KR20010014272A - 감소된 고주파 크로스토크를 가지는 음향-광학 변조기 배열 - Google Patents

Abstract

본 발명은 감소된 고주파 크로스토크를 가지는 음향-광학 변조기 배열에 관한 것으로서, 음향-광학 변조기를 사용하는 다채널 레이저 빔 시스템에서의 전기(RF) 크로스토크는 최소화되고, 이것은 이차원적인 배열에서 변조기 전극(44a,...,44h)를 배열하므로써 충전 밀도를 감소하지 않고 행해지고, 각 행에서의 상기 전극은 이웃한 행에서의 전극에 대해 어긋나게 배치되고, 이것이 산출되는 레이저 빔 스폿 사이에 포텐셜 갭의 문제를 가져오지만, 이 갭은 레이저 빔의 광 경로에서 위치되는 빔 전달 장치(50)에 의해 없앨 수 있는 것을 특징으로 한다.

Description

감소된 고주파 크로스토크를 가지는 음향-광학 변조기 배열{ACOUSTO-OPTIC MODULATOR ARRAY WITH REDUCED RF CROSSTALK}

관련된 출원에 대한 상호참조

본 출원은 1997년 7월 8일에 출원된 미국 가출원번호 제60/051,973의 출원일의 이익을 청구한다.

전자 회로 기판을 만들기 위한 목적으로 다중 전자 빔을 사용하는 포토레지스트상에 이미징 패턴과 같이, 예를 들어 레이저 쓰기 응용분야에서 사용되는 다채널 레이저 빔 시스템은 잘 알려진 음향-광학 변조기 배열을 사용한다. 그러한 변조기에서, 전기 에너지는 압전 변환기에 의해 음파로 변환되고, 음파는 입사 레이저(광선) 빔을 변조한다. 음파는 전형적으로 레이저 빔이 통과하는 투명한 물질 또는 유리로 만들어진 변조기 본체의 광굴절율을 왜곡시킨다. 이 왜곡은 공간과 시간에 있어 주기적이여서 레이저 빔을 굴절시키거나 변조시키는 삼차원의 역학적인 회절 격자를 제공한다. 그러한 음향-광학 장치는 광대역 신호처리에 있어서 잘 알려져 있다.

그러한 변조기(10)의 예는 변조기 본체(14)의 외부를 설명하는 도 1a에 나타낸다. 광선 빔(16)은 본체(14)의 왼쪽 표면으로부터 들어오고 본체(14)를 통과한다. 수평선은 회절 격자성을 제공하기 위해 의도되었다: 음파의 존재에 의해 억압되고 또는 뻗어진 변조기 본체에서의 분자가 삼차원의 역학적인 위상 격자의 효과를 제공하고 그것은 종래의 회절 격자가 아니다. 전기 입력 신호("입력")는 변조기 본체(14)의 표면에 결합된 압전 물질의 얇은 작은 판으로 만들어진 변환기 본체(21)의 표면 전극(20)에 가해진다. 변환기 본체(21)는 전극(20)아래에 위치된다. 광선 빔(16)은 결합되는 압전 변환기(21)에 표면에 수직인 표면을 통해 본체(14)로 들어온다. 이 전기 입력 신호의 주파수 및 전력은 산출된 음파의 존재때문에 변조기 본체(14)를 통해 통과하므로써 굴절되는 광선 빔(16)의 범위가 무엇인지를 결정한다. 음향 흡수체(22)와 같은 종래의 음향 단말은 결합되는 변환기 본체(21)상에 표면 반대편의 변조기 본체(14)의 표면상에 제공되고 전기 신호가 가해진다. 대안적으로, 결합된 변환기(21)상에 표면 반대편의 변조기 본체의 표면은 축에서 벗어난 반사를 하기 위해 입사 음파를 일으키게 비스듬히 절단될 수 있고 실질적으로 변조기 본체에 의해 흡수될 수 있다.

