KR20000060200A - Manufacturing method of silica glass for sol-gel process - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method for silica glass for sol-gel process is provided to remove the air that remains in the silica glass, so that the density and the transparency can be improved. CONSTITUTION: A manufacturing method for silica glass comprises the steps of; making sol by mixing silica, dispersing agent, gelling agent, deionized water and binding agent; removing the seed of sol and molding and then gelling; demolding and drying the gel; removing an organic matter from the dried gel by treating with heat at temperatures of 300-600°C and then removing the hydroxyl group; removing the residual gas in vacuum state, and repeating the process of pumping an inert gas; treating with heat in helium gas at temperatures of 1100-1400°C, so that the purity of silica glass is improved.

Description

졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법{Manufacturing method of silica glass for sol-gel process}Manufacturing method of silica glass for sol-gel process

본 발명은 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 실리카 글래스내에 잔존하는 공기를 제거하여 밀도 및 투명도 특성을 개선시킨 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing silica glass for sol-gel process, and more particularly, to a method for preparing silica glass for sol-gel process, which improves density and transparency characteristics by removing air remaining in silica glass. .

졸-겔 공정은 액상 공정으로서 생산성이 높고 제품의 조성을 자유롭게 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 공정이 전반적으로 저온에서 이루어지므로 경제성이 높아서 광섬유나 반도체용 고순도 실리카 글래스를 제조할 때 매우 유용한 방법이다.The sol-gel process is a liquid phase process, which has high productivity and can freely control the composition of the product, and because the process is generally performed at a low temperature, it is very economical and is very useful when manufacturing high purity silica glass for optical fibers or semiconductors.

이하, 졸-겔 공정을 이용하여 실리카 글래스된 오버클래딩 튜브를 제조하는 방법을 간략하게 살펴보면, 다음과 같다.Hereinafter, a brief description of a method of manufacturing a silica glass overcladding tube using a sol-gel process is as follows.

먼저, 실리카 입자를 물에 분산하여 졸을 형성한다. 형성된 졸을 소정시간동안 방치하여 숙성시킨다. 이어서, 숙성된 졸을 몰드에 부어 겔화시킨다. 겔화가 완결되면, 몰드로부터 겔을 분리해낸 다음, 건조시킨다.First, silica particles are dispersed in water to form a sol. The sol formed is left to mature for a predetermined time. The aged sol is then poured into a mold and gelated. Once gelling is complete, the gel is separated from the mold and then dried.

그 후, 건조된 겔을 1차 열처리하여 겔내의 유기물을 제거한다. 이어서, 유기물이 제거된 겔을 공기 분위기, 상온에서 소정시간동안 방치시킨 다음, 수산기를 제거하여 유리화시킨다.Thereafter, the dried gel is first heat treated to remove organic matter in the gel. Subsequently, the gel from which the organic matter is removed is left to stand for a predetermined time in an air atmosphere and room temperature, and then vitrified by removing the hydroxyl group.

그 후, 얻어진 결과물을 소결 반응을 실시하여 실리카 글래스된 오버클래딩 튜브를 완성한다.Thereafter, the resultant product is subjected to a sintering reaction to complete a silica glass overcladding tube.

상술한 바와 같이 졸내의 유기물 제거후 유리화시키기 이전에 공기 분위기, 상온에서 방치하는 과정을 거치는 것이 통상적이다. 그런데, 이와 같은 과정으로 인하여 최종적으로 얻어진 실리카 글래스 튜브내에 미세 버블(bubble)이 일부 잔존하여 백탁 현상을 일으키고, 이로 인하여 실리카 글래스 튜브의 투명도 특성이 저하되면서 성형밀도 특성이 저하되는 문제점이 있다.As described above, after removing the organic substances in the sol, it is common to undergo a process of leaving the mixture in an air atmosphere and room temperature before vitrification. However, due to such a process, some of the fine bubbles remain in the finally obtained silica glass tube, causing cloudiness, thereby degrading the transparency characteristics of the silica glass tube, thereby deteriorating the molding density characteristics.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기 문제점을 해결하여 실리카 글래스의 투명도와 성형밀도 특성이 개선된 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the above problems to provide a method for producing a silica glass for sol-gel process with improved transparency and molding density characteristics of the silica glass.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명에서는. (a) 실리카, 분산제, 결합제, 겔화제 및 탈이온수를 혼합하여 졸을 형성하는 단계;In the present invention to achieve the above technical problem. (a) mixing silica, dispersant, binder, gelling agent and deionized water to form a sol;

