KR20010009997A - 레티클 스테이지 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 레티클 어라인(reticle align) 시, 레티클과 이 레티클을 고정시키기 위한 핀과의 흡착불량에 따른 어라인 장애 및 레벨링(leveling) 불량을 해소할 수 있는 레티클 스테이지(reticle stage)에 관한 것이다.
본 발명의 레티클 스테이지는 레티클 척과, 레티클 척 상면에 형성된 각각의 제 1핀과, 제 1핀에 각각 내설되어 상하 방향으로 구동되면서 레티클의 레벨링을 조절하기 위한 제 2핀과, 제 2핀에 설치되어 상하 방향으로의 이동거리를 쎈싱하기 위한 센서와, 제 2핀에 구동력을 주기 위한 구동부를 구비한 것이 특징이다.
따라서, 상기 특징을 갖는 본 발명에서는 레티클을 고정시키는 핀이 상, 하방향으로 구동되면서 레티클의 레벨링을 조절가능함에 따라, 레티클의 어라인 불량 및 틸트 현상으로 인해 발생되는 노광 불량을 방지할 수 있다.
또한, 레티클과 직접 접촉되는 제 2핀이 고정핀인 제 1핀에 내설되어 있기 때문에 파티클에 의한 오염을 예방할 수 있는 이점이 있다.
Description
본 발명은 레티클 스테이지(reticle stage)에 관한 것으로, 특히, 레티클 어라인(align) 시, 레티클과 레티클을 고정시키기 위한 핀과의 흡착 불량에 따른 어라인 장애 및 레벨링(leveling) 불량을 해소할 수 있는 레티클 스테이지에 관한 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 레티클 스테이지를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 통상적으로 이용되는 레티클 이송장치를 도시한 도면이다.
종래의 레티클 스테이지는 도 1과 같이, 스테이지몸체(100)와, 스테이지몸체(100)에 형성된 X,Y 스테이지기판(102)과, X, Y스테이지기판(102) 상에 설치되어, X, Y축 방향으로 구동되는 제 1스테이지(104)와, Θ축 방향으로 구동되는 제 2스테이지(106)와, 제 1스테이지(104)를 X축 방향으로 구동력을 주기위한 제 1구동부(ℓ)와, 제 1스테이지(104)를 Y축 방향으로 구동력을 주기위한 제 2구동부(m)와, 제 2스테이지(106)를 Θ축 방향으로 구동력을 주기위한 제 3구동부(n)와, 제 2스테이지(106) 상에 설치되어, 레티클을 상면에 진공흡착 방식으로 고정시키기 위한 각각의 핀(108)을 갖는 레티클척(110)으로 구성된다.
레티클 이송장치는 종래의 레티클 스테이지로 레티클을 이송시키기 위한 것으로, 도 2와 같이, 다 수개의 레티클이 적재되는 레티클카세트(200)와, 레티클이 임시보관되는 중계수납유닛(204)과, 레티클카세트(200) 내의 레티클을 중계수납유닛(204)으로 이송시키기 위한 제 1이송암(206)과, 회전구동되는 턴테이블(turn table)(210)과, 중계수납유닛(204)상의 레티클을 턴테이블(210)로 이송시키기 위한 제 2이송암(212)으로 구성된다.
상기 구성을 갖는 종래의 레티클 스테이지를 이용하여 레티클이 고정되는 과정을 알아본다.
먼저, 레티클투입구(202))를 통해 레티클이 레티클카세트(200) 내로 투입되면, 제 1이송암(206)이 레티클카세트(200)내의 레티클을 중계수납유닛(204)으로 이송시킨다.
그리고, 제 2이송암(212)이 중계수납유닛(204)으로 이송된 레티클을 턴테이블(210)으로 이송시킨다. 이 후, 턴테이블(210)은 180도 회전되면서 레티클이 레티클척에 각각 형성된 핀(108) 상에 로딩된다. 이 핀(108)은 레티클척(110)에 고정되도록 형성되어, 진공흡착 방식으로 레티클을 고정시킨다.
레티클이 고정되면, 제 1, 제 2, 제 3구동부(ℓ)(m)(n)를 온동작시키어 X, Y Θ 방향으로 각각의 제 1, 제 2스테이지를 이동시키어 레티클을 어라인시킨다.
그러나, 종래의 레티클 스테이지에서는 레티클을 진공흡착방식으로 고정시키는 핀은 파티클 등의 부착되기 쉽다. 따라서, 각각의 핀 중 어느 하나라도 진공이 누설되면, 어라인 불량 및 틸트(tilt) 현상에 의해 노광 불량(오버레이(overlay) 불량)이 발생된 문제점이 있었다.
상기의 문제점을 해결하고자, 본 발명의 목적은 레티클과 레티클을 고정시키기 위한 핀 간의 진공 불량을 해소할 수 있는 레티클 스테이지를 제공하려는 것이다.
상기 목적을 달성하고자, 본 발명의 레티클 스테이지는 레티클 척과, 레티클 척 상면에 형성된 각각의 제 1핀과, 제 1핀에 각각 내설되어 상하 방향으로 구동되면서 레티클의 레벨링을 조절하기 위한 제 2핀과, 제 2핀에 설치되어 상하 방향으로의 이동거리를 쎈싱하기 위한 센서와, 제 2핀에 구동력을 주기 위한 구동부를 구비한 것이 특징이다.
