KR20000057937A - Semiconductor memory device - Google Patents

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KR20000057937A
KR20000057937A KR1020000005584A KR20000005584A KR20000057937A KR 20000057937 A KR20000057937 A KR 20000057937A KR 1020000005584 A KR1020000005584 A KR 1020000005584A KR 20000005584 A KR20000005584 A KR 20000005584A KR 20000057937 A KR20000057937 A KR 20000057937A
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다카노 야스아키
산요 덴키 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A semiconductor memory device is provided to suppress the increase of a chip area by disposing mats having a short length in the column direction. CONSTITUTION: A first mat(M1, M2) has a memory cell block of a first number arranged in the column direction. A second mat(M3-M6) has a memory cell block of a second number larger than the first number and arranged in the column direction. A peripheral circuits(P1, P2) are connected to the first and second mats(M1, M2, M3-M6) and controls the circuit operations of the first and second mats(M1, M2, M3-M6). The first and second mats(M1, M2, M3-M6) are arranged in parallel to each other on a semiconductor substrate.

Description

반도체 메모리 장치{SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE}Semiconductor Memory Device {SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE}

본 발명은, 메모리 셀을 칩 상에 효율적으로 배치하여, 원하는 칩 사이즈를 얻을 수 있도록 한 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device in which memory cells are efficiently arranged on a chip to obtain a desired chip size.

도 1은, 반도체 메모리 장치의 개략적인 구성을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing a schematic configuration of a semiconductor memory device.

메모리 셀은, 소정의 수만큼 행렬 배치되고, 각 행마다 워드선이 접속됨과 함께, 각 열마다 비트선이 접속되고, 메모리 셀 블럭 B를 구성한다. 예를 들면, 하나의 블럭 B에, 메모리 셀이 128행×256열만 배치되고, 약 32K 비트의 기억 용량을 얻고 있다. 블럭 B는, 소정의 수마다 일렬로 배치되고, 매트 M을 구성하고 있다. 이 매트 M은, 양끝을 갖추도록 함으로써 복수가 서로 평행하게 배치된다. 도 1에서는, 블럭 B11∼B84를 4개씩 배치하여 8개의 매트 M1∼M8이 형성되어 있다. 따라서, 32K 비트의 기억 용량을 갖는 블럭 B11∼B84가, 4×8(32) 블럭 배치되어 합계로 1M 비트의 기억 용량을 얻고 있다.The memory cells are arranged in a matrix by a predetermined number, word lines are connected to each row, bit lines are connected to each column, and constitute a memory cell block B. For example, in one block B, only 128 rows x 256 columns of memory cells are arranged, and a storage capacity of about 32K bits is obtained. Block B is arrange | positioned by a predetermined number in a line, and comprises mat M. FIG. The mat M is arranged in parallel with each other by having both ends. In FIG. 1, four blocks B11-B84 are arrange | positioned at four, and eight mats M1-M8 are formed. Therefore, blocks B11 to B84 having a storage capacity of 32K bits are arranged in 4x8 (32) blocks to obtain a storage capacity of 1M bits in total.

주변 회로 P1, P2는, 매트 M1∼M8에 접속하여 배치된다. 이 주변 회로 P1, P2는, 매트 M1∼M8 내의 특정한 메모리 셀을 지정하기 위한 디코더, 지정한 메모리 셀에 대해 데이타의 기록 및 판독을 행하는 증폭기등을 포함한다. 각 매트 M1∼M8에서는, 각 블럭 B11∼B84 내의 메모리 셀이, 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고, 로우 방향으로 워드선을 공유한다. 이에 따라, 어드레스 데이타에 응답하여 행(워드선) 및 열(비트선)을 지정하면, 특정한 메모리 셀이 지정되고, 라이트 증폭기 또는 감지 증폭기가 회로적으로 접속되어 데이타의 기록 또는 판독이 행해진다.Peripheral circuits P1 and P2 are arranged in connection with mats M1 to M8. The peripheral circuits P1 and P2 include a decoder for designating a specific memory cell in the mats M1 to M8, an amplifier for writing and reading data to and from the designated memory cell. In each of the mats M1 to M8, memory cells in the blocks B11 to B84 share bit lines in the column direction and word lines in the row direction. As a result, when a row (word line) and a column (bit line) are designated in response to the address data, a specific memory cell is specified, and a write amplifier or sense amplifier is connected in a circuit to write or read data.

일반적인 반도체 메모리 장치에서는, 기억하는 데이타가 통상 2n비트(n은 자연수)이기 때문에, 매트의 배열수나, 각 블럭 내의 메모리 셀의 배열수가 2n에 설정된다. 이 때문에, 도 1에 도시된 바와 같이, 블럭 B11∼B84를 4개씩 8개로 배치하는 것 외에는, 도 2에 도시된 바와 같이 동일한 32개의 블럭 B11∼B48을 8개씩 배치함으로써, 4개의 매트 M1∼M4를 형성하도록 하고 있다.In a general semiconductor memory device, since data to be stored is normally 2 n bits (n is a natural number), the number of arrays of mats and the number of arrays of memory cells in each block are set to 2n . For this reason, as shown in FIG. 1, except that four blocks B11 to B84 are arranged in eight, four mats M1 to four are arranged by arranging eight identical 32 blocks B11 to B48 as shown in FIG. M4 is to be formed.

반도체 메모리 장치인 경우, 메모리 셀의 형상은 모두 원칙 균등하기 때문에, 블럭 내의 메모리 셀의 배열수가 결정되면, 블럭의 크기도 결정된다. 동시에, 매트의 배열수가 결정되면, 장치 전체, 즉 칩 사이즈가 결정되게 된다. 이 때문에, 칩 사이즈는, 블럭의 배열 상태에 따라 결정되게 되고, 메모리 셀의 배열수 및 매트의 배열수를 2n으로 제한한 경우, 칩 사이즈도 마찬가지로 제한되게 된다.In the case of a semiconductor memory device, since the shapes of the memory cells are all equal in principle, when the number of arrangement of memory cells in a block is determined, the size of the block is also determined. At the same time, when the number of arrangements of mats is determined, the entire device, that is, the chip size, is determined. For this reason, the chip size is determined in accordance with the arrangement state of the blocks, and the chip size is similarly limited when the number of arrays of memory cells and the number of arrays of mats is limited to 2n .

예를 들면, 도 1에 도시된 바와 같이, 32개의 블럭 B11∼B84를 4개씩 8개로 배치하면 로우 방향의 사이즈가 지나치게 커질 때에는, 도 2이 도시된 바와 같이, 블럭 B11∼B84를 8개씩 4개로 배치하도록 하고 있다. 그러나, 도 2에 도시된 바와 같이, 4개의 매트 M1∼M4를 형성한 경우에는, 로우 방향의 사이즈를 반으로 할 수 있지만, 컬럼 방향의 사이즈가 2배가 되기 때문에, 원하는 칩 사이즈에 맞출 수 없는 경우도 있을 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, when the 32 blocks B11 to B84 are arranged in eight by four, when the size in the row direction becomes too large, as shown in FIG. 2, four blocks B11 to B84 are eight by four. It is arranged in dog. However, as shown in Fig. 2, when four mats M1 to M4 are formed, the size in the row direction can be halved, but since the size in the column direction is doubled, it cannot fit the desired chip size. There may be cases.

또한, 상술된 반도체 메모리 장치에서는, 기억 정보의 비트수에 따라 주변 회로가 구성된다. 8비트의 정보를 기억하는 경우, 각 블럭 B11∼B84에, 메모리 셀을 8의 정수배의 열(예를 들면 8×32=256열) 배치하고, 주변 회로 P1, P2에서, 메모리 셀 행마다 8개 단위로 메모리 셀을 선택하도록 하여, 8비트의 정보를 소정의 수(예를 들면 32개)만 기억할 수 있도록 하고 있다.In the above-described semiconductor memory device, peripheral circuits are constructed in accordance with the number of bits of the storage information. When storing 8 bits of information, the memory cells are arranged in each block B11 to B84 by an integer multiple of eight (e.g., 8 x 32 = 256 columns), and 8 in each of the memory cell rows in the peripheral circuits P1 and P2. Memory cells are selected in units so that only a predetermined number (for example, 32) of 8-bit information can be stored.

이 때문에, 주변 회로 P1, P2의 구성은, 기억 정보의 비트수에 따라 미리 결정되어 있고, 설정과는 다른 비트수의 정보를, 그대로 메모리 셀에 기억할 수 없다. 따라서, 기억해야할 정보의 비트수를 변경하는 경우에는, 메모리 셀의 주변 회로의 구성을 변경해야하고, 집적화하여 구성되는 반도체 메모리 장치에서는, 실질적으로 기억 정보의 비트수의 변경은 불가능하다.For this reason, the configurations of the peripheral circuits P1 and P2 are predetermined according to the number of bits of the storage information, and the information of the number of bits different from the setting cannot be stored in the memory cell as it is. Therefore, in the case of changing the number of bits of information to be stored, it is necessary to change the configuration of the peripheral circuits of the memory cells, and in the semiconductor memory device formed by integration, it is practically impossible to change the number of bits of the storage information.

