process.

전체 제조 공정은 상기 조정 유닛들이 클린 룸 내에 또는 클린 룸 시스템 내에 배치되도록 엄격한 청결이 요구된다.The entire manufacturing process requires stringent cleanliness so that the adjustment units are placed in a clean room or in a clean room system.

상기 웨이퍼는 카세트에 실려 미리 정해진 로트 사이즈로 수송 시스템에 의해 개별 제조 유닛으로 전달된다. 또한 상기 카세트의 수송도 상기 웨이퍼의 처리 후 수송 시스템에 의해 이루어진다.The wafers are loaded into cassettes and delivered to individual manufacturing units by a transport system at predetermined lot sizes. The cassette is also transported by a transport system after the wafer is processed.

수송 시스템은 전형적으로 예컨대 롤러 컨베이어의 형태로 형성된 컨베이어 시스템을 갖는다. 웨이퍼가 실려있는 카세트가 상기 롤러 컨베이어 상에 실려서 수송된다. 대안으로 상기 컨베이어 시스템이 상승 컨베이어, 오버헤드 컨베이어 등으로도 구성될 수 있다.The transport system typically has a conveyor system, for example formed in the form of a roller conveyor. The cassette on which the wafer is loaded is loaded on the roller conveyor and transported. Alternatively, the conveyor system may also be configured as a lift conveyor, an overhead conveyor, or the like.

상기 제조 유닛들은 각각 적어도 하나의 적재 및 하역 스테이션을 갖는다. 상기 적재 및 하역 스테이션에 의해 웨이퍼가 실린 카세트들이 컨베이어 시스템을 통해 제조 유닛 내로 전달된다. 상기 제조 유닛에서 웨이퍼의 처리가 끝난 다음 카세트들이 적재 및 하역 스테이션에 의해 제조 유닛으로부터 꺼내어져서 컨베이어 시스템으로 전달된다.The manufacturing units each have at least one loading and unloading station. By the loading and unloading station, the wafers carrying the cassettes are transferred through the conveyor system into the manufacturing unit. After the wafer has been processed in the manufacturing unit, the cassettes are removed from the manufacturing unit by the loading and unloading station and transferred to the conveyor system.

공지된 상기 장치에서 제조 유닛의 적재 및 하역 스테이션은 조작자에 의해 조작될 수 있도록 클린 룸 바닥의 위쪽으로 낮은 높이에 위치한다. 전형적으로 상기 적재 및 하역 스테이션은 클린 룸 바닥으로부터 위쪽으로 약 0.9m 위치에 설치된다.In this known device the loading and unloading station of the manufacturing unit is located at a low level above the floor of the clean room so that it can be operated by the operator. Typically the loading and unloading station is installed at a position about 0.9m upwards from the bottom of the clean room.

통상적으로 상기 컨베이어 시스템은 클린 룸 천장 아래로 약 3m 높이로 연장된다. 이 경우 웨이퍼가 실린 카세트들이 상기 컨베이어 시스템에서 제조 유닛까지 수송된다. 그리고 나서 상기 카세트들은 그리퍼(gripper) 또는 그와 유사한 장치에 의해 컨베이어 시스템으로부터 집어올려져서 리프트 시스템 또는 핸들링 머신에 의해, 각각의 카세트가 적재 및 하역 스테이션의 높이에 위치할 때까지 하강하게 된다. 제조 유닛으로부터 컨베이어 시스템으로 상기 카세트의 역 수송이 동일한 방법으로 진행된다.Typically the conveyor system extends about 3 m high below the clean room ceiling. In this case, wafers carrying cassettes are transported from the conveyor system to the manufacturing unit. The cassettes are then picked up from the conveyor system by a gripper or similar device and lowered by the lift system or handling machine until each cassette is at the height of the loading and unloading station. The reverse transport of the cassette from the manufacturing unit to the conveyor system proceeds in the same way.

컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션 사이의 이와 같은 수직 수송은 구조적으로 복잡하고 비용이 매우 많이 든다. 또한 적재 및 하역 스테이션으로의 카세트 공급 및 수송의 자동화는 그 구조적 비용에 의거하여 대체 비용으로는 실현될 수 없다. 따라서 적재 및 하역 스테이션의 적재 및 하역 작업은 조작자를 통해서 이루어져야만 한다.Such vertical transport between conveyor systems and loading and unloading stations is structurally complex and very expensive. In addition, the automation of cassette supply and transport to loading and unloading stations cannot be realized at alternative costs based on its structural costs. Therefore, loading and unloading operations of loading and unloading stations must be performed by the operator.