따라서, 전극(20)과 (접지)전극(24)과의 전기적인 접촉은 전기 입력 포트를 제공하고 거기에 가해진 전압(신호)는 균일한 음파의 발생이 차례로, 광선 빔(16)의 의도된 굴절을 일으키기 위한 변조기 본체(14)를 아래로 이동하게 하는 변환기 본체(21)의 압전 활성 영역에서의 공간적으로 균일한 전기장을 만든다. 변조기 물질(14)의 광-탄성 계수때문에, 실제 효과는 입력 전력에 의해 결정되는 격자 강도를 가지는 음속에서 이동하는 이동(역학적인) 회절 격자를 실제로 만드는 변조기 본체(14)의 굴절율에서의 상당한 변화에 의해 원인된다. 출력 광선 빔의 굴절각과 회절 격자에 의해 발생되는 그것의 크기는 음파의 주파수와 진폭에 의존한다.

도 1a는 하나의 입사 광선 빔(16)을 변조하기 위한 입력 전극(20)을 가지는 단하나의 변환기(21)를 나타낸다. 이 문맥에서의 "광선 빔"은 가시광선뿐만아니라 자외선 및 적외선을 포함하는 다른 주파수를 포함하고, 레이저 또는 다른 소스로부터 변조될 수 있는 전자기 방사에 관한 것이다.

다채널 변조기의 상부도인 도 1b에 나타낸 다채널 레이저 빔 시스템에서, 전극측으로부터, 다수의 입사 레이저(광선) 빔 (16a), (16b), (16c), (16d)은 하나의 변조기 본체에 가해진다. 변조기 본체는 변환기 전극(20a), (20b), (20c), (20d)의 대응하는 수를 그것의 표면위에 형성하고, 각각의 빔에 대한 하나의 변환기 전극은 변조된다. 도 1b에서의 상부도에서 나타낸 그러한 장치는 변조기 본체(14)위에 변환기 본체(21)의 표면위에 다수의 전극(20a), (20b), (20c), (20d)을 가진다. 전형적으로 4개 또는 8개 또는 그 이상의 그러한 전극이 있고, 각각은 대응하는 입사빔을 굴절한다. 각각의 전극의 물리적인 크기는 변조기 대역(속도)의 제곱에 반비례하고 수십 메가헤르쯔의 차수에서의 변조기 대역에 대한 각각의 수백 마이크로미터의 차수에서 수 밀리미터까지, 고속 변조기 배열의 경우에서는 매우 작을 수 있다. 작은 전극을 한정하기 위해 종래의 포토리소그래피 수단을 사용하여 그러한 변환기 배열을 형성하는 것은 일상적인 것이다. 그러나, 단락을 방지하기 위해, 전극은 사이에 유한의 갭으로 만들어진다.

전형적인 레이저 이미징 시스템에서 의도된 출원은 장차 변조되어지는, 인치당 300에서 10,000 또는 그 이상 도트의 전형적인 충전 밀도를 가지는 이미징 매체상에 작은 레이저 빔 도트의 배열을 형성하기 위한 것이다. 광학적으로 민감한 매체상에서, 도트 배열 방향, 즉, 래스터 스캐닝에 명목상의 직교하는 방향으로 변조된 광학 도트 배열을 이동하는 것은 변조 신호의 기록된 이미지를 생산하는 것이다. 명확하게, 연속적인 품질 패턴을 인쇄하기 위하여, 광학적으로 민감한 매체상에 이웃한 레이저 빔 도트 사이에 뚜렷한 갭은 없을 것이다.

요구되는 레이저 빔 도트는 변조기 배열에 있어서 레이저 빔보다 실질적으로 작게 되는 경향이 있기 때문에, 광학 이미징 기술은 레이저 빔 직경을 감소하기 위해 그리고 변조기 배열로부터 이웃한 변조된 레이저 빔 사이에 갭을 제거하기 위해 사용된다.

도 2a(좌측)는 이웃한 레이저 빔 배열 사이에 유한의 갭을 가지는 종래의 기술에서의 4채널 선형 변조기 배열로부터의 광출력빔을 설명하고, 연관된 레이저 빔 세기(우측)을 설명한다. 이러한 갭은 스캐닝 방향이 도 2b에 의해 더 설명되는 것처럼 레이저 빔 배열의 방향에 대해 회전할 때 감소될 수 있거나 또는 제거될 수도 있다. 도 2a의 일차원 배열의 경우, 이웃한 채널 사이에 각각의 갭은 동일한 백터 크기 d를 가진다. 도 2b에서의 각α에 의한 선 이미지의 회전은 도트 사이에 각각 그리고 전부의 갭이 d(cosα)의 거리까지 감소되게 한다. 갭은 d(cosα)가 레이저 빔 직경과 대략 같게 될 때 스캔된 패턴(도 2b의 우측을 보라)에서 효과적으로 제거된다. d(cosα)가 레이저 빔 직경보다 더 작을 때, 결과적인 광학 세기 분포는 매우 부드러울 수 있다.

