KR20010004157A - Method for fabricating back panel of plasma display panel - Google Patents

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KR20010004157A
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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a back panel of a plasma display panel is provided to prevent a misalign between a barrier rib and an address electrode and to prevent damage of the address electrode without forming an additional protection layer during the barrier rib forming process using a sandblast method. CONSTITUTION: A method for manufacturing a back panel of a plasma display panel comprises the following steps. The first step is to form a barrier rib(11) on one surface of a glass substrate(10) by using a sandblast method, a screen print method, an additive method or a press method. The second step is to form a positive photoresist on the other surface of the glass substrate(10). The third step is to expose the positive photoresist by using the barrier rib as a mask. The fourth step is to form a trench of a predetermined depth by etching the glass substrate(10). The fifth step is to fill an electrode material(13) for an address electrode into the trench and remove the photoresist. Therefore, the address electrode is not damaged because it is positioned under the barrier rib(11) and an additional address electrode protection layer is unnecessary. A misalign between the barrier rib(11) and the address electrode can be prevented because the barrier rib(11) is used as the exposing mask during the address electrode forming process.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법{Method for fabricating back panel of plasma display panel}Method for fabricating back panel of plasma display panel {Method for fabricating back panel of plasma display panel}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 제조 기술에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판(back panel) 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) manufacturing technology, and more particularly, to a method for manufacturing a back panel of a plasma display panel.

PDP는 기체 방전시에 생기는 플라즈마로부터 나오는 빛을 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 소자로 기체 방전 표시(gas discharge display) 소자라고도 부른다. PDP는 크게 플라즈마를 형성하기 위해 외부에서 가해주는 전압인가를 위해 사용되는 전극이 플라즈마에 직접 노출이 되어 전도전류가 전극을 통해 직접 흐르는 직류(DC)형과 전극이 유전체로 덮여 있어 직접 노출이 되지 않아 변위전류가 흐르게 되는 교류(AC)형으로 구분된다. 그리고, 방전 셀의 전극구조에 따라 대향 방전형, 표면 방전형, 격벽 방전형 등으로 분류가 되며, 방전가스로부터 나오는 가시광을 직접 이용하는 경우는 대부분 단색표시 PDP 소자에서 이용되는데, 대표적인 것으로 Ne 가스에서 나오는 오렌지색을 이용한 PDP가 있으며, 풀 칼라(full color) 표시가 요구될 경우, Kr이나 Xe와 같은 방전가스로부터 나오는 자외선이 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체를 여기시켜 나오는 가시광을 이용하게 된다. 다양한 평판 디스플레이 중에서도 PDP는 대화면의 구현이 가능한 표시소자로서 주목되고 있으나, 아직까지 휘도와 명암비가 낮고, 구동전압이 타 소자에 비해 높고 전력 소비 효율이 낮으며, 대형화에 따른 제조 공정기술이 까다로워 생산 수율이 낮은 문제점들이 있어 상기의 특성의 개선과 더불어 저가격화가 이루어져야 하는 과제를 안고 있다.PDP is a device that displays characters or images by using light emitted from plasma generated during gas discharge, and is also called a gas discharge display device. PDP is largely exposed to direct plasma because the electrode used to apply external voltage to form plasma is directly exposed because the direct current (DC) type and conduction current flowing through the electrode are covered with dielectric. Therefore, it is classified into AC type through which displacement current flows. In addition, according to the electrode structure of the discharge cell, it is classified into a counter discharge type, a surface discharge type, a barrier discharge type, and the like. In the case of directly using the visible light emitted from the discharge gas, it is mostly used in a monochromatic display PDP device. There is a PDP using orange color, and when full color display is required, ultraviolet light emitted from discharge gas such as Kr or Xe excites red (R), green (G) and blue (B) phosphors. Visible light is used. Among various flat panel displays, PDP is attracting attention as a display device that can realize a large screen, but it is still produced due to low brightness and contrast ratio, high driving voltage, low power consumption efficiency, and difficult manufacturing process technology due to large size. There is a problem that the yield is low, there is a problem that the low price should be made in addition to the improvement of the above characteristics.