대안으로 카세트의 수송이 클린 룸 바닥의 위쪽으로 낮은 높이에서 실행될 수 있다. 그렇게 되면 상기 수송 시스템은 적재 및 하역 스테이션과 동일한 높이에 있게 되며, 한 편 그 높이는 약 0.9m이다. 상기 수송 시스템은 컨베이어 시스템을 포함하며, 상기 컨베이어 시스템은 개별 제조 유닛들 사이에 있는 통로 영역에 고정되어 설치된다. 그러나 상기 방식으로 설치된 컨베이어 시스템은 큰 용적을 필요로 하며, 따라서 통로 폭이 매우 커지고, 결국에는 바람직하지 않게 큰 고가의 클린 룸 표면적을 초래한다. 대안으로는 웨이퍼가 실린 카세트의 수송을 위해 컨베이어 시스템 대신 차량이 사용될 수도 있다. 상기 차량은 통상적으로 운전자가 없는 수송 차량으로 구성된다. 그러가 상기 차량은 매우 가격이 비싸다. 또한 상기 차량은 클린 룸 내에서 조작자와 충돌할 위험이 항상 존재한다.Alternatively, the transport of the cassette can be carried out at a low height above the floor of the clean room. The transport system is then at the same height as the loading and unloading station, while the height is about 0.9 m. The transport system comprises a conveyor system, which is fixedly installed in the passage area between the individual manufacturing units. However, the conveyor system installed in this way requires a large volume, thus the passage width becomes very large, which in turn leads to an undesirably large expensive clean room surface area. Alternatively, a vehicle may be used instead of the conveyor system for the transport of cassettes carrying wafers. The vehicle typically consists of a transport vehicle without a driver. Then the vehicle is very expensive. In addition, there is always a risk that the vehicle will collide with the operator in a clean room.

본 발명의 목적은 도입부에 언급한 방식의 장치에 있어서 반도체 제품의 최대한 효율적이고 경제적인 수송을 보증하는 것이다.It is an object of the present invention to ensure maximum efficient and economical transportation of semiconductor products in a device of the type mentioned in the introduction.

상기 목적의 달성을 위해 청구항 제 1항의 특징부가 제시된다. 본 발명의 바람직한 실시예 및 개선예들은 종속항에 제시된다.The features of claim 1 are presented to achieve this object. Preferred embodiments and refinements of the invention are set forth in the dependent claims.

본 발명에 따라 컨베이어 시스템을 포함하는 수송 시스템이 제공되며, 상기 컨베이어 시스템은 클린 룸 내 적재 및 하역 스테이션과 동일한 높이에서 연장된다. 이때 상기 컨베이어 시스템은 조작자의 작업 높이 위쪽으로, 바람직하게는 약 3m 높이에 위치한다.According to the invention there is provided a transport system comprising a conveyor system, which extends at the same height as the loading and unloading stations in the clean room. The conveyor system is then located above the operator's working height, preferably about 3 m high.

본 장치의 중요한 장점은 컨베이어 시스템뿐만 아니라 적재 및 하역 스테이션이 조작자 영역의 상부에 설치되고, 또한 상황에 따라 클린 룸의 통로 내에서 운행되는 차량의 위쪽에 설치된다는 것이다. 따라서 상기 컨베이어 시스템에 의한 반도체 제품의 수송은 조작자 및 클린 룸 바닥에서 운행되는 차량에 방해가 되지 않는다. 또한 상기 컨베이어 시스템이 제조 유닛의 적재 및 하역 스테이션과 동일한 높이에 존재한다는 점이 바람직하다.An important advantage of the device is that not only the conveyor system but also the loading and unloading stations are installed at the top of the operator's area, and also depending on the situation, on top of the vehicle running in the passage of the clean room. Thus, the transport of semiconductor products by the conveyor system does not interfere with the operator and the vehicle running on the floor of the clean room. It is also preferred that the conveyor system is at the same height as the loading and unloading stations of the manufacturing unit.

컨베이어 시스템으로부터 각 적재 및 하역 스테이션으로 반도체 제품을 공급하기 위해 반도체 제품의 수직 수송을 위한 장치가 더 이상 제공될 필요가 없기 때문에 상당한 비용을 절약할 수 있다. 또한 상기 반도체 제품들은 비용이 많이 드는 컨베이어 시스템의 보조 수단 없이도 제조 유닛의 적재 및 하역 스테이션으로 공급될 수 있다는 장점이 있다. 이는 컨베이어 시스템으로부터 개별 제조 유닛으로의 반도체 제품의 완전 자동 공급을 가능하게 한다. 마찬가지로 역수송도 동일한 방법에 의해 자동으로 진행된다.Substantial cost savings can be achieved because the device for vertical transport of the semiconductor product no longer needs to be provided to supply the semiconductor product from the conveyor system to each loading and unloading station. The semiconductor products also have the advantage that they can be supplied to the loading and unloading stations of the manufacturing unit without the need for costly conveyor systems. This enables the fully automatic supply of semiconductor products from the conveyor system to the individual manufacturing units. Similarly, back transportation is automatically performed by the same method.

상기 컨베이어 시스템은 조작자를 위한 통로 위쪽에서 진행될 수 있기 때문에 클린 룸 내 통로가 그에 상응하게 작게 설계될 수 있음으로써 클린 룸 표면적에 있어서 상당한 비용이 절약될 수 있다.Since the conveyor system can run above the passage for the operator, the passage in the clean room can be designed correspondingly small, which can save considerable cost in the clean room surface area.

본 발명은 하기의 실시예에 따라 설명된다.The invention is illustrated according to the following examples.

