KR20000026347A - Rf에 의한 스크류 손상을 방지하는 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버 - Google Patents

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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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Abstract

RF에 의한 스크류 손상을 방지하는 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버에 관해 개시되어 있다. 에칭 챔버와 상기 에칭챔버 둘레에 구비된 바플 플레이트(baffle plate)와 상기 바플 플레이트와 상기 에칭 챔버 사이에 일부가 개재하고 나머지는 상기 바플 플레이트를 따라 덮혀 있는 제1 절연체 링 및 양단이 상기 에칭 챔버 및 상기 바플 플레이트와 각각 접촉되고 상기 제1 절연체 링을 덮고 있는 제2 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버에 있어서, 상기 제1 절연체 링은 내 충격성 및 상기 에칭 챔버의 세정에 대한 내성이 강화된 세라믹으로 형성된 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 에칭 후에 실시되는 챔버 세정에서 상기 제1 절연체 링이 마모되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 내 충격성을 갖고 있어 쉽게 파손되지 않으므로 영구적으로 사용할 수 있다.

Description

RF에 의한 스크류 손상을 방지하는 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버
본 발명은 반도체 장치의 제조방법에 관한 것으로서, 자세하게는 세정에 대한 내성을 가진 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버에 관한 것이다.
에칭 챔버에 있어서, 바플 플레이트(baffle plate)는 벨로우(bellow) 커버와 8개의 스크류로 연결되어 있다. 그런데, 상기 8개의 스크류들은 에칭공정이 진행되는 동안에 RF(Radio Frequency)에 그대로 노출되므로 손상된다. 이를 방지하기 위해, 상기 RF에 대한 블록킹 역할을 하는 절연체 링이 상기 스크류 보호 수단으로 사용된다.
도 1을 참조하면, 에칭 챔버(10)의 둘레에 바플 플레이트(12)가 구비되어 있다. 상기 바플 플레이트(12)에는 스크류(14)가 체결되어 있다. 그리고 상기 바플 플레이트(12)와 상기 에칭 챔버(10) 사이에 제1 절연체 링(16)의 일부분이 삽입되어 있다. 상기 제1 절연체 링(16)의 나머지 부분은 상기 바플 플레이트(12)의 일부를 덮고 있는데, 상기 바플 플레이트(12)의 상기 스크류(14)가 체결된 부분까지 덮고 있다. 따라서, 상기 에칭 챔버에서 에칭이 시작될 때, 상기 스크류(14)는 RF로부터 보호될 수 있다. 상기 제1 절연체 링(16) 위에 제2 절연체 링(18)이 구비되어 있다. 상기 제2 절연체 링(18)은 상기 제1 절연체 링(16)의 상기 바플 플레이트(12)를 덮고 있는 부분을 덮고 있고, 일부분은 아래로 구부러져서 상기 바플 플레이트(12)와 접촉되어 있다. 또한, 상기 제2 절연체 링(18)의 상기 제1 절연체 링(16)을 덮고 있는 부분은 상기 에칭 챔버(10)쪽으로 확장되어 상기 에칭 챕버(10)와 접촉되어 있다. 도 1에 상기 스크류(14)를 이용하여 상기 바플 플레이트(12)와 체결되는 벨로우 커버는 도시되어 있지 않다.
이와 같은 종래 기술에 의한 에칭 챔버에서 상기 스크류(14)의 상기 RF에 대한 블록킹 수단으로 구비된 상기 제1 절연체 링(16)의 재질은 쿼츠(Quartz)이다. 따라서 파손되기 쉬울 뿐만 아니라 챔버 클리닝시 마모가 되고 약한 충격에도 쉽게 파손되는 문제가 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술이 갖는 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 에칭공정이 진행되는 동안 및 에칭 공정 후 챔버 클리닝 동안에 쉽게 스크류를 덮고 있는 절연체 링이 파손되는 것을 방지할 수 있는 세정에 대한 내성을 가진 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버를 제공함에 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 에칭 챔버의 부분 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 에칭 챔버의 부분 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호설명*
40:에칭챔버. 42:바플 플레이트(baffle plate).
44:스크류. 46, 48:제1 및 제2 절연체 링.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 세정에 대한 내성을 가진 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버는 다음과 같은 구성요소들을 구비하고 있다.
즉, 에칭 챔버와 상기 에칭챔버 둘레에 구비된 바플 플레이트와 상기 바플 플레이트와 상기 에칭 챔버 사이에 일부가 개재하고 나머지는 상기 바플 플레이트를 따라 덮혀 있는 제1 절연체 링 및 양단이 상기 에칭 챔버 및 상기 바플 플레이트와 각각 접촉되고 상기 제1 절연체 링을 덮고 있는 제2 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버에 있어서,
상기 제1 절연체 링은 상기 에칭 챔버의 세정에 대한 내성이 강화된 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 에칭 챔버를 제공한다.
여기서, 상기 에칭 챔버의 세정에 대한 내성이 강화된 재질은 세라믹(ceramics)이다.
즉, 본 발명의 실시예는 상기 제1 절연체 링이 세라믹으로 형성된 것을 특징으로 하는 에칭 챔버를 제공한다.
이에 따라, 에칭 후에 실시되는 챔버 세정에서 상기 제1 절연체 링이 마모되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 내 충격성을 갖고 있어 쉽게 파손되지 않으므로 영구적으로 사용할 수 있는 잇점이 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 세정에 대한 내성을 가진 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버를 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다.
그러나 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 도면에서 층이나 영역들의 두께는 명세서의 명확성을 위해 과장되어진 것이다.
첨부된 도면들 중, 도 2는 본 발명의 실시예에 의한 에칭 챔버의 부분 단면도이다.
도 2를 참조하면, 에칭 챔버(40)는 바플 플레이트(42)에 의해 둘러싸여 있고, 상기 바플 플레이트(42)에는 벨로우 커브(미도시)와 상기 바플 플레이트(42)를 체결시키는 수단인 스크류(44)가 구비되어 있다. 상기 스크류(44)가 구비된 상기 바플 플레이트(42) 상에 제1 절연체 링(46)이 덮혀 있다. 상기 제1 절연체 링(46)의 일부는 아래로 꺽여서 상기 에칭 챔버(40)와 상기 바플 플레이트(42) 사이에 끼워져 있다. 상기 제1 절연체 링(46)은 도면에서 볼 수 있는 바와 같이, 수평부분과 이에 수직한 수직부분으로 이루어져 있다. 상기 제1 절연체 링(46)의 재질은 세라믹(ceramic)이다. 세라믹으로 형성된 상기 제1 절연체 링(46)의 위에 제2 절연체 링(48)이 덮혀 있다. 상기 제2 절연체 링(48)은 상기 제1 절연체 링(46)의 상기 바플 플레이트(42)에 수평한 부분 상에 덮혀 있으며, 양단은 각각 상기 에칭챔버(40) 및 상기 바플 플레이트(42)와 접촉되어 있다.
이와 같이, 상기 제1 절연체 링(46)은 상기 제2 절연체 링(48)에 의해 덮혀 있으므로, RF에 대해 특별히 노출되는 부분이 없다. 따라서, 파티클, KLA, 에칭 수율 등에 하등의 영향을 주지 않는다. 더욱이, 그 재질이 세라믹이므로 에칭후의 상기 에칭 챔버의 세정공정에서 마모되지 않을 뿐만 아니라 충격에 강하여 쉽게 파손되지 않는다.
상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기 보다, 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 예들 들어 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기한 제1 절연체 링(46)의 형태를 변경하거나 그 재질을 상기 세정에 대한 내성이 있고 내 충격성이 있는 세라믹외의 다른 재질로 변형하여 본 발명을 실시할 수 있음이 명백하다. 때문에 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.
상술한 바와 같이, 에칭 후에 실시되는 챔버 세정에서 상기 제1 절연체 링이 마모되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 내 충격성을 갖고 있어 쉽게 파손되지 않으므로 영구적으로 사용할 수 있는 잇점이 있다.