현재 주류를 이루고 있는 면방전형 AC PDP의 경우, 전면판에는 투명 전극, 버스 전극, 투명 유전체, 유전체 보호막, 블랙 스트라이프(black stripe) 등이 형성되며, 배면판에는 어드레스 전극, 백색 유전체, 격벽 등이 형성된다. PDP에서 색상을 구현하기 위한 형광체는 투과형의 경우는 전면판에, 반사형의 경우는 배면판에 형성되어 진다. 이러한 구성을 가지는 PDP의 배면판에서 어드레스 전극은 격벽과 격벽 사이에 정확히 위치하여야만 원하는 셀(cell)의 방전을 용이하게 얻을 수 있게 된다.In the case of the surface discharge type AC PDP which is currently mainstream, a transparent electrode, a bus electrode, a transparent dielectric, a dielectric protective film, and a black stripe are formed on the front plate, and an address electrode, a white dielectric, a partition wall, etc. are formed on the back plate. Is formed. Phosphors for realizing color in the PDP are formed on the front plate for the transmissive type and on the back plate for the reflective type. In the back plate of the PDP having such a configuration, the address electrode must be located exactly between the partition walls and the partition walls to easily obtain discharge of a desired cell.

그러나, 어드레스 전극 형성시의 소성 공정을 비롯한 열공정에 의해 유리기판의 변형이 유발되고, 이로 인하여 어드레스 전극과 격벽의 정렬이 중요한 이슈(issue)로 대두되고 있다. 더구나, 유리기판의 대형화 및 고해상도 추세에 따라 이러한 격벽 및 전극의 정렬 문제는 향후 대형의 고정세화 PDP 제조시 더욱더 큰 문제를 유발하게 될 것이다.However, deformation of the glass substrate is caused by a thermal process including a firing process in forming the address electrode, which causes the alignment of the address electrode and the partition wall to become an important issue. Moreover, in accordance with the trend toward larger glass substrates and higher resolution, such barrier and electrode alignment problems will lead to greater problems in the manufacture of large, high-resolution PDPs in the future.

한편, 최근 각광 받고 있는 샌드 블래스트(sand blast)법 등을 이용하여 격벽을 형성하는 경우, 현재는 어드레스 전극 상에 보호층을 추가로 형성하여 전극의 손상을 방지하고자 하나, 공정을 복잡화하는 문제점과 보호층 형성을 위한 소정 공정에 의해 추가적인 유리기판의 변형이 일어나는 문제점이 있다.On the other hand, in the case of forming a partition wall using a sand blast method, etc., which has recently been in the spotlight, currently, an additional protective layer is formed on the address electrode to prevent damage to the electrode. There is a problem that deformation of the additional glass substrate occurs by a predetermined process for forming a protective layer.

본 발명은 격벽과 어드레스 전극의 오정렬을 방지하며, 샌드 블래스트법을 이용한 격벽 형성시에도 추가적인 보호층의 형성 없이 어드레스 전극의 손상을 방지할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention provides a method of manufacturing a back panel of a plasma display panel which prevents misalignment of a partition wall and an address electrode and prevents damage to the address electrode without forming an additional protective layer even when a partition wall is formed using a sand blast method. There is this.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 면방전형 AC PDP의 배면판 제조 공정도.1 to 6 is a rear plate manufacturing process diagram of the surface discharge AC PDP according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 유리기판10: glass substrate

11 : 격벽11: bulkhead

12 : 포토레지스트12: photoresist

13 : 어드레스 전극용 전극재료13: electrode material for address electrode

R, G, B : 형광체R, G, B: phosphor

본 발명은 어드레스 전극 형성에 앞서 격벽을 형성하고, 형성된 격벽을 이용하여 어드레스 전극을 형성함으로써 어드레스 전극 형성시의 소성 공정에 수반되는 유리기판의 변형으로 인한 격벽과 어드레스 전극의 오정렬(misalign)을 방지하며, 격벽과 어드레스 전극을 각각 유리기판의 다른 면에 형성함으로써 샌드 블래스트(sand blast)법을 이용한 격벽 형성 공정시에도 추가의 전극 보호막 형성공정 없이 어드레스 전극의 손상을 방지하는 기술이다. 이때, 사용되는 유리기판의 두께 및 조성은 유전 특성 등을 고려하게 설계된다.The present invention prevents misalignment of barrier ribs and address electrodes due to deformation of the glass substrate accompanying the firing process in forming the address electrodes by forming barrier ribs before forming the address electrodes and forming the address electrodes using the formed barrier ribs. In addition, the barrier rib and the address electrode are formed on the other side of the glass substrate, respectively, to prevent damage to the address electrode without an additional electrode protective layer forming process even during the barrier rib forming process using a sand blast method. At this time, the thickness and composition of the glass substrate to be used is designed to consider the dielectric properties.