도 1은 웨이퍼의 처리를 위한 장치를 포함하는 클린 룸의 횡단면도;1 is a cross sectional view of a clean room including an apparatus for processing a wafer;

도 2는 도 1에 따라 클린 룸 내에 미리 설치된 컨베이어 시스템을 포함하는 제조 유닛의 종단면도이다.2 is a longitudinal sectional view of a manufacturing unit comprising a conveyor system pre-installed in a clean room according to FIG. 1;

도면의 주요 부호 설명Description of the major signs in the drawings

1 : 제조 유닛 7 : 클린 룸 바닥1: manufacturing unit 7: clean room floor

2 : 클린 룸 8 : 롤러2: clean room 8: roller

3 : 저장기 9 : 벨트 컨베이어3: reservoir 9: belt conveyor

4 : 롤러 컨베이어 10 : 추가 벨트 컨베이어4: roller conveyor 10: additional belt conveyor

5 : 카세트 11 : 대기 입구5: cassette 11: atmospheric inlet

6 : 적재 및 하역 스테이션 12 : 통로6: loading and unloading station 12: passage

도 1에는 반도체 제품 제조 장치의 단면도가 도시되어 있으며, 상기 단면도는 본 실시예에서 웨이퍼의 처리를 위한 장치로 다루어진다.1 is a cross-sectional view of a semiconductor product manufacturing apparatus, which is treated as an apparatus for processing a wafer in this embodiment.

본 장치는 다수의 제조 유닛(1)을 포함한다. 상기 제조 유닛(1)은 웨이퍼 처리를 위해 필요한 제조 공정시 상이한 제조 단계를 실시하는데에 사용된다. 상기 제조 공정은 특히 에칭 공정, 습식 화학 처리 공정, 확산 공정 및 세척 공정을 포함한다. 이러한 개별 제조 공정을 위해, 실시되는 제조 단계의 수에 상응하여 하나 또는 다수의 제조 유닛(1)이 제공된다. 또한 측정 공정의 실시를 위해 제조 유닛(1) 중 하나가 제공될 수 있으며, 상기 제조 공정에 의해 다른 제조 유닛(1)에서 실시되는 제조 단계의 처리 품질이 체크될 수 있다.The apparatus comprises a plurality of manufacturing units 1. The manufacturing unit 1 is used to carry out different manufacturing steps in the manufacturing process required for wafer processing. The manufacturing process includes in particular an etching process, a wet chemical treatment process, a diffusion process and a washing process. For this individual manufacturing process, one or more manufacturing units 1 are provided corresponding to the number of manufacturing steps performed. One of the manufacturing units 1 may also be provided for carrying out the measuring process, by which the quality of processing of the manufacturing steps carried out in the other manufacturing unit 1 can be checked.

상기 제조 유닛(1)은 클린 룸(2) 내에 설치되고 수송 시스템에 의해 웨이퍼를 공급받는다. 대안으로는 상기 제조 유닛(1)이 클린 룸(2)의 시스템 내에 설치될 수 있다.The manufacturing unit 1 is installed in the clean room 2 and supplied with the wafer by a transport system. Alternatively, the manufacturing unit 1 can be installed in the system of the clean room 2.

상기 수송 시스템은 저장 시스템 및 컨베이어 시스템으로 구성된다.The transport system consists of a storage system and a conveyor system.

상기 저장 시스템은 웨이퍼가 중간 저장되는 다수의 저장기(3)로 구성된다. 예를 들어 상기 저장기(3)는 스토커로서 형성될 수 있다.The storage system consists of a plurality of reservoirs 3 in which the wafers are intermediately stored. For example, the reservoir 3 can be formed as a stocker.

상기 컨베이어 시스템은 본 실시예에서 롤러 컨베이어(4) 시스템으로 구성된다. 대안으로는 상기 컨베이어 시스템이 상승 컨베이어, 오버헤드 컨베이어 또는 그와 유사한 것으로서 구성될 수 있다. 상기 롤러 컨베이어(4)는 클린 룸(2) 내에서 직선 형태로 연장되고, 개별 조절 유닛(1)과 저장기(3)를 연결한다. 상기 컨베이어 시스템에 의해 웨이퍼가 카세트(5)에 실려서 예정된 로트 사이즈로 수송되고, 개별 제조 유닛(1)과 저장기(3)에 공급되며, 또는 상기 개별 제조 유닛(1)과 저장기(3)에 의해 수송된다.The conveyor system consists of a roller conveyor 4 system in this embodiment. Alternatively, the conveyor system may be configured as a lift conveyor, overhead conveyor or the like. The roller conveyor 4 extends in a straight line in the clean room 2 and connects the individual regulating unit 1 and the reservoir 3. By means of the conveyor system a wafer is loaded into a cassette 5 and transported to a predetermined lot size and supplied to the individual manufacturing unit 1 and the reservoir 3, or the individual manufacturing unit 1 and the reservoir 3. Is transported by.

이를 위해 상기 제조 유닛(1)과 저장기(3)는 적어도 각각 하나의 적재 및 하역 스테이션(6)을 포함한다. 상기 적재 및 하역 스테이션(6)은 카세트(5)의 삽입 및 배출을 위한, 바람직하게는 자동으로 밀폐되는 적어도 하나의 포트를 포함한다.For this purpose, the manufacturing unit 1 and the reservoir 3 each comprise at least one loading and unloading station 6. The loading and unloading station 6 comprises at least one port, preferably automatically sealed, for insertion and withdrawal of the cassette 5.