(b) 형성된 졸로부터 기포를 제거한 다음, 이를 몰딩하여 겔화시키는 단계;(b) removing the bubbles from the formed sol and then molding and gelling;

(c) 얻어진 겔을 디몰딩하여 건조시키는 단계;(c) demolding the obtained gel to dry it;

(d) 건조된 겔로부터 유기물을 제거한 다음, 수산기를 제거하는 단계;(d) removing organics from the dried gel and then removing hydroxyl groups;

(e) 진공조건하에서 잔류 가스를 제거하는 과정과 불활성 가스 투입 과정을 수차례 반복하는 단계; 및(e) repeating the process of removing residual gas and adding an inert gas under vacuum conditions several times; And

(f) 상기 결과물을 소결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법을 제공한다.(F) provides a method for producing a silica glass for sol-gel process comprising the step of sintering the result.

상기 (d) 단계에서 불활성 가스로는 아르곤, 질소 또는 헬륨 가스를 사용한다.Argon, nitrogen or helium gas is used as the inert gas in step (d).

바람직하게는, 상기 (d) 단계의 유기물 제거 과정은 300 내지 600℃에서 열처리함으로써 이루어진다. 그리고 상기 (d) 단계의 수산기 제거 과정은 염소 가스 분위기하, 500 내지 1000℃에서 열처리함으로써 이루어지고, (f) 단계의 소결 과정은 헬륨 가스 분위기하, 1100 내지 1400℃에서 열처리함으로써 이루어지는 것이 바람직하다.Preferably, the organic material removal process of step (d) is performed by heat treatment at 300 to 600 ℃. And the step of removing the hydroxyl group of the step (d) is made by heat treatment at 500 to 1000 ℃ in a chlorine gas atmosphere, and the sintering process of (f) is preferably made by heat treatment at 1100 to 1400 ℃ under a helium gas atmosphere. .

본 발명에 따른 제조방법은 겔내의 유기물과 수산기를 제거한 이후 그리고 겔의 유리화 단계 이전에 실시되는 겔의 유리화 전처리과정에서 사용된 공기가 유리화과정 및 그 후속공정에 잔존하여 악영향을 미치는 것을 억제하기 위하여 유리화 이전에 공기를 효율적으로 제거하는 방법을 제공하는 데 그 특징이 있다. 여기에서 본 발명에서는 공기를 효율적으로 제거하기 위한 방법으로서 진공펌프를 이용하여 잔류 가스를 제거하는 과정과 불활성 가스를 투입하는 과정을 수차례 반복하는 방법을 사용하며, 이로써 유리화 시키기 위한 프로세스 튜브안의 분위기를 불활성 분위기로 만들어주게 되어 치밀한 상태의 실리카 글래스 튜브를 얻을 수 있게 된다.The production method according to the present invention is intended to suppress the adverse effects of air remaining in the vitrification process and subsequent processes after the removal of organic matter and hydroxyl groups in the gel and before the vitrification step of the gel. It is a feature to provide a method of efficiently removing air prior to vitrification. In the present invention, as a method for efficiently removing air, a method of repeatedly removing a residual gas and a process of adding an inert gas by using a vacuum pump is used, and thus the atmosphere in the process tube for vitrification. Into the inert atmosphere it is possible to obtain a dense silica glass tube.

상술한 특징을 갖는 본 발명에 따른 실리카 글래스의 제조방법에 대하여 보다 자세히 설명하기로 한다.The method for producing silica glass according to the present invention having the above-described characteristics will be described in more detail.

먼저, 실리카, 첨가제 및 탈이온수를 혼합한 다음, 졸을 형성한다. 이어서, 진공펌프를 이용하여 졸로부터 기포를 제거한다.First, silica, additives and deionized water are mixed and then a sol is formed. Subsequently, bubbles are removed from the sol using a vacuum pump.