상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 특징적인 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법은, 유리기판의 전면에 격벽을 형성하는 단계; 상기 유리기판의 배면에 포지티브 포토레지스트를 형성하는 단계; 상기 격벽을 마스크로 사용하여 상기 포지티브 포토레지스트를 노광하는 단계; 상기 포지티브 포토레지스트를 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 유리기판의 배면을 소정 깊이만큼 식각하여 트렌치를 형성하는 단계; 및 상기 트렌치 내에 어드레스 전극용 물질을 매립하는 단계를 포함하여 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a back plate of a plasma display panel, the method including: forming a barrier rib on a front surface of a glass substrate; Forming a positive photoresist on a rear surface of the glass substrate; Exposing the positive photoresist using the barrier as a mask; Developing the positive photoresist to form a photoresist pattern; Forming a trench by etching the back surface of the glass substrate by a predetermined depth using the photoresist pattern as an etching mask; And embedding a material for an address electrode in the trench.

상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판은, 유리기판; 상기 유리기판의 전면에 제공되는 격벽; 및 상기 격벽에 오버랩된 영역을 제외한 상기 유리기판의 배면에 매립되어 제공되는 어드레스 전극을 구비한다.The back plate of the plasma display panel of the present invention for achieving the above technical problem, the glass substrate; A partition provided on the front surface of the glass substrate; And an address electrode embedded in a rear surface of the glass substrate except for an area overlapped with the partition wall.

이하, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 보다 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예를 소개하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be introduced in order to enable those skilled in the art to more easily carry out the present invention.

첨부된 도면 도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 면방전형 AC PDP의 배면판 제조 공정을 도시한 것으로, 이하 이를 참조하여 설명한다.1 to 6 illustrate a back plate manufacturing process of a surface discharge type AC PDP according to an embodiment of the present invention, which will be described with reference to the following.

본 실시예에 따른 공정은 우선, 도 1에 도시된 바와 같이 배면판용 유리기판(10)의 일면에 샌드 블래스트법을 사용하여 격벽(11)을 형성한다. 이때, 샌드 블래스트법은 격벽용 페이스트(paste) 형성, 포토레지스트 부착, 노광/현상, 식각 및 포토레지스트 박리 공정을 통해 이루어지며, 샌드 블래스트법 외에 스크린 인쇄법, 애디티브(additive)법, 포토 매립법, 프레스(press)법 등을 사용하여 격벽(11)을 형성할 수 있다.In the process according to the present embodiment, first, as shown in FIG. 1, the partition 11 is formed on one surface of the glass substrate 10 for the back plate by using the sand blasting method. In this case, the sand blasting method is formed through the formation of a barrier paste, photoresist deposition, exposure / development, etching and photoresist peeling, and in addition to the sand blasting method, screen printing, additive, photo-filling methods The partition 11 can be formed using a press method or the like.

다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이 유리기판(10)의 배면(격벽이 형성된 면의 반대면)에 포지티브 포토레지스트(12)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 2, the positive photoresist 12 is formed on the rear surface of the glass substrate 10 (opposite to the surface on which the partition wall is formed).

이어서, 도 3에 도시된 바와 같이 격벽(11)을 마스크로 사용하여 노광을 실시한다. 즉, 격벽(11)이 형성된 유리기판(10)의 일면쪽에서 노광을 실시한다.Next, as shown in FIG. 3, exposure is performed using the partition 11 as a mask. That is, exposure is performed on one surface side of the glass substrate 10 on which the partition wall 11 is formed.

다음으로, 도 4에 도시된 바와 같이 현상을 실시하여 포토레지스트(12)를 패터닝 한다. 이때, 패터닝된 포토레지스트(12)는 격벽(11)에 정확하게 오버랩된다. 이어서, 패터닝된 포토레지스트(12)를 식각 마스크로 사용하여 유리기판(11)을 식각하여 소정 깊이의 트렌치를 형성한다.Next, as shown in FIG. 4, development is performed to pattern the photoresist 12. At this time, the patterned photoresist 12 accurately overlaps the partition 11. Subsequently, the glass substrate 11 is etched using the patterned photoresist 12 as an etching mask to form a trench having a predetermined depth.