본 발명에 따라 상기 컨베이어 시스템은 조작자의 작업 높이 위쪽에 있는 적재 및 하역 스테이션(6)과 같은 높이에서 진행됨으로써, 조작자가 컨베이어 시스템 및 적재 및 하역 스테이션(6)의 아래쪽에서, 그리고 클린 룸(2)의 바닥(7) 위에서 움직일 수 있다.According to the invention the conveyor system proceeds at the same height as the loading and unloading station 6 above the operator's working height, such that the operator is below the conveyor system and loading and unloading station 6, and the clean room 2. Can be moved above the bottom 7).

원칙적으로는 상기 개별 적재 및 하역 스테이션(6)이 클린 룸(2) 위쪽에서 상이한 높이에 위치한다. 이러한 경우 상기 컨베이어 시스템도 마찬가지로 상이한 높이에서 진행되나, 적재 및 하역 스테이션(6)보다 앞쪽에 있는, 컨베이어 시스템의 일부가 각각 적재 및 하역 스테이션(6)과 대략 같은 높이에 설치된다는 것이 보증된다.In principle the individual loading and unloading stations 6 are located at different heights above the clean room 2. The conveyor system in this case likewise proceeds at different heights, but it is ensured that a part of the conveyor system, which is in front of the loading and unloading station 6, is installed at approximately the same height as the loading and unloading station 6, respectively.

매우 바람직한 실시예에는 전체 적재 및 하역 스테이션(6)이 클린 룸(2) 바닥(7) 위쪽으로 같은 높이에 위치하며, 이 높이는 전형적으로 약 3m이다. 상기 컨베이어 시스템도 어느정도 같은 높이로 연장되며, 이러한 컨베이어 시스템의 연장은 상기 컨베이어 시스템이 각 적재 및 하역 스테이션(6)의 바로 앞을 지나가도록 선택된다.In a very preferred embodiment, the entire loading and unloading station 6 is located at the same height above the floor 7 of the clean room 2, which is typically about 3 m. The conveyor system also extends to the same height to some extent, and the extension of this conveyor system is selected such that the conveyor system passes just before each loading and unloading station 6.

웨이퍼가 실린 카세트(5)가 적재 및 하역 스테이션 바로 앞에 있는 컨베이어 시스템 상에 공급되면, 상기 카세트(5)는 자동으로 적재 및 하역 스테이션(6)을 지나 제조 유닛(1) 또는 저장기(3)로 삽입된다. 카세트(5)의 수송을 위해 마찬가지로 상기 카세트가 적재 및 하역 스테이션(6)으로부터 자동으로 컨베이어 시스템으로 운반된다. 이를 위해 매우 바람직한 실시예에 컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션(6) 사이의 수송을 인계하는 크로스 벨트가 제공된다. 상기 크로스 수송은 도 1에 이중 화살표로 도시되어있다.When a cassette 5 on which a wafer is loaded is fed onto a conveyor system just in front of the loading and unloading station, the cassette 5 automatically passes through the loading and unloading station 6 to the manufacturing unit 1 or the reservoir 3. Is inserted into. The cassette is likewise conveyed automatically from the loading and unloading station 6 to the conveyor system for the transport of the cassette 5. In this very preferred embodiment a cross belt is provided for taking over the transport between the conveyor system and the loading and unloading station 6. The cross transport is shown by double arrows in FIG. 1.

컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션(6) 사이의 간격이 좁고, 또한 상기 컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션(6)이 같은 높이에 위치하기 때문에, 컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션(6) 사이에 카세트(5)를 수송하는데 드는 구조적 비용이 낮다. 특히 각각의 인력을 투입하지 않고도 이러한 신뢰도가 높은 수송이 달성될 수 있다.Since the gap between the conveyor system and the loading and unloading station 6 is narrow, and the conveyor system and the loading and unloading station 6 are located at the same height, a cassette (between the conveyor system and the loading and unloading station 6) 5) The structural cost of transporting is low. In particular, this reliable transport can be achieved without the input of each manpower.

컨베이어 시스템과 적재 및 하역 스테이션(6) 사이에 카세트를 수송하기 위해 예컨대 도 2에 도시된 것처럼 크로스 벨트가 사용될 수 있다. 도 2에는 클린 룸(2) 바닥(7)의 위쪽으로 약 3m 높이에 설치된 적재 및 하역 스테이션(6)을 포함하는 제조 유닛(1)이 도시되어있다. 롤러 컨베이어(4)로 구성된 컨베이어 시스템이 웨이퍼가 실린 카세트(5)를 상기 제조 유닛(1)으로 수송하고, 상기 롤러 컨베이어(4)는 제조 유닛(1)의 전면벽에 위치한 적재 및 하역 스테이션(6)의 높이에서 약간의 간격을 두고 지나게 된다.A cross belt can be used, for example as shown in FIG. 2, to transport the cassette between the conveyor system and the loading and unloading station 6. 2 shows a manufacturing unit 1 comprising a loading and unloading station 6 installed about 3 m above the floor 7 of the clean room 2. A conveyor system consisting of a roller conveyor 4 carries a cassette 5 on which wafers are loaded to the manufacturing unit 1, which roller loading and unloading station located on the front wall of the manufacturing unit 1. At a height of 6) you will pass a little space.

