KR20000057980A - 버퍼 가스로서 네온을 이용하는 ｆ₂-레이저 - Google Patents
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Abstract
F2-레이저는 레이저 활성 성분으로서 플루오린 및 버퍼 가스로서 네온을 포함하는 레이저 가스 혼합물을 포함하는 방전 챔버를 갖는다. 가스 혼합물은 공진기에 의해 둘러싸여지며 전압원 회로에 연결된 한 쌍의 전극들에 의해 펄스화된 방전을 공급받는다. 가스 혼합물내의 네온의 농도는 바람직하게는 다른 어떠한 구성 가스보다 높으며, 더 바람직하게는 레이저 활성 분자 플루오린을 수반하는 전용 가스이다. 또한, 가스 혼합물은 바람직하게는, 방전 챔버 내에서 아웃개싱이 발생하는 온도보다는 낮지만 이 온도와 가까운 상승된 온도로 유지된다.
Description
본 발명은 효율적인 F2-레이저에 관한 것으로서, 특히 157㎚ 주위에서 개선된 성능을 나타내는 F2-레이저에 관한 것이다. 이러한 개선책은 주요 버퍼 가스로서 네온을 이용하고 더 높은 온도에서 가스를 활성화시킴으로써 달성된다.
특별한 타입의 가스 방전 레이저는 157㎚ 주위에서 하나 또는 그 이상의 선들을 포함하는 유익한 방출 스펙트럼을 갖는 F2-레이저이다. 이러한 단파장, 또는 높은 에너지(157㎚=약7.9eV)의 광자(photon) 방출은 포토리소그래피 응용에 있어서 유익한데, 이는 포토리소그래피를 이용하여 생산할 수 있는 최소 분해가능한 특징 크기를 나타내는 임계 치수(CD)가 파장에 비례하기 때문이다. 이는 더 작고 더 빠른 마이크로프로세서들 및 더 큰 용량의 DRAM들을 더 작은 패키지내에 실장할 수 있게 한다. 7.9eV 광자는 또한, 특히 석영, 합성 석영(SiO2), 테플론(PTFE), 및 실리콘과 같은 높은 밴드갭 물질에 쉽게 흡수되어, 광범위한 물질의 처리에 적용될 때 F2-레이저는 높은 전위를 갖게 된다.
F2-레이저의 구조 및 전기적인 여기(excitation)는 엑시머 레이저로서 알려진 다른 타입의 가스 방전 레이저와 다르다. 하나의 차이점은 엑시머 레이저의 레이저 가스가, 어떠한 바운드 그라운드 상태도 갖지 않거나 또는 기껏해야 미약한 바운드 그라운드 상태를 갖는 레이저 활성 구성 가스를 포함한다는 것이다. 엑시머 레이저의 레이저 활성 가스 모듈은 상부에서 하부 상태로의 광학적인 천이 시 그의 구성 원자 성분들로 분리된다. 반대로, 157㎚ 주위에서의 방출의 원인이 되는 F2-레이저의 레이저 활성 가스 구성 모듈(F2)은 접지 상태에 묶여 안정적이 된다. 이 경우, F2모듈은 상부에서 하부 상태로 광학 천이를 한 후에는 분리되지 않는다.
F2-레이저는 1977년 이후 공지되었다[예를 들어, Rice 등이 1977년 7월 1일자, Physics Letters, Vol. 31, No. 1에 발표한 "F2의 혼합물로부터의 VUV 방출 및 1575Å에서의 노블 가스들-A 방출(VUV Emissions from Mixtures of F2and the Noble Gases-A Molecular F2Laser at 1575 angstroms)" 참조] 그러나, 이전의 F2-레이저는 상대적으로 낮은 이득과 짧은 가스 수명을 나타내는 것으로 공지되어 왔다. 가령 펄스-대-펄스 안정성 및 레이저 튜브 수명과 같은 다른 파라미터들은 불만족스러웠다. 또한, 산소 및 물은 F2-레이저의 바람직한 157㎚ 방출 라인 근처에서 높은 흡수 횡단면을 나타내며, 그의 패스 경로 어딘가에서 레이저 빔을 만나게 되면 웨이퍼 전체 효율을 더 감소시킨다. 이러한 흡수를 막기위하여, F2-레이저를 산소 및 물이 없거나 또는 상대적으로 없도록 깨끗해지거나 비워진 빔 경로를 유지할 수 있지만, 이는 비용이 많이 들어 조작자에게 부담이 될 수도 있다. 요컨대, 포토리소그래피에 짧은 방출 파장을 이용하는 것이 바람직함에도 불구하고, F2-레이저는 오늘까지 실질적인 산업적인 응용을 거의 보여주지 못했다. 개선된 이득과, 더 긴 펄스 길이와, 펄스-대-펄스 안정성 및 증가된 수명을 갖는 F2-레이저를 구비하는 것이 바람직하다.