본 발명은, 기억 데이타의 비트수에 따른 수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치로서, 제1 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제1 매트와, 제1 수보다 많은 제2 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제2 매트와, 상기 제1 및 제2 매트에 각각 접속되어, 상기 제1 및 제2 매트의 회로 동작을 제어하는 주변 회로를 구비하고, 상기 제1 및 제2 매트를 반도체 기판 상에 서로 평행하게 배치함과 함께, 상기 제1 매트의 단부에 인접하여 상기 주변 회로 중 적어도 일부를 배치한 것을 특징으로 하는 것이다.The present invention is a semiconductor memory device comprising a mat in which a number of memory cells according to the number of bits of stored data are arranged in a matrix to form a block, and the blocks are arranged in a column direction, wherein the first number of memory cell blocks is a column. First mats arranged in a direction, a second number of memory cell blocks larger than the first number, and a second mat arranged in a column direction, respectively, connected to the first and second mats, respectively, so that the first and second mats are connected. A peripheral circuit for controlling the circuit operation of the mat, the first and second mats being disposed parallel to each other on a semiconductor substrate, and at least a part of the peripheral circuits disposed adjacent to an end of the first mat. It is characterized by one.

본 발명에 따르면, 2종류의 길이의 매트를 혼재하여 배치함으로써, 전체의 블럭의 수를 기억 데이타의 비트수에 적합시키면서, 매트의 수를 자유롭게 선택할 수 있게 된다. 그리고, 컬럼 방향의 길이가 짧은 매트를 배치하여 빈 영역에 주변 회로를 배치하도록 함으로써, 쓸데 없는 영역을 없애어 칩 면적의 증대를 억제할 수 있다.According to the present invention, by arranging two kinds of mats in length, the number of mats can be freely selected while the total number of blocks is adapted to the number of bits of the storage data. Then, by arranging the mat having a short length in the column direction to arrange the peripheral circuit in the empty area, the useless area can be eliminated and the increase in the chip area can be suppressed.

그리고, 본 발명은, 기억 데이타의 비트수에 따른 수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치이고, 제1 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제1 매트와, 제1 수보다 많은 제2 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제2 매트와, 상기 제1 및 제2 매트에 각각 접속되어, 상기 제1 및 제2 매트의 회로 동작을 제어하는 주변 회로를 구비하고, 상기 제1 및 제2 매트를 반도체 기판 상에 서로 평행하게 배치함과 함께, 상기 제1 매트의 단부에 상기 제1 및 제2 매트의 각 블럭 내의 메모리 셀행에 대응되는 예비 메모리 셀 행을 배치하고, 상기 제1 매트의단부에 인접하여, 상기 예비 메모리 셀 열의 동작을 제어하는 제어 회로를 포함하는 상기 주변 회로 중 적어도 일부를 배치한 것을 특징으로 하는 것이다.The present invention is a semiconductor memory device comprising a mat having a plurality of memory cells arranged in a matrix according to the number of bits of stored data, the blocks having a plurality of mats arranged in a column direction, and a first number of memory cell blocks. A first mat arranged in the column direction, a second mat having more than a first number of memory cell blocks arranged in the column direction, and connected to the first and second mats, respectively; Peripheral circuitry for controlling the circuit operation of the second mat, the first and second mats being disposed parallel to each other on a semiconductor substrate, and at the end of the first mat At least a portion of the peripheral circuit including a control circuit for arranging a spare memory cell row corresponding to the memory cell row in each block, and adjacent to an end of the first mat and controlling the operation of the spare memory cell column. To characterized in that the groping.

본 발명에 의하면, 길이가 다른 2종류의 매트를 혼재하여 배치하고, 컬럼 방향의 길이가 짧은 제1 매트의 단부에 불량한 곳에 구제용의 예비 블럭을 배치하고, 제1 매트의 배치하여 빈 영역에, 예비 블럭의 제어 회로를 포함하는 주변 회로를 배치하도록 함으로써, 쓸데 없는 영역을 없애어 칩 면적의 증대를 억제할 수 있다.According to the present invention, two types of mats having different lengths are mixed and arranged, a spare block for relief is placed at an end of the first mat having a short length in the column direction, and the first mat is arranged in an empty area. By arranging the peripheral circuit including the control circuit of the preliminary block, the useless area can be eliminated and the increase in the chip area can be suppressed.

또한, 본 발명은, 복수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치로서, 서로 병렬로 배치되는 2n 열(n은 2이상의 정수)의 매트와, 상기 2n 열의 매트의 일단에 인접하여 배치되고, 상기 매트 내의 메모리 셀 열을 선택하는 복수의 컬럼 디코더와, 상기 2n 열의 매트의 간극에 2열 간격으로 배치되고, 상기 매트 내의 메모리 셀행을 선택하는 n 열의 로우 디코더와, 상기 매트의 일단에 인접하여 배치되고, 상기 매트, 상기 컬럼 디코더 및 상기 로우디코더의 회로 동작을 제어하는 주변 회로를 구비하고, 상기 n 열의 로우디코더가, 양측에 인접하는 매트의 어느 한쪽을 선택하여 동작하는 제1 동작 모드와, 양측에 인접하는 매트의 양방을 선택하여 동작하는 제2 동작 모드를 전환하는 것에 있다.In addition, the present invention is a semiconductor memory device including a mat in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix to form a block, and the blocks are arranged in a column direction, wherein 2n columns (n is an integer of 2 or more) arranged in parallel with each other. A plurality of column decoders arranged adjacent to one end of the mat of the 2n column, a plurality of column decoders for selecting a memory cell column in the mat, and spaced at two-column intervals between the mats of the 2n column, the row of memory cells in the mat A row decoder for selecting n columns and a peripheral circuit disposed adjacent to one end of the mat and controlling circuit operations of the mat, the column decoder and the row decoder, and the row decoders of the n columns Switching between the first operation mode in which one of the adjacent mats is selected and operated, and the second operation mode in which both of the mats adjacent to both sides are selected and operated. Is in.

본 발명에 의하면, 2열의 매트사이에, 양매트의 메모리 셀 행을 선택하는 로우 디코더를 배치하고, 로우 디코더로부터 한쪽 매트를 선택했을 때, 소정의 비트수의 정보를 기억할 수 있고, 양방의 매트를 선택했을 때에는, 그 배의 비트수의 정보를 기억할 수 있게 된다.According to the present invention, a row decoder for selecting both rows of memory cells is disposed between two columns of mats, and when one mat is selected from the row decoder, a predetermined number of bits of information can be stored, and both mats When is selected, the double bit number information can be stored.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 일례를 나타내는 평면도.1 is a plan view showing an example of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 종래의 반도체 메모리 장치의 다른 예를 나타내는 평면도.2 is a plan view showing another example of a conventional semiconductor memory device.

도 3은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제1 실시예를 나타내는 평면도.3 is a plan view showing a first embodiment of a semiconductor memory device of the present invention.

도 4는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제2 실시예를 나타내는 평면도.4 is a plan view showing a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

도 5는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제3 실시예를 나타내는 평면도.Fig. 5 is a plan view showing a third embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

도 6은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제4 실시예를 나타내는 평면도.6 is a plan view showing a fourth embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

도 7은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제5 실시예를 나타내는 평면도.Fig. 7 is a plan view showing a fifth embodiment of the semiconductor memory device of the invention.

도 8은 로우디코더의 구성을 나타내는 블럭도.8 is a block diagram showing the configuration of a low decoder;

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

P1, P2: 주변 회로P1, P2: peripheral circuit

B: 블럭B: block

M: 매트M: Mat

도 3은, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제1 실시예를 나타내는 평면도이다. 이 도면에서는, 도 1과 마찬가지로, 32개의 블럭 B11∼B84를 배치하여 구성하는 경우를 나타내고 있다.3 is a plan view showing a first embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In this figure, similarly to FIG. 1, the case where 32 blocks B11-B84 are arrange | positioned and comprised is shown.

메모리 셀은, 소정의 수만큼 행렬 배치되고, 각 행마다 워드선이 접속됨과 함께, 각 열마다 비트선이 접속되고, 메모리 셀 블럭 B를 구성한다. 예를 들면, 메모리 셀이 128행×256열만 배치되고, 각각 약 32K 비트의 기억 용량을 갖는 블럭 B11∼B84를 구성하고 있다. 이 블럭 B11∼B84 자체는, 도 1에 도시된 반도체 메모리 장치와 동일 구성이다.The memory cells are arranged in a matrix by a predetermined number, word lines are connected to each row, bit lines are connected to each column, and constitute a memory cell block B. For example, only 128 rows x 256 columns are arranged in memory cells, and blocks B11 to B84 each having a storage capacity of about 32K bits are formed. These blocks B11 to B84 themselves have the same configuration as the semiconductor memory device shown in FIG.