상기 롤러 컨베이어(4)는 구동 롤러(8)를 포함하는 두 개의 평행하게 연장되는 라인으로 구성되며, 상기 롤러들(8)은 각각 한 라인에서 서로 같은 거리에 배치된다. 두 라인의 롤러들(8) 사이의 간격 및 그 롤러들(8)의 폭은 웨이퍼가 실린 카세트(5)가 그 하부 측면 가장자리에 의해 각각 라인 중 한 라인의 롤러(8)상에 위치하도록 선택된다.The roller conveyor 4 consists of two parallel extending lines comprising a drive roller 8, the rollers 8 being arranged at equal distances from each other in one line. The spacing between the rollers 8 of the two lines and the width of the rollers 8 are selected such that the cassette 5 on which the wafer is loaded is located on the rollers 8 of one line of the line by their lower side edges, respectively. do.

상기 롤러 컨베이어(4)의 롤러(8) 상부면은 적재 및 하역 스테이션(6) 포트의 하부 에지의 아래쪽에 매우 가까이 놓인다.The upper surface of the roller 8 of the roller conveyor 4 lies very close to the bottom of the lower edge of the loading and unloading station 6 port.

상기 적재 및 하역 스테이션(6) 앞쪽에는 롤러 컨베이어(4)의 두 라인 사이에 크로스 벨트가 설치된다. 상기 크로스 벨트는 벨트 컨베이어(9)로서 형성되고 도시되지 않은 고정 장치에 의해 롤러 컨베이어(4)에 고정된다. 상기 벨트 컨베이어(9)의 수송 방향은 롤러 컨베이어(4)의 수송 방향에 횡으로 진행된다. 이때 상기 벨트 컨베이어(9)의 구동 장치는 벨트 컨베이어(9)의 상부면이 적재 및 하역 스테이션(6)쪽으로 또는 그곳으로부터 앞으로 전진하도록 연결된다.In front of the loading and unloading station 6 a cross belt is installed between the two lines of the roller conveyor 4. The cross belt is formed as a belt conveyor 9 and is fixed to the roller conveyor 4 by a fixing device not shown. The conveying direction of the belt conveyor 9 runs transverse to the conveying direction of the roller conveyor 4. The drive device of the belt conveyor 9 is then connected such that the upper surface of the belt conveyor 9 is advanced forwards to or from the loading and unloading station 6.

상기 벨트 컨베이어(9)는 롤러 컨베이어(4)의 높이와 비교하여 그 높이를 조정할 수 있게 설치된다. 도 2에 도시된 위치에서 상기 벨트 컨베이어(9)의 상부면이 롤러 컨베이어(4)의 상부면 아래쪽에 매우 가깝게 놓임으로써, 상기 카세트(5)가 롤러 컨베이어(4) 위쪽에서 예정된 간격을 두고 상기 롤러 컨베이어(4)상에 놓인다.The belt conveyor 9 is installed to adjust its height compared to the height of the roller conveyor 4. In the position shown in FIG. 2 the upper surface of the belt conveyor 9 lies very close to the bottom of the upper surface of the roller conveyor 4 so that the cassette 5 is spaced above the roller conveyor 4 at a predetermined interval. It is placed on the roller conveyor 4.

상기 카세트(5)가 롤러 컨베이어(4)에 의해 적재 및 하역 스테이션 앞에 위치하자마자 상기 벨트 컨베이어(9)가 제 2 위치로 상승됨으로써, 상기 벨트 컨베이어(9)의 상부면이 롤러 컨베이어(4)의 상부면을 넘어서 약간 돌출된다. 그리고 나서 바람직하게는 상기 벨트 컨베이어(9)의 상부면이 적재 및 하역 스테이션(6) 포트의 하부 에지와 동일한 높이에 위치한다.As soon as the cassette 5 is positioned in front of the loading and unloading station by the roller conveyor 4, the belt conveyor 9 is raised to the second position so that the upper surface of the belt conveyor 9 is It protrudes slightly over the top surface. The upper surface of the belt conveyor 9 is then preferably located at the same level as the lower edge of the loading and unloading station 6 port.

상기 벨트 컨베이어(9)가 롤러 컨베이어(4) 위로 상승함으로써 웨이퍼가 실린 카세트(5)가 롤러 컨베이어(4)로부터 들어올려져 벨트 컨베이어(9)의 상부면 위에 놓이게 된다. 벨트 컨베이어(9)의 이러한 수송 운동에 의해 카세트(5)가 제조 유닛(1)으로 삽입된다. 본 실시예에서는 카세트(5)가 제조 유닛(1) 내부에 있는 추가 벨트 컨베이어(10) 상에 다다르게 된다.The belt conveyor 9 rises above the roller conveyor 4 so that the cassette 5 on which the wafer is loaded is lifted from the roller conveyor 4 and placed on the upper surface of the belt conveyor 9. This transport movement of the belt conveyor 9 inserts the cassette 5 into the manufacturing unit 1. In this embodiment, the cassette 5 is reached on an additional belt conveyor 10 inside the manufacturing unit 1.