F2-모듈의 157㎚ 주위에서의 VUV 레이저 방사는 가시 스펙트럼의 붉은 영역 내에서의 다른 레이저 방사 출력에 의해 달성되는 것으로서 관찰되어 왔다. 이러한 가시광은 여기된 플루오린 원자(원자 천이)로부터 비롯된다. VUV 영역에서의 에너지를 최대화하기 위하여 가시 영역에서의 출력이 최소화되는 F2-레이저를 구비하는 것이 바람직하다.
F2-레이저 가스 혼합물 내의 활성 성분이 플루오린임에도 불구하고, 깨끗한 플루오린의 양은 가스 혼합물 내 부분 압력의 단지 약 5 내지 10 mbar에 이른다. 균일한 방전을 유지하기 위해서는 더 높은 전체 압력이 필요하다. 따라서, 깨끗하게 방전하고 157㎚ 방사를 효율적으로 출력하기 위해서는, 방전 용기 압력을 전형적으로 대기 압력보다 상당히 큰 압력(예를 들어, 3 내지 10 bars 또는 그 이상)으로 올리는 데에 버퍼 가스가 필요하다.
이러한 이유로, F2-레이저는 전형적으로 헬륨인 비활성 버퍼 가스를 포함하는 가스 혼합물을 갖는다. 그러나, 헬륨이 이용될 때, 붉은 가시 영역에서의 출력은 VUV 방사의 약 1 내지 3%의 범위가 될 수 있다. 또한, VUV 펄스 길이는 비교적 짧은 경향이 있다. 상기 설명한 바와 같이, 라인 선택 및 라인 협소화 성능 모두를 개선하기 위해서는 VUV 출력 펄스들의 길이를 증가시키고 가시 출력을 최소화하는 것이 바람직하다.
본 발명의 목적은 157㎚ 주위에서의 분자 플루오린 천이점에서 개선된 성능을 갖는 방전-펌프된 F2-레이저를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 157㎚ 주위에서의 바람직한 분자 플루오린 천이를 위하여 가시 영역에서의 출력이 감소되는 F2-레이저를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 라인 선택 및 라인 협소화가 이루어질 수 있도록 증가된 펄스 길이를 갖는 F2-레이저를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 더 큰 전체 에너지, 펄스-대-펄스 안정성, 더 긴 레이저 가스 및 레이저 튜브 수명을 갖는 F2-레이저를 제공하는 것이다.
본 발명의 상기 목적들 및 다른 목적들은 플루오린 및 네온을 포함하는 레이저 가스 혼합물을 포함하고 있는 방전 챔버를 구비한 F2-레이저를 제공함으로써 이루어진다. 가스 혼합물은 공진기에 의해 둘러싸여지며, 가스 혼합물의 레이저 활성 구성성분을 여기시키기 위하여 전압원에 연결된 한 쌍의 전극들에 의해 펄스화된 방전이 공급된다. 가스 혼합물 내의 네온의 농도는 바람직하게는 다른 어떠한 구성 가스 보다 더 높은 것이 바람직하며, 레이저 활성 플루오린을 수반하는 가스만이 될 수 있다. 또한, 가스 혼합물의 온도는 바람직하게는 높여진 레벨로 유지된다.
도 1은 본 발명에 따른 F2-레이저의 바람직한 실시예를 나타낸 도면.
도 2는 5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물, 및 3000 mbar의 헬륨으로 구성된 가스를 갖는 F2-레이저에 대하여 다른 충전 전압들에서의 반복률 대 VUV 출력 파워의 그래프를 나타낸 도면.
도 3은 5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물; 및 3000 mbar의 네온을 포함하며 어떠한 헬륨도 포함하지 않는 가스를 갖는 F2-레이저에 대하여 다른 충전 전압들에서의 반복률 대 VUV 출력 파워의 그래프를 나타낸 도면.
