KR20000041875A - 노광 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 편향 기와 검출기 사이에 차단 부를 구성하여 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하기 위한 노광 장치에 관한 것이다.
본 발명의 노광 장치는 웨이퍼, 상기 웨이퍼 상측에 위치하여 노광원에서 발생한 전자빔이 상기 웨이퍼에 도달되지 않도록 차단시키는 제 1 차단기, 상기 웨이퍼와 제 1 차단기 사이에 위치하여 상기 제 1 차단기를 통과한 전자빔을 편향시키는 편향 기, 상기 편향 기의 바깥둘레에 위치하여 전자빔의 초점을 맞추기 위한 대물렌즈, 상기 웨이퍼와 대물렌즈 사이에 위치한 검출기, 상기 편향 기와 검출기 사이에 위치하여 상기 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 상기 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하는 차단 부와, 모든 시스템을 제어하는 제어 부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 노광 장치에 관한 것으로, 특히 필드 스티칭(Field Stitching) 및 패턴(Pattern) 배치 정밀도를 향상시키는 노광 장치에 관한 것이다.
도 1은 종래의 노광 장치를 나타낸 블록도이고, 도 2는 종래의 노광 장치의 반사전자와 이차전자의 분포를 나타낸 도면이다.
종래의 노광 장치는 도 1에서와 같이, 노광 대상물인 웨이퍼(Wafer)(11), 상기 웨이퍼(11) 상측에 접지되어 위치하여 전압에 따라 노광원에서 발생한 전자빔이 상기 웨이퍼(11)에 도달되지 않도록 차단시키는 제 1 차단기(12), 상기 웨이퍼(11)와 제 1 차단기(12) 사이에 위치하여 노광에 불필요한 전자빔을 차단시키는 대물 구경(13), 상기 웨이퍼(11)와 대물 구경(13) 사이에 위치하여 전압에 따라 상기 제 1 차단기(12)를 통과한 전자빔을 편향시키는 편향 기(14), 상기 편향 기(14)의 바깥둘레에 위치하여 전압에 따라 상기 전자빔의 초점을 맞추기 위한 대물렌즈(15), 상기 웨이퍼(11)와 대물렌즈(15) 사이에 마크(Mark)의 신호 등을 검출하기 위한 검출기(16), 상기 제 1 차단기(12)에 인가하는 전압을 제어하는 제 1 제어 부(17), 상기 편향 기(14)에 인가하는 전압을 제어하는 제 2 제어 부(18), 상기 대물렌즈(15)에 인가하는 전압을 제어하는 제 3 제어 부(19)와, 상기 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(17,18,19)에 각각 제어 데이터를 입력시키는 컴퓨터(20)로 구성된다.
상기와 같이 구성된 종래의 노광 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
노광원에서 전자빔을 계속해서 출력하고 그 전자빔을 상기 제 1 차단기(12)가 차단한 상태에서, 상기 노광 대상물인 웨이퍼(11)를 노광 위치에 안착시킨다.
그리고, 상기 컴퓨터(20)가 상기 각각의 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(17,18,19)에 제어 데이터를 인가한다.
이어, 상기 각각의 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(17,18,19)는 상기 제 1 차단기(12), 편향 기(14)와, 대물렌즈(15)를 각각 전압 제어한다.
그리고, 전자빔을 상기 웨이퍼(11)에 입사한다.
이때, 전압 제어의 한 예로 상기 제 1 차단기(12)가 노광원에서 상기 웨이퍼(11)로 입사되는 전자빔을 차단하기 위하여 상기 제 1 제어 부(17)에서 제 1 차단기(12)로 전압을 인가하므로 전자빔을 상기 대물 구경(13)으로 향하게 하여 전자를 차단한다.
여기서, 상기 웨이퍼(11)에 입사된 전자빔은 도 2에서와 같이, 반사전자와 이차전자를 발생시킨다.
여기서, 상기 이차전자는 전자빔에 비하여 상대적으로 적은 양의 에너지를 갖기 때문에 상기 편향 기(34) 내부까지 들어오게 되며, 상기 반사전자는 전자빔과 같은 에너지를 갖기 때문에 상기 편향 기(34) 뿐만 아니라 상기 제 1 차단기(12)와 대물 구경(13) 사이까지 입사하게 된다.