상기 제조 유닛(1)의 내부에는 예컨대 핸들링 머신 및 그와 유사한 장치와 같이 도시되지 않은 수송 수단이 제공되며, 상기 수송 수단은 웨이퍼를 개별 단위로 또는 전체 단위로 제조 유닛(1) 내부의 역시 도시되지 않은 제조 장치로 공급한다. 이때 상기 수송 수단을 사용하여 상기 제조 유닛(1) 내부에서 특히 웨이퍼의 수직 수송이 이루어진다.Inside the manufacturing unit 1 is provided a conveying means, not shown, for example, a handling machine and the like, wherein the conveying means is also shown inside the manufacturing unit 1 as an individual unit or as a whole. To a non-manufacturing device. At this time, in particular, the vertical transport of the wafer takes place inside the manufacturing unit 1 using the transport means.

웨이퍼의 처리 후, 웨이퍼는 상기 수송 수단에 의해 다시 제조 유닛(1) 내 벨트 컨베이어(10)로 공급된다. 거기서 웨이퍼를 실은 카세트(5)가 크로스 벨트에 의해 컨베이어 시스템으로 공급된다. 상기 카세트(5)가 롤러 컨베이어(4) 위쪽의 예정된 위치에 정차하자 마자 상기 벨트 컨베이어(9)가 하강하고, 그럼으로써 상기 카세트(5)가 다시 롤러 컨베이어(4)의 두 라인의 롤러(8) 위에 일시적으로 놓이게 된다.After processing of the wafer, the wafer is fed back to the belt conveyor 10 in the manufacturing unit 1 by the transport means. There, the cassette 5 carrying the wafer is supplied to the conveyor system by a cross belt. As soon as the cassette 5 stops at a predetermined position above the roller conveyor 4, the belt conveyor 9 is lowered, so that the cassette 5 is again in the two lines of roller 8 of the roller conveyor 4 Is temporarily placed on the

도 2에 도시된 바와 같이, 제조 유닛(1)은 예컨대 하나의 문으로 구성되는 대기 입구(11)를 갖는다. 상기 대기 입구(11)를 통해 대기 작업을 실행하기 위해 조작자가 제조 유닛(1)에 접근하기가 쉽다.As shown in FIG. 2, the manufacturing unit 1 has an atmospheric inlet 11 consisting of, for example, one door. It is easy for the operator to access the manufacturing unit 1 to carry out the waiting work via the waiting inlet 11.

상기 대기 입구(11)는 제조 유닛(1)의 전면벽에 있는 적재 및 하역 스테이션(6)의 아래쪽에 위치한다. 따라서 조작자의 작업 높이 위쪽에 있는 상기 적재 및 하역 스테이션(6)의 설치 높이에 의해, 상기 대기 입구(11)와 적재 및 하역 스테이션(6)이 제조 유닛(1)의 동일면 상에 설치될 수 있다. 만일 상기 적재 및 하역 스테이션(6)이 클린 룸(2)의 바닥 영역에 위치하면, 대기 입구(11)는 예컨대 제조 유닛(1)의 후면 벽에 설치되어야 한다.The atmospheric inlet 11 is located below the loading and unloading station 6 on the front wall of the manufacturing unit 1. Thus, by the installation height of the loading and unloading station 6 above the operator's working height, the atmospheric inlet 11 and the loading and unloading station 6 can be installed on the same side of the manufacturing unit 1. . If the loading and unloading station 6 is located in the bottom area of the clean room 2, the atmospheric inlet 11 must be installed, for example, on the rear wall of the manufacturing unit 1.

제조 유닛(1)의 동일면 상에 위치한 상기 적재 및 하역 스테이션(6) 및 대기 입구(11)에 의해 상기 제조 유닛(1)이 클린 룸(2) 내에 공간이 최대한 절약되도록 위치된다.By means of the loading and unloading station 6 and the air inlet 11 located on the same side of the manufacturing unit 1, the manufacturing unit 1 is positioned in the clean room 2 so as to save space as much as possible.

이에 대한 예가 도 1에 제시되어있다. 거기서는 두 열의 제조 유닛(1)이 각각 클린 룸(2)에서 서로 후면벽이 인접하여 설치됨으로써, 상기 제조 유닛에 대한 컨베이어 시스템 또는 조작자의 접근에 있어서 그 상기 제조 유닛(1)의 전면부쪽에서만 접근할 수 있다. 한편 상기 제조 유닛(1)의 후면에는 조작자가 접근할 필요가 없기 때문에 두 열의 제조 유닛(1)의 서로 인접한 후면벽 사이에는 사이 공간이 거의 필요없게 된다. 이로 인해 클린 룸 표면적을 상당히 줄일 수 있다.An example of this is shown in FIG. 1. There, two rows of manufacturing units 1 are respectively installed in the clean room 2 with the rear walls adjacent to each other, so that the front side of the manufacturing unit 1 in the approach of the conveyor system or the operator to the manufacturing unit. Only accessible. On the other hand, since there is no need for an operator to access the rear surface of the manufacturing unit 1, there is little need for the space between the adjacent rear walls of the two rows of the manufacturing unit 1. This can significantly reduce the clean room surface area.