제1 매트 M1, M2는, 블럭 B11∼B14, B21∼B24가, 각각 4개씩 1열로 배치되어 있다. 제2 매트 M3∼M6은, 블럭 B31∼B64가, 4개씩 1열이 배치되고, 또한 블럭 B71∼B84 중 2개가 1열로 배치되고, 합계 6개 단위로 배치되어 있다. 이들 매트 M1∼M6은, 일단이 갖취어져 서로 평행하게 배열된다. 이 실시예에서는, 제1 매트 M1, M2를 중앙에 배치하고, 제2 매트 M3∼M6을 좌우대칭이 되도록, 제1 매트 M1, M2의 양측에 2개씩 배치하고 있다. 이와 같이 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 배치되면, 제1 매트 M1, M2의 타단측에, 2블럭×2개분의 빈 영역이 생긴다.In the first mats M1 and M2, four blocks B11 to B14 and B21 to B24 are arranged in one row. In the second mats M3 to M6, one block of four blocks B31 to B64 is arranged, and two blocks of the blocks B71 to B84 are arranged in one row and arranged in total of six units. One end of these mats M1 to M6 is arranged in parallel with each other. In this embodiment, the first mats M1 and M2 are arranged in the center, and the second mats M3 to M6 are arranged on both sides of the first mats M1 and M2 so as to be symmetrical. Thus, when 1st and 2nd mat M1-M6 are arrange | positioned, the empty area | region for 2 blocks x 2 will be produced in the other end side of 1st mat M1, M2.

제1 주변 회로 P1은, 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 갖추어진 측의 단부를 따라 배치되고, 제2 주변 회로 P2는, 제1 매트 M1, M2의 타단측에 생긴, 제2 매트 M4, M5사이의 빈 영역에 배치된다. 이 주변 회로 P1, P2는, 도 1에 도시된 주변 회로 P1, P2와 동등한 기능을 갖는 것으로, 디코더, 라이트 증폭기, 감지 증폭기등을 포함하고, 각 블럭 B11∼B84 내의 특정한 메모리 셀을 지정하여, 데이타의 기록 또는 판독을 행하도록 구성된다.The 1st peripheral circuit P1 is arrange | positioned along the edge part of the side provided with the 1st and 2nd mat M1-M6, and the 2nd peripheral circuit P2 is the 2nd mat M4 which arises in the other end side of 1st mat M1, M2. , Is placed in the empty area between M5. The peripheral circuits P1 and P2 have functions equivalent to those of the peripheral circuits P1 and P2 shown in Fig. 1, and include a decoder, a light amplifier, a sense amplifier, and the like, and designate specific memory cells in each of the blocks B11 to B84. And to write or read data.

각 매트 M1∼M6에서는, 동일 매트 내에 있는 각 블럭 B11∼B84에서, 각 메모리 셀이, 동일 열에서 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고 있다. 그리고, 각 블럭 B11∼B84에서는, 동일 블럭 내에 있는 각 메모리 셀이, 동일행에서 로우 방향으로 워드선을 공유하고 있다. 이에 따라, 각 매트 M1∼M6 내의 24개의 블럭에서는, 도 1에 도시된 메모리 장치와 마찬가지로, 어드레스 데이타에 응답하여 행(워드선) 및 열(비트선)이 지정된다.In each of the mats M1 to M6, in each of the blocks B11 to B84 in the same mat, each memory cell shares the bit line in the column direction in the same column. In each of blocks B11 to B84, each memory cell in the same block shares a word line in the row direction in the same row. As a result, in the 24 blocks in each of the mats M1 to M6, as in the memory device shown in Fig. 1, rows (word lines) and columns (bit lines) are designated in response to the address data.

또한, 제2 매트 M3∼M6 내의 각각 2개(×4열)의 블럭 B71∼B74, B81∼B84에 대해서는, 도 1에 도시된 메모리 장치에서, 7, 8개째의 매트 M7, M8에 대응하는 것으로, 이들 어드레스가 지정됐을 때 선택이 유효해진다. 이 때, 7개째의 매트 M7에 대응하는 칼럼 어드레스가 제2 매트 M3, M4로 치환되고, 8개째의 매트 M8에 대응하는 컬럼 어드레스가 제2 매트 M5, M6으로 치환된다. 따라서, 장치의 외부로부터는, 도 1에 도시된 바와 같이 8개의 매트 M1∼M8이 병렬로 배치되어 있을 때와 동등한 어드레스 지정에 따라 데이타의 기록 및 판독이 가능해진다.In addition, for each of the blocks B71 to B74 and B81 to B84 in the second mats M3 to M6, the seventh and eighth mats M7 and M8 correspond to the memory devices shown in FIG. The selection becomes valid when these addresses are specified. At this time, the column addresses corresponding to the seventh mat M7 are replaced with the second mats M3 and M4, and the column addresses corresponding to the eighth mat M8 are replaced with the second mats M5 and M6. Therefore, from the outside of the apparatus, as shown in Fig. 1, data can be written and read out according to an address designation equivalent to that when eight mats M1 to M8 are arranged in parallel.

도 4는, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제2 실시예를 나타내는 평면도이다. 이 도면에서, 제1 매트 M1, M2 및 제2 매트 M3∼M6에 대해서는, 도 3과 동일한 것으로, 소정의 수의 메모리 셀이 행렬 배치된 블럭 B11∼B84가, 각각 4개 및 6개씩 1에 배치되어 있다.4 is a plan view showing a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In this figure, the first mats M1, M2 and the second mats M3 to M6 are the same as those in Fig. 3, in which blocks B11 to B84 in which a predetermined number of memory cells are arranged in a matrix are four and six, respectively. It is arranged.

제1 매트 M1, M2 및 제2 매트 M3∼M6은, 일단이 갖추어져 상호 평행하게 배열된다. 이 실시예에서는, 제2 매트 M3∼M6을 중앙에 배치하고, 제1 매트 M1, M2를 좌우 대칭이 되도록, 제2 매트 M3∼M6의 양측에 1개씩 배치하고 있다. 이와 같이 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 배치되면, 제1 매트 M1, M2의 타단측의 2군데, 각각 2블럭분의 빈 영역이 생긴다.The first mats M1, M2 and the second mats M3 to M6 have one end and are arranged in parallel with each other. In this embodiment, the second mats M3 to M6 are arranged at the center, and the first mats M1 and M2 are arranged on both sides of the second mats M3 to M6 so as to be symmetrical. Thus, when 1st and 2nd mat M1-M6 are arrange | positioned, it will be two places of the other end side of 1st mat M1, M2, and a space area for 2 blocks will respectively generate.

제1∼제3 주변 회로 P1∼P3은, 매트 M1∼M6에 인접하여 배치된다. 이 주변 회로 P1∼P3은, 도 3에 도시된 제1 및 제2 주변 회로 P1, P2에 상당하는 것이다. 제1 주변 회로 P1은, 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 갖추어진 일단을 따라 배치된다. 제2 및 제3 주변 회로 P2, P3에 대해서는, 도 3에 도시된 제2 주변 회로 P2와 동등한 회로를 2분할하여 구성한 것으로, 각각 제2 매트 M3∼M6의 양측에서, 제1 매트 M1, M2의 타단측에 생긴 빈 영역에 배치된다.The first to third peripheral circuits P1 to P3 are disposed adjacent to the mats M1 to M6. These peripheral circuits P1 to P3 correspond to the first and second peripheral circuits P1 and P2 shown in FIG. 3. The first peripheral circuit P1 is disposed along one end provided with the first and second mats M1 to M6. The second and third peripheral circuits P2 and P3 are configured by dividing a circuit equivalent to the second peripheral circuit P2 shown in FIG. 3 into two parts, respectively, on both sides of the second mats M3 to M6, respectively. It is arranged in the blank area created on the other end side.

이 제2 실시예에서, 각 블럭 내의 워드선 및 비트선의 배치는, 제1 실시예와 거의 동일하다. 즉, 제2 실시예에서는, 제1 실시예와 비교하여, 제1 매트 M1, M2와 제2 매트 M3∼M6의 로우 방향의 위치가 반전하는 것뿐으로, 동일 매트 내에 있는 각 블럭 B11∼B84에서, 각 메모리 셀이 동일열에서 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고, 또한 동일행에서 로우방향으로 워드선을 공유한다. 그리고, 각 메모리 셀에 대한 어드레스의 지정은, 제1 실시예와 마찬가지로 하여 행해진다.In this second embodiment, the arrangement of word lines and bit lines in each block is almost the same as in the first embodiment. That is, in the second embodiment, compared with the first embodiment, the positions in the row direction of the first mats M1 and M2 and the second mats M3 to M6 are reversed, and each block B11 to B84 in the same mat is inverted. In FIG. 2, each memory cell shares a bit line in the column direction in the same column, and also a word line in the row direction in the same row. The addressing for each memory cell is performed in the same manner as in the first embodiment.