그러나 종래의 노광 장치는 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되어 편향기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이로 다시 입사되어 쌓이는 반사전자와 이차전자가 전자빔과 같은 극성인 음극성을 띄기 때문에 전자빔의 경로에 영향을 주므로 필드 스티칭 및 패턴 배치 정밀도를 저하시키는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 편향 기와 검출기 사이에 차단 부를 구성하여 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하는 노광 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 노광 장치를 나타낸 블록도
도 2는 종래의 노광 장치의 반사전자와 이차전자의 분포를 나타낸 도면
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 노광 장치를 나타낸 블록도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
31: 웨이퍼 32: 제 1 차단기
33: 대물 구경 34: 편향 기
35: 대물렌즈 36: 검출기
37: 차단 부 38: 제 1 제어 부
39: 제 2 제어 부 40: 제 3 제어 부
41: 컴퓨터 42: 제 1 차단 막
43: 제 2 차단기 44: 제 2 차단 막
45: 제 4 제어 부
본 발명의 노광 장치는 웨이퍼, 상기 웨이퍼 상측에 위치하여 노광원에서 발생한 전자빔이 상기 웨이퍼에 도달되지 않도록 차단시키는 제 1 차단기, 상기 웨이퍼와 제 1 차단기 사이에 위치하여 상기 제 1 차단기를 통과한 전자빔을 편향시키는 편향 기, 상기 편향 기의 바깥둘레에 위치하여 전자빔의 초점을 맞추기 위한 대물렌즈, 상기 웨이퍼와 대물렌즈 사이에 위치한 검출기, 상기 편향 기와 검출기 사이에 위치하여 상기 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 상기 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하는 차단 부와, 모든 시스템을 제어하는 제어 부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
상기와 같은 본 발명에 따른 노광 장치의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 노광 장치를 나타낸 블록도이다.
본 발명의 실시 예에 따른 노광 장치는 도 3에서와 같이, 노광 대상물인 웨이퍼(31), 상기 웨이퍼(31) 상측에 접지되어 위치하여 전압에 따라 노광원에서 발생한 전자빔이 상기 웨이퍼(31)에 도달되지 않도록 차단시키는 제 1 차단기(32), 상기 웨이퍼(31)와 제 1 차단기(32) 사이에 위치하여 노광에 불필요한 전자빔을 차단시키는 대물 구경(33), 상기 웨이퍼(31)와 대물 구경(33) 사이에 위치하여 전압에 따라 상기 제 1 차단기(32)를 통과한 전자빔을 편향시키는 편향 기(34), 상기 편향 기(34)의 바깥둘레에 위치하여 전압에 따라 상기 전자빔의 초점을 맞추기 위한 대물렌즈(35), 상기 웨이퍼(31)와 대물렌즈(35) 사이에 마크의 신호 등을 검출하기 위한 검출기(36), 상기 편향 기(34)와 검출기(36) 사이에 위치하여 상기 웨이퍼(31)에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 상기 편향 기(34) 및 제 1 차단기(32)와 대물 구경(33) 사이에 입사되는 것을 차단하는 차단 부(37), 상기 제 1 차단기(32)에 인가하는 전압을 제어하는 제 1 제어 부(38), 상기 편향 기(34)에 인가하는 전압을 제어하는 제 2 제어 부(39), 상기 대물렌즈(35)에 인가하는 전압을 제어하는 제 3 제어 부(40)와, 상기 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(38,39,40)에 각각 제어 데이터를 입력시키는 컴퓨터(41)로 구성된다.
이때, 상기 차단 부(37)는 상기 검출기(36) 상측에 접지되어 위치하여 반사전자를 차단하는 제 1 차단 막(42)과 상기 제 1 차단 막(42) 상측에 접지되어 위치하여 이차전자와 여분의 반사전자를 차단하는 제 2 차단기(43), 제 2 차단 막(44) 그리고 상기 컴퓨터(41)로부터 제어 데이터를 입력받아 상기 제 2 차단기(43)에 인가하는 전압을 제어하는 제 4 제어 부(45)로 구성된다.
여기서, 상기 제 1 차단 막(42) 상측에 제 2 차단기(43)가 접지되어 위치하며 상기 제 2 차단기(43) 상측에 제 2 차단 막(44)이 접지되어 위치한다.
그리고, 상기 제 1 차단 막(42)은 상기 편향 기(34)의 편향거리가 4 ~ 6㎜일 때 4 ~ 6㎜이상으로 구성된다.
또한, 상기 차단 부(37)는 상기 제 1 차단 막(42)과 상기 컴퓨터(41)로부터 제어 데이터를 입력받아 상기 제 1 차단 막(42)에 인가하는 전압을 제어하는 제 5 제어 부(도시하지 않음)만으로 구성될 수 있다.
이때, 상기 제 1 차단 막(42)은 전압에 따라 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 반사전자 및 이차전자가 입사되는 것을 차단시킨다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 실시 예에 따른 노광 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
노광원에서 전자빔을 계속해서 출력하고 그 전자빔을 상기 제 1 차단기(32)가 차단한 상태에서, 상기 노광 대상물인 웨이퍼(31)를 노광 위치에 안착시킨다.
그리고, 컴퓨터(41)가 상기 각각의 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 제어 부(38,39,40,45)에 제어 데이터를 인가한다.