도 1에 도시된 바와 같이 클린 룸(2) 내 제조 유닛(1) 및 저장기(3)는 각각 일렬로 배치되고, 각 열 사이에는 조작자가 접근하기 쉬운 통로(12)가 나 있다. 컨베이어 시스템은 상기 통로(12) 상부에서 진행됨에 따라서 추가의 클린 룸 표면적이 요구되지 않는다. 또한 상기 컨베이어 시스템의 설치 높이에 의해 조작자가 그 아래에 있는 통로(12) 내에서 상기 컨베이어 시스템으로부터 방해받지 않고 움직일 수 있다는 것이 보증된다. 클린 룸(2) 내에서 상기 통로(12)를 따라 운행하는 차량의 경우도 동일하게 적용된다.As shown in FIG. 1, the manufacturing units 1 and the reservoirs 3 in the clean room 2 are each arranged in a row, and there is a passage 12 between each row that is easily accessible to the operator. As the conveyor system runs above the passage 12 no additional clean room surface area is required. It is also ensured that the installation height of the conveyor system allows the operator to move unobstructed from the conveyor system in the passage 12 beneath it. The same applies to a vehicle traveling along the passage 12 in the clean room 2.

정상적인 경우 웨이퍼가 실린 카세트(5)의 수송은 수송 시스템 내에서 인력의 투입 없이 자동으로 이루어진다.In the normal case, the wafer 5 carrying the cassette 5 is automatically carried out without input of manpower in the transport system.

그러나 예외적으로 웨이퍼가 실린 카세트(5)가 조작자에 의해 컨베이어 시스템에 공급되거나, 컨베이어 시스템으로부터 꺼내어져야만 하는 경우가 있다. 이를 위해 클린 룸(2) 내에 예정된 장소에 도시되지 않은 리프트가 제공될 수 있으며, 상기 리프트는 웨이퍼가 실린 카세트(5)를 클린 룸(2) 바닥(7)으로부터 컨베이어 시스템으로 또는 그 반대 방향으로 전달한다. 상기 리프트는 바닥 영역 내에 샤프트를 갖는다. 웨이퍼가 실린 카세트(5)는 조작자에 의해 상기 샤프트 안으로 삽입되거나 샤프트로부터 꺼내진다. 리프트와 컨베이어 시스템 사이의 상기 카세트(5)의 인도는 상기 컨베이어 시스템의 높이에서 바람직하게는 크로스 벨트 또는 그와 유사 기기에 의해 자동으로 이루어진다.However, there are exceptions in which the cassette 5 in which the wafer is loaded is supplied to the conveyor system by the operator or has to be taken out of the conveyor system. A lift, not shown, may be provided at a predetermined location within the clean room 2 for this purpose, which lifts the cassette 5 containing the wafer from the bottom 7 of the clean room 2 to the conveyor system or vice versa. To pass. The lift has a shaft in the bottom area. The cassette 5 on which the wafer is loaded is inserted into or taken out of the shaft by an operator. The delivery of the cassette 5 between the lift and the conveyor system takes place automatically at the height of the conveyor system, preferably by a cross belt or similar device.

본 발명에 의해 반도체 제품의 최대한 효율적이고 경제적인 수송이 보증된다.The invention ensures the most efficient and economical transportation of semiconductor products.

Claims (16)