도 1은 종래기술에 따른 레티클 스테이지를 개략적으로 도시한 도면이고,
도 2는 통상적으로 이용되는 레티클 이송장치를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 레티클 스테이지를 개략적으로 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 레티클 스테이지에 있어서, 레티클척 및 핀을 부분 확대한 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100, 300. 스테이지몸체
102, 302. X, Y 스테이지기판
104, 106, 304, 306. 스테이지
ℓ, ℓ`, m, m`, n, n`, 320. 구동부
1-08, 308, 315. 핀
110, 310. 레티클척
322. 센서
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하겠다.
도 3은 본 발명에 따른 레티클 스테이지를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 레티클 스테이지에 있어서, 레티클척 및 핀을 부분 확대한 도면이다.
본 발명의 레티클 스테이지는 도 3과 같이, 스테이지몸체(300)와, 스테이지몸체(300)에 형성된 X,Y 스테이지기판(302)과, X, Y스테이지기판(302) 상에 설치되어, X, Y축 방향으로 구동되는 제 1스테이지(304)와, Θ축 방향으로 구동되는 제 2스테이지(306)와, 제 1스테이지(304)를 X축 방향으로 구동력을 주기위한 제 1구동부(ℓ`)와, 제 1스테이지(304)를 Y축 방향으로 구동력을 주기위한 제 2구동부(m`)와, 제 2스테이지(306)를 Θ축 방향으로 구동력을 주기위한 제 3구동부(n`)와, 제 2스테이지(306) 상에 설치된 레티클척(310)과, 레티클척(310) 상면에 각각 형성된 제 1핀(308)과, 제 1핀(308)에 내설되어, 상하 방향으로 구동가능한 제 2핀(315)과, 제 2핀(315)에 구동력을 주기위한 제 4구동부(320)와, 제 2핀(315)에 설치되어, 제 2핀(315)의 상하 방향으로의 이동간격을 쎈싱하기 위한 센서(322)로 구성된다.
상기 구성을 갖는 본 발명에 따른 레티클 스테이지를 이용하여 레티클을 고정시키는 과정을 알아본다.
도면에는 도시되어 있지는 않지만, 종래와 동일한 방법으로, 레티클이 레티클척(310)에 로딩되면, 제 4구동부(320)의 온동작됨에 따라, 레티클척(310) 상의 제 2핀(315)이 제 1핀(308)으로부터 상방향과 하방향으로 구동되면서 레티클의 레벨링을 조절한다.
이 때, 제 2핀(315)의 상 또는 하방향으로의 구동되는 이동거리는 센서(322)를 통해 제어된다.
즉, 센서(322)에는 상, 하방향으로의 이동에 있어서, 최고치와 최저치가 입력되어 있다.
따라서, 제 2핀(315)이 상기의 최고치와 최저치를 벗어나게 되면, 에러음을 발생시키게 된다.
상기와 같은 과정을 통해 레티클의 레벨링 조절작업이 완료되면, 제 2핀(315)이 진공흡착 방식으로 레티클을 고정시킨다.
이 후, 제 1구동부(ℓ`)와 제 2구동부(m`), 제 3구동부(n`)가 온동작됨에 따라, 제 1스테이지와 제 2스테이지가 X 및 Y 또는 Θ축 방향으로 각각 구동되면서 레티클의 노광위치가 어라인된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에서는 레티클을 고정시키는 핀이 상, 하방향으로 구동되면서 레티클의 레벨링을 조절가능함에 따라, 레티클의 어라인 불량 및 틸트 현상으로 인해 발생되는 노광 불량을 방지할 수 있다.
또한, 레티클과 직접 접촉되는 제 2핀이 고정핀인 제 1핀에 내설되어 있기 때문에 파티클에 의한 오염을 예방할 수 있는 이점이 있다.
Claims (1)
- 레티클이 고정되는 레티클스테이지에 있어서,레티클척과,레티클척 상면에 형성된 각각의 제 1핀과,상기 제 1핀에 각각 내설되어, 상하 방향으로 구동되면서 상기 레티클의 레벨링을 조절하기 위한 제 2핀과,상기 제 2핀에 설치되어, 상하 방향으로의 이동거리를 쎈싱하기 위한 센서와,상기 제 2핀에 구동력을 주기 위한 구동부를 구비한 것이 특징인 레티클 스테이지.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990028667A KR20010009997A (ko) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 레티클 스테이지 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019990028667A KR20010009997A (ko) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 레티클 스테이지 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20010009997A true KR20010009997A (ko) | 2001-02-05 |
Family
ID=19602014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990028667A KR20010009997A (ko) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 레티클 스테이지 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20010009997A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100855527B1 (ko) * | 2001-02-13 | 2008-09-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 유지장치, 유지방법, 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
KR101025086B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2011-03-25 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 지지기구 및 지지기구를 사용한 마스크 스테이지 |
US9964862B2 (en) | 2015-11-27 | 2018-05-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Apparatus and method for bearing a lithography mask |
-
1999
- 1999-07-15 KR KR1019990028667A patent/KR20010009997A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102015015423B4 (de) | 2015-11-27 | 2018-07-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Lagern einer Lithographiemaske |
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