상기 첨가제는 특별히 한정되지 않으나, 분산제, 결합제, 가소제, 겔화제 등을 사용한다. 여기에서 상기 분산제, 결합제, 가소제 및 겔화제로는 실리카 글래스 제조시 통상적으로 사용되는 물질이라면 특별히 제한되지는 않는다. 그리고 각 물질들의 함량도 통상적인 수준이다.Although the said additive is not specifically limited, A dispersing agent, a binder, a plasticizer, a gelling agent, etc. are used. Herein, the dispersant, binder, plasticizer, and gelling agent are not particularly limited as long as they are materials commonly used in the production of silica glass. And the content of each substance is also normal.

겔화제는 포름산(formic acid), 락트산(lactic acid) 및 글리콜산(glycolic acid)으로 이루어진 군으로부터 선택된 산의 수용성 지방족 에스테르로서, 구체적인 예로서 포름산 메틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸 등이 있다. 그리고 분산제로는 4급 암모늄 하이드록사이드인 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드를 사용한다. 이러한 물질은 실리카가 조성물내에서 균일하게 분산되는 것을 도울 뿐만 아니라 실리카가 분산된 졸을 정전기적으로 안정화시키는 역할을 한다.The gelling agent is a water-soluble aliphatic ester of an acid selected from the group consisting of formic acid, lactic acid and glycolic acid, and specific examples thereof include methyl formate, methyl lactate, ethyl lactate, and the like. As the dispersant, tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide which are quaternary ammonium hydroxides are used. These materials not only help the silica to be uniformly dispersed in the composition, but also serve to electrostatically stabilize the sol in which the silica is dispersed.

또한, 가소제로는 다가알콜(polyhydric alcohol)을 사용한다. 구체적인 예로는 글리세린(glycerin), 에틸렌글리콜, 2-메틸프로판-1,2,3-트리올 등이 있다. 그리고 결합제로는 폴리에틸옥사졸린, 폴리비닐아세테이트 등을 사용한다.In addition, a polyhydric alcohol (polyhydric alcohol) is used as a plasticizer. Specific examples include glycerin, ethylene glycol, 2-methylpropane-1,2,3-triol, and the like. As the binder, polyethyloxazoline, polyvinylacetate, or the like is used.

상기 과정에 따라 형성된 졸을 몰딩시킨 다음, 겔화시킨다. 이어서, 소정기간이 경과하여 겔화가 완결되면, 겔화된 결과물을 디몰딩한다.The sol formed according to the above procedure is molded and then gelled. Subsequently, when the gelation is completed after a predetermined period of time, the gelled resultant is de-molded.

그리고 나서, 디몰딩된 겔을 온도 30∼80℃, 상대습도 65∼80%에서 건조한다.The demolded gel is then dried at a temperature of 30-80 ° C. and a relative humidity of 65-80%.

이어서, 건조된 겔을 300∼600℃에서 열처리하여 겔내에 남아있는 유기물을 제거한다. 이어서, 겔을 유리화시키기 위하여 500 내지 1000℃ 승온하여 소정시간동안 열처리한다. 이러한 열처리 과정은 염소 가스 분위기하에서 실시하며 이 과정에서 잔류 수산화기가 제거된다.The dried gel is then heat treated at 300 to 600 ° C. to remove the organics remaining in the gel. Subsequently, in order to vitrify the gel, the gel is heated at 500 to 1000 ° C. for a predetermined time. This heat treatment is carried out in a chlorine gas atmosphere in which residual hydroxyl groups are removed.

그리고 나서, 상기 결과물을 상온, 공기중에서 소정시간동안 방치한다.Then, the resultant is allowed to stand at room temperature and in air for a predetermined time.

그 후, 진공펌프를 이용하여 프로세스 튜브안에 존재하는 가스를 제거하고 나서 불활성 가스를 투입한다. 이러한 가스 제거 과정과 불활성 가스 투입 과정을 수차례 바람직하게는 2 내지 3회 반복하여 프로세스 튜브안의 분위기를 불활성 가스 분위기로 조성한다.Thereafter, the gas existing in the process tube is removed using a vacuum pump, and then an inert gas is added thereto. This degassing process and inert gas charging process are repeated several times, preferably two to three times, to form an atmosphere in the process tube as an inert gas atmosphere.