도 4는 5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물과, 2500 mbar의 헬륨 및 500 mbar의 네온으로 구성된 가스를 갖는 F2-레이저에 대하여 다른 충전 전압들에서의 반복률 대 VUV 출력 파워의 그래프를 나타낸 도면.
도 5는 157㎚ 분자 플루오린 천이를 보여주는 플루오린에 대한 에너지 레벨 다이어그램.
도 6은 본 발명에 따른 F2-레이저의 평균 출력 파워의 온도 의존성을 나타낸 도면.
도 7은 도 6 실험의 결과를 나타낸 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 방전 챔버 2, 3 : 공진기 옵틱
4: 에너지 모니터 5: 출력 빔
6: 펄스 발생 회로 7: 가스 제어 박스
8: 가스 라인들 9: 컴퓨터 제어 유닛
도 1은 본 발명에 다른 F2-레이저 시스템을 개략적으로 도시한다. F2-레이저 시스템은 방전 챔버(1)와, 공진기 옵틱(2, 3)과, 출력 빔(5)의 에너지에 비례하는 신호를 검출하는 에너지 모니터(4)와, 펄스 발생 회로(6)와, 가스 제어 박스(7)와 가스 라인들(8), 및 컴퓨터 제어 유닛(9)을 포함한다. 방전 챔버(1)는 플루오린 및 네온을 포함하는 가스 혼합물로 채워진다. 플루오린은 레이저 활성 성분이며 네온은 버퍼 가스이다. 플루오린 농도는 면밀하게 모니터되며 선택된 값으로 제어된다. 이 값은 0.05% 및 0.5% 사이가 될 수 있으며, 바람직하게는 약 0.1%이다. 예를 들어, 바람직한 가스 혼합물은 3.5 내지 5 mbar의 플루오린 부분 압력과 약 3000 mbar의 네온 버퍼 부분 압력을 가질 것이다. 네온은 바람직하게는 버퍼 가스의 대부분(50% 이상)을 차지할 것이다. 네온은 단독 버퍼 가스로서 이용될 수도 있다. 또한, 소수양의 헬륨이 혼합물의 제 2 버퍼 가스로서 네온과 함께 혼합될 수도 있다. 예를 들어, 가스 혼합물은 60% 또는 그 이상을 차지할 수도 있는 네온과, 0.1%의 플루오린과, 그리고 그 나머지의 헬륨을 포함한다.
한쌍의 전극들이 방전 챔버(1) 내에 배열되어 전압원 회로(6)에 접속된다. 전극들로부터의 펄스화된 방전은 레이저 활성 플루오린을 활성화시킨다. 전기 방전 레이저의 UV-전이온화가 또한 제공되는데, 이는 레이저의 주요 방전 고체 전극들 중 적어도 하나에 인접하여 배열되며, 이는 스파크 갭들의 어레이에 의해서 또는 다른 VU-방사(표면, 배리어 또는 코로나 가스 방전) 소스에 의해 실현될 수 있다. 바람직한 전이온화 유닛은 본 출원의 참조로서 인용되는 미합중국 특허 출원 제09/247,887호에 개시되어 있다.
도 5는 레이저 가스 내의 F2-모듈의 157㎚ 천이를 예시한 단순화된 에너지 레벨 다이어그램을 나타낸다. 157㎚ 광 천이가 이루어질 때 F2-모듈은 도시된 바와 같이 분리되지 않는 대신에 단순히 릴랙스된다. 이는, 그들의 광학적인 천이가 이루어질 때에 분리되는 레이저 활성 분자 종을 갖는 엑시머 레이저와 완전하게 대비된다.
도 1을 다시 참조하면, 방전 챔버는 가령 CaF2, MgF2, BaF2, 또는 SrF2와 같은 157㎚ 주위에서의 투명한 물질을 포함하는 각 단부에서의 광학 창을 갖는다. 방전 챔버는 예를 들어 고반사 미러를 갖는 후방 광학 모듈(2) 및 출력결합 미러(3)를 포함하는 공진기에 의해 둘러싸여진다. 후방 광학 모듈은 157㎚ 주위에서 밀접한 간격을 유지하는 다수의 라인들 중 하나를 선택하기 위한 수단 및/또는 레이저 출력 빔의 선폭을 협소화하기 위한 수단을 가질 수도 있다. 이러한 선폭 선택 및/또는 협소화 수단은 하나 또는 그 이상의 프리즘들 중 어떤 것, 바람직하게는 MgF2또는 CaF2, 에이태런 및/또는, 전형적인 회절격자가 이러한 극단 파장들에서 빈약한 성능을 나타냄에도 불구하고 회절격자를 구비할 수도 있다.