이상의 반도체 메모리 장치에서는, 2n비트의 기억 데이타에 대응한 어드레스의 할당을 행하면서도, 매트의 배치를 기억 데이타의 비트수에는 관계없이 설정하는 것이 가능해진다. 또한, 제2 주변 회로 P2에 대해 제1 매트 M1∼M2와 제2 매트 M3∼M6이 좌우 대칭이 되도록 배치하고 있기 때문에, 제2 주변 회로 P2에 대한 각 블럭 B11∼B84마다의 배선의 차에 기인하는 동작 특성의 변동을 적게 할 수 있다. 단, 통상의 반도체 메모리 장치에서는, 저항이 작은 알루미늄 배선을 이용하여 비트선등을 형성하도록 하기 때문에, 기억 용량이 작을 때에는, 반드시 매트를 주변 회로에 대해 대칭으로 배치할 필요는 없다.In the semiconductor memory device described above, it is possible to set the arrangement of the mats irrespective of the number of bits of the storage data while allocating addresses corresponding to 2 n bits of storage data. Further, since the first mats M1 to M2 and the second mats M3 to M6 are arranged to be symmetrical with respect to the second peripheral circuit P2, the difference in the wiring for each block B11 to B84 with respect to the second peripheral circuit P2 is different. It is possible to reduce variations in operating characteristics caused. However, in the conventional semiconductor memory device, since the bit line or the like is formed by using aluminum wiring with low resistance, it is not necessary to arrange the mat symmetrically with respect to the peripheral circuit when the storage capacity is small.

본 발명에 따르면, 기억 데이타의 비트수에 제한되지 않고, 목적으로 하는 칩 사이즈에 맞추어 메모리 셀 블럭을 배치할 수 있게 된다. 따라서, 원하는 칩 사이즈를 보다 가까운 형태로 얻을 수 있고, 패키지의 비용의 증대를 방지할 수 있다. 또한, 길이가 다른 매트를 혼재시켜 배치해도, 칩 상의 빈 영역을 최소한으로 할 수 있기 때문에, 칩 면적의 증대를 억제할 수 있다.According to the present invention, the memory cell block can be arranged in accordance with the desired chip size without being limited to the number of bits of the stored data. Therefore, the desired chip size can be obtained in a closer form, and an increase in the cost of the package can be prevented. In addition, even when the mats having different lengths are mixed, the empty area on the chip can be minimized, so that the increase in the chip area can be suppressed.

도 5는, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제1 실시예를 나타내는 평면도이다. 이 도면에서는, 도 1과 마찬가지로 32개의 블럭 B11∼B84를 배치하여 구성하는 경우를 나타내고 있다.Fig. 5 is a plan view showing a first embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In this figure, the case where 32 blocks B11-B84 are arrange | positioned similarly to FIG. 1 is shown.

메모리 셀은, 소정의 수만큼 행렬 배치되고, 각 행마다 워드선이 접속됨과 함께, 각 열마다 비트선이 접속되고, 메모리 셀 블럭 B를 구성한다. 예를 들면, 메모리 셀이 128행×256열만 배치되고, 각각 약 32K 비트의 기억 용량을 갖는 블럭 B11∼B84를 구성하고 있다. 예비 메모리 셀은, 블럭 B 내의 메모리 셀의 열과 동일수만큼 행방향으로 배치되고, 소정의 수만큼 열방향으로 배치되어 예비 블럭 R을 구성한다. 예를 들면, 예비 메모리 셀이 8행×256열만 배치되고, 8행분의 메모리 셀 행을 구제 가능한 예비 블럭 R1, R2를 구성하고 있다. 이상의 블럭 B11∼B84 및 예비 블럭 R1, R2 자체는, 도 1에 도시된 반도체 메모리 장치와 동일 구성이다.The memory cells are arranged in a matrix by a predetermined number, word lines are connected to each row, bit lines are connected to each column, and constitute a memory cell block B. For example, only 128 rows x 256 columns are arranged in memory cells, and blocks B11 to B84 each having a storage capacity of about 32K bits are formed. The spare memory cells are arranged in the row direction by the same number as the columns of the memory cells in the block B, and are arranged in the column direction by a predetermined number to constitute the spare block R. For example, only eight rows x 256 columns are arranged in the spare memory cells, and the spare blocks R1 and R2 can be configured to save eight rows of memory cells. The above blocks B11 to B84 and the spare blocks R1 and R2 themselves have the same configuration as the semiconductor memory device shown in FIG.

제1 매트 M1, M2는, 블럭 B11∼B14, B21∼B24가, 각각 4개씩 1렬로 배치되고, 또한 예비 블럭 R1, R2가 각각 하나씩 그 단부에 배치되어 있다. 제2 매트 M3∼M6은 블럭 B31∼B64가, 4개씩 1열로 배치되고, 또한 블럭 B71∼B84 내의 2개가 1열로 배치되고, 합계 6개 단위로 배치되어 있다. 이들 매트 M1∼M6은, 예를 들면 예비 블럭이 배치된 측과는 반대의 단부가 갖추어져 상호 평행하게 배열된다. 이 실시예에서는, 제1 매트 M1, M2를 중앙에 배치하고, 제2 매트 M3∼M6을 좌우 대칭이 되도록, 제1 매트 M1, M2의 양측에 2개씩 배치하고 있다. 이와 같이 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 배치되면, 제1 매트 M1, M2의 단부에, 2블럭×2개분의 면적보다도 예비 블럭만큼 좁은 빈 영역이 생긴다. 실제에는, 블럭 B11∼B14, B21∼B24가 128행의 메모리 셀로 구성되는데 비해, 예비 블럭 R1, R2는 8행의 예비 메모리 셀로 구성되기 때문에, 예비 블럭 R1, R2의 점유 면적은, 1블럭보다도 충분히 작고(이론적으로는 1/16), 빈 영역이 좁아지는 일은 없다.In the first mats M1 and M2, four blocks B11 to B14 and B21 to B24 are arranged in one row, and the spare blocks R1 and R2 are arranged at one end thereof, respectively. In the second mats M3 to M6, blocks B31 to B64 are arranged in one row of four, and two blocks B71 to B84 are arranged in one row and arranged in total of six units. These mats M1 to M6 have ends opposite to the side where the preliminary blocks are arranged, for example, and are arranged in parallel with each other. In this embodiment, the first mats M1 and M2 are arranged in the center, and the second mats M3 to M6 are arranged on both sides of the first mats M1 and M2 so as to be symmetrical. Thus, when 1st and 2nd mat M1-M6 are arrange | positioned, the empty area | region which is narrower than a 2 block x 2 area | region by a spare block will arise in the edge part of 1st mat M1, M2. In reality, while blocks B11 to B14 and B21 to B24 are constituted by 128 rows of memory cells, the spare blocks R1 and R2 are constituted by eight rows of spare memory cells, so the occupied area of the spare blocks R1 and R2 is larger than one block. It is small enough (in theory, 1/16), and the blank area never narrows.

제1 주변 회로 P1은, 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 갖추어진 측의 단부를 따라 배치되고, 제2 주변 회로 P2는, 제1 매트 M1, M2의 타단측에 생긴, 제2 매트 M4, M5 사이의 빈 영역에 배치된다. 이 주변 회로 P1, P2는, 도 1에 도시된 주변 회로 P1, P2와 동등한 기능을 갖는 것으로, 디코더, 라이트 증폭기, 감지 증폭기등을 포함하고, 각 블럭 B11∼B84 내의 특정한 메모리 셀을 지정하여, 데이타의 기록 또는 판독을 행하도록 구성된다. 여기서, 제2 주변 회로 P2에는, 예비 블럭 R1, R2의 각 예비 메모리 셀 행을 각 블럭 B11∼B84 내의 불량 개소를 포함하는 메모리 셀행로 치환하기 위한 전환 회로가 포함된다. 예를 들면, 물리적으로 절단 가능한 복수의 퓨즈와, 각 퓨즈의 절단에 의해 동작 가능해지는 복수의 트랜지스터를 포함하고, 퓨즈의 절단 개소를 불량 개소에 대응하여 절단함으로써, 그 불량 개소를 포함하는 메모리 셀행이, 1행 단위로 예비 블럭 R1, R2의 각 예비 메모리 셀행으로 치환된다.The 1st peripheral circuit P1 is arrange | positioned along the edge part of the side provided with the 1st and 2nd mat M1-M6, and the 2nd peripheral circuit P2 is the 2nd mat M4 which arises in the other end side of 1st mat M1, M2 , Is placed in the blank area between M5. The peripheral circuits P1 and P2 have functions equivalent to those of the peripheral circuits P1 and P2 shown in Fig. 1, and include a decoder, a light amplifier, a sense amplifier, and the like, and designate specific memory cells in each of the blocks B11 to B84. And to write or read data. Here, the second peripheral circuit P2 includes a switching circuit for replacing each spare memory cell row of the spare blocks R1 and R2 with a memory cell row including defective points in each block B11 to B84. For example, a memory cell row including a plurality of physically cut fuses and a plurality of transistors operable by cutting each fuse, and cutting the cut portions of the fuses corresponding to the defective portions, thereby including the defective portions. The spare memory cells of the spare blocks R1 and R2 are replaced by one row unit.