그러나, 스캔 방향의 회전 후, 쓰기 빔은 스캔의 방향을 따라서 분리될 것이다. 도 2b를 보라. 래스터 패턴의 제 1 선은 후속적인 선을 향해 프린트될 것이다. 스태거된 스캔 선은 이웃한 빔에 대해 타임 리드와 같은 양인 각각의 채널에 RF 입력신호를 지연시키므로써 보상될 수 있다. 빔에서 적절히 지연하므로써 변조된 빔 도트는 "선"으로 효과적으로 이르게 할 수 있다. 미국 특허 제4,796,038호 및 제4,806,921호를 보라.

도 1c에서, 음파는 입사 레이저 빔과 관련된 어떤 거리를 이동할 것이고 결과적으로 신호의 음향적인 지연이 된다. 실제로, 이 거리에서 유한한 변화, 즉 변조된 레이저 빔 사이에 신호 지연에서의 변화지만 작게 될 것이다. 이 변화는 "선"으로 변조된 빔을 이루게하는 전기 지연으로부터 그것을 삭제하므로써 제거된다.

그러나 문제는 음향 접근 및 전기 접근에 기인하는 조밀하게 팩된 변조기 배열에서의 초과적인 채널과 채널의 크로스토크가 존재한다. 각각의 전극 (20a),.. (20d)에 의해 발생된 이동 음파 사이에 음향 크로스토크는 흔히 파동 회절 이론에 따라 행해지고 변환기 전극과 변조기 본체의 기하학적인 고려에 의해 최소화될 수 있다. 그러나 변환기 배열에 가해진 들어오는 신호에서의 전기 RF(고주파) 크로스토크는 제거하기 더 어렵고 흔히 크로스토크의 지배 소스이다. 이 문제는 각각의 변환기 전극 (20a),...,(20d)에 연결하는 피드 전도체와 결합 와이어(나타내지 않은)의 가까운 접근에 더하여 변환기 전극 (20a),...,(20d)의 임피던스 정합을 위해 전기 유도로 작동하는 RF 코일이 요구되기때문에 특히 어렵다.

입사 레이저 빔을 방해하지 않기 위하여, 변환기 전극에 대한 전기 피드는 변조기 변환기 배열의 양측으로부터 들어와야 한다. 많은 피드 전도체는 변환기 전극의 길이가 단지 수 밀리미터의 영역으로 압착될 것이다. 만일 변환기 구성요소가 입사 광선 빔에 평행한 방향으로 퍼지게 된다면, 촘촘한 충전 밀도는 변조기의 이차원적인 배열을 결과하는 것이 쉬어질 수 있다.

음향-광학 변조기 배열의 또다른 중요한 특성은 변조기 본체의 중앙에서 광학 축의 구부러짐이다. 도 1c는 접속 와이어(26)을 가지는 제 1 전극(20a)만을 나타내는 도 1b의 구조의 측면도이다. (다른 전극은 전극(20a)을 가지는 선안에 정확하게 있고 그러므로 볼 수 없다.) 평행한 수평선의 그룹은 실제로 볼 수 없는 경로를 가지는 회절 격자를 암시한다. 레이저 빔(16a)의 입사각(공기중에서 측정된, 변조기 본체(14)에 대한 외부)은 θ_B= sin^-1 로 주어지는 잘 알려진 Bragg각 θ_B이고, 여기서 λ는 공기중에 입사 레이저 빔(16a)의 파장이고 Λ는 음파의 파장이다. 출력 레이저 빔은 음향-광학 회절 격자에 대칭이고, 또한 θ_B의 출구각을 가진다. 따라서, 나타낸 바와 같이, 입사 레이저 빔(16a)은 전체 굴절각 2θ_B에 의해 음향-광학 변조기의 중앙에서 전파 방향으로 구부러짐을 겪는다.