계속하여, 도 5에 도시된 바와 같이 어드레스 전극용 전극재료(13)를 트렌치 내에 충진시키고, 포토레지스트(12)를 제거한다.Subsequently, as shown in FIG. 5, the electrode material 13 for the address electrode is filled in the trench, and the photoresist 12 is removed.

도 6은 형광체(R, G, B)까지 형성하여 배면판 제조 공정을 완료한 상태를 나타낸 것으로, 투과형인 경우 형광체(R, G, B)는 전면판에 형성된다.FIG. 6 illustrates a state in which the back plate manufacturing process is completed by forming the phosphors R, G, and B. In the case of a transmissive type, the phosphors R, G, and B are formed on the front plate.

이상의 공정을 진행하게 되면, 우선 상기 도 1을 참조하여, 샌드 블래스트법을 이용하여 격벽(11)을 형성하더라도 그 하부에 어드레스 전극이 위치하지 않으므로 어드레스 전극이 손상될 염려가 없다. 따라서, 추가적인 어드레스 전극 보호층을 필요로 하지 않게 된다.In the above process, first, referring to FIG. 1, even if the partition wall 11 is formed by using the sand blasting method, since the address electrode is not located below the address electrode, there is no fear of damaging the address electrode. Thus, no additional address electrode protective layer is required.

그리고, 상기 도 3에 도시된 바와 같이 어드레스 전극 형성시 격벽(11)을 노광 마스크로 사용하므로 오정렬의 가능성이 희박해진다. 따라서, 어드레스 전극 형성 후 소성 공정을 실시하여 유리기판(10)에 변형이 일어나더라도 이미 격벽이 형성되어 있으므로 큰 문제를 일으키지 않게 된다.As shown in FIG. 3, since the partition 11 is used as an exposure mask when forming the address electrode, the possibility of misalignment becomes slim. Therefore, even if the glass substrate 10 is deformed by performing the firing process after the address electrode is formed, the partition wall is already formed so that it does not cause a big problem.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes can be made in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary knowledge.

전술한 본 발명은 어드레스 전극 형성시의 소성 공정에 수반되는 유리기판의 변형으로 인한 격벽과 어드레스 전극의 오정렬을 방지하는 효과가 있으며, 샌드 블래스트(sand blast)법을 이용한 격벽 형성 공정시에도 추가의 전극 보호막 형성공정 없이 어드레스 전극의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention described above has an effect of preventing misalignment of barrier ribs and address electrodes due to deformation of the glass substrate accompanying the firing process at the time of forming the address electrode, and additionally during the barrier rib forming process using a sand blast method. There is an effect that it is possible to prevent damage to the address electrode without forming an electrode protective film.

Claims (3)

유리기판의 전면에 격벽을 형성하는 단계;Forming a partition on a front surface of the glass substrate; 상기 유리기판의 배면에 포지티브 포토레지스트를 형성하는 단계;Forming a positive photoresist on a rear surface of the glass substrate; 상기 격벽을 마스크로 사용하여 상기 포지티브 포토레지스트를 노광하는 단계;Exposing the positive photoresist using the barrier as a mask; 상기 포지티브 포토레지스트를 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;Developing the positive photoresist to form a photoresist pattern; 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 상기 유리기판의 배면을 소정 깊이만큼 식각하여 트렌치를 형성하는 단계; 및Forming a trench by etching the back surface of the glass substrate by a predetermined depth using the photoresist pattern as an etching mask; And 상기 트렌치 내에 어드레스 전극용 물질을 매립하는 단계Embedding a material for an address electrode in the trench 를 포함하여 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.Back plate manufacturing method of the plasma display panel comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 어드레스 전극용 물질을 매립하는 단계 수행 후,After the step of filling the material for the address electrode, 상기 격벽 내에 형광체를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.The method of manufacturing a back plate of the plasma display panel further comprising the step of applying a phosphor in the partition wall. 유리기판;Glass substrates; 상기 유리기판의 전면에 제공되는 격벽; 및A partition provided on the front surface of the glass substrate; And 상기 격벽에 오버랩된 영역을 제외한 상기 유리기판의 배면에 매립되어 제공되는 어드레스 전극An address electrode buried in the rear surface of the glass substrate except for the region overlapping the partition wall 을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판.A back plate of the plasma display panel having a.
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