각 매트 M1∼M6에서는, 동일 매트 내에 있는 각 블럭 B11∼B84에서, 각 메모리 셀이, 동일열에서 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고 있다. 또한, 각 블럭 B11∼B84에서는, 동일 블럭 내에 있는 각 메모리 셀이, 동일행에서 로우 방향으로 워드선을 공유하고 있다. 이에 따라, 각 매트 M1∼M6 내의 24개의 블럭에서는, 도 1에 도시된 메모리 장치와 마찬가지로, 어드레스 데이타에 응답하여 행(워드선) 및 열(비트선)과 함께 블럭 B11∼B84의 하나가 지정된다. 이 때, 특정한 어드레스에 불량한 곳이 있고, 그 어드레스에 따라 제어 회로의 퓨즈가 절단되면, 그 어드레스를 포함하는 메모리 셀행이 지정될 때, 예비 블럭 R1, R2 내의 특정한 열이 대신 선택되도록 이루어진다.In each of the mats M1 to M6, in each of the blocks B11 to B84 in the same mat, each memory cell shares the bit line in the column direction in the same column. In each of the blocks B11 to B84, each memory cell in the same block shares a word line in the row direction in the same row. Accordingly, in the 24 blocks in each of the mats M1 to M6, one of the blocks B11 to B84 is designated together with the rows (word lines) and columns (bit lines) in response to the address data, similarly to the memory device shown in FIG. do. At this time, if there is a bad place at a specific address and the fuse of the control circuit is blown according to the address, when a memory cell row including the address is designated, a specific column in the spare blocks R1 and R2 is selected instead.

또한, 제2 매트 M3∼M6 내의 각각 2개(×4열)의 블럭 B71∼B74, B81∼B84에 대해서는 도 1에 도시된 메모리 장치에서, 7, 8개째의 매트 M7, M8에 대응하는 것으로, 이들의 어드레스가 지정됐을 때, 각 블럭 B71∼B74, B81∼B84의 선택이 유효해진다. 이 때, 7개째의 매트 M7에 대응하는 컬럼 어드레스가 제2 매트 M3, M4로 치환되고, 8개째의 컬럼 어드레스가 제2 매트 M5, M6으로 치환된다. 이들 제2 매트 M3∼M6 내의 각각 2개의 블럭 B71∼B74, B81∼B84에 대해서도, 상술된 24개의 블럭 B11∼B64에서의 불량 개소의 치환과 동일한 동작이 행해진다. 따라서, 장치의 외부로부터는, 도 1에 도시된 바와 같이, 8개의 매트 M1∼M8이 병렬로 배치되어 있을 때와 동일한 어드레스 지정에 따라 데이타의 기록 및 판독이 가능해진다.In addition, the blocks B71 to B74 and B81 to B84 in the second mats M3 to M6 each correspond to the seventh and eighth mats M7 and M8 in the memory device shown in FIG. When these addresses are specified, the selection of each block B71 to B74 and B81 to B84 becomes valid. At this time, the column addresses corresponding to the seventh mat M7 are replaced with the second mats M3 and M4, and the eighth column addresses are replaced with the second mats M5 and M6. The same operations as the replacement of the defective points in the 24 blocks B11 to B64 described above are also performed for the two blocks B71 to B74 and B81 to B84 in the second mats M3 to M6, respectively. Therefore, from the outside of the apparatus, as shown in Fig. 1, data can be written and read out according to the same addressing as when eight mats M1 to M8 are arranged in parallel.

도 6은, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제2 실시예를 나타내는 평면도이다. 이 도면에서, 제1 매트 M1, M2 및 제2 매트 M3∼M6에 대해서는, 도 5와 동일한 것으로, 소정의 수의 메모리 셀이 행렬 배치된 블럭 B11∼B84가, 각각 4개 및 6개씩 1열로 배치되고, 제1 매트 M1, M2에는, 또한 예비 블럭 R1, R2가 하나씩 배치되어 있다.6 is a plan view showing a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In this figure, the first mats M1, M2 and the second mats M3 to M6 are the same as those in Fig. 5, in which blocks B11 to B84 in which a predetermined number of memory cells are arranged in a matrix are arranged in one column of four and six, respectively. The spare blocks R1 and R2 are arranged one by one on the first mats M1 and M2.

제1 매트 M1, M2 및 제2 매트 M3∼M6은, 일단이 갖추어져 서로 평행하게 배열된다. 이 실시예에서는, 제2 매트 M3∼M6을 중앙에 배치하고, 제1 매트 M1, M2를 좌우 대칭이 되도록, 제2 매트 M3∼M6의 양측에 하나씩 배치하고 있다. 이와 같이 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 배치되면, 제1 매트 M1, M2의 타단측의 2군데에, 가각 2블럭분보다도 예비 블럭 R1, R2의 분만큼 좁아지는 빈 영역이 생긴다.The first mats M1, M2 and the second mats M3 to M6 have one end and are arranged in parallel with each other. In this embodiment, the second mats M3 to M6 are arranged at the center, and the first mats M1 and M2 are arranged one by one on both sides of the second mats M3 to M6 so as to be symmetrical. Thus, when 1st and 2nd mat M1-M6 are arrange | positioned, the empty area | region which becomes narrower by 2 parts of preliminary blocks R1 and R2 rather than 2 blocks of each is provided in two places of the other end side of 1st mat M1, M2.

제1∼제3 주변 회로 P1∼P3은, 매트 M1∼M6에 인접하여 배치된다. 이 주변 회로 P1∼P3은, 도 5에 도시된 제1 및 제2 주변 회로 P1, P2에 상당하는 것이다. 제1 주변 회로 P1은, 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 갖추어진 일단을 따라 배치된다. 제2 및 제3 주변 회로 P2, P3에 대해서는, 도 5에 도시된 제2 주변 회로 P2와 동등한 회로를 2분할하여 구성한 것으로, 각각 제2 매트 M3∼M6의 양측에서, 제1 매트 M1, M2의 타단측에 생긴 빈 영역에 배치된다.The first to third peripheral circuits P1 to P3 are disposed adjacent to the mats M1 to M6. These peripheral circuits P1 to P3 correspond to the first and second peripheral circuits P1 and P2 shown in FIG. 5. The first peripheral circuit P1 is disposed along one end provided with the first and second mats M1 to M6. The second and third peripheral circuits P2 and P3 are configured by dividing a circuit equivalent to the second peripheral circuit P2 shown in FIG. 5 into two parts, respectively, on both sides of the second mats M3 to M6, respectively. It is arranged in the blank area created on the other end side.

이 제2 실시예에서, 각 블럭 내의 워드선 및 비트선의 배치는, 제1 실시예와 거의 동일하다. 즉, 제2 실시예에서는, 제1 실시예와 비교하여, 제1 매트 M1, M2와 제2 매트 M3∼M6의 로우 방향의 위치가 반전하고 있을 뿐으로, 동일 매트 내에 있는 각 블럭 B11∼B84에서, 각 메모리 셀이 동일 열에서 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고, 또한 동일행에서 로우 방향으로 워드선을 공유한다. 따라서, 제1 실시예와 동일한 어드레스 지정 및 불량한 곳의 구제 처리가 행해진다.In this second embodiment, the arrangement of word lines and bit lines in each block is almost the same as in the first embodiment. That is, in the second embodiment, compared with the first embodiment, the positions in the row direction of the first mats M1 and M2 and the second mats M3 to M6 are reversed, and in each block B11 to B84 in the same mat, Each memory cell shares a bit line in the column direction in the same column and also a word line in the row direction in the same row. Therefore, the same addressing and remedy processing as in the first embodiment are performed.