요약

이 발명에 따라, 전극의 일차원적인 하나의 행대신에, 변환기 전극은 RF궤환회로를 더 간격을 유지할 수 있도록 레이저 빔 전파 방향으로 퍼진다.

많은 채널을 가지는 변조기 배열의 경우, 변환기 전극은 다수의(적어도 둘인) 행에 이차원적으로 배열될 수 있고, 각각의 행은 적어도 하나의 전극을 포함한다. 이 이차원적인 음향-광학 변조기 배열은 이웃한 변조기 구성 요소(전극)사이에 두 차원에서의 실질적인 증가된 물리적인 분리를 하게 한다. 더 큰 물리적인 분리는 변조기 배열에 대한 궤환 전도체 사이에 개량된 전기적인 절연을 더 쉽게 하고 더 효과적인 채널과 채널 분리를 하게 한다.

그러나, 이차원적인 변조기 배열은 음향-광학 변조기의 중앙에 광학축의 구부러짐에 대한 문제때문에 바람직하지 않은 이미지 가공품을 도입할 것이다. 그러므로 첨가적인 보호는 이웃한 스캔선 사이에 프린트 갭을 제거하기 위하여 제공되어질 것이다.

이차원적인 배열의 경우, 평행한 행에 기인하는 변조기의 열가 있다. 각각의 변조기의 중앙에서 광학축의 구부러짐은 열에서의 변조기로부터의 출력 빔이 변조기의 열에서의 구성요소 대 구성요소의 분리인 D가 있는 (2Dsinθ_B)의 측면 오프-셋을 금지시키게 한다. 따라서, 각각의 전체 행의 출력 빔은 열에서의 그들의 차수에 대한 공통의 측면 오프셋을 금지시킨다. 결과적으로, 이차원 변조기 배열로부터의 출력 빔은 선형적인 분포 대신에 이차원적인 분포를 금지시킨다.

일반적으로, 이차원 출력 레이저 빔 배열이 열에서의 이웃한 구성 요소 사이에 수직적인 분리를 가깝게 하기 위한 양으로써 스캔 방향에 대해 회전될 때, 열 대 열 갭 G는 효과적인 쓰기 빔 배열을 산출할 것이다.

이 발명에 따른 수정은 모든 이웃한 빔 사이에 균일한 피치(간격)을 가지는 분포로 산출하는 빔을 가져온다. 한 실시예에서, 이미지에서 열 대 열 갭은 변조기 배열뒤에 빔의 구성 요소의 광학적인 경로에서의 기울어진 평행판과 같은 빔 전달 장치를 제공하므로써 제거된다. 이것은 균일한 피치의 하나의 직선으로 모든 채널로부터의 빔을 가져오는 것이 발견되었다.

대안적으로, 입사 레이저 빔은 변조기 본체로부터 생겨난 직선을 형성하기 위해 (또는 균일한 피치를 가지기 위해) 그들의 소스, 즉 기울어진 평행판에 의해 선배열된다.

본 발명은 광선 빔의 변조에 관한 것이고 더 특히 변조된 레이저 빔의 더 높은 충전 밀도를 가지는 개량된 음향-광학 변조기에 관한 것이다.

도 1a, 1b 및 1c는 종래 기술의 음향-광학 변조기 배열,

도 2a 및 도 2b는 종래 기술의 일차원적인 전극 배열과 산출되는 스캔 패턴,

도 3은 본 발명에 따른 변조기 배열에 대한 이차원적인 전극 배열의 예,

도 4는 본 발명에 따른 변조기의 열이 측면 이동을 금지시키기 위한 정열된 입사빔을 어떻게 굴절시키는지를,

도 5a, 5b, 5c 및 5d는 본 발명에 따른 이차원적인 전극 배열 및 산출되는 스캔 패턴을,

도 6은 본 발명에 따른 갭을 보상하기 위한 기울어진 평행판의 사용,

도 7은 기울어진 평행판에 대한 위치 변경을 나타낸다.