에너지 모니터(4)에 의해 검출되어 프로세서(9)로 전송되는 신호는 귀환 배열에서 F2-레이저의 출력 파워를 제어할 수 있도록 프로세서(9)가 파워 서플라이 전자부품(6) 또는 전기 펄스 파워 및 방전 모듈(6)과 협력할 수 있게 한다. 프로세서(9)는 또한 진공 펌프, 밸브들 및 가스 칸막이를 포함하는 가스 제어 박스(7)와 협력한다. 가스 제어 박스(7)는 가스 컨테이너들, 예를 들어 가스 용기들 또는 실린더들에 가스 라인들(8)을 통해 연결된다. 가스 제어 박스(7)에 연결된 가스 제어 컨테이너들 중에는 플루오린과 네온이 있다.
바람직한 실시예에서, 가스 혼합물은 50% 이상의 네온 농도를 갖는다. 네온이 버퍼 가스로서 이용될 때, 원자 플루오린에 의한 붉은 가시 영역에서의 출력이 157㎚ 출력에 대하여 감소된다는 것이 발견되었다. 상기 주목한 바와 같이, 버퍼 가스로서 헬륨을 갖는 F2-레이저에 있어서 157㎚ 주위에서의 VUV 방출에 대한 붉은 방출의 전형적인 강도는 플레시 VUV 최적화된 가스 혼합물을 가지며 잘 페시베이트된 F2-레이저에 대해 약 1 내지 3%이다. 그러나, 플레시 VUV 최적화된 가스 혼합물을 갖는 F2-레이저에 대한 붉은 방출의 강도는 0.1% 이하가 되는 것으로 추정된다.
펄스-대-펄스 안정성 및 시스템의 전체 에너지 각각은 또한 네온 버퍼 가스가 헬륨 버퍼 가스를 대신할 때 증가된다. 이는 붉은 방출의 억제를 수행하는 F2-레이저의 157㎚ 라인의 상승으로부터 추론된다.
네온을 이용하게 되면 F2-레이저 튜브의 수명을 연장할 수 있는 장점이 있다. 한 실험에서, 버퍼 가스로서 헬륨을 이용하는 F2-레이저는 약 4억 5천 펄스 후에는 본질적으로 사용불가능한 것으로 발견되었다. 즉, 이 점에서, 바람직한 157㎚ VUV 영역에서 보다 붉은 영역에 더 많은 F2-레이저의 출력 에너지가 있었다. 버퍼 가스로서 네온이 헬륨을 대신했을 때, 157㎚ 근처에서 다시 상당한 양의 F2-레이저 출력 에너지가 있었다. 헬륨을 네온으로 바꿈으로써, F2-레이저의 출력은 설명서에 가깝게 되돌려져 다시 사용가능하게 된다. 따라서, 버퍼 가스로서 헬륨을 네온으로 바꿈으로써 F2-레이저의 레이저 튜브의 수명을 연장할 수 있게 된다.
도 2, 3, 및 4는 레이저 가스로서 분자 플루오린을 이용하는 람브다 피지크 레이저 LPX 220i의 VUV 출력을 도시하는 그래프이다. 레이저는 각 실험에 대하여 동일하게 셋업되었다. 다른 충전 전압들(22㎸ 내지 24㎸의 범위)에서 출력 파워가 측정되었다.
도 2는 버퍼 가스로서 주로 헬륨을 갖는 종래의 가스 혼합물(5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물, 및 3000 mbar의 헬륨)을 보여준다. 이러한 레이저에 있어서, 150㎐의 반복률에서 출력 파워는 6와트(22㎸)에서 약 7.5와트(24㎸)까지의 범위에 달했다.
도 3은 버퍼 가스로서 단지 네온만을 이용하는 동일한 레이저를 보여준다(5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물, 및 3000 mbar의 네온). 이 실험에서, 출력 파워는 증가하였다. 150㎐의 반복률에서 출력 파워는 7.5와트(22㎸)에서 거의 9와트(24㎸)까지의 범위에 달했다.
도 4는 버퍼 가스의 20% 이하가 네온인 동일한 레이저를 보여준다(5%의 F2와 95%의 Ne으로 된 90 mbar의 혼합물, 및 500 mbar의 네온). 이렇게 비교적 작은 네온 레벨에서 조차도, 순수 헬륨에 의한 작동에 대하여 상당한 개선이 이루어졌다. 좀 더 상세히 설명하면, 150㎐의 반복률에서 출력 파워는 7와트(22㎸)에서 약 9와트(24㎸)까지의 범위에 달했다.