이상의 반도체 메모리 장치에서는, 2n비트의 기억 데이타에 대응한 어드레스의 할당을 행하면서도, 매트의 배치를 기억 데이타의 비트수에 관계없이 설정하는 것이 가능해진다. 또한, 제2 주변 회로 P2에 대해 제1 매트 M1∼M2와 제2 매트 M3∼M6이 좌우 대칭이 되도록 배치하고 있기 때문에, 제2 주변 회로 P2에 대한 각 블럭 B11∼B84마다의 배선의 차에 기인하는 동작 특성의 변동을 적게 할 수 있다. 단, 통상의 반도체 메모리 장치에서는, 저항이 작은 알루미늄 배선을 이용하여 비트선등을 형성하도록 하기 때문에, 기억 용량이 작을 때에는, 반드시 매트를 주변 회로에 대해 대칭으로 배치할 필요는 없다.In the semiconductor memory device described above, it is possible to set the arrangement of the mats regardless of the number of bits of the storage data while allocating addresses corresponding to 2 n bits of storage data. Further, since the first mats M1 to M2 and the second mats M3 to M6 are arranged to be symmetrical with respect to the second peripheral circuit P2, the difference in the wiring for each block B11 to B84 with respect to the second peripheral circuit P2 is different. It is possible to reduce variations in operating characteristics caused. However, in the conventional semiconductor memory device, since the bit line or the like is formed by using aluminum wiring with low resistance, it is not necessary to arrange the mat symmetrically with respect to the peripheral circuit when the storage capacity is small.

본 발명에 의하면, 기억 데이타의 비트수에 제한되지 않고, 목적으로 하는 칩 사이즈에 맞추어 메모리 셀 블럭을 배치할 수 있게 된다. 이 때, 컬럼 방향의 길이가 짧은 제1 매트의 단부에 불량한 곳에 구제용의 예비 블럭을 배치할 수 있고, 이 예비 블럭에 인접하여 제1 매트의 단부에 생기는 빈 영역에, 구제 처리를 위한 제어 회로를 포함하는 주변 회로를 배치할 수 있다. 따라서, 칩 상의 빈 영역을 최소한으로 하여 칩 면적의 증대를 억제하면서, 원하는 칩 사이즈를 보다 가까운 형태로 얻을 수 있다.According to the present invention, the memory cell block can be arranged in accordance with the desired chip size without being limited to the number of bits of the stored data. At this time, the preliminary block for relief can be arrange | positioned at the edge part of the 1st mat with a short length of a column direction, and it controls for the relief process to the empty area which arises in the edge part of a 1st mat adjacent to this preliminary block. Peripheral circuits including circuits may be disposed. Therefore, the desired chip size can be obtained in a closer form while minimizing the increase in the chip area by minimizing the free area on the chip.

또한, 제1 매트와 제2 매트를 주변 회로에 대해 좌우 대칭으로 배치함으로써, 각 매트마다의 동작 특성의 변동을 최소한으로 할 수 있고, 회로 동작을 안정시킬 수 있다.Further, by arranging the first mat and the second mat symmetrically with respect to the peripheral circuit, variations in the operating characteristics for each mat can be minimized and the circuit operation can be stabilized.

도 7은, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 제1 실시예를 나타내는 평면도이다. 이 도면에서는, 도 1과 마찬가지로 32개의 블럭 B11∼B84를 배치하여 구성하는 경우를 나타내고 있다.Fig. 7 is a plan view showing a first embodiment of the semiconductor memory device of the present invention. In this figure, the case where 32 blocks B11-B84 are arrange | positioned similarly to FIG. 1 is shown.

메모리 셀은, 소정의 수만큼 행렬 배치되고, 각 행마다 워드선이 접속됨과 함께, 각 열마다 비트선이 접속되고, 메모리 셀 블럭 B를 구성한다. 예를 들면, 메모리 셀이 128행×256열만큼 배치되고, 약 32K 비트의 기억 용량을 갖는 블럭 B11∼B84를 구성하고 있다. 이 블럭 B11∼B84 자체는, 도 1에 도시된 반도체 메모리 장치와 동일한 구성이다.The memory cells are arranged in a matrix by a predetermined number, word lines are connected to each row, bit lines are connected to each column, and constitute a memory cell block B. For example, memory cells are arranged in 128 rows x 256 columns and constitute blocks B11 to B84 having a storage capacity of about 32K bits. These blocks B11 to B84 themselves have the same configuration as the semiconductor memory device shown in FIG.

제1 매트 M1, M2는, 블럭 B11∼B14, B21∼B24가, 각각 4개씩 1렬로 배치된다. 제2 매트 M3∼M6은, 블럭 B31∼B64가, 4개씩 1열로 배치되고, 또한 블럭 B71∼B84 내의 2개가 1열로 배치되고, 합계 6개 단위로 구성된다. 이들 매트 M1∼M6은, 일단이 갖추어져 상호 평행하게 배열된다. 이 실시예에서는, 제1 매트 M1, M2를 중앙에 배치하고, 제2 매트 M3∼M6을 좌우 대칭이 되도록, 제1 매트 M1, M2의 양측에 2개씩 배치하고 있다. 이와 같이 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 배치되면, 제1 매트 M1, M2의 타단측에, 2블럭×2개분의 빈 영역이 생긴다. 여기서, 제2 매트 M3∼M6에는, 도 1에서 제7, 제8열째에 배치되는 블럭 B71∼B84가 배치되기 때문에, 배치 영역의 로우 방향의 길이는, 도 1의 경우와 비교하여 단축되어 있다. 따라서, 후술된 로우 디코더 R1∼R3을 각 매트 M1∼M6 사이에 배치했다고 해도, 각 부의 배치 영역이 로우 방향으로 너무 넓어지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제1 매트 M1, M2의 단부에 형성되는 빈 영역에 주변 회로 P2를 배치하고 있기 때문에, 컬럼 방향의 길이의 확대도 최소한으로 억제된다.In the first mats M1 and M2, four blocks B11 to B14 and B21 to B24 are arranged in one row. In the second mats M3 to M6, the blocks B31 to B64 are arranged in one row of four, and the two blocks in the blocks B71 to B84 are arranged in one row and composed of six units in total. One end of these mats M1 to M6 is arranged in parallel with each other. In this embodiment, the first mats M1 and M2 are arranged in the center, and the second mats M3 to M6 are arranged on both sides of the first mats M1 and M2 so as to be symmetrical. Thus, when 1st and 2nd mat M1-M6 are arrange | positioned, the empty area | region for 2 blocks x 2 will be produced in the other end side of 1st mat M1, M2. Here, since the blocks B71 to B84 arranged in the seventh and eighth columns in Fig. 1 are arranged in the second mats M3 to M6, the length in the row direction of the placement area is shorter than in the case of Fig. 1. . Therefore, even if the row decoders R1 to R3 described below are disposed between the mats M1 to M6, the arrangement area of each part can be prevented from being too wide in the row direction. Moreover, since the peripheral circuit P2 is arrange | positioned in the empty area | region formed in the edge part of 1st mat M1, M2, expansion of the length of a column direction is suppressed to the minimum.

제1 컬럼 디코더 C1, C2는, 제1 매트 M1, M2의 한쪽 단부에 인접하여 배치되고, 제1 로우 디코더 R1은, 제1 매트 M1, M2사이에 배치된다. 제2 컬럼 디코더 C3∼C6은, 제2 매트 M3∼M6의 한쪽 단부에 인접하여 배치되고, 제2 로우 디코더 R2, R3은, 제2 매트 M3, M4사이와 제2 매트 M5, M6 사이에 각각 배치된다.The first column decoders C1 and C2 are disposed adjacent to one end of the first mats M1 and M2, and the first row decoder R1 is disposed between the first mats M1 and M2. The second column decoders C3 to C6 are disposed adjacent to one end of the second mats M3 to M6, and the second row decoders R2 and R3 are respectively between the second mats M3 and M4 and between the second mats M5 and M6. Is placed.

제1 주변 회로 P1은, 제1 및 제2 매트 M1∼M6이 갖추어진 측의 단부를 따라 배치되고, 제2 주변 회로 P2는, 제1 매트 M1, M2의 타단측에 생긴, 제2 매트 M4, M5사이의 빈 영역에 배치된다. 이 주변 회로 P1, P2는, 라이트 증폭기, 감지 증폭기등을 포함하고, 컬럼 디코더 C1∼C6 및 로우디코더 R1∼R3에 의해 지정되는 각 블럭 B11∼B84 내의 특정한 메모리 셀에 대해, 데이타의 기록 또는 판독을 행하도록 구성된다.The 1st peripheral circuit P1 is arrange | positioned along the edge part of the side provided with the 1st and 2nd mat M1-M6, and the 2nd peripheral circuit P2 is the 2nd mat M4 which arises in the other end side of 1st mat M1, M2. , Is placed in the empty area between M5. The peripheral circuits P1 and P2 include write amplifiers, sense amplifiers, and the like, and write or read data to specific memory cells in each of blocks B11 to B84 designated by column decoders C1 to C6 and low decoders R1 to R3. It is configured to perform.