도 3은 본 발명에 따른 음향-광학 변조기 본체(40)의 표면상에 변환기 전극 배열을 나타낸다. 예에서 나타낸 것은 행으로 배열된 8개의 전극이다. 전극과 음향 흡수체에 접속하는 와이어와 같은 다른 특징은 상기 설명된 것처럼 통상적인 것이기 때문에 나타내지 않았다 ; 단지 전극의 배열만이 다르다. 4개의 행이 있는 경우에는; 제 1 칼럼은 전극(44a), (44e)을 포함하고, 나타낸 행은 어긋나게 배치된다. 칼럼 사이에 분리는 모든 음향-광학 변조기가 피크 변조 속도 및 회절 효율성을 달성하기 위해 입사 레이저 빔의 촛점내에서 위치될 수 있기 때문에, 촛점의 광학적인 깊이에 의해 제한된다. 수 백 마이크론의 전형적인 레이저 빔 직경의 경우, 촛점의 깊이는 변조기의 긴 열 또는 평행한 행의 열이 되도록 수 센티미터가 될 수 있다.

도 3이 행당 두 전극을 나타내지만, 다른 실시예에서는 행당 한 전극만을, 또는 행당 둘이상을 가진다.

따라서, 이웃한 변조기 구성 요소(전극) 사이에 물리적인 분리는 유익하게 상당히 증가되고, 그것에 의해 RF 신호 분리를 쉽게 한다.

그러나, 도 4에서 동일한 구조의 측면도에서 나타낸 바와 같은 도 3의 음향-광학 변조기의 중앙에 광학축의 구부러짐에 대해 이 전극 배열을 가지는 유일한 특성이 있다. 변조기의 열에 이웃한 빔의 측면 이동은 (2Dsinθ_B)와 같게 되는 것처럼 도 4에 나타내었고, 여기서 D는 이웃한 전극 행 사이에 피치이고 θ_B는 Bragg 입사각이다.

채널의 수가 적을 때, 기울어진 열에서의 변조기 배열의 모든 구성 요소, 도 3의 구성 요소 (44a), (44b), (44c), (44d)만을 배열하는 것이 가능하다. 결과적인 빔 스폿은 행 방향으로 전극 분리에서 및 열 방향으로 억압된 전극 분리 (2Dsinθ_B)에서 기울어진 각도이지만 직선으로 있게 된다.

도 3의 이차원적인 음향-광학 변조기 배열의 출력의 경우, 레이저 빔 스폿은 도 1a의 종래 기술에 의해 제공된 것처럼 요구된 더 단순한 선형적인 분포대신에 도 5b에 의해 나타낸 레이저 빔의 이차원적인 분포를 형성한다.

도 5a, 5b, 5c,5d는 전극의 4행으로 배열된 8개의 전극을 가지는 도 3에서와 같은 8채널 변조기 배열을 가지는 이차원적인 변조된 빔 배열을 설명하고, 여기서 전극 사이의 핏치는 D이다. 도 5b에 나타낸 이 배열의 광학 출력(빔 스폿)은 x(수평) 방향을 따라 간격(2Dsinθ_B)과 y축(수직) 방향을 따르는 d를 가지는 4개의 도트 각각 두 선을 가진다. 이웃한 스캔선 사이에 갭을 제거하기 위한 스캔 방향에 대해 빔 배열을 회전한 후, 스캔선 배열은 도 5c에 나타낸 바와 같을 것이고 y방향을 따르는 레이저 세기 프로필은 갭G에 의해 분리되는 두개의 연속적인 스캔-선 그룹인 도 5d에 의해 나타낸다. 도 5c에서, d'=d, 여기서 β=tan^-1 이고 여기서는 회전각이다.

이 문제를 해결하기 위한 접근은 다음과 같다.

한 방법은 도 6에 나타낸 바와 같이 빔 전달 장치를 제공하는 것이다. 이 장치는 예를 들어 도 6에서의 수평선으로 표시되는 몇개의 빔(채널)을 측면으로 전달하는(이동시키는) 광학적으로 평평한 유리의 기울어진(빔 축에 대해) 판인 기울어진 "평행판"(50)이다. 이 판(50)의 빗각은 상기 설명된 갭에 요구되는 빔 이동량의 기능이다. 그러므로 도 6에 나타낸 바와 같이, 하나의 기울어진 평행판(50)은 8개의 채널 변조기 배열(40)의 1에서 4(상부)에 대한 공통의 광 경로로 들어오게 되어서, 8개 빔 전부를 산출되는 쓰여진 패턴(56)에 나타낸 바와 같은 균일한 피치의 한 직선으로 놓여진다.