그리고 나서, 상기 결과물을 헬륨 가스 분위기하에서 1100 내지 1400℃로 승온하고(승온속도:100℃/hr) 약 5시간동안 열처리함으로써 실리카 글래스 튜브를 완성한다.The resultant is then heated to 1100 to 1400 ° C. (heating rate: 100 ° C./hr) in a helium gas atmosphere and heat treated for about 5 hours to complete the silica glass tube.

상술한 실리카 글래스 제조방법은 실리카 글래스 오버클래딩 튜브의 규격에 상관없이 모두 유용하게 적용할 수 있는 방법이다.The silica glass manufacturing method described above is a method that can be usefully applied regardless of the specifications of the silica glass overcladding tube.

실시예 1Example 1

퓸 실리카(Aerosil OX-50, Degussa사) 500g, 25중량%의 테트라메틸암모늄 하이드록사이드(tetraammonium hydroxide: TMAH) 수용액 52㎖, 탈이온수 500g, 에틸 락테이트 60g 및 폴리에틸옥사졸린 2.1g를 혼합하여 졸을 형성하였다.500 g of fume silica (Aerosil OX-50, Degussa), 52 ml of 25 wt% tetraammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution, 500 g deionized water, 60 g ethyl lactate and 2.1 g polyethyloxazoline are mixed To form a sol.

이어서, 상기 졸을 15시간동안 숙성하고 나서 진공펌프를 이용하여 상기 졸로부터 기포를 제거하였다. 이렇게 기포가 제거된 졸을 몰드에 부어 겔화시켰다.The sol was then aged for 15 hours and then bubbled from the sol using a vacuum pump. This bubble-free sol was poured into a mold and gelated.

겔화가 완결되면, 몰드로부터 습윤 겔을 꺼내어 항온항습기에서 30℃, 80 RH%에서 4일동안 건조하였다.Once gelling was complete, the wet gel was removed from the mold and dried for 4 days at 30 ° C. and 80 RH% in a thermo-hygrostat.

이어서, 건조된 겔을 약 500℃까지 승온하여(승온속도:50℃/hr) 이 온도에서 5시간동안 열처리하여 겔내에 함유된 유기물을 제거한 다음, 염소(Cl2) 가스 분위기하에서 약 1000℃(승온 속도: 100℃/hr)에서 5시간동안 열처리하여 겔내의 잔류 수산기를 제거하였다. 이어서 산소(O2) 가스 및 헬륨 가스를 이용하여 약 500℃에서 잔존하는 염소 가스를 제거하였다. 그리고 나서, 공기중, 상온에서 24시간동안 방치하였다.Subsequently, the dried gel is heated up to about 500 ° C. (raising rate: 50 ° C./hr) and heat-treated at this temperature for 5 hours to remove organic matter contained in the gel, and then, at about 1000 ° C. under a chlorine (Cl 2 ) gas atmosphere. Heating rate: 100 ° C./hr) for 5 hours to remove residual hydroxyl groups in the gel. Subsequently, residual chlorine gas was removed at about 500 ° C. using oxygen (O 2 ) gas and helium gas. Then, it was left for 24 hours at room temperature in the air.

그 후, 진공펌프를 이용하여 잔류 가스를 제거한 다음, 헬륨 가스를 투입하였다. 이 과정을 2 내지 3회 반복하였다.Then, the residual gas was removed using a vacuum pump, and then helium gas was added. This process was repeated 2-3 times.

상기 결과물을 헬륨 분위기하, 약 1400℃(승온 속도: 100℃/hr)에서 4시간동안 소결함으로써 실리카 글래스 튜브를 완성하였다. 이 때 실리카 글래스 튜브의 내경은 22mm, 외경은 67mm, 길이 1000mm이었다.The resultant was sintered at about 1400 ° C. (heating rate: 100 ° C./hr) for 4 hours under a helium atmosphere to complete a silica glass tube. At this time, the inner diameter of the silica glass tube was 22 mm, the outer diameter was 67 mm, and the length was 1000 mm.

실시예 2Example 2

헬륨 가스 대신 아르곤 가스를 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 실리카 글래스 튜브를 제조하였다.A silica glass tube was prepared in the same manner as in Example 1 and Example 1, except that argon gas was used instead of helium gas.