각 매트 M1∼M6에서는, 동일 매트 내에 있는 각 블럭 B11∼B84에서, 각 메모리 셀이, 동일열에서 컬럼 방향으로 비트선을 공유하고 있다. 이에 따라, 각 컬럼 디코더 C1∼C6은, 열선택 정보에 응답하여, 각 매트 M1∼M6 내의 특정한 메모리 셀 열을 선택하여 활성화한다. 예를 들면, 각 매트 M1∼M6에 256열 배치되는 메모리 셀 열이, 열 선택 정보에 응답하여 8열 단위로 선택된다. 또한, 각 블럭 B11∼B84에서는, 동일 블럭 내에 있는 각 메모리 셀이, 동일 행에서 로우 방향으로 워드선을 공유하고 있다. 각 로우 디코더 R1∼R3은, 각각의 양측에 배치된 매트 M1∼M6 내의 각 블럭 B11∼B84마다, 메모리 셀 행을 선택하여 활성화한다. 이 때, 로우디코더 R1∼R3은 제1 동작 모드에서는, 양측의 어느 한쪽을 선택하고, 제2 동작 모드에서는, 양측을 동시에 선택하도록 구성된다. 예를 들면, 각 블럭 B11∼B84에서 128행 배치되는 메모리 셀 행이, 제1 동작 모드에서는, 블럭 B11∼B84의 하나로 1행씩 선택되고, 제2 동작 모드에서는, 각 블럭 Bl1∼B84 중 인접하는 2개로 1행씩 선택된다. 이 때, 로우 디코더 R1∼R3이, 각 매트 M1∼M6에서 메모리 셀 열을 8열씩 선택한다고 하면, 제1 동작 모드로 8비트의 데이타의 기록 또는 판독이 행해지고, 제2 동작 모드에서 16비트의 데이타의 기록 또는 판독이 행해진다.In each of the mats M1 to M6, in each of the blocks B11 to B84 in the same mat, each memory cell shares the bit line in the column direction in the same column. Accordingly, each column decoder C1 to C6 selects and activates a specific memory cell column in each of the mats M1 to M6 in response to the column selection information. For example, 256 rows of memory cells arranged in each of the mats M1 to M6 are selected in units of eight columns in response to column selection information. In each of the blocks B11 to B84, each memory cell in the same block shares a word line in the row direction in the same row. Each row decoder R1 to R3 selects and activates a row of memory cells for each block B11 to B84 in the mats M1 to M6 arranged on both sides. At this time, the row decoders R1 to R3 are configured to select either side in the first operation mode and simultaneously select both sides in the second operation mode. For example, 128 rows of memory cells arranged in each of the blocks B11 to B84 are selected one by one of the blocks B11 to B84 in the first operation mode, and adjacent to each of the blocks B1 to B84 in the second operation mode. Two rows are selected. At this time, if the row decoders R1 to R3 select eight rows of memory cells in each of the mats M1 to M6, 8-bit data is written or read in the first operation mode, and 16-bit data is read in the second operation mode. Writing or reading of data is performed.

또한, 제2 매트 M3∼M6 내의 각각 2개(×4열)의 블럭 B71∼B74, B81∼B84에 대해서는, 도 1에 도시된 메모리 장치에서, 7, 8개째의 매트 M7, M8에 대응하는 것으로, 이들 어드레스가 지정됐을 때 선택이 유효해진다. 이 때, 7개째의 매트 M7에 대응하는 컬럼 어드레스가 제2 매트 M3, M4로 치환되고, 8개째의 매트 M8에 대응하는 컬럼 어드레스가 제2 매트 M5, M6으로 치환된다. 따라서, 장치의 외부로부터는, 도 1에 도시된 바와 같이, 8개의 매트 M1∼M8이 병렬로 배치되어 있을 때와 동등한 어드레스 지정에 따라 데이타의 기록 및 판독이 가능해진다.In addition, for each of the blocks B71 to B74 and B81 to B84 in the second mats M3 to M6, the seventh and eighth mats M7 and M8 correspond to the memory devices shown in FIG. The selection becomes valid when these addresses are specified. At this time, the column addresses corresponding to the seventh mat M7 are replaced with the second mats M3 and M4, and the column addresses corresponding to the eighth mat M8 are replaced with the second mats M5 and M6. Therefore, from the outside of the apparatus, as shown in Fig. 1, data can be written and read out according to an address designation equivalent to that when eight mats M1 to M8 are arranged in parallel.

도 8은, 로우 디코더 R1의 구성의 일례를 나타내는 블럭도이다. 이 도면에서는, 행선택 신호 RD와 블럭 선택 신호 BD에 응답하여, 특정한 블럭 내의 특정한 열을 선택하는 경우를 나타내고 있다.8 is a block diagram showing an example of the configuration of the row decoder R1. This figure shows a case where a specific column in a specific block is selected in response to the row selection signal RD and the block selection signal BD.

로우 디코더 R1은, 행선택 회로(1), 제1 블럭 선택 회로(2), 제2 블럭 선택 회로(3) 및 ×OR 게이트(4)로 구성된다. 행 선택 회로(1)는, 행 선택 신호 RD에 응답하여, 1블럭 내의 메모리 셀 행의 하나를 선택하는 선택 신호 SO, SE를 생성한다. 예를 들면, 1블럭에 배치되는 128행의 메모리 셀행에 대응하여 행선택 신호 RD를 7비트로 구성하고, 행선택 신호 RD의 내용에 따라 128개의 출력 중 하나를 상승시키는 선택 신호 SO, SE를 생성한다. 제1 및 제2 블럭 선택 회로(2, 3)는, 각각 홀수열의 매트 M1 및 짝수열의 매트 M2에 대응하도록 설치되고, 공통으로 주어지는 블럭 선택 신호 BD에 응답하여 각 선택 신호 SO, SE를 분류함으로써, 각 블럭 B11∼B24에 대해 선택 신호 SO1∼SO4, SE1∼SE4를 공급한다. 또한, 제2 블럭 선택 회로(3)에는, 홀수열 또는 짝수열의 어느 하나를 선택하는 선택 신호 OE가 주어지고, 제1 블럭 선택 회로(2)에는, 선택 신호 OE와 모드 설정 신호 MS와의 배타 논리합이, ×OR 게이트(4)로부터 주어진다. 여기서, 제1 및 제2 블럭 선택 회로(2, 3)는, 선택 신호 OE와 모드 설정 신호 MS와의 논리합 및 선택 신호 OE 자체에 응답하여 동작을 유효하게 하도록 구성된다. 이에 따라, 모드 설정 신호 MS가 하이 레벨일 때에는 선택 신호 OE가 반전되어 제1 블럭 선택 회로(2)로 공급되도록 되기 때문에, 선택 신호 OE의 지시에 따라 제1 및 제2 블럭 선택 회로(2, 3)를 택일적으로 동작시킨다. 또한, 모드 설정 신호 MS가 로우 레벨일 때에는, 선택 신호 OE가 그대로 제1 블럭 선택 회로(2)로 공급되도록 되기 때문에, 선택 신호 OE의 지시에 따라 제1 및 제2 블럭 선택 회로(2, 3)를 동시에 동작시킨다. 따라서, 제2 동작 모드에서는 제1 동작 모드의 2배의 비트수의 데이타의 기록 및 판독을 행할 수 있게 된다. 또한, 모드 설정 신호 MS에 대해서는, 하이 레벨 또는 로우 레벨로 고정된 신호이고, 일단 결정한 후에는, 대부분의 경우에 변경할 필요가 없다. 이 때문에, 모드 설정 신호 MS는, 제조 공정에서, 물리적으로 절단 가능한 퓨즈나, 불휘발성의 메모리 셀을 미리 형성해두고, 퓨즈의 절단이나 메모리 셀에의 기록을 따라 전원 전위 또는 접지 전위의 어느 하나를 선택할 수 있도록 하여 얻을 수 있다. 또한, 퓨즈나 메모리 셀등을 형성하지 않은 경우라도, 배선의 일부를 변경함으로써, 전원 전위와 접지 전위와의 선택을 행하는 것도 가능하다. 이 경우, 최상층의 배선을 변경하도록 하면, 대부분의 제조 공정을 공통으로 할 수 있다.The row decoder R1 is composed of a row select circuit 1, a first block select circuit 2, a second block select circuit 3, and a 占 OR gate 4. In response to the row selection signal RD, the row selection circuit 1 generates selection signals S O and S E for selecting one of the memory cell rows within one block. For example, the selection signals S O and S E which constitute a row selection signal RD of 7 bits corresponding to 128 memory cell rows arranged in one block, and raise one of the 128 outputs according to the contents of the row selection signal RD. Create The first and second block selection circuits 2, 3 are provided so as to correspond to odd-numbered mats M1 and even-numbered mats M2, respectively, and respond to each of the selection signals S O and S E in response to a common block selection signal BD. By sorting, the selection signals S O1 to S O4 and S E1 to S E4 are supplied to the blocks B11 to B24. In addition, the second block selection circuit 3 is provided with a selection signal OE for selecting either odd or even columns, and the first block selection circuit 2 has an exclusive logical sum of the selection signal OE and the mode setting signal MS. This is given from the xOR gate 4. Here, the first and second block selection circuits 2 and 3 are configured to enable the operation in response to the logical sum of the selection signal OE and the mode setting signal MS and the selection signal OE itself. Accordingly, when the mode setting signal MS is at the high level, the selection signal OE is inverted and supplied to the first block selection circuit 2, so that the first and second block selection circuits 2, Alternatively, operate 3). In addition, when the mode setting signal MS is at the low level, the selection signal OE is supplied to the first block selection circuit 2 as it is, and according to the instruction of the selection signal OE, the first and second block selection circuits 2, 3 are used. ) At the same time. Therefore, in the second operation mode, it is possible to write and read data twice as many times as the first operation mode. The mode setting signal MS is a signal fixed at a high level or a low level, and once determined, it is not necessary to change it in most cases. Therefore, in the manufacturing process, the mode setting signal MS forms a fuse that can be physically cut or a nonvolatile memory cell in advance, and either the power supply potential or the ground potential is changed by cutting the fuse or writing to the memory cell. You can get it by making choices. In addition, even when a fuse, a memory cell, or the like is not formed, it is also possible to select a power supply potential and a ground potential by changing a part of the wiring. In this case, if the wiring of the uppermost layer is changed, most manufacturing processes can be made common.