도 7의 배열은 변조기로 들어오는 전에, 빔 스폿이 더 큰 직경이고 그러므로 채널 사이에 간격이 더 커지기 때문에 기울어진 판(50)의 빗각의 중요성(criticality)은 적어진다. 더욱이, 그것은 변조기 배열에 대한 복합 레이저를 설치하는 빔 분산기 배열의 일부로서 쉽게 성취될 수 있다.

전극의 특별한 모양은 본 이차원적인 전극 배열 발명의 사용에 대해서 중요하지 않음이 발견되었다. 전형적인 응용은 예를 들어 10 또는 그 이상의 에스펙트 비를 가지는 상대적으로 길고 좁은 전극을 사용하지만 제한되지는 않는다. 전극은 예를 들어, 직사각형, 다이아몬드, 또는 다른 모양이 될 수 있다. 전극의 전형적인 모양과 크기는 20 대 1 에스펙트비인 300㎛×6밀리미터(6000㎛) 크기의 연장된 직사각형이다. 전형적인 대응 빔 스폿 직경 빔은 변조기 본체의 중앙에서 100에서 200마이크론이다.

이 설명은 설명을 하기 위한 것이고 제한적이지 않다; 또다른 변경은 이 개시의 관점에서의 당업자에게 명확해질 것이고 부가된 청구범위의 범위내에 범위에 들도록 의도된다.

Claims (15)

1. 방사의 다수의 입사 빔을 통해서 통과하기에 적당한 변환기 본체; 및

   변환기 본체의 표면위에 다수의 전극을 구비하고,

   전극의 하나는 방사의 빔 각각과 연관되고, 상기 전극은 방사의 입사각에 의해 한정되는 축에 대해 다수의 열과 행을 가지는 배열로 배열되는 것을 특징으로 하는 음향-광학 변조기.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 배열은 각 행에 적어도 한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 변조기.
3. 제 2 항에 있어서,

   제 1 행에서 전극은 제 2 이웃한 행에서의 전극에 대해 기울어진 것을 특징으로 하는 변조기.
4. 제 1 항에 있어서,

   각 전극의 에스펙트비는 적어도 10 대 1인 것을 특징으로 하는 변조기.
5. 제 1 항에 있어서,

   입사 빔을 전달하기 위해 배열된 빔 변환기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 변조기.
6. 제 5 항에 있어서,

   상기 빔 변환기는 변환기 본체와 상기 빔의 소스 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 변조기.
7. 제 5 항에 있어서,

   상기 빔 변환기는 변환기 본체와 빔의 목적지 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 변조기.
8. 제 5 항에 있어서,

   상기 빔 변환기는 입사 빔의 축에 대해 비스듬히 기울어진 투명한 판인 것을 특징으로 하는 변조기.
9. 제 5 항에 있어서,

   상기 전극은 두 개의 그룹으로 배열되고, 또한 전극 그룹중의 하나위에 입사된 빔만이 빔 변환기위에 입사하는 것을 특징으로 하는 변조기.
10. 제 1 항에 있어서,

    변환기 본체를 통과한 후 균일한 피치를 한정하기 위해 총체적으로 빔을 배열하는 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 변조기.
11. 한측을 따라 배열된 다수의 입사빔을 제공하는 단계; 및

    입사 빔에 의해 한정되는 축에 대해 이차원적으로 빔을 음향적으로 굴절하는 단계, 그것에 의해 빔을 변조하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 다수의 방사의 입사 빔을 변조하는 방법.
12. 제 11 항에 있어서,

    빔의 일부를 전달하는 단계를 더 구비하고, 그것에 의해 전달되고 굴절된 후의 빔이 균일한 피치 하나가 또다른 하나에 배열되는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제 12 항에 있어서,

    상기 전달 단계는 상기 굴절 단계 후에 일어나는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제 12 항에 있어서,

    상기 전달 단계는 상기 굴절 단계 전에 일어나는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제 11 항에 있어서,

    음향적으로 굴절된 후와 같이 음향적으로 굴절되기전에 입사 빔을 배열하는 단계를 더 구비하고, 상기 빔은 타겟위에 입사할 때 균일한 피치 하나가 또다른 하나를 총체적으로 한정하는 것을 특징으로 하는 방법.