실시예 3Example 3

헬륨 가스 대신 질소 가스를 이용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 실리카 글래스 튜브를 제조하였다.Silica glass tubes were prepared in the same manner as in Example 1 and Example 1, except that nitrogen gas was used instead of helium gas.

비교예Comparative example

진공펌프를 이용하여 잔류 가스를 제거한 다음, 헬륨 가스를 투입하는 과정을 생략하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 실리카 글래스 튜브를 제조하였다.Silica glass tubes were prepared in the same manner as in Example 1, except that residual gas was removed using a vacuum pump, and then a process of adding helium gas was omitted.

상기 실시예 1-3 및 비교예에 따라 제조된 실리카 글래스 튜브의 성형밀도 및 투명도를 측정하였다.Molding density and transparency of the silica glass tubes prepared according to Examples 1-3 and Comparative Examples were measured.

측정 결과, 상기 실시예 1-3에 따라 제조된 실리카 글래스 튜브는 비교예의 경우에 비하여 치밀화된 상태로서 성형밀도가 높아졌다. 그리고 비교예에 따라 제조된 실리카 글래스 튜브는 미세 버블로 인하여 육안으로 관찰해 볼 때 전체적으로 뿌옇게 보이는데 반하여 실시예 1-3에 따라 제조된 실리카 글래스 튜브는 이러한 현상이 나타나지 않는 것으로 보아 투명도 특성이 개선된다는 것을 확인할 수 있었다.As a result of the measurement, the silica glass tube manufactured according to Example 1-3 had a higher compaction density as a densified state than in the comparative example. In addition, the silica glass tube prepared according to the comparative example appears to be generally cloudy when visually observed due to fine bubbles, whereas the silica glass tube prepared according to Examples 1-3 does not appear to exhibit such a phenomenon, thereby improving transparency characteristics. I could confirm that.

본 발명에 따르면, 겔내에 잔존하는 공기를 제거함으로써 보다 치밀화됨으로써 성형밀도 특성이 향상되면서 투명도 특성이 개선된 실리카 글래스를 얻을 수 있다.According to the present invention, it is possible to obtain silica glass having improved densification characteristics while improving mold density characteristics by densifying by removing air remaining in the gel.

Claims (5)

(a) 실리카, 분산제, 결합제, 겔화제 및 탈이온수를 혼합하여 졸을 형성하는 단계;(a) mixing silica, dispersant, binder, gelling agent and deionized water to form a sol; (b) 형성된 졸로부터 기포를 제거한 다음, 이를 몰딩하여 겔화시키는 단계;(b) removing the bubbles from the formed sol and then molding and gelling; (c) 얻어진 겔을 디몰딩하여 건조시키는 단계;(c) demolding the obtained gel to dry it; (d) 건조된 겔로부터 유기물을 제거한 다음, 수산기를 제거하는 단계;(d) removing organics from the dried gel and then removing hydroxyl groups; (e) 진공조건하에서 잔류 가스를 제거하는 과정과 불활성 가스 투입 과정을 수차례 반복하는 단계; 및(e) repeating the process of removing residual gas and adding an inert gas under vacuum conditions several times; And (f) 상기 결과물을 소결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법.(f) a method for producing silica glass for sol-gel process comprising the step of sintering the resultant. 제1항에 있어서, 상기 불활성 가스가 헬륨, 질소 또는 아르곤 가스인 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법.The method of claim 1, wherein the inert gas is helium, nitrogen, or argon gas. 제1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 유기물 제거 과정이 300 내지 600℃에서 열처리함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법.The method of claim 1, wherein the step of removing the organic matter of step (d) is made by heat treatment at 300 to 600 ℃ sol-gel manufacturing method for silica glass. 제1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 수산기 제거 과정이 염소 가스 분위기하, 500 내지 1000℃에서 열처리함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법.The method of claim 1, wherein the hydroxyl group removing step (d) is performed by heat treatment at 500 to 1000 ° C. under a chlorine gas atmosphere. 제1항에 있어서, 상기 (f) 단계의 소결과정이 헬륨 가스 분위기하, 1100 내지 1400℃에서 열처리함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 졸-겔 공정용 실리카 글래스의 제조방법.The method of claim 1, wherein the sintering process of the step (f) is made by heat treatment at 1100 to 1400 ℃ under a helium gas atmosphere.
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