또한, 이상의 실시예에서는, 일단을 갖추도록 하여 제1 매트 M1, M2와 제2 매트 M3∼M6을 배치하는 경우를 예시했지만, 빈 영역을 제1 매트 M1, M2의 양끝의 외측에 형성하도록 배치해도 좋다. 또한, 메모리 셀 방식을 특정하지 않지만, 이러한 반도체 메모리 장치에서는, 스태틱 RAM이나 다이나믹 RAM, 또는 각종 ROM 등을 예로 들 수 있다.In the above embodiment, the case where the first mats M1 and M2 and the second mats M3 to M6 are arranged to have one end is provided, but the empty areas are arranged to form outside the both ends of the first mats M1 and M2. You may also In addition, although the memory cell method is not specified, in such a semiconductor memory device, a static RAM, a dynamic RAM, various ROMs, etc. are mentioned as an example.

본 발명에 따르면, 2종류의 길이의 매트를 혼재하여 배치함으로써, 전체의 블럭의 수를 기억 데이타의 비트수에 적합시키면서, 매트의 수를 자유롭게 선택할 수 있게 된다. 그리고, 컬럼 방향의 길이가 짧은 매트를 배치하여 빈 영역에 주변 회로를 배치하도록 함으로써, 쓸데 없는 영역을 없애어 칩 면적의 증대를 억제할 수 있다.According to the present invention, by arranging two kinds of mats in length, the number of mats can be freely selected while the total number of blocks is adapted to the number of bits of the storage data. Then, by arranging the mat having a short length in the column direction to arrange the peripheral circuit in the empty area, the useless area can be eliminated and the increase in the chip area can be suppressed.

Claims (6)

기억 데이타의 비트수에 대응하는 수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수개 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,In a semiconductor memory device comprising a mat in which a number of memory cells corresponding to the number of bits of stored data are arranged in a matrix, and the blocks are arranged in a plurality of columns in a column direction. 제1 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제1 매트와,A first mat having a first number of memory cell blocks arranged in a column direction; 제1 수보다 많은 제2 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제2 매트와,A second mat having a second number of memory cell blocks greater than the first number arranged in a column direction; 상기 제1 및 제2 매트에 각각 접속되어, 상기 제1 및 제2 매트의 회로 동작을 제어하는 주변 회로Peripheral circuits connected to the first and second mats, respectively, to control circuit operation of the first and second mats. 를 구비하고,And 상기 제1 및 제2 매트를 반도체 기판 상에 상호 평행하게 배치함과 함께, 상기 주변 회로 중 적어도 일부를 상기 제1 매트의 단부에 인접하게 배치한 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And arranging the first and second mats in parallel with each other on the semiconductor substrate, and at least a part of the peripheral circuits adjacent to an end of the first mat. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 복수의 상기 제1 및 제2 매트를, 컬럼 방향으로 연장하는 직선에 대해 대칭으로 배치하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A plurality of the first and second mats are arranged symmetrically with respect to a straight line extending in the column direction. 기억 데이타의 비트수에 대응하는 수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,In a semiconductor memory device comprising a matrix in which a number of memory cells corresponding to the number of bits of stored data are arranged in a matrix to form blocks, and the blocks are arranged in a plurality of columns in a column direction. 제1 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제1 매트와,A first mat having a first number of memory cell blocks arranged in a column direction; 제1 수보다 많은 제2 수의 메모리 셀 블럭이 컬럼 방향으로 배열된 제2 매트와,A second mat having a second number of memory cell blocks greater than the first number arranged in a column direction; 상기 제1 및 제2 매트에 각각 접속되어, 상기 제1 및 제2 매트의 회로 동작을 제어하는 주변 회로Peripheral circuits connected to the first and second mats, respectively, to control circuit operation of the first and second mats. 를 구비하고,And 상기 제1 및 제2 매트를 반도체 기판 상에 상호 평행하게 배치함과 함께, 상기 제1 매트의 단부에 상기 제1 및 제2 매트의 각 블럭 내의 메모리 셀 행에 대응하는 예비 메모리 셀 행을 배치하고, 상기 예비 메모리 셀 열의 동작을 제어하는 제어 회로를 포함하는 상기 주변 회로 중 적어도 일부를 상기 제1 매트의 단부에 인접하게 배치한 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.Arranging the first and second mats on a semiconductor substrate in parallel with each other, and a row of spare memory cells corresponding to the memory cell rows in each block of the first and second mats at an end of the first mat. And at least a portion of the peripheral circuit including a control circuit for controlling the operation of the preliminary memory cell columns adjacent to an end of the first mat. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 복수의 상기 제1 및 제2 매트를, 컬럼 방향으로 연장하는 직선에 대해 대칭으로 배치하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A plurality of the first and second mats are arranged symmetrically with respect to a straight line extending in the column direction. 복수의 메모리 셀이 행렬 배치되어 블럭을 이루고, 이 블럭이 컬럼 방향으로 복수 배열된 매트를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device comprising a plurality of memory cells arranged in a matrix to form a block, and the blocks include a plurality of mats arranged in a column direction. 상호 병렬로 배치되는 2n 열(n은 2이상의 정수)의 매트와,Mats of 2n rows (n is an integer of 2 or more) arranged in parallel with each other, 상기 2n 열의 매트의 일단에 인접하여 배치되고, 상기 매트 내의 메모리 셀 열을 선택하는 복수의 컬럼 디코더와,A plurality of column decoders arranged adjacent to one end of the mat of the 2n column and selecting a memory cell column in the mat; 상기 2n 열의 매트의 간극에 2열간격으로 배치되고, 상기 매트 내의 메모리 셀행을 선택하는 n 열의 디코더부와,An n-column decoder unit arranged at intervals of two columns in the gap between the 2n-column mats and for selecting memory cell rows in the mat; 상기 매트의 일단에 인접하여 배치되고, 상기 매트, 상기 컬럼 디코더 및 상기 로우 디코더의 회로 동작을 제어하는 주변 회로A peripheral circuit disposed adjacent one end of the mat and controlling circuit operations of the mat, the column decoder, and the row decoder; 를 구비하고,And 상기 n 열의 로우디코더가, 양측에 인접하는 매트의 어느 한쪽을 선택하여 동작하는 제1 동작 모드와, 양측에 인접하는 매트의 양방을 선택하여 동작하는 제2 동작 모드간에 전환하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.The n-row row decoder switches between a first operation mode in which one of the mats adjacent to both sides operates and a second operation mode in which both of the mats adjacent to both sides are selected and operated. Memory device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 n 열의 로우 디코더는,The row decoder of the n column, 양측에 인접하는 매트의 한쪽에 접속되고, 매트내의 특정한 블럭을 선택하는 제1 블럭 선택 회로와,A first block selection circuit connected to one of the mats adjacent to both sides and selecting a specific block in the mat; 양측에 인접하는 매트의 다른쪽에 접속되고, 매트 내의 특정한 블럭을 선택하는 제2 블럭 선택 회로와,A second block selection circuit connected to the other side of the mat adjacent to both sides and selecting a specific block in the mat; 상기 제1 및 제2 블럭 선택 회로에서 선택된 블럭 내의 특정한 메모리 셀 열을 선택하는 행선택 회로A row selection circuit for selecting a specific memory cell column in a block selected by the first and second block selection circuits; 를 포함하고,Including, 상기 제1 동작 모드에서는, 상기 제1 및 제2 블럭 선택 회로의 어느 한쪽이 동작하고, 상기 제2 동작 모드에서는, 상기 제1 및 제2 블럭 선택 회로의 양방이 동작하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.In the first operation mode, either one of the first and second block selection circuits operates, and in the second operation mode, both of the first and second block selection circuits operate. Device.
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