Claims (2)

  1. 에칭 챔버와 상기 에칭챔버 둘레에 구비된 바플 플레이트(baffle plate)와 상기 바플 플레이트와 상기 에칭 챔버 사이에 일부가 개재하고 나머지는 상기 바플 플레이트를 따라 덮혀 있는 제1 절연체 링 및 양단이 상기 에칭 챔버 및 상기 바플 플레이트와 각각 접촉되고 상기 제1 절연체 링을 덮고 있는 제2 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버에 있어서,
    상기 제1 절연체 링은 내 충격성 및 상기 에칭 챔버의 세정에 대한 내성이 강화된 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 에칭 챔버.
  2. 제1항에 있어서, 상기 내 충격성 및 상기 에칭 챔버의 세정에 대한 내성이 강화된 재질은 세라믹(ceramics)인 것을 특징으로 하는 에칭 챔버.
KR1019980043855A 1998-10-20 1998-10-20 Rf에 의한 스크류 손상을 방지하는 절연체 링을 구비하는 에칭 챔버 KR20000026347A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6726801B2 (en) * 2001-07-24 2004-04-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Dry etching apparatus for manufacturing semiconductor devices
CN104803337A (zh) * 2015-04-16 2015-07-29 山东电力建设第二工程公司 离合器快速排气装置及排气方法

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