주요 버퍼 가스로서 네온을 이용하여 얻게 되는 다른 장점은 레이저 펄스의 길이가 증가한다는 것이다. 펄스 길이가 증가할 때, 빛은 더 많은 라운드 트립을 위하여 공진기 내에서 순환된다. 각각의 라운드 트립에 의해, 빛은 레이저 공진기 내에서 라인 선택 및 라인 협소화 수단과 상호작용을 한다. 따라서, 펄스 길이가 증가할 때, 라인 선택 및 라인 협소화가 개선될 수 있다.
본 발명은 버퍼 가스로서 네온을 이용함으로써 분자 플루오린 레이저 펄스의 길이를 증가시키는 수단을 제공한다. 도 6a, 6b 및 6c는 표 1에 나타낸 가스 혼합물에 의한 일시적인 펄스 형태를 보여준다.
| 도 | 네온 | 헬륨 | 플루오린 |
| 6a | 0 | 99.87% | 0.13% |
| 6b | 48.4% | 51.5% | 0.13% |
| 6c | 96.8% | 3.1% | 0.13% |
F2-레이저의 가스 혼합물 내의 네온의 농도의 증가는 펄스 길이를 대략 8㎱ (0%의 네온에 대하여)로부터 25㎱(96.8%의 네온에 대하여)로 증가시킨다.
상업적인 엑시머 레이저에 있어서, F2-레이저의 여기에 대해서는 하이 펌핑 레벨 농도가 바람직하다. 예를 들어, 10 내지 15 MW/cm3는 오실레이터 동작을 위하여 상당히 작은 신호의 증폭을 일으킬 것이다. 또한, 157㎚에서 F2-레이저의 출력 에너지는 방전 챔버내 버퍼 가스의 밀도가 증가할 때 상당히 오를 것이라는 것을 알아내었다. 예를 들어, 2.6J/리터의 출력이 얻어질 수 있을 것이다. 도 5를 참조하면, 이는 버퍼 가스와의 충돌에 의한 F2모듈의 불완전한 본딩 상태(0.15eV)의 하부 레이저 레벨의 빠른 디퍼퓰레이션(depopulation)에 주로 기인하는 것이다.
이러한 결과들을 적어도 부분적으로 기반으로 하여, 본 발명은 또한 F2및 버퍼 가스(예를 들어 헬륨 또는 네온)로 구성된 가스 혼합물의 온도가 F2-레이저의 출력 파워에 상당한 영향을 준다는 것을 알아내었다. 하기에 상세히 설명되는 바와 같이, 상업적인 LAMBDA PHYSIK LPF205 F2-레이저, 또는 그렇지 않으면 방전 조건, 가스 혼합물, 빔 경로 및 가스 정화에 대하여 157㎚ 작동을 위하여 또한 구성된 F2-레이저에 의해 수행된 실험들은 이러한 가정을 확증한다.
이러한 실험들을 수행할 때, F2-레이저는 백금 온도 센서(PT100)를 구비하였다. 다른 많은 온도 센서들이 이용될 수 있었다. 온도 센서는 용기 벽과 어떠한 감지가능한 컨택도 갖지 않는 가스 저장소 내에 위치되었으며, 레이저가 작동하는 동안 가스의 온도를 나타내었다. 온도 안정화는 가스 저장소내 냉각 파이프들내의 냉각 워터 및 조정가능한 워터-워터 열 교환기에 의해 구현되었다.
온도는 다른 많은 기술들에 의해 제어될 수도 있다. 예를 들어, 가스 혼합물은 가스 혼합물과 인접하는 뜨거운 물을 포함하는 요소를 이용하여 상승된 온도로 유지될 수도 있다. 가령 라드와 같은 다른 뜨거운 요소가 가스 혼합물에 인접하여 놓여질 수도 있다. 따뜻한 가스는 모터에 연결된 팬에 의해 방전 영역까지 순환될 수도 있다.
F2-레이저는 50㎐의 반복률 뿐 아니라 26㎸의 일정한 방전 전압으로 세트되었다. 튜브 및 가스의 입구/세정 효과를 측정하지 않기 위하여, 26℃ 내지 40℃의 범위에서 증가하며 41℃로부터 26℃로 천천히 낮아지는 가스 온도에 대하여 VUV 파워가 먼저 측정되었다. 레이저 파워는 이러한 범위에서 온도의 함수로서 측정되었다.