이때, 상기 차단 부(37)가 상기 제 1 차단 막(42)과 제 5 제어 부만으로 구성될 경우에는 상기 컴퓨터(41)가 상기 각각의 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(38,39,40) 그리고 제 5 제어 부에 제어 데이터를 인가한다.
이어, 상기 각각의 제 1, 제 2, 제 3 제어 부(37,18,19)는 상기 제 1 차단기(32), 편향 기(34)와, 대물렌즈(35)를 각각 전압 제어한다.
그리고, 전자빔을 상기 웨이퍼(31)에 입사한다.
이때, 전압 제어의 한 예로 상기 제 1 차단기(32)가 노광원에서 상기 웨이퍼(31)로 입사되는 전자빔을 차단하기 위하여 상기 제 1 제어 부(37)에서 제 1 차단기(32)로 전압을 인가하므로 전자빔을 상기 대물 구경(33)으로 향하게 하여 전자를 차단한다.
여기서, 상기 제 1 차단 막(42), 제 2 차단기(43)와, 제 2 차단 막(44)은 상기 웨이퍼(31)에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자와 이차전자가 상기 편향 기(34) 및 상기 제 1 차단기(32)와 대물 구경(33) 사이에 입사되는 것을 차단한다.
본 발명의 노광 장치는 편향 기와 검출기 사이에 차단 부를 구성하므로, 전자빔과 같은 극성인 음극성을 띄기 때문에 전자빔의 경로에 영향을 주는 반사전자 및 이차전자가 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하여 필드 스티칭 및 패턴 배치 정밀도를 향상시키는 효과가 있다.
Claims (7)
- 웨이퍼;상기 웨이퍼 상측에 위치하여 노광원에서 발생한 전자빔이 상기 웨이퍼에 도달되지 않도록 차단시키는 제 1 차단기;상기 웨이퍼와 제 1 차단기 사이에 위치하여 상기 제 1 차단기를 통과한 전자빔을 편향시키는 편향 기;상기 편향 기의 바깥둘레에 위치하여 전자빔의 초점을 맞추기 위한 대물렌즈;상기 웨이퍼와 대물렌즈 사이에 위치한 검출기;상기 편향 기와 검출기 사이에 위치하여 상기 웨이퍼에 입사된 전자빔에 의해 발생되는 반사전자 및 이차전자가 상기 편향 기 및 제 1 차단기와 대물 구경 사이에 입사되는 것을 차단하는 차단 부;모든 시스템을 제어하는 제어 부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어부는 상기 제 1 차단기에 인가하는 전압을 제어하는 제 1 제어 부, 상기 편향 기에 인가하는 전압을 제어하는 제 2 제어 부, 상기 대물렌즈에 인가하는 전압을 제어하는 제 3 제어 부와, 상기 제 1, 제 2, 제 3 제어 부에 각각 제어 데이터를 입력시키는 컴퓨터로 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 차단 부는 상기 검출기 상측에 접지되어 위치하여 반사전자를 차단하는 제 1 차단 막과 상기 제 1 차단 막 상측에 접지되어 위치하여 이차전자와 여분의 반사전자를 차단하는 제 2 차단기, 제 2 차단 막 그리고 상기 컴퓨터로부터 제어 데이터를 입력받아 상기 제 2 차단기에 인가하는 전압을 제어하는 제 4 제어 부로 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 차단 막은 상기 편향 기의 편향거리가 4 ~ 6㎜일 때 4 ~ 6㎜이상으로 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 차단 막 상측에 제 2 차단기가 접지되어 구성되며 상기 제 2 차단기 상측에 제 2 차단 막이 접지되어 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 차단 부는 상기 검출기 상측에 접지 되어 위치하여 전압에 따라 반사전자 및 이차전자를 차단하는 제 1 차단 막과 상기 컴퓨터로부터 제어 데이터를 입력받아 상기 제 1 차단 막에 인가하는 전압을 제어하는 제 5 제어 부로 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 제 1 차단 막은 상기 편향 기의 편향거리가 4 ~ 6㎜일 때 4 ~ 6㎜이상으로 구성됨을 특징으로 하는 노광 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980057888A KR20000041875A (ko) | 1998-12-23 | 1998-12-23 | 노광 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980057888A KR20000041875A (ko) | 1998-12-23 | 1998-12-23 | 노광 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20000041875A true KR20000041875A (ko) | 2000-07-15 |
Family
ID=19565117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019980057888A KR20000041875A (ko) | 1998-12-23 | 1998-12-23 | 노광 장치 |
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Country | Link |
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KR (1) | KR20000041875A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100563774B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2006-03-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 마스크 조작장치, 리소그래피 투영장치, 디바이스제조방법 및 그것에 의하여 제조된 디바이스 |
-
1998
- 1998-12-23 KR KR1019980057888A patent/KR20000041875A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100563774B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2006-03-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 마스크 조작장치, 리소그래피 투영장치, 디바이스제조방법 및 그것에 의하여 제조된 디바이스 |
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