적어도 하나의 클린 룸 내에 다수의 제조 유닛을 포함하고 반도체 제품을 수송하기 위한 수송 시스템을 포함하며, 상기 제조 유닛은 반도체 제품의 적재 및 하역을 위해 각각 적어도 하나의 적재 및 하역 스테이션을 갖는, 반도체 제품의 제조를 위한, 특히 웨이퍼 처리를 위한 설비에 있어서,A semiconductor product comprising a plurality of manufacturing units in at least one clean room and including a transport system for transporting semiconductor products, each manufacturing unit having at least one loading and unloading station for loading and unloading semiconductor products, respectively. For the production of, in particular for wafer processing, 상기 수송 시스템은 클린 룸(2)에서 적재 및 하역 스테이션(6)의 높이로 조작자의 작업 높이 위쪽에 설치되는 컨베이어 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 설비.The transport system is characterized in that it comprises a conveyor system installed above the operator's working height at the height of the loading and unloading station (6) in the clean room (2). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 컨베이어 시스템이 클린 룸(2) 바닥(7) 위쪽으로 약 3m 높이로 연장되는 것을 특징으로 하는 설비.The conveyor system is characterized in that the conveyor system extends about 3 m above the floor (7) of the clean room (2). 제 1항 또는 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 반도체 제품이 카세트(5)에 실려서 상기 컨베이어 시스템에서 수송되며, 적재 및 하역 스테이션(6)에 의해 자동으로 제조 유닛(1) 안으로 삽입되고 제조 유닛으로부터 꺼내어질 수 있는 것을 특징으로 하는 설비.Equipment characterized in that the semiconductor product is carried in a cassette (5) and transported in the conveyor system, which can be automatically inserted into and taken out of the manufacturing unit (1) by a loading and unloading station (6). 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 카세트(5)를 수송하기 위해 상기 컨베이어 시스템과 제조 유닛(1)의 적재 및 하역 스테이션 사이에 크로스 벨트가 제공되는 것을 특징으로 하는 설비.Equipment characterized in that a cross belt is provided between the conveyor system and the loading and unloading station of the manufacturing unit (1) for transporting the cassette (5). 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 컨베이어 시스템이 롤러 컨베이어(4)로 구성되고, 상기 롤러 컨베이어(4)는 각각 구동 롤러(8)를 가진, 서로 간격을 두고 평행하게 연장된 두 개의 라인을 포함하며, 상기 롤러(8) 위에 카세트(5)의 하부 측면 에지가 놓이게 되고, 상기 크로스 벨트는 롤러 컨베이어(4)의 라인 사이에 설치되는 벨트 컨베이어(9)로 구성되며, 상기 롤러 컨베이어(4)의 수송 방향은 컨베이어 시스템의 수송 방향에 횡으로 진행되는 것을 특징으로 하는 설비.The conveyor system consists of a roller conveyor 4, which comprises two lines extending parallel to each other at a distance, each with a drive roller 8, over the roller 8. The lower side edge of the cassette 5 is placed, and the cross belt consists of a belt conveyor 9 which is installed between the lines of the roller conveyor 4, the conveying direction of the roller conveyor 4 being conveyed by the conveyor system. Equipment characterized in that it runs laterally in the direction. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 적재 및 하역 스테이션으로 또는 그곳으로부터 상기 카세트(5)를 수송하기 위해 상기 벨트 컨베이어(9)가 상기 롤러 컨베이어(4)의 상부 에지 위로 상승할 수 있는 것을 특징으로 하는 설비.The plant characterized in that the belt conveyor (9) can rise above the upper edge of the roller conveyor (4) to transport the cassette (5) to or from the loading and unloading station. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 크로스 벨트가 상기 적재 및 하역 스테이션(6)의 바로 앞쪽에 설치되는 것을 특징으로 하는 설비.Equipment, characterized in that the cross belt is installed directly in front of the loading and unloading station (6). 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상승된 상기 크로스 벨트의 상부면이 적재 및 하역 스테이션의 하부 에지와 동일한 높이에 놓이는 것을 특징으로 하는 설비.And the upper surface of the raised cross belt lies at the same height as the lower edge of the loading and unloading station. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제조 유닛(1)이 대기 입구(11)를 가지며, 상기 대기 입구(11)는 적재 및 하역 스테이션(6)과 함께 제조 유닛(1)의 전면벽에 설치되는 것을 특징으로 하는 설비.Equipment, characterized in that the manufacturing unit (1) has an atmospheric inlet (11), which is installed on the front wall of the manufacturing unit (1) together with the loading and unloading station (6). 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 대기 입구(11)가 상기 적재 및 하역 스테이션(6)의 하부에 설치되는 것을 특징으로 하는 설비.The atmosphere, characterized in that the air inlet (11) is installed below the loading and unloading station (6). 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 각각 두 개의 제조 유닛(1)이 그 후면벽이 서로 인접하여 배치되고, 각 제조 유닛(1)의 전면벽은 각각 조작자를 위한 통로(12)에 인접하는 것을 특징으로 하는 설비.Each of which is characterized in that two manufacturing units (1) are arranged with their rear walls adjacent to each other, and the front walls of each manufacturing unit (1) are each adjacent to a passage (12) for the operator. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 컨베이어 시스템이 조작자를 위한 통로(12)의 위쪽에 연장되는 것을 특징으로 하는 설비.Facility, characterized in that the conveyor system extends above the passage (12) for the operator. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 리프트가 상기 클린 룸(2) 바닥(7)으로부터 컨베이어 시스템까지 운행되는 것을 특징으로 하는 설비.A facility characterized in that the lift runs from the bottom (7) of the clean room (2) to the conveyor system. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 조작자에 의해 상기 리프트에 반도체 제품이 적재되거나 하역되는 것을 특징으로 하는 설비.A facility comprising a semiconductor product loaded or unloaded onto the lift by an operator. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 제조 유닛(1)의 내부에 반도체 제품의 수직 수송을 위한 수송 수단이 제공도는 것을 특징으로 하는 설비.A facility characterized in that a means of transport for the vertical transport of semiconductor products is provided inside the manufacturing unit (1). 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 반도체 제품의 저장을 위해 하나 또는 다수의 저장기(3)가 각각 적어도 하나의 적재 및 하역 스테이션(6)을 가지며, 상기 적재 및 하역 스테이션(6)은 컨베이어 시스템의 높이에 설치되는 것을 특징으로 하는 설비.One or more reservoirs 3 each have at least one loading and unloading station 6 for the storage of semiconductor products, characterized in that the loading and unloading stations 6 are installed at the height of the conveyor system. equipment.
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