도 7은 상기 실험의 결과를 보여준다. 도 7의 그래프는 F2-레이저 출력 파워의 온도 의존성을 보여준다. 157㎚ 주위에서 출력 파워는 28℃에서의 3.85W로부터 41℃에서의 4.3W로 증가되는 것으로 관찰되었다. 이는 이러한 온도 범위내에서 온도가 증가함에 따라 출력 파워가 10% 증가한다는 것을 나타낸다. 이러한 경향은 표면의 아웃개싱(outgassing), 특히 물질의 밀폐가 명백해지는 가스 온도에 이를 때까지 계속될 것이다. 이렇게 되면, 아웃개싱은 흡수로 인해 VUV 출력 파워를 떨어뜨린다. 따라서, 본 발명의 바람직한 실시예는 도 7에 보인 바와 같은 F2-레이저를 제공하며, 이 F2-레이저에서 레이저 가스는 방전 챔버내에서 아웃개싱이 일어나는 온도로 상승되며, 이 온도보다는 낮지만 이 온도와 가깝게 유지된다.
더 적절한 온도-의존 특성을 갖는 다른 물질을 대체함으로써 F2-레이저 내에서 아웃개싱이 일어나게 될 임계 온도를 올릴 수도 있다. 예를 들어, 금속 o-링 또는 금속 밀폐 요소가 종래의 o-링 대신 이용될 수도 있다. 종래에 F2-레이저의 프레임을 구성했던 금속보다 훨씬 수송 열이 적은 세라믹 또는 플라스틱이 사용될 수도 있다.
본 발명의 범위는 상기 설명된 바람직한 실시예에 의해 한정되지 않는다. 대신에, 하기의 청구범위에 의해서만 한정된다.
Claims (21)
157㎚ 주위에서 스펙트럼 방출을 발생시키기 위하여 분자 플루오린 및 네온 버퍼 가스를 포함하는 가스 혼합물로 채워진 방전 챔버와;
전압원에 결합되며 분자 플루오린을 활성화시키기 위하여 펄스화된 방전을 일으키는 한 쌍의 전극들과; 그리고
상기 방전 챔버를 둘러싸는 공진기를 구비하는 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물내의 상기 네온의 농도는 60% 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 네온은 상기 방전 챔버 내에서 상기 분자 플루오린을 수반하는 전용 버퍼 가스인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물 온도는 상기 방전 챔버 내에서 아웃개싱이 일어나는 온도보다는 낮지만 이 온도 가까이 유지되는 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 30℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 35℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 40℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 45℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 50℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 1 항에 있어서, 상기 가스 혼합물 내의 상기 네온의 농도는 50% 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
157㎚ 주위에서 스펙트럼 방출을 발생시키기 위하여 분자 플루오린 및 버퍼 가스를 포함하는 가스 혼합물로 채워진 방전 챔버와;
전압원에 결합되며 상기 분자 플루오린을 활성화시키기 위하여 펄스화된 방전을 일으키는 한 쌍의 전극들과; 그리고
상기 방전 챔버를 둘러싸는 공진기를 구비하며, 상기 가스 혼합물의 온도는 상기 방전 챔버 내에서 아웃개싱이 일어나는 온도보다는 낮지만, 이 온도와 가깝게 유지되는 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 11 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 30℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 11 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 35℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 11 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 40℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 11 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 45℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 11 항에 있어서, 상기 가스 혼합물 내의 버퍼 가스는 주로 네온인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
157㎚ 주위에서 스펙트럼 방출을 발생시키기 위하여 분자 플루오린 및 버퍼 가스를 포함하는 가스 혼합물로 채워진 방전 챔버와;
전압원에 결합되며 상기 분자 플루오린을 활성화시키기 위하여 펄스화된 방전을 일으키는 한 쌍의 전극들과; 그리고
상기 방전 챔버를 둘러싸는 공진기를 구비하며, 상기 가스 혼합물의 온도는 30℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 17 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 35℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 17 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 40℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 17 항에 있어서, 상기 가스 혼합물의 온도는 45℃ 이상인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
제 17 항에 있어서, 상기 가스 혼합물 내의 상기 버퍼 가스는 주로 네온인 것을 특징으로 하는 F2-레이저.
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